JPH0935679A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents

走査電子顕微鏡

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JPH0935679A
JPH0935679A JP18700395A JP18700395A JPH0935679A JP H0935679 A JPH0935679 A JP H0935679A JP 18700395 A JP18700395 A JP 18700395A JP 18700395 A JP18700395 A JP 18700395A JP H0935679 A JPH0935679 A JP H0935679A
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JP
Japan
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sample
electron
detector
scanning
backscattered
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JP18700395A
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Shigeo Matsumoto
成夫 松本
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Jeol Ltd
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Jeol Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 X線スペクトルにゴーストピークの発生しな
いセミインレンズ型対物レンズを用いた走査電子顕微鏡
と、低倍率の像の観察時に反射電子検出器の影が生じな
い走査電子顕微鏡を実現する。 【解決手段】 試料4からのX線は、検出器8によって
検出される。この時、光軸Oから一定角度以上に放出さ
れる反射電子は、試料4に接近して配置されている接地
電位か、あるいは、正の電位が印加された導電性プレー
ト14に入射し、プレート14に吸収される。その結
果、反射電子は試料4に戻されることは極めて少なくな
り、反射電子の試料への入射に基づくX線の発生は無視
できる。また、低倍率走査像を得る場合、駆動機構17
が操作され、一体化されている反射電子検出器13とプ
レート14とが光軸から取り除かれる。この状態で、走
査コイル12により一次電子ビームを大きく2次元走査
し、その結果得られた2次電子を2次電子検出器5によ
って検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、セミインレンズタ
イプの対物レンズを備えた走査電子顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】走査電子顕微鏡では、試料への電子ビー
ムの照射に基づいて発生した2次電子、反射電子、ある
いはX線などを検出している。この内、2次電子を効率
的に検出するためにセミインレンズタイプの対物レンズ
が開発されている。図1はこのようなタイプの走査電子
顕微鏡の要部を示しており、1はセミインレンズタイプ
の対物レンズである。
【0003】この対物レンズ1は、内側磁極2の外側に
外側磁極3が配置され、この対物レンズ1の磁場が試料
4にまで及ぶように構成されている。試料4への電子ビ
ームの照射によって発生された2次電子seは、対物レ
ンズ1の磁場に拘束され、試料上に巻き上げられて対物
レンズ1内を上方に向かう。
【0004】対物レンズ1の上部の光軸から離れた位置
には、2次電子検出器5が設けられている。対物レンズ
1の上部にまで取り出された2次電子eは、2次電子検
出器5に印加された電圧に基づく電界の作用により2次
電子検出器5に引き寄せられ、検出器5によって検出さ
れる。
【0005】一方、試料4への電子ビームの照射によっ
て発生した反射電子reは、対物レンズ1の磁極の下部
に取り付けられた半導体型の反射電子検出器6によって
検出される。この反射電子検出器6は、中心部分に電子
ビーム通過開口7が設けられたドーナツ状に形成されて
いる。一方、試料4への電子ビームの照射によって発生
したX線xは、EDS型(エネルギー分散型)のX線検
出器8によって検出される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記したセミインレズ
型の対物レンズ1を用いた走査電子顕微鏡では、試料か
ら発生した2次電子seを対物レンズ磁場によって拘束
し、対物レンズ1の上部にまで引上げ、2次電子検出器
5によって検出しているので、2次電子の検出効率が向
上すると共に、2次電子検出器5を対物レンズ1と試料
4との間に配置する必要がないので、対物レンズ1と試
料2との間の距離(ワーキングディスタンス)を小さく
でき、高分解能の走査電子顕微鏡が提供できる。
【0007】しかしながら、反射電子に注目すると、一
次電子ビームの光軸Oに対してある一定の角度以内の反
射電子re1は、図2に示すように、対物レンズ1の磁
場によって、対物レンズ1の中央部に巻き上げられ、対
物レンズ1の上部に向かって反射電子検出器6に入射し
ない。また、一次電子ビームの光軸Oに対してある一定
角度以上の反射電子re2は、ミラー効果により対物レ
ンズ1の磁場により曲げられ、試料4に戻ってしまって
反射電子検出器6に入射しない。
【0008】この試料4に戻った反射電子は、一次電子
ビームが入射した試料位置以外の試料部分からX線を発
生させる。この反射電子の照射によって発生したX線も
X線検出器8によって検出され、その結果、得られたX
線スペクトル上にゴーストピークが発生する。
【0009】更に、一次電子ビームの光軸に対してある
一定角度以内の反射電子を効率良く検出するためには、
反射電子検出器6の電子ビーム通過開口7の径を小さく
すれば良い。図3は反射電子検出器6の電子ビーム通過
開口7の径を小さくした例を示している。このような構
成で、視野探しなどの目的で、低倍率の2次電子像や反
射電子像を観察しようとすると、一次電子ビームの2次
元走査の際、偏向角の大きい領域で一次電子ビームが反
射電子検出器の裏面に当たってしまい、得られた走査像
は、図4に示すように反射電子検出器6の影Sが生じ
る。
【0010】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、X線スペクトルにゴーストピーク
の発生しないセミインレンズ型対物レンズを用いた走査
電子顕微鏡と、低倍率の像の観察時に反射電子検出器の
影が生じない走査電子顕微鏡を実現するにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に基づく
走査電子顕微鏡は、電子ビームを試料上に集束するため
のセミインレンズタイプの対物レンズと、試料上の電子
ビームの照射位置を走査するための走査手段と、試料へ
の電子ビームの照射によって得られた反射電子を検出す
る反射電子検出器と、試料への電子ビームの照射によっ
て発生したX線を検出するX線検出器とを備えた走査電
子顕微鏡において、反射電子検出器は中心に小さな電子
ビーム通過孔を有したドーナツ状に形成されて対物レン
ズと試料との間に配置され、反射電子検出器の試料側に
薄いドーナツ状のプレートを設けたことを特徴としてお
り、光軸から一定角度以上に放出される反射電子をプレ
ートに入射させ、反射電子の試料への入射を防止してX
線スペクトル中のゴーストピークの発生をなくす。
【0012】請求項2の発明に基づく走査電子顕微鏡
は、請求項1の手段に加えて、反射電子検出器とプレー
トとを一体的に構成し、反射電子検出器とプレートとを
対物レンズと試料との間に挿脱可能に配置するようにし
た点に特徴を有しており、低倍率像の観察中に反射電子
検出器の影が生じることを防止する。
【0013】請求項3の発明に基づく走査電子顕微鏡
は、請求項1の手段に加えて、プレートを反射電子放出
率の小さい材質で形成し、プレートへの反射電子の入射
によって新たな反射電子の発生を防止する。
【0014】請求項4の発明に基づく走査電子顕微鏡
は、請求項1の手段に加えて、反射電子検出器に設けら
れた電子ビームの通過孔の径を2mm以下とし、反射電
子検出効率を向上させる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図5は本発明に基づく走査
電子顕微鏡の一例を示しており、図1の従来装置と同一
ないしは類似の構成要素には同一番号を付し、その詳細
な説明は省略する。10は電子銃であり、電子銃10か
ら発生した一次電子ビームは、集束レンズ11とセミイ
ンレンズ型の対物レンズ3によって試料4上に細く集束
される。
【0016】対物レンズ3の上部には、図1の走査電子
顕微鏡と同様に2次電子検出器5が配置され、また、試
料4に接近してEDS型のX線検出器8が設けられてい
る。また、一次電子ビームEBは、走査コイル12によ
って偏向され、試料4上の電子ビームの照射位置は走査
される。対物レンズ3と試料4との間の空間には、ドー
ナツ状の反射電子検出器13と導電性プレート14とが
配置されている。
【0017】半導体検出器13は、ドーナツ状のプレー
ト14上に取り付けられており、半導体検出器13の中
心部分の電子ビームの通過開口15の径は約2mm程度
にされている。プレーと14は移動支持体16によって
サポートされており、この移動支持体16は、走査電子
顕微鏡カラムの外側の駆動機構17によって操作され、
移動支持体16と一体化されているプレート14と半導
体検出器13を光軸上に配置したり、それらを光軸上か
ら取り除くことが可能にされている。このような構成の
動作を次に説明する。
【0018】2次電子像を観察する場合、試料4上で電
子ビームの2次元走査が行われる。試料4への電子ビー
ムの照射に基づいて発生した2次電子は、対物レンズ3
の磁場によって拘束され、電子ビームの光軸に沿って対
物レンズ3内部を上方に向かい、対物レンズ3の上部の
2次電子検出器8によって検出される。検出信号は図示
していない陰極線管に供給されることから、陰極線管に
は試料の2次電子像が表示される。
【0019】次に、試料4への電子ビームの照射によっ
て発生した反射電子は、光軸上に配置された反射電子検
出器13によって検出される。この時、対物レンズ3の
磁場によって巻き上げられ、光軸に沿って上昇する反射
電子も、反射電子検出器13電子ビーム通過開口15の
径が小さくされているため、効率良く反射電子検出器1
3によって検出される。反射電子検出器13の検出信号
は図示していない陰極線管に供給され、反射電子像を得
ることができる。
【0020】次に、試料4への電子ビームの照射によっ
て発生したX線は、EDS検出器8によって検出され
る。この時、光軸Oから一定角度以上に放出される反射
電子は、試料4に接近して配置されている接地電位か、
あるいは、正の電位が印加された導電性プレート14に
入射し、プレート14に吸収される。その結果、反射電
子は試料4に戻されることは極めて少なくなり、反射電
子の試料への入射に基づくX線の発生は無視できる。し
たがって、得られたX線スペクトルにはゴーストピーク
がほとんど無くなり、正確なX線分析を行うことができ
る。
【0021】このような効果を達成するため、プレート
13は、内径が8〜14mm、外径が20〜30mmの
大きさに形成されている。また、対物レンズ3の下面か
らプレート13の下面までの距離は、3〜8mmとされ
ている。更に、プレート13のは、アルミニウム、炭素
のような比較的2次電子や反射電子、X線を発生させに
くい材料で形成されている。なお、反射電子検出器13
の電子ビーム通過開口15の径は、2mm以上であると
反射電子が開口15を通過することが実験的に確認され
た。
【0022】次に、試料4の視野探しを行う場合につい
て述べる。試料4の視野探しのために、低倍率走査像を
得る場合、駆動機構17が操作され、一体化されている
反射電子検出器13とプレート14とが光軸から取り除
かれる。この状態で、走査コイル12により一次電子ビ
ームを大きく2次元走査し、その結果得られた2次電子
を2次電子検出器5によって検出する。この検出信号は
試料4の広い範囲をカバーする低倍率像であり、この像
によって試料4の視野探しを行う。なお、この時、反射
電子検出器13は光軸から取り除かれているので、反射
電子検出器13の影が像の中に現れることはない。
【0023】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、セミインレン
ズ型の対物レンズの構成は、上記実施の形態に限らず、
対物レンズの磁場が試料に及ぶものであれば、本発明を
適用することができる。また、2次電子検出器は対物レ
ンズの上部に配置したが、セミインレンズ型対物レンズ
の途中に開口を設け、その開口を通る2次電子を検出す
るように検出器を配置しても良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のセミインレンズ型対物レンズを用いた走
査電子顕微鏡の要部を示す図である。
【図2】試料からの反射電子の軌道の説明をするための
図である。
【図3】電子ビームの通過開口の径を小さくした反射電
子検出器を示す図である。
【図4】走査像に現れた反射電子検出器の影を示す図で
ある。
【図5】本発明に基づくセミインレンズ型対物レンズを
用いた走査電子顕微鏡を示す図である。
【符号の説明】
1 対物レンズ 2 内側磁極 3 外側磁極 4 試料 5 2次電子検出器 8 EDS型X線検出器 10 電子銃 11 集束レンズ 12 走査コイル 13 反射電子検出器 14 プレート 15 電子ビーム通過開口 16 移動支持体 17 駆動機構

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子ビームを試料上に集束するためのセ
    ミインレンズタイプの対物レンズと、試料上の電子ビー
    ムの照射位置を走査するための走査手段と、試料への電
    子ビームの照射によって得られた反射電子を検出する反
    射電子検出器と、試料への電子ビームの照射によって発
    生したX線を検出するX線検出器とを備えた走査電子顕
    微鏡において、反射電子検出器は中心に小さな電子ビー
    ム通過孔を有したドーナツ状に形成されて対物レンズと
    試料との間に配置され、反射電子検出器の試料側に薄い
    ドーナツ状のプレートを設けた走査電子顕微鏡。
  2. 【請求項2】 反射電子検出器とプレートは一体的に構
    成され、反射電子検出器とプレートとを対物レンズと試
    料との間に挿脱可能に配置した請求項1記載の走査電子
    顕微鏡。
  3. 【請求項3】 プレートは反射電子放出率の小さい材質
    で形成された請求項1記載の走査電子顕微鏡。
  4. 【請求項4】 反射電子検出器に設けられた電子ビーム
    の通過孔の径は、2mm以下である請求項1記載の走査
    電子顕微鏡。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008186689A (ja) * 2007-01-30 2008-08-14 Hitachi High-Technologies Corp 走査形電子顕微鏡
JP2012186177A (ja) * 2012-06-18 2012-09-27 Hitachi High-Technologies Corp 電子線応用装置
JP2012195235A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Toshiba Corp 電子ビーム照射装置
EP2525385A1 (en) * 2011-05-16 2012-11-21 Fei Company Charged-particle microscope
CN104520963A (zh) * 2012-08-22 2015-04-15 株式会社日立高新技术 复合带电粒子线装置
WO2017094721A1 (ja) * 2015-12-03 2017-06-08 松定プレシジョン株式会社 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡
JP2018206589A (ja) * 2017-06-02 2018-12-27 日本電子株式会社 走査電子顕微鏡
JP2019067770A (ja) * 2013-09-25 2019-04-25 オックスフォード インストルメンツ ナノテクノロジー ツールス リミテッド 空気中でのx線分析
US10438770B2 (en) 2015-01-30 2019-10-08 Matsusada Precision, Inc. Charged particle beam device and scanning electron microscope
US10991543B2 (en) 2018-07-26 2021-04-27 Hitachi High-Tech Corporation Charged particle beam device

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008186689A (ja) * 2007-01-30 2008-08-14 Hitachi High-Technologies Corp 走査形電子顕微鏡
JP2012195235A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Toshiba Corp 電子ビーム照射装置
EP2525385A1 (en) * 2011-05-16 2012-11-21 Fei Company Charged-particle microscope
US8698078B2 (en) 2011-05-16 2014-04-15 Fei Company Charged-particle microscopy with occlusion detection
JP2012186177A (ja) * 2012-06-18 2012-09-27 Hitachi High-Technologies Corp 電子線応用装置
CN104520963A (zh) * 2012-08-22 2015-04-15 株式会社日立高新技术 复合带电粒子线装置
JP2019067770A (ja) * 2013-09-25 2019-04-25 オックスフォード インストルメンツ ナノテクノロジー ツールス リミテッド 空気中でのx線分析
US10438770B2 (en) 2015-01-30 2019-10-08 Matsusada Precision, Inc. Charged particle beam device and scanning electron microscope
US10541106B2 (en) 2015-01-30 2020-01-21 Matsusada Precision, Inc. Charged particle beam device and scanning electron microscope
JPWO2017094721A1 (ja) * 2015-12-03 2018-05-31 松定プレシジョン株式会社 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡
CN108292580A (zh) * 2015-12-03 2018-07-17 松定精度株式会社 荷电粒子线装置及扫描电子显微镜
KR20180089481A (ko) * 2015-12-03 2018-08-08 마쯔사다 프리지션 인코포레이티드 하전 입자선 장치 및 주사 전자 현미경
EP3385977A4 (en) * 2015-12-03 2019-04-03 Matsusada Precision, Inc. CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND ELECTRONIC SCAN MICROSCOPE
WO2017094721A1 (ja) * 2015-12-03 2017-06-08 松定プレシジョン株式会社 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡
CN108292580B (zh) * 2015-12-03 2019-06-11 松定精度株式会社 荷电粒子线装置及扫描电子显微镜
US10497535B2 (en) 2015-12-03 2019-12-03 Matsusada Precision, Inc. Charged particle beam device and scanning electron microscope
TWI682421B (zh) * 2015-12-03 2020-01-11 日商松定精度股份有限公司 荷電粒子線裝置及掃描電子顯微鏡
JP2018206589A (ja) * 2017-06-02 2018-12-27 日本電子株式会社 走査電子顕微鏡
US10991543B2 (en) 2018-07-26 2021-04-27 Hitachi High-Tech Corporation Charged particle beam device

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