JP7161052B2 - 電子線装置 - Google Patents
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 53
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 217
- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 claims description 120
- 229910000986 non-evaporable getter Inorganic materials 0.000 claims description 74
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 22
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 17
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical group [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 22
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 10
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000411 inducer Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/077—Electron guns using discharge in gases or vapours as electron sources
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/065—Construction of guns or parts thereof
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/075—Electron guns using thermionic emission from cathodes heated by particle bombardment or by irradiation, e.g. by laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/006—Details of gas supplies, e.g. in an ion source, to a beam line, to a specimen or to a workpiece
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
- H01J2237/1825—Evacuating means
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
制御部130が、操作者からの指示に基づいて、電子銃101からの電子線照射を停止させる。
制御部130が、操作者からの指示に基づいて、スパッターイオンポンプ102を一時停止させるためにIP用電源105をオフにする。
操作者が電子銃101を交換する。
制御部130が、操作者からの指示に基づいて、スパッターイオンポンプ102を再起動させるためにIP用電源105をオンにする。
制御部130は、電流計901の計測値に基づき、スパッターイオンポンプ102が再起動したか否か、すなわちスパッターイオンポンプ102による排気が再開したか否かを判定する。スパッターイオンポンプ102による排気が再開していなければS1006へ処理が進み、再開していればS1007へ処理が進む。
制御部130は、ガス供給部104から電子銃室100へガスを供給させる。なお、すでにガスが供給されている場合は、ガスの供給量を増加させても良い。
制御部130は、ガス供給部104から電子銃室100へのガスの供給を停止させる。なお、ガスが供給されていない場合は、本ステップはスキップされる。
Claims (8)
- 電子線を放出する電子銃が配置されるとともに、スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室を備える電子線装置であって、
水素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素の少なくともいずれかのガスを前記電子銃室に供給するガス供給部をさらに備え、
前記ガス供給部は、前記ガスを発生するガス発生源を有し、
前記ガス発生源は、前記ガスを吸蔵する合金であり、
前記合金は前記非蒸発ゲッターポンプと同じ材料であって、
前記合金の表面積は前記非蒸発ゲッターポンプの表面積よりも小さいことを特徴とする電子線装置。 - 電子線を放出する電子銃が配置されるとともに、スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室を備える電子線装置であって、
水素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素の少なくともいずれかのガスを前記電子銃室に供給するガス供給部をさらに備え、
前記ガス供給部は、前記ガスを発生するガス発生源を有し、
前記ガス供給部は、前記ガス発生源に光を照射する光源をさらに有することを特徴とする電子線装置。 - 請求項2に記載の電子線装置であって、
前記ガス発生源は炭酸カルシウム又はカルボン酸であって、
前記光源は赤外線を照射することを特徴とする電子線装置。 - 電子線を放出する電子銃が配置されるとともに、スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室を備える電子線装置であって、
水素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素の少なくともいずれかのガスを前記電子銃室に供給するガス供給部をさらに備え、
前記ガス供給部は、前記ガスを発生するガス発生源を有し、
前記ガス供給部は、前記ガス発生源に荷電粒子を照射する荷電粒子源をさらに有することを特徴とする電子線装置。 - 電子線を放出する電子銃が配置されるとともに、スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室を備える電子線装置であって、
水素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素の少なくともいずれかのガスを前記電子銃室に供給するガス供給部をさらに備え、
前記ガス供給部は、前記非蒸発ゲッターポンプよりも前記スパッターイオンポンプに近い位置に配置されることを特徴とする電子線装置。 - 電子線を放出する電子銃が配置されるとともに、スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室を備える電子線装置であって、
水素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素の少なくともいずれかのガスを前記電子銃室に供給するガス供給部をさらに備え、
前記スパッターイオンポンプは、電離電流を計測する電流計を有し、
前記ガス供給部は、前記電流計の計測値に基づいて制御されることを特徴とする電子線装置。 - 請求項6に記載の電子線装置であって、
前記ガス供給部は、前記電流計の計測値に基づいて、前記スパッターイオンポンプによる排気がなされていないと判定される場合には前記ガスを供給し、前記スパッターイオンポンプによる排気がなされていると判定される場合には前記ガスの供給を停止することを特徴とする電子線装置。 - 請求項7に記載の電子線装置であって、
前記ガス供給部は、前記スパッターイオンポンプによる排気がなされていると判定されるまで、前記ガスの供給量を増加させることを特徴とする電子線装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/026322 WO2021001932A1 (ja) | 2019-07-02 | 2019-07-02 | 電子線装置及び電子線装置の制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2021001932A1 JPWO2021001932A1 (ja) | 2021-01-07 |
JP7161052B2 true JP7161052B2 (ja) | 2022-10-25 |
Family
ID=74100653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021529603A Active JP7161052B2 (ja) | 2019-07-02 | 2019-07-02 | 電子線装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11894211B2 (ja) |
JP (1) | JP7161052B2 (ja) |
KR (1) | KR102660692B1 (ja) |
DE (1) | DE112019007357T5 (ja) |
TW (1) | TWI748477B (ja) |
WO (1) | WO2021001932A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2592653B (en) * | 2020-03-05 | 2022-12-28 | Edwards Vacuum Llc | Vacuum module and vacuum apparatus and method for regeneration of a volume getter vacuum pump |
KR20220008420A (ko) * | 2020-07-13 | 2022-01-21 | 삼성전자주식회사 | 가스 공급 장치 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009153939A1 (ja) | 2008-06-20 | 2009-12-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、及びその制御方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3926206B2 (ja) | 2002-05-24 | 2007-06-06 | 日本電子株式会社 | 極高真空排気装置、真空排気方法、及びスパッタイオンポンプ |
JP5016988B2 (ja) * | 2007-06-19 | 2012-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置およびその真空立上げ方法 |
JP6258801B2 (ja) * | 2013-07-08 | 2018-01-10 | カール ツァイス マイクロスコーピー エルエルシー | 荷電粒子ビームシステム |
WO2016063325A1 (ja) | 2014-10-20 | 2016-04-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
WO2017168557A1 (ja) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空装置及び真空ポンプ |
JP6777746B2 (ja) | 2016-09-23 | 2020-10-28 | 株式会社日立ハイテク | 電子顕微鏡 |
-
2019
- 2019-07-02 KR KR1020217039777A patent/KR102660692B1/ko active IP Right Grant
- 2019-07-02 US US17/621,503 patent/US11894211B2/en active Active
- 2019-07-02 JP JP2021529603A patent/JP7161052B2/ja active Active
- 2019-07-02 WO PCT/JP2019/026322 patent/WO2021001932A1/ja active Application Filing
- 2019-07-02 DE DE112019007357.5T patent/DE112019007357T5/de active Pending
-
2020
- 2020-05-26 TW TW109117428A patent/TWI748477B/zh active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009153939A1 (ja) | 2008-06-20 | 2009-12-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、及びその制御方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2021001932A1 (ja) | 2021-01-07 |
TWI748477B (zh) | 2021-12-01 |
JPWO2021001932A1 (ja) | 2021-01-07 |
TW202103202A (zh) | 2021-01-16 |
DE112019007357T5 (de) | 2022-02-24 |
US20220351934A1 (en) | 2022-11-03 |
KR102660692B1 (ko) | 2024-04-26 |
US11894211B2 (en) | 2024-02-06 |
KR20220004198A (ko) | 2022-01-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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