JP2886127B2 - 水溶性シクロデキストリン誘導体の浄化方法 - Google Patents

水溶性シクロデキストリン誘導体の浄化方法

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JP2886127B2
JP2886127B2 JP8026674A JP2667496A JP2886127B2 JP 2886127 B2 JP2886127 B2 JP 2886127B2 JP 8026674 A JP8026674 A JP 8026674A JP 2667496 A JP2667496 A JP 2667496A JP 2886127 B2 JP2886127 B2 JP 2886127B2
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08BPOLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
    • C08B37/00Preparation of polysaccharides not provided for in groups C08B1/00 - C08B35/00; Derivatives thereof
    • C08B37/0006Homoglycans, i.e. polysaccharides having a main chain consisting of one single sugar, e.g. colominic acid
    • C08B37/0009Homoglycans, i.e. polysaccharides having a main chain consisting of one single sugar, e.g. colominic acid alpha-D-Glucans, e.g. polydextrose, alternan, glycogen; (alpha-1,4)(alpha-1,6)-D-Glucans; (alpha-1,3)(alpha-1,4)-D-Glucans, e.g. isolichenan or nigeran; (alpha-1,4)-D-Glucans; (alpha-1,3)-D-Glucans, e.g. pseudonigeran; Derivatives thereof
    • C08B37/0012Cyclodextrin [CD], e.g. cycle with 6 units (alpha), with 7 units (beta) and with 8 units (gamma), large-ring cyclodextrin or cycloamylose with 9 units or more; Derivatives thereof

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水溶性シクロデキ
ストリン誘導体を浄化する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、水溶性シクロデキストリン誘導体
を浄化するためには、再結晶、イオン交換クロマトグラ
フィー、沈澱法、抽出法、透析および限外濾過が使用さ
れている。これらの方法は、例えば次の文献箇所中に記
載されている:ハンガリー特許第202889号明細書
の場合には、β−シクロデキストリン(β−CD)は苛
性ソーダ水溶液中で酸化プロピレンと反応してヒドロキ
シプロピル−β−シクロデキストリンに変換される。生
じる塩化ナトリウムおよびプロピレングリコールの分離
は、イオン交換、および大量のアセトン中でのヒドロキ
シプロピル処理されたβ−シクロデキストリンの沈澱、
濾過、水中でのフィルターケーキの吸収、蒸留および最
後に噴霧乾燥によって行なわれる。約90%の収率の場
合、0.1%の塩含量もしくはプロピレングリコール含
量が達成される。
【0003】カナダ特許第117:10196s号明細
書には、陽イオン交換体を介するシクロデキストリン水
溶液の分別クロマトグラフィーによる同一の生成物の浄
化が記載されている。この方法は、16%の収率で0.
05%のプロピレングリコール含量を有する生成物を提
供する。
【0004】米国特許第4870060号明細書の場
合、苛性ソーダ水溶液中でのc−シクロデキストリンの
メチル化/ヒドロキシプロピル化により副生成物として
得られる塩化ナトリウムはイオン交換クロマトグラフィ
ーを介して除去される。
【0005】カナダ特許第98(20):162747
zには、有機溶剤、例えば塩化メチレン、クロロホルム
または酢酸エチルを用いてメチルシクロデキストリンを
抽出することによる、メチル化したシクロデキストリン
からの無機塩の分離が記載されている。
【0006】カナダ特許第119:70467号明細書
には、限外濾過(UF)によるマルトシル−β−シクロ
デキストリンの反応混合物からのPEG(ポリエチレン
グリコール)の分離が記載されている。
【0007】米国特許第3453257号明細書の場
合、グリシジルトリメチルアンモニウム−β−シクロデ
キストリンはメタノールを用いて洗浄され、かつアセト
ン中で沈澱する。
【0008】米国特許第5134127号明細書の場
合、β−CDのスルホブチルエーテルはイオン交換体お
よび透析を介して浄化される。濃縮は限外濾過を介して
行なわれる。
【0009】国際公開番号 WO90/112035号
明細書の場合、(S)−ヒドロキシプロピル−β−CD
は透析により浄化される。
【0010】カナダ特許第113:189816号明細
書にはUF−膜による反応混合物からの分枝鎖状CDの
連続的分離が記載されている。
【0011】カナダ特許第105:81066号明細書
には限外濾過によるシクロデキストリンまたは他のデキ
ストリンの分別が記載されている。
【0012】カナダ特許第120:137902号明細
書には、UF−膜によるCD−錯体の選択的透過性が記
載されている。
【0013】カナダ特許第118:127572号明細
書にはUF−膜によるCD−錯体の分離が記載されてい
る。
【0014】
【課題を達成するための手段】本発明は、少なくとも1
つの親水性で非対称の、200〜800Dの公称分子量
分離範囲を有する溶液−浸透膜を使用しながらの逆浸透
(RO)によって、水溶性シクロデキストリン誘導体を
浄化する、安価で、一般的に使用可能な方法に関する。
【0015】好適であるのは、250〜700D、特に
有利に350〜500Dの公称分子量分離範囲を有する
膜である。このような膜は、例えばミリポア社(Millip
oreGmbH)、エシュボーン、ドイツおよびベルクホフ・
ラボアプロドゥクテ社(Berghof Laborprodukte Gmb
H)、エニンゲン他、ドイツ の会社から提供されてい
る。
【0016】膜型に応じて、逆浸透は、水中または水性
溶剤、例えば水と殊にモノ−アルコールおよび/または
オリゴ−アルコール(例えばメタノール、エタノール、
イソプロパノール、ブタノール、グリセリン、エチレン
グリコール)との混合物中で、実施されてよい。
【0017】驚くべきことに、本発明による方法を用い
てシクロデキストリン誘導体を浄化する場合、シクロデ
キストリン誘導体は膜によって制止されるが、その一
方、無機塩、有機溶剤残留物または約350Dまでの比
較的小さい有機分子は膜を支障なく通過できることが見
い出された。したがって、本発明による方法を用いたシ
クロデキストリン誘導体の浄化は、限外濾過と異なって
1工程だけで極めて僅かな生成物の損失で可能である。
【0018】したがって、本発明による方法は殊にシク
ロデキストリン誘導体の無機塩、比較的小さい有機分子
または有機溶剤基の分離にも適当である。
【0019】本発明による方法は、費用が高くなく、僅
かな運転費用で改善された生成物の品質および高い生成
物収量を可能にする。したがって、本発明による方法は
極めて経済的である。
【0020】公知技術水準による浄化法に対する本発明
による方法の利点は、例範的にヒドロキシプロピル−β
−シクロデキストリンの浄化で実証される:ハンガリー
特許第202889号明細書の場合、この誘導体は極め
て高価に、アセトン中で沈澱させることによって浄化さ
れ、カナダ特許第117:10196s号明細書の場
合、僅かな収量を有するイオン交換クロマトグラフィー
を介した浄化がで行なわれる。
【0021】これに反して、本発明による方法によれ
ば、この誘導体を1工程で存在する食塩から分離し、か
つ電荷のないプロピレングリコールを0.1%(g/
g)をはるかに下回る純度にまで分離することができる
(例11参照)。
【0022】本発明の場合の低い生成物損失によって、
モジュール切り替えは不要になる。このことは限外濾過
法を用いたシクロデキストリン誘導体の浄化に対して利
点であり、なぜならば生成物損失が多い場合の限外濾過
法では、割高で費用のかかる数段階のモジュール切り替
え(カスケード配置)が必要になる。
【0023】逆浸透の本発明による方法によって、適当
な膜を用いて完全な浄化が1工程だけで達成されること
ができる(例8、9および11参照)。したがって、こ
の方法は本質的に全ての公知の方法よりも経済的であ
る。生成物損失は本発明による浄化法の場合、所定の膜
で1容量当たり0.3%未満である(例1、4、5、お
よび11参照)。
【0024】本発明による浄化法には、任意の逆浸透装
置が使用されてよい。
【0025】有利には市販の逆浸透装置が使用される
が、この場合、特に有利に螺旋状に巻かれた膜モジュー
ルを有する装置が使用される。
【0026】このような装置の例は、ミリポア社(Fa.
Millipore )のレモリノ系(Remolino-System )(撹拌
セル)、ミリポア社のPRO−ラブ系(PRO-Lab-Syste
m)または最大で2つのら旋状に巻かれた逆浸透モジュ
ール用のミリポア接線方向の流れ−濾過系MSP006
256である。
【0027】本発明による方法を実施するためのパラメ
ーターは、本質的に装置もしくは膜に制限されている。
【0028】浄化すべきシクロデキストリン誘導体は有
利に5〜60重量%の溶液、特に有利に20〜40重量
%の水溶液として使用される(純粋なCD誘導体に対す
る重量%)。
【0029】膜型に応じて、水中、または水性溶剤中、
例えば水と殊にモノアルコールおよび/またはオリゴ−
アルコール(例えばメタノール、エタノール、イソプロ
パノール、ブタノール、グリセリン、エチレングリコー
ル)との混合液中でも作業されてよい。
【0030】この方法は使用される膜に応じて、15〜
70バール、有利に30〜40バールの透過膜圧、およ
び20〜80℃、有利に20〜50℃の温度で実施され
る。またその都度の最適なpH値もその都度使用される
膜に依存する。pH2〜pH11、有利に6〜8の範囲
内のpH値である。
【0031】本発明による方法は、工業的性質乃至薬学
的性質のモノマー性シクロデキストリン誘導体を浄化す
るのに適当である。この場合、無機塩、例えばNaC
l、KCl、Na2 CO3 、有機分子、例えばグリコー
ル酸、グリコール、特にモノ−プロピレングリコールお
よびジ−プロピレングリコール、酢酸、酢酸ナトリウ
ム、1,2−ジヒドロキシプロピル−3−トリメチルア
ンモニウムクロリド、2−クロル−4−,6−ジヒドロ
キシ−1,3,5−トリアジン(モノナトリウム塩)と
溶剤残留物、例えばDMF、DMSO、ジオキサン、T
HF、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、ブタノール、グリセリ
ン、エチレングリコールとの分離が行なわれる。
【0032】処理の間に減少する滞留液容量は、水性溶
剤を添加することによってそのつど所望のように一定ま
たは変動して保持されることができる。溶剤添加は連続
的または不連続的に行なわれてよい。
【0033】したがって、本発明による方法は一方で
は、電荷した分子(塩)、ならびに電荷していない分
子、例えばCD誘導体製造の副生成物または溶剤残留物
の分離を可能にし、ならびにもう一方では水性のCD−
誘導体溶液の穏やかな濃縮をも可能にする。
【0034】シクロデキストリン誘導体溶液を濃縮する
公知の方法は蒸留であり、これは穏やかではない。
【0035】これに対して本発明による方法は、シクロ
デキストリン誘導体の噴霧乾燥を安価にし、それという
のも濃縮された水溶液の噴霧乾燥は割安だからである。
【0036】本発明による方法を用いて濃縮する場合、
溶剤、一般には水の、専ら僅かな量が逆浸透中に滞留液
に添加されるか、または添加されない。濾液(透過液)
は流出するので、滞留液(CD−溶液)は必然的に濃縮
される。その他の処理パラメーターは記載した浄化法の
場合と同様である。
【0037】さらに次の例につき、本発明を詳説する。
【0038】例中の全ての記載は重量%のものである。
不純物の記載は常に乾燥重量に関する。
【0039】例中では次の膜系を前記の圧力比の下に使
用した: 定義: TMP=((P入口側+P出口側)/2)−P透過液) TMP=平均透過膜圧 P入口側=膜モジュール前の滞留液の圧力 P出口側=膜モジュール後の滞留液の圧力 P透過液=透過液の圧力(一般にP透過液=0) Vo=洗浄容量(浄化すべきCD−誘導体−溶液100
lの場合の1Voは100 lに相応する)。
【0040】 A)逆浸透系:ミリポア(Millipore)社のレモリノ系(撹拌セル) 圧力:15〜40バール、有利に35〜40バール 社名 膜 分離範囲 材料 直径 ベルクホフ(Berghof) BM5 500 NMGT ポリアミド 76mm ミリポア R75A 400 NMGT ポリアミド 76mm ミリポア R76A 400 NMGT ポリアミド 76mm ミリポア ナノマックス 50 350 NMGT ポリアミド 76mm NMGT=公称分子量分離範囲 B)逆浸透系: ミリポア社のPRO−ラブ系(PRO-Lab-System) 圧力:TMP15〜40バール、有利にTMP35〜40バール 社名 膜 分離範囲 材料 直径 ミリポア R75A 400 NMGT ポリアミド 0.3m2 C)逆浸透系:最大で2つのら旋状に巻かれた、それぞれ約5m2 −膜面積を有 する逆浸透モジュール用の、ミリポア社の接線方向の流れタイプの濾過系 MS P006256 圧力:TMP15〜40バール、有利にTMP35〜40バール 社名 膜 分離範囲 材料 濾過面積 ミリポア R76A 400 NMGT ポリアミド 5.1m2 ミリポア ナノマックス 50 350 NMGT ポリアミド 5.76m2 (Nanomax)
【0041】
【実施例】
例1:メチル−β−シクロデキストリン DS 1,8
からの塩化ナトリウムの除去 装置:1つのら旋状に巻かれた、5.1m2 −膜面積を
有する逆浸透モジュールR76Aを有する、ミリポア社
の接線方向の流れタイプの濾過系 MSP006256 処方:TMP40バール、pH=7および31℃で一定
した滞留液容量の場合、水中でメチル−β−シクロデキ
ストリンDS1,8の15%溶液160 lの逆浸透。
塩含量を滴定によって測定した。CD損失を測定するた
め、所定量の濾液を凍結乾燥させ、重量測定した。この
残留物から塩含量を測定した。測定値と塩含量との差に
よってCD損失を明らかにした。
【0042】第1表は浄化の時間経過および生じる生成
物損失を表わす。
【0043】 第1表 時間 Vo 塩含量 CD損失 [h] [%] [%] 0 0 18.4 0 2 2 1.65 0.31 4 4 0.23 0.58 6 6 0.049 1.15 生成物損失はこの試験中で1容量当たり0.19%であった。
【0044】例2:メチル−β−シクロデキストリンD
S1,8からの塩化ナトリウムの除去装置:直径76m
mを有するベルクホフ(Berghof)社の膜円板BM5を
備えたミリポア社のレモリノ系 処方:40バール、pH=7および室温で水中にメチル
−β−シクロデキストリンDS1,8の20%溶液15
0mlの逆浸透。それぞれ透過液50mlの後に逆浸透
を中断させ、滞留液を再び容量150mlまで補充し
た。塩含量を滴定によって測定した。
【0045】第2表は浄化の経過を表わす。
【0046】 例3:メチル−β−シクロデキストリンDS1,8から
の塩化ナトリウムの除去装置:1つのら旋状に巻かれ
た、5.76m2 −膜面積を有する逆浸透モジュール
ナノマックス 50を備えた、ミリポア社の接線方向の
流れタイプの濾過系 MSP006256 処方:一定した容量の場合にTMP40バール、pH=
7および45〜48℃で水中にメチル−β−シクロデキ
ストリンDS1,8の35%溶液66 lの逆浸透、引
続き濃縮。塩含量を滴定によって測定した。CD損失を
測定するため、所定量の濾液を凍結乾燥させ、重量測定
した。この残留物から塩含量を測定した。測定値と塩含
量との差によってCD損失を明らかにした。
【0047】第3表はシクロデキストリン誘導体溶液の
浄化の時間経過および濃度を表わす。
【0048】 第3表 時間[h] Vo 塩含量 溶液のCD含量 [min] [%] 0 0 15.14 35 12 0.25 10.57 35 23 0.5 7.39 35 31 0.75 5.17 35 39 1 3.56 35 49 1.25 2.52 42.5 54 1.50 0.96 50 例4:メチル−β−シクロデキストリン DS 0,6
からの塩化ナトリウムの除去 装置:1つのら旋状に巻かれた、5.1m2 −膜面積を
有する逆浸透モジュールR76Aを備えた、ミリポア社
の接線方向の流れタイプの濾過系 MSP006256 処方:一定した容量の場合にTMP40バール、pH=
7および35℃で、水中にメチル−β−シクロデキスト
リン DS 0,6の16%溶液200 lの逆浸透。
塩含量を滴定によって測定した。CD損失を測定するた
め、所定量の濾液を凍結乾燥させ、重量測定した。この
残留物から塩含量を測定した。測定値と塩含量との差に
よってCD損失を明らかにした。
【0049】第4表は浄化の時間経過および生じる生成
物損失を表わす。
【0050】 第4表 時間 Vo 塩含量 CD損失 [h] [%] [%] 0 0 16.13 0 4.4 3 0.13 0.75 7.1 5 0.033 1 生成物損失はこの試験中で1容量当たり0.2%であった。
【0051】例5:メチル−γ−シクロデキストリン
DS 0,6からの塩化ナトリウムの除去 装置:1つのら旋状に巻かれた、5.1m2 −膜面積を
有する逆浸透モジュールR76Aを備えた、ミリポア社
の接線方向の流れタイプの濾過系 MSP006256 処方:一定した容量の場合、TMP40バール、pH=
7および39℃で、水中にメチル−γ−シクロデキスト
リン DS 0,6の19%溶液190 lの逆浸透。
塩含量を滴定によって測定した。CD損失を測定するた
め、所定量の濾液を凍結乾燥させ、重量測定した。この
残留物から塩含量を測定した。測定値と塩含量との差に
よってCD損失を明らかにした。
【0052】第5表は浄化の時間経過および生じる生成
物損失を表わす。
【0053】 第5表 時間 Vo 塩含量 CD損失 [h] [%] [%] 0 0 15.49 0 4.75 2 0.48 0.55 9.5 4 0.049 1.07 13 5.5 0.016 1.27 生成物損失はこの試験中で1容量当たり0.23%であった。
【0054】例6:アセチル−β−シクロデキストリン
DS 1,0からの酢酸ナトリウムおよび酢酸の除去 装置:1つのら旋状に巻かれた、5.1m2 −膜面積を
有する逆浸透モジュールR76Aを備えた、ミリポア社
の接線方向の流れタイプの濾過系 MSP006256 処方:一定した容量の場合、TMP40バール、pH=
7および33℃で、水中にアセチル−β−シクロデキス
トリン DS 1,0の25%溶液100 lの逆浸
透。酢酸含量を酵素により測定した(Boehringer Mannh
eim Kit. No 148261)。
【0055】第6表は浄化の経過を表わす。
【0056】 例7:分枝鎖状β−シクロデキストリンからのジメチル
ホルムアミドの除去 装置:1つのら旋状に巻かれた、0.3m2 −膜面積を
有する逆浸透モジュールR75Aを備えた、ミリポア社
の接線方向の流れタイプの濾過系 Pro−Lab 処方:一定した容量の場合、TMP40バール、pH=
7および30℃で、水中に分枝鎖状β−シクロデキスト
リンの20%溶液2,7 lの逆浸透。ジメチルホルム
アミドの含量を、凍結乾燥した試験体の1 H−NMRに
よって測定した。
【0057】第7表は浄化の経過を表わす。
【0058】 比較例1:カルボキシメチル−β−シクロデキストリン
DS 0,6からの塩化ナトリウムの除去 装置:膜面積0.465m2 を有する円板モジュールS
K1P714A0および1000D NMGTを備えた
ミリポア社の限外濾過系Pellicon 処方:一定した容量の場合、TMP2バール、pH=7
および25℃で、水中にカルボキシメチル−β−シクロ
デキストリン DS 0,6の10%溶液2000ml
の限外濾過。この試験の場合、グリコール酸を含有しな
い、塩化ナトリウムを添加され、既に浄化されたカルボ
キシメチル−β−CD DS 0,6から出発した。塩
含量を滴定によって測定した。CD損失を測定するた
め、所定量の濾液を凍結乾燥させ、重量測定した。この
残留物から塩含量を測定した。測定値と塩含量との差に
よってCD損失を明らかにした。
【0059】第8表は浄化の経過を表わす。
【0060】 第8表 Vo 塩含量 CD−損失 [%] [%] 0 13.72 0 0.6 9.43 13.15 1.2 6.13 24.78 1.8 1.73 33.72 生成物損失はこの試験中で1容量当たり18.7%であった。
【0061】例8:カルボキシメチル−β−シクロデキ
ストリン DS 0,6からの塩化ナトリウムおよびグ
リコール酸の除去 装置:直径76mmを有する膜円板R76Aを備えた、
ミリポア社のレモリノ系 処方:40バール、pH=7および室温で、水中にカル
ボキシメチル−β−シクロデキストリン DS 0,6
の20%溶液150mlの逆浸透。それぞれ透過液60
mlの後、逆浸透を中断させ、滞留液を再び150ml
まで補充した。塩含量を滴定によって測定した。CD誘
導体中のグリコール酸の含量を計算した。グリコール酸
の含量の減少を1 H−NMRを介して測定した。
【0062】第9表は浄化の経過を表わす。
【0063】 第9表 Vo グリコール酸 塩含量 [%] [%] 0 3.99 15.3 0.4 2.88 8.44 0.8 2.28 4.36 1.2 1.63 1.78 1.6 1.15 1.01 2 0.69 0.57 2.4 0.49 0.56 例9:カルボキシメチル−β−シクロデキストリン D
S 0,6からの塩化ナトリウムおよびグリコール酸の
除去 装置:1つのら旋状に巻かれた、5.76m2 −膜面積
を有する逆浸透モジュール ナノマックス 50を備え
たミリポア社の接線方向の流れタイプの濾過系MSP0
06256 処方:一定した容量の場合にTMP40バール、pH=
7および34℃で、水中にカルボキシメチル−β−シク
ロデキストリン DS 0,6の25%溶液100lの
逆浸透。塩含量を滴定によって測定した。CD誘導体中
のグリコール酸の含量を計算した。グリコール酸の含量
の減少を1 H−NMRを介して測定した。
【0064】第10表は浄化の経過を表わす。
【0065】 第10表 Vo グリコール酸 塩含量 [%] [%] 0 2.69 14.80 1 1.11 2.61 2 0.19 0.13 3 0.03 0.01 例10:グリシジル−トリメチルアンモニウム−β−シ
クロデキストリン MS0,5からの塩化ナトリウムお
よび1,2−ジヒドロキシプロピル−3−トリメチルア
ンモニウムクロリドの除去 装置:直径76mmを有する膜円板ナノマックス 50
を備えた、ミリポア社のレモリノ系 40バール、pH=7および室温で、水中にグリシジル
メチルアンモニウム−β−シクロデキストリン DS
0,5の25%溶液150mlの逆浸透。それぞれ透過
液60mlの後、逆浸透を中断させ、滞留液を再び15
0mlまで補充した。CD誘導体中の1,2−ジヒドロ
キシプロピル−3−トリメチルアンモニウムクロリド
(ジオール)の含量を計算した。1,2−ジヒドロキシ
プロピル−3−トリメチルアンモニウムクロリドの含量
の減少を1 H−NMRを介して測定した。
【0066】第11表は浄化の経過を表わす。
【0067】 例11:ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン
MS 0,9からの塩化ナトリウムならびにモノグリ
コールおよびジグリコールの除去 装置:1つのら旋状に巻かれた、5.1m2 −膜面積を
有する逆浸透モジュールR76Aを備えた、ミリポア社
の接線方向の流れタイプの濾過系 MSP006256 処方:一定した容量の場合、TMP40バール、pH=
7および33℃で、水中にヒドロキシプロピル−β−シ
クロデキストリン MS 0,9の30%溶液190l
の逆浸透。塩含量を滴定によって測定した。CD損失を
測定するため、所定量の濾液を凍結乾燥させ、重量測定
した。この残留物から塩含量およびグリコール含量を測
定した。測定値と塩含量、グリコール含量の差によって
CD損失を明らかにした。グリコール含量の測定を凍結
乾燥した試験体をアセトンを用いて抽出した後ガスクロ
マトグラフィー法により行なった。
【0068】第12表は浄化の経過および生じる生成物
損失を表わす。
【0069】 第12表 Vo モノグリコール ジグリコール 塩含量 CD損失 [%] [%] [%] 0 3.84 0.27 3.44 0 1 0.831 0.115 0.33 0.84 3 0.068 0.03 0.021 0.998 4 0 0 0.01 1.13 生成物損失はこの試験中で1容量当たり0.28%であった。
【0070】例12:異なった透過膜圧TMPおよび異
なった滞留液流量VFの場合に20%のヒドロキシプロ
ピル−β−シクロデキストリン溶液 MS 0,7の透
過液の流れ。
【0071】装置:1つのら旋状に巻かれた、5.1m
2 −膜面積を有する逆浸透モジュールR76Aを備え
た、ミリポア社の接線方向の流れタイプの濾過系 MS
P006256 処方:一定した容量の場合に異なったTMP、pH=7
および40℃で、水中にヒドロキシプロピル−β−シク
ロデキストリン MS 0,7の20%溶液90kgの
逆浸透。濾液減少は惹起されず、溶液を異なった滞留液
流量VFを用いて円を描いて運転した。
【0072】第1図は異なった透過膜圧TMPおよび異
なった滞留液流量VFの場合の水中にヒドロキシプロピ
ル−β−シクロデキストリン MS 0,7の20%溶
液の透過液流量を示す。
【0073】例13:異なった透過膜圧TMPの場合に
異なった濃度のヒドロキシプロピル−β−シクロデキス
トリン水溶液 MS 0,7の透過液の流れ。
【0074】装置:1つのら旋状に巻かれた、5.1m
2 −膜面積を有する逆浸透モジュールR76Aを備え
た、ミリポア社の接線方向の流れタイプの濾過系 MS
P006256 処方:一定した容量の場合にTMP20〜40バール、
pH=7および40℃で、異なった濃度の、水中にヒド
ロキシプロピル−β−シクロデキストリン MS 0,
7の溶液90kgの逆浸透。濾液減少は惹起されず、溶
液を円を描いて運転した。
【0075】第2図は異なった濃度および異なった透過
膜圧TMPの、水中にヒドロキシプロピル−β−シクロ
デキストリン MS 0,7の溶液の透過液流量を示
す。
【図面の簡単な説明】
【図1】異なった透過膜圧TMPおよび異なった滞留液
流量VFの場合の水中にヒドロキシプロピル−β−シク
ロデキストリン MS 0,7の20%溶液の透過液流
量を示す線図。
【図2】異なった濃度および異なった透過膜圧TMP
の、水中にヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリ
ン MS 0,7の溶液の透過液流量を示す線図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08B 37/16 B01D 61/02 500 B01D 61/02 510 B01D 61/12

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水溶性シクロデキストリン誘導体を浄化
    する方法において、少なくとも1つの親水性で非対称
    の、200〜800Dの公称分子量分離範囲を有する溶
    液−浸透膜を使用しながら逆浸透(RO)を行なうこと
    を特徴とする、水溶性シクロデキストリン誘導体の浄化
    方法。
  2. 【請求項2】 250〜750Dの公称分子量分離範囲
    を有する膜を使用する、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 350〜500Dの公称分子量分離範囲
    を有する膜を使用する、請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 浄化すべきシクロデキストリン誘導体を
    5〜60重量%の溶液として使用する、請求項1から3
    までのいずれか1項記載の方法。
  5. 【請求項5】 15〜70バールの透過膜圧および20
    〜80℃の温度で実施す、請求項1から4までのいず
    れか1項記載の方法。
  6. 【請求項6】 pH2〜pH11の範囲内のpHで実施
    する、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
  7. 【請求項7】 ら旋状に巻いた膜モジュールを使用す
    る、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
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