JP2847195B2 - ビスアゾ化合物およびその製造方法 - Google Patents
ビスアゾ化合物およびその製造方法Info
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- JP2847195B2 JP2847195B2 JP1170514A JP17051489A JP2847195B2 JP 2847195 B2 JP2847195 B2 JP 2847195B2 JP 1170514 A JP1170514 A JP 1170514A JP 17051489 A JP17051489 A JP 17051489A JP 2847195 B2 JP2847195 B2 JP 2847195B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用〕 本発明はアゾ化合物およびその製造方法に関し、更に
詳しくは有機光導電体として有用なアゾ化合物およびそ
の製造方法に関する。
詳しくは有機光導電体として有用なアゾ化合物およびそ
の製造方法に関する。
従来から、ある種のアゾ化合物が、電子写真用感光体
の一つの形態である積層型感光体の電荷発生層に用いら
れる電荷発生層材料として、有効であることが知られて
いる。ここでいう積層型感光体とは、導電性支持体上に
光によって、電荷担体を生成する能力を有する電荷発生
顔料を、適切な方法、例えば真空蒸着、顔料溶液の塗布
あるいは樹脂溶液に顔料に微細粒子を分散した分散液の
塗布などにより薄層として電荷発生層を形成せしめ、そ
の上に電荷発生層で生成した電荷担体を効率よく注入さ
れ得て、しかもその移動を行うところの電荷搬送層（通
常この電荷搬送層は、電荷搬送物質の結着樹脂からな
る。）を形成せしめた感光体である。従来、この種の感
光体に使用されるアゾ化合物として、例えば、特開昭47
−37543号公報、及び特開昭52−55643号公報などに記載
されているベンジジン系ビスアゾ化合物あるいは特開昭
52−8832号公報に記載されているスチルベン系ビスアゾ
化合物などが知られている。
の一つの形態である積層型感光体の電荷発生層に用いら
れる電荷発生層材料として、有効であることが知られて
いる。ここでいう積層型感光体とは、導電性支持体上に
光によって、電荷担体を生成する能力を有する電荷発生
顔料を、適切な方法、例えば真空蒸着、顔料溶液の塗布
あるいは樹脂溶液に顔料に微細粒子を分散した分散液の
塗布などにより薄層として電荷発生層を形成せしめ、そ
の上に電荷発生層で生成した電荷担体を効率よく注入さ
れ得て、しかもその移動を行うところの電荷搬送層（通
常この電荷搬送層は、電荷搬送物質の結着樹脂からな
る。）を形成せしめた感光体である。従来、この種の感
光体に使用されるアゾ化合物として、例えば、特開昭47
−37543号公報、及び特開昭52−55643号公報などに記載
されているベンジジン系ビスアゾ化合物あるいは特開昭
52−8832号公報に記載されているスチルベン系ビスアゾ
化合物などが知られている。
しかしながら、従来のアゾ化合物を用いた積層型の感
光体は一般に感度が低いため高速複写機用の感光体とし
ては不充分である。一方、近年レーザープリンター用感
光体の要求も高まっており、特に半導体レーザーに対応
可能な感光体の開発が望まれているが、上述の感光体は
この目的に対し、感度が低く、実用に供しえないのが実
状である。
光体は一般に感度が低いため高速複写機用の感光体とし
ては不充分である。一方、近年レーザープリンター用感
光体の要求も高まっており、特に半導体レーザーに対応
可能な感光体の開発が望まれているが、上述の感光体は
この目的に対し、感度が低く、実用に供しえないのが実
状である。
本発明の目的は、電子写真感光体およびレーザープリ
ンター用感光体において有効な、特に先に述べた積層型
の感光体に於いて有用なアゾ化合物およびその製造方法
を提供することにある。
ンター用感光体において有効な、特に先に述べた積層型
の感光体に於いて有用なアゾ化合物およびその製造方法
を提供することにある。
本発明によれば、第１発明として、下記一般式〔Ｉ〕
で表わされるアゾ化合物が提供され、また第２発明とし
て、下記一般式〔II〕で表わされる２−ヒドロキシ−３
−カルバモイルベンゾ〔ａ〕カルバゾール誘導体と下記
一般式〔III〕で表わされるジアゾニウム塩化合物を反
応させて下記一般式〔Ｉ〕で表わされるアゾ化合物の製
造方法が提供される。
で表わされるアゾ化合物が提供され、また第２発明とし
て、下記一般式〔II〕で表わされる２−ヒドロキシ−３
−カルバモイルベンゾ〔ａ〕カルバゾール誘導体と下記
一般式〔III〕で表わされるジアゾニウム塩化合物を反
応させて下記一般式〔Ｉ〕で表わされるアゾ化合物の製
造方法が提供される。
（式中、R1およびR2は水素、置換または無置換のアルキ
ル基、置換また無置換のアリール基、複素環残基を表わ
す。またR1およびR2は共同で環を形成していても良い。
R3は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置
換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルスルホ
ニル基、置換または無置換のアルキルメルカプト基、ハ
ロゲン原子、置換または無置換のアリール基を表わし、
ｎは１〜４の整数を表わす。ｎが２〜４の場合、R3は同
一または異なったもののいずれでもよい。） （式中、R1およびR2は水素、置換または無置換のアルキ
ル基、置換または無置換のアリール基、複素環残基を表
わす。またR1およびR2は共同で環を形成していても良
い。R3は、置換または無置換のアルキル基、置換または
無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルス
ルホニル基、置換または無置換のアルキルメルカプト
基、ハロゲン原子、置換または無置換のアリール基で表
わし、ｎは１〜４の整数を表わす。ｎが２〜４の場合、
R3は同一または異なったものまいずれでもよい。） （式中、Ｘはアニオン官能基を表わす。） 次に、本発明のビスアゾ化合物の具体例を示すが、本
発明はこれらの具体例によって制限されるものではな
い。なお、化合物No.1〜40は比較参考例である。
ル基、置換また無置換のアリール基、複素環残基を表わ
す。またR1およびR2は共同で環を形成していても良い。
R3は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置
換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルスルホ
ニル基、置換または無置換のアルキルメルカプト基、ハ
ロゲン原子、置換または無置換のアリール基を表わし、
ｎは１〜４の整数を表わす。ｎが２〜４の場合、R3は同
一または異なったもののいずれでもよい。） （式中、R1およびR2は水素、置換または無置換のアルキ
ル基、置換または無置換のアリール基、複素環残基を表
わす。またR1およびR2は共同で環を形成していても良
い。R3は、置換または無置換のアルキル基、置換または
無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルス
ルホニル基、置換または無置換のアルキルメルカプト
基、ハロゲン原子、置換または無置換のアリール基で表
わし、ｎは１〜４の整数を表わす。ｎが２〜４の場合、
R3は同一または異なったものまいずれでもよい。） （式中、Ｘはアニオン官能基を表わす。） 次に、本発明のビスアゾ化合物の具体例を示すが、本
発明はこれらの具体例によって制限されるものではな
い。なお、化合物No.1〜40は比較参考例である。
本発明の一般式（Ｉ）で表わされるビスアゾ化合物
は、一般式（II）で表わされる２−ヒドロキシ−３−カ
ルボモイルベンゾ〔ａ〕カルバゾール誘導体に、一般式
〔III〕で表わされるジアゾニウム塩化合物とをカップ
リング反応させることによって得ることが出来る。実際
には、この反応は、例えばN,N−ジメチルホルムアミド
（DMF）や、ジメチルスルホキシド（DMSO）などの有機
溶媒にジアゾニウム塩化合物およびカップラーを混合溶
解しておき、これを約−10℃ないし40℃にて酢酸ナトリ
ウム水溶液などのアルカリ水溶液を滴下することにより
行なわれる。この反応はおよそ５分ないし３時間で完結
する。反応終了後、析出している結晶を濾取し適切な方
法により精製（例えば、水あるいは／および有機溶剤に
よる洗浄、再結晶法など）することにより上記ビスアゾ
化合物の製造は完了する。
は、一般式（II）で表わされる２−ヒドロキシ−３−カ
ルボモイルベンゾ〔ａ〕カルバゾール誘導体に、一般式
〔III〕で表わされるジアゾニウム塩化合物とをカップ
リング反応させることによって得ることが出来る。実際
には、この反応は、例えばN,N−ジメチルホルムアミド
（DMF）や、ジメチルスルホキシド（DMSO）などの有機
溶媒にジアゾニウム塩化合物およびカップラーを混合溶
解しておき、これを約−10℃ないし40℃にて酢酸ナトリ
ウム水溶液などのアルカリ水溶液を滴下することにより
行なわれる。この反応はおよそ５分ないし３時間で完結
する。反応終了後、析出している結晶を濾取し適切な方
法により精製（例えば、水あるいは／および有機溶剤に
よる洗浄、再結晶法など）することにより上記ビスアゾ
化合物の製造は完了する。
本発明のビスアゾ化合物は常温において有色の結晶で
ある。
ある。
本発明のビソアゾ化合物は、上記の様に容易に製造す
ることが出来、また電子写真およびレーザープリンター
用感光体において有効な材料であることを明らかにする
ために、以下に実施例および応用例を示すが本発明はも
とよりこれに限定されるものではない。
ることが出来、また電子写真およびレーザープリンター
用感光体において有効な材料であることを明らかにする
ために、以下に実施例および応用例を示すが本発明はも
とよりこれに限定されるものではない。
実施例１ 9,10−フェナントレンキノン−2,7−ビス（ジアゾニ
ウム）ビス（テトラフルオロボレート）0.54g（0.00125
モル）及び２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイル
−８−クロロベンゾ〔ａ〕カルバゾール0.97g（0.0025
モル）を冷却したN,N−ジメチルホルムアミド（DMF）75
mlに溶解し、これに酢酸ナトリウム0.41gを水3.5mlに溶
解した溶液を５〜10℃の温度で約５分間にわたり滴下し
た。滴下終了後、冷却をやめ、更に室温で約２時間撹拌
し、生成した沈殿を濾取し、80℃に加熱したDMF100mlで
３回洗浄し、次に水100mlで２回洗浄した。80℃で2mmHg
の減圧下に乾燥して、化合物No.41のビスアゾ顔料を得
た。収率及び分析結果を表１に示した。
ウム）ビス（テトラフルオロボレート）0.54g（0.00125
モル）及び２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイル
−８−クロロベンゾ〔ａ〕カルバゾール0.97g（0.0025
モル）を冷却したN,N−ジメチルホルムアミド（DMF）75
mlに溶解し、これに酢酸ナトリウム0.41gを水3.5mlに溶
解した溶液を５〜10℃の温度で約５分間にわたり滴下し
た。滴下終了後、冷却をやめ、更に室温で約２時間撹拌
し、生成した沈殿を濾取し、80℃に加熱したDMF100mlで
３回洗浄し、次に水100mlで２回洗浄した。80℃で2mmHg
の減圧下に乾燥して、化合物No.41のビスアゾ顔料を得
た。収率及び分析結果を表１に示した。
実施例２〜３ 実施例１で用いたカップリング成分である２−ヒドロ
キシ−３−フェニルカルバモイル−８−クロロベンゾ
〔ａ〕カルバゾールのかわりに、表１に示した化合物N
o.のビスアゾ顔料に対応するカップリング成分を用いた
以外は実施例１と全く同様にして、表１に示したビスア
ゾ顔料を得た。
キシ−３−フェニルカルバモイル−８−クロロベンゾ
〔ａ〕カルバゾールのかわりに、表１に示した化合物N
o.のビスアゾ顔料に対応するカップリング成分を用いた
以外は実施例１と全く同様にして、表１に示したビスア
ゾ顔料を得た。
応用例 実施例１で得られた化合物No.41のビスアゾ顔料76重
量部、ポリエステル樹脂（東洋紡績社製バイロン200）
のテトラヒドロフラン溶液（固形分濃度２％）1260重量
部、及びテトラヒドロフラン3700重量部をアルミニウム
蒸着したポリエステルベース（導電性支持体）のアルミ
ニウム面上にドクターブレードを用いて塗布し、自然乾
燥して、厚さ約１μｍの電荷発生層を形成した。
量部、ポリエステル樹脂（東洋紡績社製バイロン200）
のテトラヒドロフラン溶液（固形分濃度２％）1260重量
部、及びテトラヒドロフラン3700重量部をアルミニウム
蒸着したポリエステルベース（導電性支持体）のアルミ
ニウム面上にドクターブレードを用いて塗布し、自然乾
燥して、厚さ約１μｍの電荷発生層を形成した。
この電荷発生層に、電荷搬送物質としてα−フェニル
−４′−N,N−ジフェニルアミノスチルベン２重量部、
ポリカーボネート樹脂（帝人社製パンライトＫ−1300）
２重量部及びテトラヒドロフラン16重量部を混合溶解し
た溶液をドクターブレードを用いて塗布し、80℃で２分
間、ついで105℃で５分間乾燥して厚さ約20μｍの電荷
搬送層を形成して積層型の感光体を作成した。
−４′−N,N−ジフェニルアミノスチルベン２重量部、
ポリカーボネート樹脂（帝人社製パンライトＫ−1300）
２重量部及びテトラヒドロフラン16重量部を混合溶解し
た溶液をドクターブレードを用いて塗布し、80℃で２分
間、ついで105℃で５分間乾燥して厚さ約20μｍの電荷
搬送層を形成して積層型の感光体を作成した。
この感光体について、次に示す手順により、その700n
mにおける感度を測定した。
mにおける感度を測定した。
まず、感光体を暗所でコロナ放電によりその表面電位
を−600ボルト以上に帯電し、その表面電位を−600ボル
トになるまで暗減衰させ、表面電位が−600ボルトにな
ったときにモノクロメーターを用いて分光した感光体面
での強度が１μW/cm2の700nmの単色光を感光体に照射
し、その表面電位が−300Vに減衰するまでの時間（秒）
を求め、半減露光量（μＷ・sec/cm2）を算出したとこ
ろ0.25μJ/cm2と高感度であった。
を−600ボルト以上に帯電し、その表面電位を−600ボル
トになるまで暗減衰させ、表面電位が−600ボルトにな
ったときにモノクロメーターを用いて分光した感光体面
での強度が１μW/cm2の700nmの単色光を感光体に照射
し、その表面電位が−300Vに減衰するまでの時間（秒）
を求め、半減露光量（μＷ・sec/cm2）を算出したとこ
ろ0.25μJ/cm2と高感度であった。
このことから明らかなように、本発明のビスアゾ化合
物を含む電子写真感光体は、きわめて高感度であること
が判る。
物を含む電子写真感光体は、きわめて高感度であること
が判る。
以上の説明から判るように本発明のビスアゾ顔料は容
易に製造できる上、応用例からも明らかなように高度複
写機用、レーザープリンター用等として実用的な高感度
な電子写真感光体用の電荷発生顔料としてきわめて有用
である。
易に製造できる上、応用例からも明らかなように高度複
写機用、レーザープリンター用等として実用的な高感度
な電子写真感光体用の電荷発生顔料としてきわめて有用
である。
第１〜３図は夫々実施例１〜３で作成した本発明に係る
ビスアゾ化合物の赤外線吸収スペクトルである。
ビスアゾ化合物の赤外線吸収スペクトルである。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）で表されるビスアゾ化合物。 （式中、R1およびR2は水素、置換または無置換のアルキ
ル基、置換また無置換のアリール基、複素環残基を表わ
す。またR1およびR2は共同で環を形成していても良い。
R3は置換または無置換のアルキル基、置換または無置換
のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルスルホニ
ル基、置換または無置換のアルキルメルカプト基、ハロ
ゲン原子、置換または無置換のアリール基を表わし、ｎ
は１〜４の整数を表わす。ｎが２〜４の場合、R3は同一
または異なったもののいずれでもよい。） - 【請求項２】一般式〔II〕で表わされる２−ヒドロキシ
−３−カルバモイルベンゾ〔ａ〕カルバゾール誘導体と
一般式〔III〕で表わされるジアゾニウム塩化合物とを
反応させることを特徴とする前記一般式〔Ｉ〕で表わさ
れるビスアゾ化合物の製造方法。 （式中、R1およびR2は水素、置換または無置換のアルキ
ル基、置換また無置換のアリール基、複素環残基を表わ
す。またR1およびR2は共同で環を形成していても良い。
R3は置換または無置換のアルキル基、置換または無置換
のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルスルホニ
ル基、置換または無置換のアルキルメルカプト基、ハロ
ゲン原子、置換または無置換のアリール基を表わし、ｎ
は１〜４の整数を表わす。ｎが２〜４の場合、R3は同一
または異なったもののいずれでもよい。） （式中、Ｘはアニオン官能基を表わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1170514A JP2847195B2 (ja) | 1989-07-01 | 1989-07-01 | ビスアゾ化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1170514A JP2847195B2 (ja) | 1989-07-01 | 1989-07-01 | ビスアゾ化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0335061A JPH0335061A (ja) | 1991-02-15 |
| JP2847195B2 true JP2847195B2 (ja) | 1999-01-13 |
Family
ID=15906359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1170514A Expired - Fee Related JP2847195B2 (ja) | 1989-07-01 | 1989-07-01 | ビスアゾ化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2847195B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63301054A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-08 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体 |
-
1989
- 1989-07-01 JP JP1170514A patent/JP2847195B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0335061A (ja) | 1991-02-15 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071106 Year of fee payment: 9 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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