JP2003234080A - 電子線照射装置 - Google Patents

電子線照射装置

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JP2003234080A
JP2003234080A JP2002029792A JP2002029792A JP2003234080A JP 2003234080 A JP2003234080 A JP 2003234080A JP 2002029792 A JP2002029792 A JP 2002029792A JP 2002029792 A JP2002029792 A JP 2002029792A JP 2003234080 A JP2003234080 A JP 2003234080A
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Shigeki Yoshida
茂樹 吉田
Mitsuru Otsuka
満 大塚
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高い空間分解能を損なうことなく走査電子顕
微鏡を小型化し、且つ、大きな試料を観察することがで
きる電子線照射装置を提供すること。 【構成】 本体が電子光学鏡筒部と第1のチャンバー
と第2のチャンバーから成り、前記電子光学鏡筒部は前
記第1のチャンバーに含まれ、前記第2のチャンバーは
電子光学鏡筒部及び前記第1のチャンバーを外側から囲
む形で形成され、前記電子光学鏡筒部は電子線源と前記
電子線源から放出された電子を加速する加速電極と、加
速された電子線を収束する電子レンズとを備えた電子光
学鏡筒部であって、且つ、前記電子光学鏡筒と試料との
相対位置を移動させることによって前記電子線の試料上
への照射位置を走査する手段を備え、前記第1及び第2
のチャンバーの一部分に開口部が設けられ、前記開口部
を塞ぐ状態で試料を固定し、且つ、前記第1のチャンバ
ーと試料によって形成される空間と前記第2のチャンバ
ーと試料によって形成される空間をそれぞれ排気する経
路を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に小型で且つ低
真空下で動作可能な電子線照射装置に関する。
【0002】
【従来の技術】走査電子顕微鏡(SEM)は細く絞った
電子線を試料上に照射し、試料から発生する2次電子や
反射電子を検出して像を形成する装置であり、高分解能
で表面を観察する手段として幅広い分野で用いられてい
る。
【0003】走査電子顕微鏡の一般的な構成を説明す
る。図3において、31は電子銃、32は加速電極、3
3はコンデンサーレンズ、34は偏向レンズ、35は対
物レンズ、36は試料、37は2次電子検出器、38は
画像表示装置を示している。電子銃31から放出された
電子は加速電極32により所望の電圧に加速され、コン
デンサーレンズと対物レンズによって収束されて、試料
36上に微小なプローブを形成する。このプローブを偏
向レンズ34により走査し、プローブ領域近傍から発生
する2次電子や反射電子を検出器37で検出して、この
信号強度を前記プローブの走査と同期させて画像表示装
置38に表示する。
【0004】尚、図3には示していないが、実際には装
置内部を真空に排気するための複数の真空ポンプや、
又、レンズ系を冷却するための冷却循環装置等が装備さ
れる。市販されている走査電子顕微鏡の設置面積は機種
により異なるが通常は3m×3m程度であり、装置の総
重量は数100kgから1 トンを超える程度である。こ
のように走査電子顕微鏡は光学顕微鏡や走査型プローブ
顕微鏡等の観察手段に比べると圧倒的に大型であり、更
に複雑且つ高価格でもある。
【0005】走査電子顕微鏡を小型化し、操作性や機能
性を向上させる試みは幾つか提案されている。例として
特開平5−182627号公報に開示されている方法を
説明する。
【0006】上記公報によれば「基板上に形成された電
界放出冷陰極と、上記基板上に絶縁物を介して被着及び
形成され、上記冷陰極より電子線を引き出す引出し電極
とで形成される電子線源、上記引出し電極上に絶縁物を
介して被着及び形成され、上記電子線を加速する加速電
極、上記加速電極上に直接若しくは絶縁物を介して被着
及び形成された検出器、及び上記冷陰極と上記引出し電
極と上記加速電極と上記検出器に対し電気的に接続され
た複数の接続線を備えた超小型表面センサー」とし、こ
れにより電子銃と加速電極と検出器とを含む表面センサ
ーの小型化を達成している。
【0007】又、前記公報においては、電子線照射位置
を走査する機構として上記表面センサーをピエゾ素子上
に配置し、このピエゾ素子の駆動によって上記表面セン
サーを走査する方法を実施例として挙げている。
【0008】更に、特開平5−159735号公報にお
いては、電子源、加速及び収束電極、検出器を一体構造
とすることでSEMを小型化し、更に低真空状態の維持
を目的とした差動排気機構を設けている。
【0009】一方、従来のSEMでは困難であった大き
な試料を観察したり、或は試料の大きさに拘らず試料表
面の微細構造や形態を観察したい場合がある。このよう
な課題に対し、特開平10−92366号公報では、試
料室に開口部を設け、この開口部を試料が塞ぐ状態で試
料を固定することで、試料の大きさに拘らずSEM観察
ができるようにした。又、特開平5−159736号公
報では、電子銃や加速や収束のための電子光学系から成
る鏡筒自体に移動機能を持たせ、電子線を試料の所望の
位置に照射することで大きな試料に対応している。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平5−182627号公報に記載された表面センサ
ーは、装置の小型化については達成されているものの、
電子線照射装置或は走査電子顕微鏡としての性能は、充
分に保持されているとは言い難い。走査電子顕微鏡にお
いて充分な空間分解能を得るには、1次電子線を充分細
く絞って試料上に照射する必要がある。一般に電子線源
から放出された電子線は発散傾向を持つため、この電子
線を収束するためには何らかの電子レンズが必要とな
る。
【0011】ところが、上記の表面センサーには電子線
を収束するための電子レンズが記述されていないので、
試料上で充分収束されたプローブを形成できないと考え
られる。
【0012】又、次の特開平5−159735号公報に
おいては、小型化については或る程度達成されているも
のの、電子線の走査機構の記述がなく、記録ディスクの
情報を再生する電子ビームピックアップとしての機能が
紹介されているのみで、所謂顕微鏡としての構成は記述
されていない。又、差動排気機構についても、低真空状
態を維持するためのものである。低真空中では、1次電
子が試料に到達するまでの過程と試料表面から放出され
た2次電子や反射電子が検出器に到達する過程で、多く
の電子が雰囲気中のガス分子と衝突してしまい、その結
果として空間分解能の低下や像質の低下が引き起こされ
るという課題がある。
【0013】大きい試料については、上記特開平10−
92366号及び特開平5−159736号公報におい
て、或る程度の大きい試料への対応は図られているが、
SEM本体は依然として大きいままであり、特に後者の
例においては、大きな試料を入れるためのチャンバーや
大きい鏡筒を移動できるだけのスペースのために、通常
のSEM装置よりも更に大きなものとなっている。
【0014】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、高い空間分解能を損なうこと
なく走査電子顕微鏡を小型化し、且つ、大きな試料を観
察することができる電子線照射装置を提供することにあ
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、本体が電子光学鏡筒部と第1のチャンバ
ーと第2のチャンバーから成り、前記電子光学鏡筒部は
前記第1のチャンバーに含まれ、前記第2のチャンバー
は電子光学鏡筒部及び前記第1のチャンバーを外側から
囲む形で形成され、前記電子光学鏡筒部は電子線源と前
記電子線源から放出された電子を加速する加速電極と、
加速された電子線を収束する電子レンズとを備えた電子
光学鏡筒部であって、且つ、前記電子光学鏡筒と試料と
の相対位置を移動させることによって前記電子線の試料
上への照射位置を走査する手段を備え、前記第1及び第
2のチャンバーの一部分に開口部が設けられ、前記開口
部を塞ぐ状態で試料を固定し、且つ、前記第1のチャン
バーと試料によって形成される空間と前記第2のチャン
バーと試料によって形成される空間をそれぞれ排気する
経路を設けたことを特徴とする。
【0016】従って、本発明によれば、小型電子源に加
速電極、収束電極を一体化する構造とすることでこれら
を含む電子光学鏡筒を小型化することができる。又、こ
の電子光学鏡筒全体を圧電体等で水平方向に走査するこ
とで走査に必要な電極群を省くことができ、電子光学系
を必要以上に複雑にすることなく走査電子顕微鏡機能を
実現することができる。
【0017】更に、本発明の装置によるチャンバーは、
開口部を有し、それを塞ぐ状態で試料を固定するため試
料の大きさに関係なく所望の試料の表面を観察すること
ができる。
【0018】又、第1チャンバーとそれを外から囲む第
2チャンバーを有し、第1チャンバーと第2チャンバー
の間を第1チャンバー内と隔離して真空排気できるた
め、第1チャンバー内を高真空にすることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。
【0020】<実施の形態1>図1は本発明に係る電子
線照射装置の構成図であり、同図において、1は電子光
学鏡筒部、2はピエゾスキャナ(ここでは円筒型)、3
は第1チャンバー、4は第2チャンバー、5は試料とチ
ャンバーの接触部で、ここではOリングを用いている。
6は第1チャンバー内の排気経路、7は第2チャンバー
の排気経路、8は2次電子検出器、9はガス導入経路、
10は第1チャンバーと第2チャンバーのシール部、1
1は電子源、電子光学系、ピエゾスキャナ、2次電子検
出器への電源供給やそれらからの信号を検出するケーブ
ルである。12は試料で、ここでは定盤の表面を観察し
た。13は装置本体の電子源や電子光学系の電源及びコ
ントローラー、14は2次電子像を表示する表示装置で
ある。
【0021】図2に電子光学鏡筒部1の内部を示した。
【0022】15は絶縁体基板を表し、その一部には電
子光学鏡筒の内部を排気するための開孔部16が設けら
れている。絶縁体基板15上には電極17が形成され、
更ににその上にカーボンナノチューブから成る電子源チ
ップ18が形成されている。19は引出し電極、20は
加速電極、21は電子を収束するための収束レンズであ
るアインツェルレンズであり、22,23,24の3つ
の電極によって構成されている。但し、収束レンズはア
インツェルレンズに限るものではなくどのような静電レ
ンズであっても構わない。
【0023】上記電極17,19,20,21,22,
23,24及び外周電極25は、絶縁体15,26,2
7により電気的に絶縁され、引出し配線(不図示)を通
じて電極端子28に接続されており、外部から各電極に
対して独立に電圧を印加できる。32はピエゾスキャナ
2との接続部分を表し、Oリング30により真空をシー
ルし、開孔部15から電子光学鏡筒内部を排気すること
ができる。
【0024】本発明による試料表面の一般的な観察方法
を以下に示す。
【0025】先ず、試料12の表面の観察したい箇所に
本発明による電子線照射装置を設置する。このとき第1
チャンバーを第2チャンバーに対して引き上げておき、
第1チャンバーのOリング部5は試料表面に接しないよ
うにしておく。次に、排気経路7を経て、第1、2チャ
ンバー内をスクロールポンプで排気した。1pa程度ま
で排気できると、第1チャンバーを下に降ろし、Oリン
グ5を試料表面に接触させ、排気経路6を介して第1チ
ャンバー内を排気する。
【0026】ここでは、ターボ分子ポンプ(不図示)に
て排気した。20分程度経過した後、外部のコントロー
ラから電力を電子光学鏡筒部1、ピエゾスキャナ2及び
2次電子検出器8に供給し、電子光学鏡筒部1から電子
線を試料12の表面に照射し、同時にピエゾスキャナ2
をX,Y方向に走査しながら、それと同期して2次電子
検出器8の信号強度を検出した。
【0027】表示装置14には、試料12の表面形態が
表示された。ピエゾ2によるZ方向の移動及び収束レン
ズ21を調整してフォーカスを調整した。像質はSNの
良い良好なもので、長時間に亘って安定した像が得られ
た。又、空間分解能は10nm程度が得られた。これ
は、電子線が照射される第1チャンバー内の真空度が良
好なため、残留ガス等によって、照射される電子ビーム
が広がったり、検出される2次電子の収集効率が低下す
るとことの影響が殆どないためである。
【0028】尚、本実施の形態は本発明を制限するもの
ではない。例えば、排気方法については、下記のような
方法も採ることができる。
【0029】上記実施の形態では、第1チャンバーと第
2チャンバーを別々に排気したが、排気経路7を閉じて
おいて、先ず、第1チャンバーを試料表面から引き離し
た状態で排気経路6のみで排気し、第1、2チャンバー
内を排気し、或る程度排気されると、第1チャンバーを
下に下げて試料表面とOリング5と接触させ、排気経路
6を介して排気しても良い。このようにしても、大気圧
>第2チャンバー内>第1チャンバー内の順に圧力は低
くなり、電子線照射による2次電子の検出をし易い真空
環境を形成することができる。
【0030】又、電子光学鏡筒内部を上記第1、2チャ
ンバーとは別途に排気することもできる。これにより、
第1チャンバー内と電子光学鏡筒内部に差動排気作用が
生じるため、より安定した電子ビームの動作が可能とな
る。よって、例えば、試料からの脱ガスが多いような試
料についても電子光学鏡筒内部の真空度の上昇を最小限
に留めることができ、観察試料の幅を広げることができ
る。
【0031】<実施の形態2>次に、本発明の実施の形
態2について説明する。尚、装置構成は実施の形態1と
同様である。
【0032】ここでは、真空の質をコントロールするた
めに、観察前に、不活性ガスでチャンバー内を置換して
から観察した例を示す。
【0033】先ず、試料12の表面の観察したい箇所に
本発明に係る電子線照射装置を設置する。このとき、第
1チャンバーを第2チャンバーに対して引き上げてお
き、第1チャンバーのOリング部5は試料表面に接しな
いようにしておく。
【0034】次に、排気経路7を経て、第1、2チャン
バー内をスクロールポンプで排気した。1pa程度まで
排気できると、ガス導入経路9よりArを大気圧まで導
入後、再び排気経路7を経て第1、2チャンバー内をス
クロールポンプで排気した。この操作を3回繰り返し
た。その後、第1チャンバーを下に降ろし、Oリング5
を試料表面に接触させ、排気経路6を介して第1チャン
バー内を排気する。ここでは、ターボ分子ポンプ(不図
示)にて排気した。20分程度経過した後、外部のコン
トローラから電力を電子光学鏡筒部1、ピエゾスキャナ
2及び2次電子検出器8に供給し、電子光学鏡筒部1か
ら電子線を試料12の表面に照射し、同時にピエゾスキ
ャナ2をX,Y方向に走査しながら、それと同期して2
次電子検出器8の信号強度を検出した。
【0035】表示装置14には、試料12の表面形態が
表示された。ピエゾ2によるZ方向の移動及び収束レン
ズ21を調整してフォーカスを調整した。像質はSNの
良い良好なもので、長時間に亘って安定した像が得られ
た。特に、電子線照射によるコンタミネーションの付着
が少なかった。これは、初期のチャンバー内をArで置
換したため、チャンバー内の残留有機成分が減少したた
めと思われる。
【0036】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、電子線照射装置を用いることで、大きな試料の
任意の場所を、電子線照射による2次電子検出観察に適
した真空の環境を実現しながら、比較的簡便に表面観察
ができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電子線照射装置の構成を示す図で
ある。
【図2】本発明に係る電子線照射装置の電子光学鏡筒部
の構造を示す図である。
【図3】従来の走査型電子顕微鏡の構造を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 電子光学鏡筒部 2 ピエゾスキャナ 3 第1チャンバー 4 第2チャンバー 5 Oリング 6 第1チャンバー内の排気経路 7 第2チャンバーの排気経路 8 2次電子検出器 9 ガス導入経路 10 シール部 11 ケーブル 12 試料 13 電源及びコントローラー 14 表示装置 15 絶縁体基板 16 開孔部 17 電極 18 電子源チップ 19 引出し電極 20 加速電極 21 アインツェルレンズ 22〜23 アインツェルレンズ 25 外周電極 26,27 絶縁体 28 電極端子 29 ピエゾスキャナとの接続部分 30 Oリング 31 電子銃 32 加速電極 33 コンデンサーレンズ 34 偏向レンズ 35 対物レンズ 36 試料 37 2次電子検出器 38 画像表示装置

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 本体が電子光学鏡筒部と第1のチャンバ
    ーと第2のチャンバーから成り、前記電子光学鏡筒部は
    前記第1のチャンバーに含まれ、前記第2のチャンバー
    は電子光学鏡筒部及び前記第1のチャンバーを外側から
    囲む形で形成され、前記電子光学鏡筒部は電子線源と前
    記電子線源から放出された電子を加速する加速電極と、
    加速された電子線を収束する電子レンズとを備えた電子
    光学鏡筒部であって、且つ、前記電子光学鏡筒と試料と
    の相対位置を移動させることによって前記電子線の試料
    上への照射位置を走査する手段を備え、前記第1及び第
    2のチャンバーの一部分に開口部が設けられ、前記開口
    部を塞ぐ状態で試料を固定し、且つ、前記第1のチャン
    バーと試料によって形成される空間と前記第2のチャン
    バーと試料によって形成される空間をそれぞれ排気する
    経路を設けたことを特徴とする電子線照射装置。
  2. 【請求項2】 前記第2チャンバーに対し、前記電子光
    学鏡筒部を含む前記第1のチャンバーが相対的に位置が
    可変であることを特徴とする請求項1記載の電子線照射
    装置。
  3. 【請求項3】 電子光学鏡筒内を独立に排気する手段を
    備えることを特徴とする請求項1又は2記載の電子線照
    射装置。
  4. 【請求項4】 電子光学鏡筒部を試料に対して水平方向
    に走査する手段が圧電体の駆動によるものであることを
    特徴とする請求項1〜3記載の電子線照射装置。
  5. 【請求項5】 圧電体の駆動により電子光学鏡筒部を上
    下方向に移動させ、この移動によって試料に対する電子
    線の収束位置を調整できることを特徴とする請求項1〜
    4記載の電子線照射装置。
  6. 【請求項6】 前記第1のチャンバー及び第2のチャン
    バーにガス導入のための導入機構を設けたことを特徴と
    する請求項1〜5記載の電子線照射装置。
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