JP2851213B2 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents

走査電子顕微鏡

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JP2851213B2 JP4258547A JP25854792A JP2851213B2 JP 2851213 B2 JP2851213 B2 JP 2851213B2 JP 4258547 A JP4258547 A JP 4258547A JP 25854792 A JP25854792 A JP 25854792A JP 2851213 B2 JP2851213 B2 JP 2851213B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は集積回路の製造工程中で
ウェハ上に形成された微細パターンを観察し測定するた
めの走査電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム（ＥＢ）を用いた寸法測定装
置（寸法ＳＥＭ）に代表される半導体ウェハ観察用の走
査電子顕微鏡は、ウェハの大口径化に伴なって年々大型
化してきている。図４に現在一般的に使われているＥＢ
寸法測定装置の基本的な構造を示す。図４においてウェ
ハ１１４を収納した試料室（試料チャンバー）１１１の
上に電子光学鏡筒（コラム）１１２が載置されている。
【０００３】電子光学鏡筒（コラム）１１２は電子銃室
１２０内に収納された電子銃１２１と、電子銃室１２０
を高真空に保持するためのイオンポンプ１２２と、電子
銃１２１から放出された電子ビームを細く絞るためのコ
ンデンサレンズ１２３および対物レンズ１２４と、二次
電子検出器１２５とを備えている。
【０００４】二次電子検出器１２５はコラム１１２外に
置いてもかまわないが、最近では検出効率を向上させて
より高分解能で観察するために、対物レンズ１２４の上
方あるいは真下に取付けてコラム１１２と一体化して使
うことが多く行なわれている。
【０００５】試料室１１１の内部にはＸＹステージ（傾
斜観察が必要ならばＸＹＺステージ）１１３が設けら
れ、ＸＹステージ１１３上にウェハ１１４が載置されて
いる。ＸＹステージ１１３の移動は後述のようにモータ
ドライブで制御されている。図４は基本的な構成のＸＹ
ステージの断面構造を示している。図４において、上段
をＹ軸、下段をＸ軸として以下動作原理と構造を説明す
る。
【０００６】図４に示すようにＸ軸ステージ１１５は、
Ｘ軸クロスローラガイド１５１により保持され、Ｘ方向
にスライドして移動する。すなわちＸ軸クロスローラガ
イド１５１は固定盤１５２に固定され、Ｘステージ１１
５は固定盤１５２に固定されているＸ軸パルスモータ１
５３とＸ軸ボールネジ１５４により、Ｘ方向の駆動力を
あたえられてＸ軸クロスローラガイド１１５上をスライ
ドして移動する。
【０００７】Ｙ軸ステージ１１６はＹ軸クロスローラガ
イド１６１上に載置され、図示しないＹ軸パルスモータ
とＹ軸ボールネジ１６２によりＹ方向に移動する。これ
らの動作を組み合わせてＸＹのステージ１１３の移動が
行なわれる。
【０００８】ＸＹステージ１１３の移動範囲は、ウェハ
１１４の全面を観察することが必要であるので、最低で
もＸＹ両軸でウェハサイズの２倍の移動スペースが必要
となる。すなわち、８インチウェハであればステージは
最低でも４０cm口の移動スペースを必要とする。実際に
は、これに加えて駆動力の伝達機構等があり、必要とす
るスペースはさらに大きくなる。ＸＹステージ１１３の
重量は要求される精度によってかなり異なるが、８イン
チウェハ観察用の、ＸＹ方向移動のみのものであって、
停止精度±２〜３μｍのものでＸＹステージ１１３の単
体で２０Ｋｇ程度である。
【０００９】ウェハ１１４が大きくなるにつれて、パタ
ーンも微細化されていく。この結果、ＸＹステージ１１
３に要求される移動精度および停止精度を向上させる必
要があり、さらに移動速度を速くすることが必要とあ
る。すなわち、ウェハサイズが大きくなっていくと、移
動速度が同一であれば、ウェハ１１４の端から端までの
移動時間が増加してしまう。これらの要求を満足するた
めに、ＸＹステージ１１３の構造は益々複雑になり、結
果としてＸＹステージ１１３は大型化し、さらにその結
果、走査電子顕微鏡全体のフロアスペース（床面積）が
大きくなってしまう。このような走査電子顕微鏡を使う
場合はインプロセス管理（ウェハをクリーンルームの外
に出さない）が必須となる。このためクリーンルーム内
に設置して使うことを考えると、走査電子顕微鏡の大型
化は深刻な問題となる。しかしながら、上述の理由によ
り、むしろ走査電子顕微鏡は大型化の傾向にある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ウェハの大口径化に伴
う走査電子顕微鏡の大型化、特にフロアスペースの大面
積化の原因は、基本的には図４に示すように、コラム１
１２を固定した状態でＸＹステージ１１３を動かすこと
によりウェハ１１４全面を観察しようとする点にある。
この方式を踏襲する限りウェハ１１４の径が大きくなる
につれて、最低でもその増加量の２倍づつステージのス
トロークが長くなる（面積的には４倍になる）。
【００１１】このような装置構成をとらざるをえない最
大の原因の一つは、従来コラム１１２の形状と重量が大
きいことである。さらにこの点を詳しく述べれば、磁
界型レンズを使った従来のコラムでは電磁石の重量が重
い、高真空を得るための排気ポンプが重い、等がその
原因になっている。
【００１２】これまでの走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）のレ
ンズは磁界型レンズが用いられている。磁界型レンズは
電磁石を使って発生した磁界のレンズ作用により電子ビ
ームを集束させるもので、原理的構造として磁界を整形
するために磁性体のヨークを必要とする。現在使われて
いる通常のＳＥＭのレンズ構成は３段の集束用レンズ
（対物レンズ１段、コンデンサレンズ２段）からなり、
これらの集束用レンズ以外にもアライナント補正用、非
点収差補正用、およびビームの走査用レンズが必要とな
る。従って、コラム１１２のハウジングを含めた全重量
は、小さいものでも２０Ｋｇ−３０Ｋｇになる。
【００１３】磁界型レンズの特徴として、広いエネルギ
ー領域（通常のＳＥＭの利用目的では５keＶ−２０keＶ
程度）で平均して良好な収差特性が得られることがあげ
られる。また磁界型レンズは電子顕微鏡以来の実績があ
り、これらの理由により広く用いられている。しかしな
がら、ウェハの観察の用途に限定して考えると、事情は
異なってくる。半導体ウェハの試料は電子ビームの照射
による特性の劣化（照射ダメージ）や、観察対象に圧倒
的に絶縁物が多くこれらのチャージアップの緩和等の理
由により、従来よりはるかに低エネルギーの電子ビーム
で観察することが要求されている。具体的には０．５ke
Ｖ−１．５keＶの低エネルギーの電子ビームで観察され
る。
【００１４】磁界型レンズを用いてこの低エネルギー領
域で良好な収差特性を得るためには、短焦点高励磁型の
レンズが必要となる。このためには、強い磁場を発生さ
せることが必要で、この結果、特に対物レンズの励磁電
流を大きくする必要があり、対物レンズは大型化しかつ
重くなる。さらに、大きな磁場を発生するためには、高
いアンペアターンを必要とするので、電流による発熱も
問題になり、レンズの冷却のために水冷することが必要
である。
【００１５】次に真空排気系の問題について説明する。
ここで問題となるのは主として電子銃室１２０（図４）
を排気するための真空ポンプである。先に述べたよう
に、半導体試料を観察するためには低エネルギーの電子
の集束が必要であるが、レンズ特に対物レンズの収差、
例えば色収差は電子エネルギーが低くなるとその影響が
大きくなり、結果としてビームは絞りにくくなる。これ
をカバーするために、高輝度の電子銃１２１を使うこと
が行なわれている。
【００１６】電界放出型電子銃は輝度が高く、かつ放出
電子のエネルギー分散が小さいのでこのような目的には
最適であるが、欠点として安定な動作を保証するために
は電子銃室１２０内の高真空を必要とする。具体的に
は、冷陰極型電子銃（ＣＦＥ）で１０-10 Torr以上、熱
電界放出型電子銃（ＴＦＥ）では１０-9Torr以上の高真
空が必要である。このため、これまでは電子銃だけをイ
オンポンプで独立して排気する構造がとられていた。
【００１７】しかしながら以上述べてきたように、ウェ
ハに代表されるような大型の試料を観察する装置を小型
化かつ軽量化するための障害になっているのは、 （１）コラム１１２を固定して大型の試料１１４をのせ
たＸＹステージ１１３を移動させることが必要となり、
このため原理的に試料室１１１の大きさが大きくなる。 （２）またコラム１１２が大きくかつ重いため、コラム
１１２を試料室１１１に固定して使わなければならな
い。 （３）さらにコラム１１２は、磁界型レンズを有してい
るため、コラム１１２が大きくかつ重くなる。
【００１８】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、大口径のウェハのような大型の試料を観察
することができ、小型かつ軽量特にフロアスペースの小
さい走査電子顕微鏡を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明は、試料室と、前
記試料室内に設けられ、ウェハを保持するための試料台
と、前記試料室内において前記試料台に対向して設けら
れ、電子銃室内で発生した電子ビームを前記試料に放射
する電子光学鏡筒と、前記試料室内に設けられ、前記電
子光学鏡筒を前記ウェハと平行な平面上を移動させるＸ
Ｙ移動機構と、を備え、電子光学鏡筒の電子銃室内に、
吸着型のゲッタポンプを内蔵するととともに、電子銃室
の壁面に試料室と連通して電子銃室内を補助排気する穴
を設けたことを特徴とする走査電子顕微鏡である。
【００２０】
【作用】本願発明によれば、電子光学鏡筒の電子銃室内
に吸着型のゲッタポンプを内蔵したので、真空ポンプの
軽量化を図ることにより、電子光学鏡筒自体を軽量化す
ることができる。また電子銃室の壁面に試料室と連通し
て電子銃室内を補助排気する穴を設けたことにより、ゲ
ッタポンプを効果的に動作させることができる。
【００２１】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。
【００２２】図１は本発明の第１実施例を示す図であ
る。また図１（ａ）は本発明による電子光学鏡筒を示
し、図１（ｂ）は対応する電子光学系の光線図を示す。
【００２３】図１（ａ）において、電子光学鏡筒（コラ
ム）１０はケース１０ａを有し、ケース１０ａの上部
に、スリーブ２６を有する仕切板２６ａにより区画され
た電子銃室２０が形成されている。また電子銃室２０内
に電子銃カソード（電子放出源）２１および電子銃レン
ズ２２が収納されている。
【００２４】電子銃カソード２１としては、高分解能を
目的とする場合電界放出型が使われる。この理由として
は、電界放出型が輝度が高く電子ビームをより小さく絞
れること、および放出電子のエネルギー分散が小さく、
レンズ特に対物レンズの色収差によるビームの広がりを
おさえることができるためである。
【００２５】レンズ系は基本的には、上述した電子銃レ
ンズ２２と、対物レンズ（収束レンズ）２３と、ビーム
の走査と非点収差の補正を行なうためのマルチポールレ
ンズ２４とからなるレンズ系で構成されている。基本的
には電子銃レンズ２２と対物レンズ２３はいずれも静電
型電界レンズ構造となっており、動作条件のみが異な
る。
【００２６】静電型電界レンズからなる対物レンズ２３
は円筒型あるいは円板型の電極が複数個組合わされて構
成されている。図１に示す対物レンズ２３は最も簡単な
構造でアインツェルレンズと呼ばれており、３枚の電極
２３ａ，２３ｂ，２３ｃから構成されている。このうち
第１の電極２３ａはアース電位に、第２の電極２３ｂは
レンズ電界を形成するため負電位に、第３の電極２３ｃ
はアース電位に各々バイアスされている。また各電極２
３ａ，２３ｂ，２３ｃはセラミック等の絶縁物のホルダ
ー２３ｄにアセンブリされている。
【００２７】またマイクロチャンネルプレートを使った
二次電子検出器２５が、コラム１０のケース１０ａ下面
に直接取付けられている。二次電子検出器２５はマイク
ロチャンネルプレート２５ａにより二次電子を増倍し、
アノード板２５ｂで増倍された電子を電流として検出す
るものである。またスリーブ２６を有する仕切板２６ａ
がケース１０ａ内に設けられ、電子銃室２０へ試料室４
１（図３）から残留ガスが逆流しないようコンダクタン
スを低下させている。
【００２８】次に図１（ｂ）に示す光線図で、レンズ系
の動作を説明する。電子銃カソード点７１から放出され
た電子ビームは電子銃レンズ点７２で集束しマルチポー
ルレンズ２４の中心位置にクロスオーバ７３を結ぶ。さ
らに電子ビームは対物レンズの中心７４から縮小され、
試料表面上７５に縮小投影される。
【００２９】図１からわかるように、静電型電界レンズ
で構成されたコラム１０は小型であり、かつ磁界型にレ
ンズを用いた場合に比較して軽量となる。具体的には、
コラム１０は全長２００mm以下、外径５０mm以下、重量
２−３Kgとなる。但し、これは真空排気系を含まないと
きの数字である。
【００３０】以上のように本実施例によれば、コラム１
０の小型／軽量化を図ることができる。また低加速電圧
の動作領域では、これまでの磁界型レンズと比較して同
等あるいはそれ以上の低収差が期待できる。すなわち半
導体ウェハは、電子の照射ダメージの防止とウェハの帯
電（チャージアップ）を防止するために１kV前後の低加
速電圧で動作させる必要があり、高い加速電圧は必要な
いため静電型電界レンズを有するコラムの特徴を生かす
ことができる。
【００３１】次に図２により本発明の第２の実施例につ
いて説明する。
【００３２】上述のように、従来の電子銃室の排気は、
イオンポンプにより行なわれてきた。これは、イオンポ
ンプが振動を発生せずに電界放出型電子銃の安定な動作
に必要とされる高真空をえるのに適しているからであ
る。
【００３３】本発明では図２に示すように、ゲッタポン
プ（Non-evaporable Getter Pump）を用いて電子銃室２
０を排気する。このことにより装置の軽量化を図り、か
つ１０-9Torr〜１０10Torrの高真空を容易に得ることが
できる。このゲッタポンプはＺｒ，Ｆｅ，Ｃｕ等の焼結
体でガス分子を物理吸着、あるいはガス種によっては化
学吸着させて残留ガスを排気するものであり、小型で軽
く、かつ高い排気速度が得られる。また、ゲッタポンプ
を利用することで、排気系の小型化と軽量化が達成で
き、コラム１０の大きさと重量に影響を与えない排気系
を構成することができる。図２はゲッタポンプによる排
気方法を示す電子銃室の拡大図である。電子銃室２０内
には、電子銃カソード２１と電子銃レンズ２２が収納さ
れており、スリーブ２６により隔離されて高真空を維持
するようになっている。ゲッタポンプ３４は円筒形状に
加工されて、電子銃カソード２１を囲むように配置され
ており、リード線３５で外部電流源に接続されている。
【００３４】リード線３５はゲッタポンプ３４内に埋め
込まれたヒータ（図示せず）に電流を供給するためのも
のである。このヒータは、ゲッタポンプ３４の排気動作
時の加熱のため、および数１００時間に１回のアクチベ
ーションのためにゲッタポンプ３４を高温（材料によっ
て異なるが概ね４００〜５００℃程度）に加熱するため
のものである。なお、ゲッタポンプ３４は常温でも動作
は可能であるが、アクチベーションの頻度が高くなる。
ここでアクチベーションとはゲッタポンプ３４に吸着し
たガス分子を脱ガスし、ゲッタポンプを再度活性化する
ためのものである。
【００３５】電子銃室２０の壁面には排気用の穴３６が
開けられている。この穴３６の目的は、２つある。１つ
の目的としては、ゲッタポンプ３４は大気圧からは動作
させることはできないので、必ず補助排気が必要とな
る。通常は１０-5−１０-6Torr程度で動作を開始させる
のが良いので、電子銃室２０内を穴３６を介して排気す
るため必要となる。もう１つの目的は、アクチベーショ
ンのときの脱出ガス分子を外部に排気するために用いら
れる。
【００３６】排気系を含めて小型、軽量のコラム１０を
提供することにより、従来のようにコラム１０を固定し
た状態で大きなＸＹあるいはＸＹＺステージを移動させ
てウェハを観察する必要がなくなり、ステージを固定し
ておき、コラムを移動させることが可能となる。
【００３７】次に、図３により本発明の第３の実施例に
ついて説明する。図３において、第１の実施例または第
２の実施例で示したコラム１０が試料台４２上に配置さ
れ、全体として走査電子顕微鏡が構成されている。以
下、この走査電子顕微鏡について説明する。
【００３８】図３において、試料室４０の内部にステー
ジ（試料台）４２が設けられ、ステージ４２上にウェハ
４３が載置されている。ステージ４２は移動機構はな
く、固定式である。試料室４０内の上部にはＸＹ移動機
構４１が設置されている。ＸＹ移動機構４１の動作メカ
ニズムは図４に示すＸＹステージ１０３と同一のもので
ある。
【００３９】図３に示すＸＹ移動機構４１において、上
段をＸ軸、下段をＹ軸とする。Ｘ軸移動機構４４は試料
室４０上部に設けられたＸ軸クロスローラガイド５１で
保持され、Ｘ軸クロスローラーガイド５１に沿ってＸ方
向に移動する。このときの駆動力は、試料室上部に固定
された固定盤５２に取付けられているパルスモータ５３
とボールネジ５４によって与えられ、Ｘ軸移動機構４４
はＸ軸クロスローラガイド５１に沿ってＸ方向にスライ
ドし移動する。Ｙ軸移動機構４５はＸ軸移動機構４４の
下方に取付けられている。Ｙ軸パルスモータ（図示せ
ず）とＹ軸ボールネジ６１によりＹ軸方向の駆動力が与
えられ、Ｙ軸移動機構４５はＹ軸クロスローラガイド６
２に沿ってスライドし移動する。
【００４０】このＹ軸移動機構４５の下方に図１または
図２に示したコラム１０が設置されている。このコラム
１０の移動スペースは試料の大きさと同一でもよく、８
インチのウェハであれば８インチのみとなる。これに対
しステージが移動する場合は、ステージの移動スペース
として８インチ×２＝１６インチの移動スペースが必要
となる。またこのコラム１０は上述のように重量が軽い
ので、ここで使われるＸＹ移動機構４１は小さくかつ構
造的にも簡略化ができる。
【００４１】図３に示した構造は、１本のコラム１０を
用いてウェハ４３に対し順次観察と移動を繰り返し行な
う方式である。しかしながらウェハ４３の面積がコラム
の観察領域に比べてかなり大きい場合、複数個のコラム
１０をＸＹ移動機構４１に並べて設置することにより、
同一ウェハ４３上の複数部分を同時に複数のコラム１０
で観察することが可能となる。
【００４２】さらに、ステージ４２の代わりに従来のＸ
Ｙステージ１１３（図４参照）を併用すれば、コラム１
０とＸＹステージ１１３を同時に移動させられるので、
移動速度は倍になり検査時間の短縮がはかれる。この場
合、ＸＹステージ１１３の移動精度をあまり問題とせ
ず、コラム１０のＸＹ移動機構４４を高精度にすること
が有効である。これは、上述のようにコラム１０が軽量
なのでＸＹ移動機構４４のほうが構造が簡略であるため
高精度化がはかり易いからである。
【００４３】なお、上記実施例においてウェハ表面の平
面的な観察を例にして説明したが、ＸＹ移動機構４１の
下方にもう１つ傾斜機構（図示せず）をとりつけること
により、ウェハの傾斜観察を行なうことができる。
【００４４】以上説明したように、本実施例によれば、
ウェハ４３を固定してコラム１０を移動させることで、
ウェハ４３を移動させる場合に比較してウェハ４３全領
域を観察するために必要な移動スペースが半減し、試料
室４０の大きさを小さくすることができる。この結果、
走査電子顕微鏡全体の大きさに影響する試料室４０の大
きさが小さくなり、装置全体の大きさを小さくすること
ができる。また、小型のコラム１０を使うことができ、
かつ複数個のコラムを使うことができるので、同一ウェ
ハ４３上の複数箇所を同時に観察することが可能にな
る。さらに、コラム１０の移動とステージの移動を併用
することにより相対的な移動速度が速くなり、検査に要
する時間が短縮される。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、吸
着型のゲッタポンプを用いることにより電子光学鏡筒自
体を軽量化させて試料室内でＸＹ移動機構により電子光
学鏡筒をスムーズに移動させることができる。また電子
銃室の壁面に補助排気用の穴を設けたことにより、ゲッ
タポンプを効果的に動作させて、電子銃室内を確実に真
空状態に保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による電子光学鏡筒を示す側断面図。
【図２】ゲッタポンプを設けた電子光学鏡筒を示す拡大
側断面図。
【図３】本発明による走査電子顕微鏡を示す全体概略
図。
【図４】従来の走査電子顕微鏡を示す全体概略図。
【符号の説明】
１０ 電子光学鏡筒 １０ａ ケース２０ 電子銃室 ２１ 電子銃カソード（電子放出源） ２２ 電子銃レンズ２３ 対物レンズ（収束レンズ） ２４ マルチポールレンズ２６ スリーブ ２６ａ 仕切板 ３４ ゲッタポンプ ４０ 試料室 ４１ ＸＹ移動機構 ４２ 試料台 ４３ ウェハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−51440（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−65057（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−51441（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−131267（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−169860（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01J 37/28 H01J 37/16 - 37/18 H01J 37/06 H01J 37/12

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】試料室と、 前記試料室内に設けられ、ウェハを保持するための試料
    台と、 前記試料室内において前記試料台に対向して設けられ、
    電子銃室内で発生した電子ビームを前記試料に放射する
    電子光学鏡筒と、 前記試料室内に設けられ、前記電子光学鏡筒を前記ウェ
    ハと平行な平面上を移動させるＸＹ移動機構と、 を備え、 電子光学鏡筒の電子銃室内に、吸着型のゲッタポンプを
    内蔵するととともに、電子銃室の壁面に試料室と連通し
    て電子銃室内を補助排気する穴を設けたことを特徴とす
    る走査電子顕微鏡。
  2. 【請求項２】前記試料台および前記電子光学鏡筒のいず
    れもが、前記平面上を移動可能となっていることを特徴
    とする、請求項１記載の走査電子顕微鏡。
  3. 【請求項３】前記電子光学鏡筒が前記試料室内に複数設
    けられていることを特徴とする、請求項１または２に記
    載の走査電子顕微鏡。
  4. 【請求項４】前記電子光学鏡筒は、 開口を有するケースと、 前記ケース内で前記開口と対向して設けられた電子銃室
    に収容され、電子ビームを放出する電子放出源および前
    記電子ビームを変換する電子銃レンズと、 前記ケース内において前記電子銃室の外側に設けられ、
    前記電子銃室から放出された前記電子ビームを収束させ
    る収束レンズとを有し、 前記電子銃レンズおよび前記収束レンズは、静電型電界
    レンズで構成されていることを特徴とする、請求項１乃
    至３いずれかに記載の走査電子顕微鏡。
  5. 【請求項５】前記ケース内の前記電子銃室は、電子銃室
    内のコンダクタンスを低下させるためのスリーブを有す
    る仕切板により区画されていることを特徴とする、請求
    項４記載の走査電子顕微鏡。
  6. 【請求項６】前記電子銃室と前記収束レンズとの間に、
    前記電子ビームの走査および非点収差の補正を行うため
    のマルチポールレンズが設けられていることを特徴とす
    る、請求項４または５に記載の走査電子顕微鏡。
  7. 【請求項７】二次電子検出器が、前記ケースの開口の外
    側に設けられていることを特徴とする、請求項４乃至６
    いずれかに記載の走査電子顕微鏡。
  8. 【請求項８】前記二次電子検出器は、二次電子を増倍す
    るためのマイクロチャンネルプレートと、前記マイクロ
    チャンネルプレートにより増倍された二次電子を電流と
    して検出するアノード板と、からなることを特徴とす
    る、請求項７記載の走査電子顕微鏡。
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