JP2010103072A - 電子顕微鏡試料室用ベーキング機構 - Google Patents
電子顕微鏡試料室用ベーキング機構 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010103072A JP2010103072A JP2008292771A JP2008292771A JP2010103072A JP 2010103072 A JP2010103072 A JP 2010103072A JP 2008292771 A JP2008292771 A JP 2008292771A JP 2008292771 A JP2008292771 A JP 2008292771A JP 2010103072 A JP2010103072 A JP 2010103072A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron microscope
- sample chamber
- sample
- baking mechanism
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【解決手段】好ましい1つ目の実施形態では、試料ホルダーの試料取り付け位置近傍に配し、付帯する試料駆動装置に挿入することで、筐体内の真空領域を保持したまま、対物レンズポールピース近傍に運び入れる発光源から、2つ目の実施形態では、試料室の主筒部材に既存する多目的アクセスポートに、装着可能なポート型部材内に配した発光源から、試料室周りの真空領域に面した部材表面に照射する。熱光線は、各部材の表面にて、反射、屈折、拡散して、領域内全体へ照射されるので、前記部材の表面温度を上昇させ、付着した残留分子を、真空領域に拡散させ、真空排気装置にて排出される。
【選択図】図3
Description
2 試料ホルダー軸(多目的ポートの取り付け軸。)方向
3 試料室の外筒(電子顕微鏡筺体の主フレームに相当する。)
4 対物レンズのポールピース(上極)
5 対物レンズのポールピース(下極)
6 対物レンズ用の磁場発生コイルを示す。
7 試料室周りの真空領域の全体を指す。
8 各電子線制御用補正子コイル(複数個配置される場所を指す。)
9 液体窒素冷却型真空浮遊分子吸着(コールドトラップ)部材
10 試料移動制御装置(ゴニオステージ)の主部材
11 試料ホルダーの主軸部
12 試料ホルダーのハンドル(ここには電球用の電極端子を備える。)
13 ゴニオステージの試料ホルダー保持筒(バルブ開閉機構は省略。)
14 試料ホルダー型ベーキング機構用 発熱源(ハロゲンランプ)
15 ポート型ベーキング機構用 発熱源(ハロゲンランプ)
16 ポート型ベーキング機構の主部材(多目的ポート取り付け部材。)
17 発熱源(15)の保持筒、及び蓋(18)の開閉ハンドル。
18 開閉する蓋(図は、閉じている状態を示す。)
19 蓋(18)の軸、及び軸を回転させる平歯車(ギアー)
20 真空保持型スルー電極端子(通称ハーメチャック端子と呼ばれる。)
Claims (6)
- 対物レンズポールピースの部材表面、および前記対物レンズポールピースを装着する試料室の真空領域に面する部材表面を、発光源からの照射される放射熱を用いて加熱することで、前記部材表面に付着した分子を焼出すことを特徴とする電子顕微鏡試料室用ベーキング機構。
- 請求項1において、発光源の設置位置を、試料ホルダーの試料取り付け位置近傍に配し、対物レンズポールピースの部材表面、および前記対物レンズポールピースを装着する試料室の真空領域に面する部材表面を、前記発光源からの照射される放射熱を用いて、前記部材表面部より加熱する機構であることを特徴とする、電子顕微鏡試料室用ベーキング機構。
- 請求項1において、発光源の設置位置を、電子顕微鏡試料室に設けてある多目的アクセスポートに、取り付けが可能なポート部材に配し、対物レンズポールピースの部材表面、および対物レンズポールピースを装着する試料室の真空領域に面する部材表面を、前記発光源からの照射される放射熱を用いて、前記部材表面部より加熱する機構であることを特徴とする、電子顕微鏡試料室用ベーキング機構。
- 請求項1、および請求項2において、発光源にハロゲンランプまたはセラミック遠赤外線ヒーターを用いることを特徴とする、電子顕微鏡試料室用ベーキング機構。
- 請求項1および、請求項3、請求項4において、多目的アクセスポートへ取り付けが可能なポート部材に配した発光源と、電子顕微鏡の電子線光軸との間に、開閉可能な導電性の蓋、または、導電コーティングされたガラスフィルターを備ることで、発光源自身のチャージアップ電位の影響を、電子顕微鏡の電子線光軸に影響させない遮断機構であることを特徴とする、電子顕微鏡試料室用ベーキング機構。
- 請求項1および、請求項3、請求項4、請求項5において、多目的アクセスポートへ取り付けが可能なポート部材に配した発光源と、電子顕微鏡の電子線光軸との間に、備えた開閉可能な導電性の蓋を、電子顕微鏡の真空外部から、遠隔的に開閉する機構を備ることを特徴とする、電子顕微鏡試料室用ベーキング機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008292771A JP2010103072A (ja) | 2008-10-21 | 2008-10-21 | 電子顕微鏡試料室用ベーキング機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008292771A JP2010103072A (ja) | 2008-10-21 | 2008-10-21 | 電子顕微鏡試料室用ベーキング機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010103072A true JP2010103072A (ja) | 2010-05-06 |
Family
ID=42293537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008292771A Pending JP2010103072A (ja) | 2008-10-21 | 2008-10-21 | 電子顕微鏡試料室用ベーキング機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010103072A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200106532A (ko) | 2018-02-07 | 2020-09-14 | 주식회사 히타치하이테크 | 클리닝 장치 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0239452U (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-16 | ||
JPH0273052U (ja) * | 1988-11-24 | 1990-06-04 | ||
JPH0398244A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-23 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
JPH0831361A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Fine Ceramics Center | 電子顕微鏡用加熱装置 |
JP2000260378A (ja) * | 1999-03-08 | 2000-09-22 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
JP2003223862A (ja) * | 2002-01-29 | 2003-08-08 | Canon Inc | 電子線照射装置、及び走査型電子顕微鏡装置、x線分析装置 |
JP2004128338A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Riipuru:Kk | 電子ビーム近接露光方法 |
JP2008305685A (ja) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Hitachi Ltd | 真空装置 |
-
2008
- 2008-10-21 JP JP2008292771A patent/JP2010103072A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0239452U (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-16 | ||
JPH0273052U (ja) * | 1988-11-24 | 1990-06-04 | ||
JPH0398244A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-23 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
JPH0831361A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Fine Ceramics Center | 電子顕微鏡用加熱装置 |
JP2000260378A (ja) * | 1999-03-08 | 2000-09-22 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
JP2003223862A (ja) * | 2002-01-29 | 2003-08-08 | Canon Inc | 電子線照射装置、及び走査型電子顕微鏡装置、x線分析装置 |
JP2004128338A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Riipuru:Kk | 電子ビーム近接露光方法 |
JP2008305685A (ja) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Hitachi Ltd | 真空装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200106532A (ko) | 2018-02-07 | 2020-09-14 | 주식회사 히타치하이테크 | 클리닝 장치 |
US11244806B2 (en) | 2018-02-07 | 2022-02-08 | Hitachi High-Tech Corporation | Cleaning device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10520454B2 (en) | Innovative X-ray source for use in tomographic imaging | |
US7781743B2 (en) | Charged particle beam system and method for evacuation of the system | |
CN102543639B (zh) | 用于带电粒子束系统的环境单元 | |
JP5699023B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US9627172B2 (en) | Charged particle beam system and method of operating a charged particle beam system | |
US8604429B2 (en) | Electron beam device and sample holding device for electron beam device | |
JP5584819B2 (ja) | 電子顕微鏡用ホルダー、電子顕微鏡及び試料観察方法 | |
US8455841B2 (en) | Ion microscope | |
WO2004064106A1 (ja) | X線装置 | |
JP2007172862A (ja) | 荷電粒子線源用清浄化装置及びそれを用いた荷電粒子線装置 | |
US10903037B2 (en) | Charged particle beam device | |
WO2011001797A1 (ja) | ガス電界電離イオン源装置およびこれを搭載した走査荷電粒子顕微鏡 | |
KR101725139B1 (ko) | 시료고정부가 연속 배열된 시료스테이지를 포함하는 전자현미경 | |
JP2009146887A (ja) | 物体を加工するシステムおよび方法 | |
Egerton et al. | The transmission electron microscope | |
TWI748477B (zh) | 電子束裝置及電子束裝置之控制方法 | |
JP2010103072A (ja) | 電子顕微鏡試料室用ベーキング機構 | |
WO2021074953A1 (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP7132254B2 (ja) | クリーニング装置 | |
JP2013535105A (ja) | 光学システム | |
EP3113208B1 (en) | Electron microscope | |
WO2013099435A1 (ja) | 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置 | |
JPH04215240A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2009043741A (ja) | X線装置 | |
JP2016062751A (ja) | 透過型電子顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111013 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20111013 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130305 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130716 |