JP4608820B2 - X線検査装置 - Google Patents
X線検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4608820B2 JP4608820B2 JP2001192458A JP2001192458A JP4608820B2 JP 4608820 B2 JP4608820 B2 JP 4608820B2 JP 2001192458 A JP2001192458 A JP 2001192458A JP 2001192458 A JP2001192458 A JP 2001192458A JP 4608820 B2 JP4608820 B2 JP 4608820B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- electron beam
- deflection
- value
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、X線検査装置に係わり、特に、透過型のX線管を用い、X線管の電子ビームをステアリングコイルとフォーカスコイルによって偏向・集束し、ターゲットに衝突させて透過方向にX線を発生させ、X線像検出装置を用いて検査するX線検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
微細な内部構造を非破壊検査法で観察する手法が各分野で要求されている。例えば半導体パッケージングの開発や実装検査・品質保証のために、微小焦点を有するX線管を使って内部の欠陥などが調べられている。このX線管は開放型構造で、ターゲットに厚さが薄いタングステンプレートを使用し、収束された電子ビームをこのターゲットに打ち込み、そこで発生するX線を放射するものである。検査部品の微細な構造を観察するため、焦点寸法は微小なものが使われている。
このX線管はマイクロフォーカスX線管と呼ばれ、真空容器内で熱陰極から出発した電子ビームを、電子レンズにより収束させてターゲット上の1〜200μmの寸法の微小領域に打ち込み、そこで生じるX線を利用するものである。マイクロフォーカスX線管のうち、特に焦点寸法が微少化できるものは、開放型と呼ばれるタイプのものである。開放型のX線管は、真空容器の開閉機構と真空排気ポンプを具備しており、熱陰極やターゲット材を交換できるという特徴をもつ。このため、開放型のマイクロフォーカスX線管では熱陰極やターゲットの寿命を犠牲にして陰極の熱陰極の温度を上げて焦点寸法を微細化し、高管電圧、高管電流の条件で焦点寸法を微細化することが可能である。
開放型のX線管は、さらに透過型と反射型と呼ばれる2つのタイプに分類される。透過型では、ターゲット面から見て電子ビームと出力X線が反対側に位置するのに対し、反射型では、ターゲット面から見て電子ビームと出力X線が同じ側に位置する。透過型、反射型とも、電子ビームをターゲット上の微小領域に収束してX線の焦点寸法を微細化する構造は同じである。
【0003】
図4に、開放透過型X線管の断面構造を示す。このX線管はカソード部の陰極フィラメント1と、ウェネルト電極2と、電子ビームを加速する陽極3と、電子ビームの方向を偏向するステアリングコイル4と、偏向された電子ビームを集束するフォーカスコイル5と、X線透過窓上に設けられたターゲット6とから構成されている。そして、各部はO−リング(図示せず)で互いに真空気密に連結されており、ターボ分子ポンプとロータリーポンプ(図示せず)による2段引きがされたX線管容器を形成している。
陰極側に高圧ケーブルが挿し込まれ、X線制御装置10aから陰極フィラメント1に負の高電圧が印加される。陽極3側のターゲット6及びX線管容器の外装は接地電位に保たれている。高圧ケーブル(図示されていない)から陰極フィラメント1に電圧が印加され電流が流れ加熱されると、熱電子が放出され陽極3に向かって加速され、電子ビームを形成する。電子ビームはウェネルト電極2を通り、加速されて陽極3の中央に設けられた円筒部に入り、X線制御装置10aからステアリングコイル4により電子ビームの進行方向が調整される。そして、X線制御装置10aからフォーカスコイル5によって、微小な径の電子ビームに収束され、ターゲット6に突入する。アルミニウムの厚みT=0.5mm程度のX線出力窓上の内側に、ターゲット6がマウントされている。ターゲット6は、例えば、厚さが50μm程度のタングステンが使われたり、ターゲット材をX線透過窓に直接成膜したりしている。このターゲット6に電子ビームが突入するとそこでX線を放射する。放射されるX線のうちX線透過窓を透過する方向のX線が試料に照射されて、その透過X線がX線像検出装置7に入射し、X線画像を得ることができる。マイクロフォーカスX線管のX線条件は、管電圧が5〜225kV、管電流が〜2mA程度で、焦点寸法は1〜200μm程度のものが使われている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来のX線検査装置は以上のように構成されているが、このマイクロフォーカスX線発生装置の電子銃の陰極フィラメント1は、数百時間程度の寿命しかなく交換が必要となる。交換時にはX線管容器の内部を大気圧状態にし、陰極部の電子銃の陰極フィラメント1の部分を外部に取り出し、陰極フィラメント1を新しいものに交換する。そして再び、X線管容器に陰極フィラメント1を取付け、真空に内部を排気する。しかし、毎回同じ位置に、陰極フィラメント1を取付けることは出来ない。そのため陰極フィラメント1を取付け真空に排気してから、取付け位置のずれによる電子ビームの変位を補正するために、ステアリングコイル4により電子ビームの進行方向を調整する必要がある。この調整はX線像検出装置7からの画像を目視で確認しながら、手動でX線制御装置10aのボタン操作で光軸を変化させ、ステアリングコイル4を構成する上下前後の電磁コイルに流すX偏向値及びY偏向値の電流を調整して、画像の輝度が最高となる光軸を発見して行なわれていた。
この調整作業は、X線像検出装置7の出力像を目視で確認しながら行わなければならず、管電圧が低い条件ではX線出力が微弱であるため調整がしにくくなるという欠点があった。また、電子ビームの変位が大きく電子ビームが本来の開口部から外れている場合には、X線の出力がなくなるので調整が極めて困難になるという欠点もあった。そして、2軸を変化させる必要があるため、手動による調整では光軸を発見するのに非常に時間がかかり、さらに、画面の輝度は目視による比較であるために、誤った方向へ光軸を走査してしまうという問題がある。
【0005】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、電子ビームをターゲットの所定の位置に容易に位置調整することができるX線検査装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため本発明のX線検査装置は、電子発生部で発生し加速された電子ビームを集束手段により集束しつつターゲットに衝突させてX線を発生するX線管と、このX線管から発生したX線を試料に照射して透過像を検出するX線像検出装置を備えたX線検査装置において、前記電子線発生部と集束手段との間に配置され2次元的に電子ビームを偏向する偏向手段と、前記偏向手段による偏向量を2次元的に走査する走査手段と、前記電子ビームを前記走査手段によって走査しながら前記X線像検出装置によってX線の強度を計測する手段と、この計測手段によって求められた計測値が最高値となる前記偏向手段による偏向量を求めて前記偏向手段に設定する設定手段を備えたものである。
【0007】
本発明のX線検査装置は上記のように構成されており、電子発生部と集束手段との間に、電子発生部から発生した電子ビームを2次元的に偏向する偏向手段が設けられ、その偏向手段に外部に設けられた走査手段によってX偏向値とY偏向値を変化させて、電子ビームを2次元的に走査しながら、X線像検出装置によってX線の強度を計測し、求められた計測値が最高となる偏向手段の偏向量を求めて、走査手段にそのX偏向値とY偏向値を設定するものである。そのため、走査手段によって最高のX線強度になるように、X偏向値とY偏向値が設定されるので、従来のように目視によらず、短時間に、電子ビームをターゲットの所定の位置に容易に位置調整することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明のX線検査装置の一実施例を図1を参照しながら説明する。図1は本発明のX線検査装置の構成を示す図である。
本X線検査装置は、陰極フィラメント1から放出された電子ビームがウェネルト電極2によって集束され、陽極3によって加速され、ステアリングコイル4によって偏向され、フォーカスコイル5によって集束され、ターゲット6に衝突して透過方向にX線を放射する透過型のX線管と、透過したX線を検出し画像信号として出力するX線像検出装置7と、その出力画像を走査するパーソナル・コンピュータのPC8と、そのPC8にインストールされた光軸補助ソフトウエア9と、陰極フィラメント1に負の高電圧を印加し、陽極3を接地電位にして、光軸補助ソフトウエア9によって見出された最高輝度XY偏向値を受けてステアリングコイル4のXY偏向コイルに流す電流値を制御し、フォーカスコイル5によって電子ビームを集束するX線制御装置10とから構成されている。
【0009】
本X線検査装置は、ステアリングコイル4を有する透過型のX線管からの透過X線を、X線像検出装置7で検出し画像信号として出力し、PC8で光軸補助ソフトウエア9を用いて、その画像を自動的に走査し、最高輝度になるステアリングコイル4のXY偏向値を、PC8からX線制御装置10にXY偏向指示信号として入力し、X線制御装置10がステアリングコイル4に最適なX偏向コイルに流す電流値とY偏向コイルに流す電流値を制御し、より高い輝度信号で使用することができる装置である。
【0010】
そして、本X線検査装置は、カソード部の陰極フィラメント1と、ウェネルト電極2と、電子ビームを加速する陽極3と、電子ビームの方向を偏向するステアリングコイル4と、偏向された電子ビームを集束するフォーカスコイル5と、X線透過窓上に設けられたターゲット6とから構成された透過型のX線管が用いられ、各部はO−リング(図示せず)で互いに真空気密に連結されており、ターボ分子ポンプとロータリーポンプ(図示せず)による2段引きがされたX線管容器を形成している。
陰極側に高圧ケーブルが挿し込まれ、X線制御装置10から陰極フィラメント1に負の高電圧が印加される。陽極3側のターゲット6及びX線管容器の外装は接地電位に保たれている。高圧ケーブル(図示されていない)から陰極フィラメント1に電圧が印加され電流が流れ加熱されると、熱電子が放出され陽極3に向かって加速され電子ビームを形成する。電子ビームはウェネルト電極2を通り、加速されて陽極3の中央に設けられた円筒部に入り、X線制御装置10からステアリングコイル4により電子ビームの進行方向が調整される。
【0011】
ステアリングコイル4は、陰極フィラメント1から引き出され陽極3によって加速された電子ビームの進行方向を偏向させるもので、前後上下に電磁コイルが設けられ、磁界によって電子ビームを偏向するもので、電子ビームは中央の電子線通過路を通過するが、広がりをもち束状になって進行する。その束状の電子ビームの周辺部は、周囲の電極などに捉えられる。その電子ビームがX線管の中心軸に対して偏心しておれば、周囲の電極に流れることになる。そのため電子ビームの偏向はX偏向コイルとY偏向コイルに流す電流によって制御され、XY方向の偏向により電子ビームの進行方向が自由に調整される。
ステアリングコイル4は磁界により電子ビームを偏向するものが一般的であるが、これに限らず電界により電子ビームを偏向させることも可能である。
そして、X線制御装置10がステアリングコイル4に最適なX偏向コイルに流す電流値とY偏向コイルに流す電流値を制御する。その最適なXY偏向値は、PC8にインストールされている光軸補助ソフトウエア9によって設定される。
そして、X線制御装置10からフォーカスコイル5によって微小な径の電子ビームに収束され、ターゲット6に突入する。
【0012】
ターゲット6は、アルミニウムの厚みT=0.5mm程度のX線出力窓上の内側にマウントされている。ターゲット6は、例えば、厚さが50μm程度のタングステンが使われたり、ターゲット材をX線透過窓に直接成膜したりしている。このターゲット6に電子ビームが突入するとそこでX線を放射する。放射されるX線のうちX線透過窓を透過する方向のX線が試料に照射されて、その透過X線がX線像検出装置7に入射し、X線画像を得ることができる。
マイクロフォーカスX線管のX線条件は、管電圧が5〜225kV、管電流が〜2mA程度で、焦点寸法は1〜200μm程度のものが使われている。
【0013】
X線像検出装置7は、イメージインテンシファイア(I.I.)とCCDカメラを組合せたX線像検出装置である。イメージインテンシファイア(I.I.)の出力像をCCDカメラで撮像するもので、その出力はX線の画像信号として取出すことができる。
透過X線を受けてX線画像を形成するX線像検出装置7は、イメージインテンシファイアとCCDカメラを用いたものであるが、これを半導体フラットパネルの撮像装置に置き換えて構成しても良い。半導体フラットパネルの撮像装置として、通常X線を光に変換するX線変換膜と、その直下に行列状に配置されたフォトダイオードアレイと、各フォトダイオードアレイに接続されたスイッチング素子によって構成され、X線照射後に、各スイッチング素子を順次ONすることで、各画素に蓄積された信号電荷を読み出して、X線画像を形成するタイプのものと、放射線に感応し入射線量に対応した電荷信号を直接出力する変換膜からなる放射線センサーアレイを有し、その直下に行列状に配置された電極にスイッチング素子が接続され、照射時に各スイッチング素子を順次ONすることで各画素に蓄積された信号電荷を読み出し、X線画像を形成するタイプの2種類のものがある。何れのタイプでもデータ記憶装置を内蔵してOFFラインで画像構成されるものや、X線像検出部からONラインで信号を送るものがある。この半導体フラットパネルを用いると、イメージインテンシファイアのような空間を占有することがないので、X線検査装置がコンパクトになる。
【0014】
次に、本X線検査装置のステアリングコイル4に流す電流のX偏向値・Y偏向値を、光軸補助ソフトウエア9を用いて自動で変化させながら、X線像検出装置7からの画像信号をもとに輝度を測定し、最適なX偏向値・Y偏向値を見出す方法について、図2、及び、図3を参照しながら説明する。
図2は、本X線検査装置のPC8にインストールされている光軸補助ソフトウエア9のフローチャートを示す。図3は、光軸補助ソフトウエア9による走査の一例を示す図であり、(a)は第1走査範囲11を、(b)は第2走査範囲12を、(c)は第3走査範囲13を示す図である。
まず、PC8の光軸補助ソフトウエア9を起動させて、X線像検出装置7からの画像信号を受け入れ、光軸調整を開始する。はじめに、(a)その画像の輝度をチェックする第1走査範囲11を大きく設定する。その第1走査範囲11は閾値(走査可能な最小範囲)よりも当然大きく設定される。そして、X偏向値及びY偏向値を最小値からスタートし、輝度を測定し、X偏向値及びY偏向値をそれぞれ増加させて、順次輝度を測定する。そしてX偏向値及びY偏向値が第1走査範囲11よりも小さければ、さらに輝度測定を続ける。この偏向値の増加を繰り返してX偏向値及びY偏向値が第1走査範囲11外になれば、第1走査範囲11内の測定結果から一番輝度が高い最高輝度XY偏向値11aを中心に走査範囲を小さく設定して(b)第2走査範囲12を設定する。第2走査範囲12は閾値(走査可能な最小範囲)よりも当然大きいので、その場所の走査スタートのX偏向値及びY偏向値を最小値にして、輝度を測定し、X偏向値及びY偏向値をそれぞれ増加させて、第2走査範囲12内を順次走査し輝度を測定する。そして、X偏向値及びY偏向値が第2走査範囲12外になれば、第2走査範囲12内の測定結果から一番輝度が高い最高輝度XY偏向値12aを中心に走査範囲を小さく設定して(c)第3走査範囲13を設定する。その第3走査範囲13もまだ閾値(走査可能な最小範囲)よりも大きいので、その場所の走査スタートのX偏向値及びY偏向値を最小値にして、輝度を測定し、X偏向値及びY偏向値をそれぞれ増加させて、第3走査範囲13内を順次走査し輝度を測定する。そして、X偏向値及びY偏向値が第3走査範囲13外になれば、第3走査範囲13内の測定結果から一番輝度が高い最高輝度XY偏向値13aを中心に走査範囲を小さく設定して第4走査範囲を設定する。このとき、第4走査範囲が閾値(走査可能な最小範囲)に到達すると、第3走査範囲13内の測定結果から、一番輝度が高い最高輝度XY偏向値13aを最適値として設定し、この値をPC8からX線制御装置10にXY偏向指示信号として入力し、光軸を合せることができる。
【0015】
【発明の効果】
本発明のX線検査装置は上記のように構成されており、電子ビームの走査手段であるPCにインストールされた光軸補助ソフトウエアによって、X線管の電子ビームを偏向する偏向手段のX偏向値とY偏向値を走査し、X線強度をX線像検出装置で計測し、最高のX線強度になるように、X偏向値とY偏向値が走査手段であるPCに設定されるので、電子ビームの光軸発見を、従来のように手動走査で目視によって行うのでなく、使用者はX線制御装置の光軸調整開始のスイッチを操作するだけで、短時間に行うことができ、光軸の誤認をすることなく、電子ビームをターゲットの所定の位置に容易に位置調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のX線検査装置の一実施例を示す図である。
【図2】 本発明のX線検査装置の光軸補助ソフトウエアフローチャートを示す図である。
【図3】 本発明のX線検査装置の走査例を示す図である。
【図4】 従来のX線検査装置を示す図である。
【符号の説明】
1…陰極フィラメント
2…ウェネルト電極
3…陽極
4…ステアリングコイル
5…フォーカスコイル
6…ターゲット
7…X線像検出装置
8…PC
9…光軸補助ソフトウエア
10、10a…X線制御装置
11…第1走査範囲
11a…最高輝度XY偏向値
12…第2走査範囲
12a…最高輝度XY偏向値
13…第3走査範囲
13a…最高輝度XY偏向値
Claims (1)
- 電子発生部で発生し加速された電子ビームを集束手段により集束しつつターゲットに衝突させてX線を発生するX線管と、このX線管から発生したX線を試料に照射して透過像を検出するX線像検出装置を備えたX線検査装置において、前記電子線発生部と集束手段との間に配置され2次元的に電子ビームを偏向する偏向手段と、前記偏向手段による偏向量を2次元的に走査する走査手段と、前記電子ビームを前記走査手段によって走査しながら前記X線像検出装置によってX線の強度を計測する手段と、この計測手段によって求められた計測値が最高値となる前記偏向手段による偏向量を求めて前記偏向手段に設定する設定手段を備えたことを特徴とするX線検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001192458A JP4608820B2 (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | X線検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001192458A JP4608820B2 (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | X線検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003004668A JP2003004668A (ja) | 2003-01-08 |
JP4608820B2 true JP4608820B2 (ja) | 2011-01-12 |
Family
ID=19030905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001192458A Expired - Fee Related JP4608820B2 (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | X線検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4608820B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3969337B2 (ja) * | 2003-04-15 | 2007-09-05 | 株式会社島津製作所 | バンプ検査装置 |
WO2005008228A1 (ja) * | 2003-07-22 | 2005-01-27 | Pony Industry Co.,Ltd. | 透過撮影装置 |
JP5687001B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2015-03-18 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置 |
CN113793790A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-12-14 | 无锡日联科技股份有限公司 | 开放式微焦点x射线源及其控制方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09505686A (ja) * | 1994-01-21 | 1997-06-03 | フォトエレクトロン コーポレイション | 形状放射パターンを使用するx線源 |
JPH11502357A (ja) * | 1995-02-10 | 1999-02-23 | カーディアク・マリナーズ・インコーポレイテッド | 走査ビーム型x線画像システム |
WO2000058991A1 (en) * | 1999-03-26 | 2000-10-05 | Bede Scientific Instruments Limited | Method and apparatus for prolonging the life of an x-ray target |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0319912A3 (en) * | 1987-12-07 | 1990-05-09 | Nanodynamics, Incorporated | Method and apparatus for investigating materials with x-rays |
US4979199A (en) * | 1989-10-31 | 1990-12-18 | General Electric Company | Microfocus X-ray tube with optical spot size sensing means |
JP3191554B2 (ja) * | 1994-03-18 | 2001-07-23 | 株式会社日立製作所 | X線撮像装置 |
JPH08212951A (ja) * | 1995-02-08 | 1996-08-20 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡における自動軸調整装置 |
-
2001
- 2001-06-26 JP JP2001192458A patent/JP4608820B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09505686A (ja) * | 1994-01-21 | 1997-06-03 | フォトエレクトロン コーポレイション | 形状放射パターンを使用するx線源 |
JPH11502357A (ja) * | 1995-02-10 | 1999-02-23 | カーディアク・マリナーズ・インコーポレイテッド | 走査ビーム型x線画像システム |
WO2000058991A1 (en) * | 1999-03-26 | 2000-10-05 | Bede Scientific Instruments Limited | Method and apparatus for prolonging the life of an x-ray target |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003004668A (ja) | 2003-01-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4979199A (en) | Microfocus X-ray tube with optical spot size sensing means | |
JP2875940B2 (ja) | 試料の高さ計測手段を備えた電子ビーム装置 | |
JPH07296751A (ja) | X線管装置 | |
JPH07260713A (ja) | X線撮像装置 | |
JPH09171791A (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
JPH071681B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2001084942A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
AU2006203782A1 (en) | Device for generating X-ray or XUV radiation | |
JP2001319608A (ja) | マイクロフォーカスx線発生装置 | |
US6815678B2 (en) | Raster electron microscope | |
JP2002042713A (ja) | 対物レンズ内検出器を備えた走査電子顕微鏡 | |
JP2004031207A (ja) | 電子線照射装置および走査型電子顕微鏡装置 | |
JP4608820B2 (ja) | X線検査装置 | |
JPH0935679A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
EP0780878B1 (en) | Scanning electron microscope | |
JP4227369B2 (ja) | X線検査装置 | |
JP2001004559A (ja) | X線検査装置 | |
JP2003518252A (ja) | 軟x線のx線源を有するx線顕微鏡 | |
JP4146103B2 (ja) | 電界放射型電子銃を備えた電子ビーム装置 | |
JP3014369B2 (ja) | 試料の高さ計測手段を備えた電子ビーム装置 | |
JP4091217B2 (ja) | X線管 | |
JPH0955181A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2000208089A (ja) | 電子顕微鏡装置 | |
JP3494152B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
JP4221817B2 (ja) | 投射型イオンビーム加工装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100914 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100927 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131022 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4608820 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131022 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |