JP2003223862A - 電子線照射装置、及び走査型電子顕微鏡装置、x線分析装置 - Google Patents
電子線照射装置、及び走査型電子顕微鏡装置、x線分析装置Info
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Abstract
査型電子顕微鏡装置を提供する。 【解決手段】 電子線源と、この電子線源から放出され
た電子を加速する加速電極と、加速された電子線を収束
する電子レンズとを備え、且つ前記電子線の照射方向を
電気的に変える偏向手段を持たない一体化された電子線
照射部とを有し、前記電子線照射部と試料との相対位置
を移動するための機械的移動手段を備えたことを特徴と
する電子線照射装置。
Description
いは走査型電子顕微鏡装置に関し、特に小型でかつ低真
空下で動作可能な装置に係わるものである。
電子線を試料上に照射し、試料から発生する2次電子や
反射電子を検出して像を形成する装置であり、高分解能
で表面を観察する手段として幅広い分野で用いられてい
る。さらに近年においては、試料を低真空中に保持した
状態で表面を観察できる装置(低真空SEMあるいは環
境制御型SEM)が開発され、食品や生物等の水分を含
む試料や絶縁試料の観察に応用されている。
る。図5において101は電子銃、102は加速電極、
103はコンデンサーレンズ、104は偏向レンズ、1
05は対物レンズ、106は試料、107は2次電子検
出器、108は画像表示装置を示している。電子銃10
1から放出された電子は加速電極102により所望の電
圧に加速され、コンデンサーレンズ103と対物レンズ
104によって収束されて、試料106上に微小なプロ
ーブを形成する。このプローブを偏向レンズ104によ
り走査し、プローブ領域近傍から発生する2次電子や反
射電子を検出器107で検出して、この信号強度を前記
プローブの走査と同期させて画像表示装置108に表示
する。なお図5には示していないが、実際には装置内部
を真空に排気するための複数の真空ポンプや、またレン
ズ系を冷却するための冷却循環装置等が装備される。市
販されている走査電子顕微鏡の設置面積は機種により異
なるが通常は3mX3m程度であり、装置の総重量は数
100kgから1トンを超える。
由は、高分解能を達成するために磁界型レンズを用い、
しかも20−30kVの高加速電圧を印加できるように
構成されているためである。すなわち電子を高速に加速
し、収束および走査するためのレンズ構成部品が大きな
り、必然的に電子光学鏡筒が大型化する。また電子光学
鏡筒と試料室を含む大容量の容器内を真空に維持するた
めに大型の排気系も必要になる。
走査型プローブ顕微鏡等の観察手段に比べると圧倒的に
大型である。低真空型のSEMにはさらに固有の問題点
がある。低真空SEMの場合、1次電子が試料に到達す
るまでの過程と試料表面から放出された2次電子や反射
電子が検出器に到達する過程で、多くの電子が雰囲気中
のガス分子と衝突してしまい、その結果として空間分解
能の低下や像質の低下が引き起こされる。したがって現
状では低真空化には限界があり、試料周りをある程度排
気する必要がある。
性を向上させる試みはいくつか提案されている。例とし
て特開平5−299049では、電子銃と加速電極と偏
向電極と検出器とを含む多数の電子線照射部を備えた小
型の表面センサーを開示している。また電子線照射位置
は試料台の下部に配置したアクチュエータによってXY
Z方向を変化させて広い面積を同時に走査できるように
している。
小型化については達成されているものの、電子線照射装
置あるいは走査電子顕微鏡としての性能は、充分に保持
されているとはいい難い。特に走査電子顕微鏡において
充分な空間分解能を得るには、1次電子線を充分細く絞
って試料上に照射する必要がある。一般に電子線源から
放出された電子線は発散傾向をもつため、この電子線を
収束するためには何らかの電子レンズが必要となる。と
ころが、上記の表面センサーには偏向レンズは装着され
ているが、電子線を収束するための電子レンズが装着さ
れていないので、試料上で充分収束されたプローブを形
成できないと考えられる。
ることにあり、電子線の走査には偏向電極を備えている
ことが本発明の装置とは異なる点である。
上記の問題点を解決し、高い空間分解能をできるだけ損
なわずに走査電子顕微鏡の小型化を達成することであ
る。さらに本発明第2の課題は、試料が低真空雰囲気下
や大気圧雰囲気下でも動作可能な走査電子顕微鏡を提供
することである。上述したように低真空仕様のSEM
は、現状では真空の圧力が高すぎると空間分解能の低下
や検出効率の低下を生じる問題があり、まだ充分満足で
きるものとは言えない。本発明は、小型でかつ低真空あ
るいは大気中で動作可能な走査電子顕微鏡を実現するこ
とを目的としている。
決するために、まず電子源を小型にするために偏向レン
ズを持たない構成とし、試料台をピエゾ素子によってX
Y方向に機械的に移動することで、面観察を可能にした
小型の電子顕微鏡装置である。
放出された電子を加速する加速電極と、加速された電子
線を収束する電子レンズとを備え、且つ前記電子線の照
射方向を電磁的に変える偏向手段を持たない一体化され
た電子線照射部と、前記電子線照射部と観察試料との相
対位置を移動するための機械的移動手段を備えたことを
特徴とする電子線照射装置を提供することにある。
料を固定するための試料台と一体化されていることを特
徴とする電子線照射装置である。
子線照射部と一体化されていることを特徴とする電子線
照射装置である。
動できる機能を有することを特徴とし、さらには前記機
械的移動手段にピエゾ素子を用いることを特徴とする電
子線照射装置を提供することにある。
電子線照射部と試料上の電子線の照射位置をXY方向に
移動する手段と電子線照射位置から発生する情報を検出
する検出器を備え、面観察を行う機能を有することを特
徴とする電子顕微鏡装置を提供することにある。
を変化することにより、観察試料に対する電子線の収束
位置を調整できることを特徴とした電子顕微鏡装置を提
供することにある。
電レンズであり、この静電レンズを構成する電極に印加
する電圧を変えることによってレンズの焦点距離を変化
できる機能を有することを特徴とする電子線照射装置を
提供することにある。
利用したX線分析装置である。
線照射装置の小型化を実現するため、微小な電子線源と
加速された電子線を収束する微小な静電レンズとを有す
る電子光学鏡筒を用い、かつ上記電子光学鏡筒と試料の
相対位置を機械的に変化させ、XY方向に走査すること
によって電子線を試料表面上でラスタースキャンするこ
とを特徴とする。
子放出源は熱電子放出のように高温加熱する必要がな
く、かつ低真空でも安定に動作する方式が望ましい。さ
らに高い空間分解能を得るには電子放出源の放出面積が
できるだけ小さいことが望ましい。このような性質を備
える電子放出源として、たとえばカーボンナノチューブ
あるいはカーボンナノファイバーからの電界放出を用い
ることできる。また上記の微小な電子光学鏡筒は静電レ
ンズの電極間に生じる放電を避けるために比較的低い加
速電圧が設定される。通常は加速電圧が低くなると空間
分解能が低下するという問題がある。しかし、本発明に
おいては電子軌道を偏向するによって電子線を走査する
必要がないので電子線の中心を常に光軸上に置けるこ
と、また低加速電圧のもとで充分短い焦点距離を設定で
きること、等の特徴から空間分解能の低下を最小限に抑
えている。
方法としては、走査トンネル顕微鏡の場合と同様にピエ
ゾ素子の駆動を利用できる。すなわち上述した観察試料
をピエゾ素子からなるスキャナー上に形成し、このピエ
ゾ素子を駆動することによって1次電子線の照射位置を
水平方向にスキャンする。上記手段によれば、観察範囲
にかかわらず電子光学鏡筒と試料間(あるいは電子源と
試料間)の距離を充分小さくできるので、比較的単純か
つ微小なレンズ構成によって電子線を試料上に充分収束
できる。なお、本発明の重要な特徴は収束レンズ系を含
む電子光学鏡筒全体を機械的に走査することであり、こ
の点において偏向レンズをその構成要素として含み、そ
れによってXY方向に電子ビームを走査する前記特開平
5−299049とは明確に異なるものである。また本
発明は上記電子光学鏡筒の作製法について何ら制限を設
けるものではないが、薄膜成長技術、半導体プロセス技
術、またマイクロメカニクスやFIB等による微細加工
技術を複合することにより、微小な電子光学鏡筒を作製
することが可能である。
大気圧下のもとで観察できるように、上記電子光学鏡筒
の内部を試料周りとは独立に排気する手段を備えること
である。低真空下での走査電子顕微鏡観察を阻害する大
きな要因は、1次電子が試料に到達するまでの経路でガ
ス分子に散乱され、その結果1次電子線の信号強度の低
下や強度分布の広がりが生じてしまうことである。一定
の真空圧力下で1次電子線がガス分子と衝突する確率を
小さくするには1次電子線が低真空下を通過する距離を
できるだけ短くすることが効果的である。本発明の走査
電子顕微鏡は低真空雰囲気となる電子光学鏡筒から試料
までの距離を非常に短くできるので電子とガス分子の衝
突確率を低く抑えることができる。市販の走査電子顕微
鏡では、鏡筒から試料までの距離は、通常数mm−数c
mのオーダーであるのに対して、本発明では鏡筒から試
料までの距離を1μm以下にすることも容易である。同
一の雰囲気と加速電圧のもとで比較すれば、本発明の走
査電子顕微鏡における入射電子の散乱確率は一般の装置
に比べて3桁以上小さくなる。これより大気圧下であっ
ても信号強度が高く充分収束された電子線を照射するこ
とが可能になる。
号検出の手段を特に制限するものではないが、試料が導
電性であれば最も単純な方法として、2次電子や反射電
子等の発生の結果生じる吸収電流を信号として検出する
ことができる。
説明する。
す。1は電子光学鏡筒、2は電子光学鏡筒1の内部を排
気するソープションポンプ、3は試料、4は試料からの
吸収電流を増幅するプリアンプ、5はピエゾ素子スキャ
ナー、6は回転およびXYZ移動機構を有するステー
ジ、7は装置全体のフレームである。また8は電子光学
鏡筒の各レンズ電極の電圧を制御するためのレンズ制御
ユニット、9はピエゾ素子を制御するピエゾスキャナー
ユニット、10は試料電流を検出する検出ユニット、1
1は各ユニット9、10、11を制御し画像信号を形成
するメインコントロールユニット、12は走査電子顕微
鏡像を表示するディスプレーである。
ープションポンプ2により電子光学鏡筒1の内部を排気
するが、試料周りの領域13は大気状態であってかまわ
ない。また目的に応じて、フレームに設けられた開孔部
14から適当な真空ポンプを用いて領域13を排気する
か、あるいは適当なガスで置換する。電子線照射によっ
て試料から放出された反射電子あるいは2次電子を検出
するための手段として、本実施例では試料−グランド間
に流れる吸収電流をプリアンプ4により増幅して検出す
る。この検出方法によれば試料からの全放出電流を定量
的に検出できる。またリーク電流の影響を受けにくいの
でSN比の高い良好な像が得られる。
拡大した断面を表す。15は絶縁体基板を表し、その一
部には電子光学鏡筒の内部を排気するための開孔部16
が設けられている。絶縁体基板15上には電極17が形
成され、さらにその上にカーボンナノチューブからなる
電子源チップ18が形成されている。19は引出し電
極、20は加速電極、21は電子を収束するための収束
レンズであるアインツェルレンズを表し、22、23、
24の3つの電極によって構成されている。ただし収束
レンズはアインツェルレンズに限るものではなくどのよ
うな静電レンズであってもかまわない。上記の電極1
7、19、20、21、22、23、24および外周電
極25は絶縁体15、26、27により電気的に絶縁さ
れ、引出し配線(不図示)を通じて電極端子28に接続
されており、外部から各電極に対して独立に電圧を印加
できる。29はソープションポンプ2との接続部分を表
し、Oリング30により真空をシールし、開孔部16か
ら電子光学鏡筒内部を排気する。
ンプ2に液体窒素を投入し、排気バルブ(不図示)を開
けることにより、開孔部16から電子光学鏡筒1の内部
を排気する。低真空領域13のガス分子は電子線の出射
口(電極24の部分)を通じて電子光学鏡筒1の中に入
り込むが、一方で開孔部16から排気されているので、
排気開始から一定時間経過後は電子光学鏡筒1の内部に
は真空の定常状態が形成される。充分に電子光学鏡筒内
部が排気された後、引出し電極19に電圧を印加して電
子源18より電子を放出させ、加速電極20、収束レン
ズ21を動作することにより、試料3上に細く絞った電
子線を照射する。このとき、電子光学鏡筒の外周電極2
5あるいは電極24と試料3との電位差は自由に設定で
きる。電極24と電極25を同電位に設定し、この電位
と試料3を同電位に設定した場合は、通常のSEMと同
様であり電子はこの空間内を直線的に運動する。一方、
試料3に対して上記電位をプラスに設定すると、電子光
学鏡筒1−試料3間にほぼ一様な電場が形成される。こ
の状況は低速電子顕微鏡(LEEM)や光電子放射顕微
鏡(PEEM)の場合と類似しており、電子光学鏡筒1
−試料3の空間も一種の電子レンズとして作用し、電子
は放物線軌道を描いて減速しながら試料上に収束する。
試料上に照射される電子の運動エネルギーを数eV以下
に設定することも容易であり、したがって2次電子はほ
とんど発生せず、検出される信号は実質的に反射電子の
みである。
を充分収束させるために電子光学鏡筒−試料間の距離は
通常のSEMに比べてかなり短く、標準的な使用条件と
しては数10nmから数10μm程度である。したがっ
て、試料表面の大きな凹凸があると、電子線の照射位置
によってフォーカス条件を変える必要が生じる。このよ
うな場合は、フォーカス条件を変えた複数の走査像を取
得し、画像処理によりフォーカスの合った領域をつなぎ
合わせることにより、全体にフォーカスの合った像を取
得するとともに試料表面の形状を計測する。なお、フォ
ーカスは収束レンズ21の設定値、あるいはピゼゾ素子
5を駆動して試料をZ方向に移動させるか、あるいはそ
の両方を組み合わせることによって行う。
途のほかに、電子線露光装置等の電子線照射装置として
も用いることができる。
す。31は電子光学鏡筒、32はピエゾ素子スキャナ
ー、33は試料から放出された2次電子あるいは反射電
子を吸収電流として取り込み増幅するプリアンプ、34
は電子光学鏡筒31の内部を排気するソープションポン
プ、35は試料、36は回転およびXYZ移動機構を有
する試料ステージ、37は装置全体のフレームである。
また38は電子光学鏡筒31の中の各レンズと、プリア
ンプ33と、ピエゾ素子スキャナー32を制御するコン
トロールユニット、39は走査電子顕微鏡像を表示する
ディスプレーである。
ゾ素子スキャナー32、プリアンプ33を含む部分を拡
大した断面を表す。40は絶縁体基板を表し、その一部
には電子光学鏡筒の内部を排気するための開孔部41が
設けられている。絶縁体基板40上には電極膜42が形
成され、さらにその上にカーボンナノチューブからなる
電子源チップ43が形成されている。44は引出し電
極、45は加速電極、46は電子を収束レンズであるア
インツェルレンズを表し、47、48、49の3つの電
極によって構成されている。ただし収束レンズはアイン
ツェルレンズに限るものではなくどのような静電レンズ
であってもかまわない。上記の電極42、43、44、
45、46、47、48、49および外周電極50は絶
縁体40、51、52により電気的に絶縁され、引出し
配線(不図示)を通じて電極端子53に接続され、外部
から各々独立に電圧を印加できる。54はZ方向駆動用
のピエゾ素子、55はXY方向駆動用のピエゾ素子、5
6はソープションポンプ34との接続部分を表し、一部
にプリアンプ57、電極端子53が配置されている。上
記54、55、56は各々が中空構造をなして連結して
いる。57はOリングを表し、ソープションポンプ34
の排気口部分がOリング57に圧着して真空をシール
し、開孔部41から電子光学鏡筒内部を排気する。
1に電子光学鏡筒と試料の相対位置を走査する手段とし
て、電子光学鏡筒または試料の一方を固定したまま電子
光学鏡筒をピエゾ素子スキャナーによりラスタースキャ
ンすることである。この際、ソープションポンプを含む
フレーム全体を固定するために、ピエゾ素子スキャナー
54、55を中空構造とし、その固定端をソープション
ポンプ側の排気口に接続し、この中空部を通して排気を
行うようにしている。なお、図4では円筒型のピエゾ素
子スキャナーを例示しているが、スキャン精度を高める
にはテトラポット型のピエゾ素子スキャナーを採用する
方がより好ましい。この場合はZ方向のピエゾ素子を中
空構造にすることにより、電子光学鏡筒内部を排気する
ことができる。本実施例では観察中に試料を移動する必
要がないので、試料の重量には特に制約がない。
2次電子または反射電子の検出部を試料側ではなく電子
光学鏡筒側に配置したことである。試料から放出された
2次電子または反射電子は、試料に対してプラス電圧を
印加された外周電極50により捕獲されプリアンプ57
で増幅されて吸収電流として検出される。したがって試
料が導電性でなければならないという制約はなく、絶縁
試料であっても観察できる。なお本実施例ではソープシ
ョンポンプ34に投入された液体窒素の一部を利用し
て、プリアンプ57を低温に冷却しているのでSN比の
高い信号が得られる。
では、電子線照射部と試料の距離が短いことから、電子
線照射部の試料と対向する部分に二次電子検出部61を
設ける構成とすることも効果がある。この様子を図6に
示す。
部の試料と対向する部分に赤外線照射手段62を設け、
観察位置を赤外線によって加熱して、環境からの汚染物
を除去することも可能である。
途のほかに、電子線露光装置等の電子線照射装置として
も用いることができる。
装置とX線検出器を組み合わせて、小型の分析装置を提
供することも可能である。この様子を図7に示す。電子
線照射部41から発生した電子線が試料81に当たり、
特性X線を発生する。これをX線検出窓74を通じてX
線検出器72に導いて検出する。
に配置されているが、本発明はこれに限定されない。
が高い電子線照射装置を提供することが可能になる。ま
た本発明を走査電子顕微鏡として用いることにより、低
真空化あるいは大気圧雰囲下での自然な状態で試料を観
察できるようになる。また小型のX線分析装置として利
用することも可能である。
光学鏡筒1から試料3に対して電子線が照射され、ピエ
ゾ素子スキャナー5で試料3はXY方向に走査される。
電子光学鏡筒1にはピエゾ素子スキャナーがセットされ
XY方向に走査される。
加熱手段をセットした応用装置の図
電子顕微鏡装置の図
Claims (11)
- 【請求項1】 電子線源と、この電子線源から放出され
た電子を加速する加速電極と、加速された電子線を収束
する電子レンズとを備え、且つ前記電子線の照射方向を
電磁的に変える偏向手段を持たない一体化された電子線
照射部と、前記電子線照射部と観察試料との相対位置を
移動するための機械的移動手段を備えたことを特徴とす
る電子線照射装置。 - 【請求項2】 前記機械的移動手段が観察資料を固定す
るための試料台と一体化されていることを特徴とする電
子線照射装置。 - 【請求項3】 前記機械的移動手段が前記電子線照射部
と一体化されていることを特徴とする電子線照射装置。 - 【請求項4】 前記機械的移動手段がXYZ方向に移動
できる機能を有することを特徴とする請求項1乃至3の
いずれかに記載の電子線照射装置。 - 【請求項5】 前記機械的移動手段にピエゾ素子を用い
ることを特徴とする請求項1乃至4に記載の電子線照射
装置。 - 【請求項6】 請求項5に記載のピエゾ素子をXY方向
に駆動して前記電子線照射部と試料上の電子線の照射位
置をXY方向に移動する機械的手段と電子線照射位置か
ら発生する情報を検出する検出器を備え、面観察を行う
機能を有することを特徴とする電子顕微鏡装置。 - 【請求項7】 前記ピエゾ素子によって試料台の高さを
変化することにより、観察試料に対する電子線の収束位
置を調整できることを特徴とする請求項6に記載の電子
顕微鏡装置。 - 【請求項8】 前記電子線を収束する電子レンズが静電
レンズであり、この静電レンズを構成する電極に印加す
る電圧を変えることによってレンズの焦点距離を変化で
きる機能を有することを特徴とする請求項1に記載の電
子線照射装置。 - 【請求項9】 前記電子線照射位置と対向する部位に、
電子線照射位置から発生する情報の検出器を設けたこと
を特徴とする請求項6に記載の電子顕微鏡装置。 - 【請求項10】 前記電子線照射位置と対向する部位
に、電子線照射位置を加熱するための加熱手段を設けた
ことを特徴とする請求項6に記載の電子顕微鏡装置。 - 【請求項11】 請求項1に記載の電子線照射装置とX
線検出器を備えたことを特徴とするX線分析装置。
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JP2002019913A JP3679763B2 (ja) | 2002-01-29 | 2002-01-29 | 電子線照射装置、及び走査型電子顕微鏡装置、x線分析装置 |
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JP2010103072A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Hironari Miyazaki | 電子顕微鏡試料室用ベーキング機構 |
KR20170109055A (ko) * | 2015-02-03 | 2017-09-27 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 펠리클을 통한 포토마스크의 촬상을 위한 방법 및 시스템 |
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KR20170109055A (ko) * | 2015-02-03 | 2017-09-27 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 펠리클을 통한 포토마스크의 촬상을 위한 방법 및 시스템 |
KR102382493B1 (ko) * | 2015-02-03 | 2022-04-01 | 케이엘에이 코포레이션 | 펠리클을 통한 포토마스크의 촬상을 위한 방법 및 시스템 |
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