JP2840640B2 - 光重合可能な記録材料 - Google Patents
光重合可能な記録材料Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、層支持体、光重合可能な層および空気酸素
に対して低い透過性を有する被覆層から構成された光重
合可能な記録材料に関する。この材料は、特に印刷版、
殊に平板印刷版の製造に適当である。
に対して低い透過性を有する被覆層から構成された光重
合可能な記録材料に関する。この材料は、特に印刷版、
殊に平板印刷版の製造に適当である。
［従来の技術］ 記載された型の印刷版は、例えば米国特許第3458311
号明細書の記載から公知である。この米国特許明細書中
で記載された被覆層は、水溶性重合体、例えばポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチンまたは
アラビアゴムから成る。これらの物質中、酸素に対する
遮断効果が著しく高いという観点からポリビニルアルコ
ールが好ましい。
号明細書の記載から公知である。この米国特許明細書中
で記載された被覆層は、水溶性重合体、例えばポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチンまたは
アラビアゴムから成る。これらの物質中、酸素に対する
遮断効果が著しく高いという観点からポリビニルアルコ
ールが好ましい。
ジアゾニウム化合物を基礎とするネガ型平板印刷版に
比較して、現在製造されている光重合可能な材料を基礎
とする平板印刷版の多くは、明らかに減少された画像分
解能を生じる。この分解能の損失は、一部には、画像領
域の光誘導重合の後に層中で暗反応が増大することによ
るものと推測される。支持体表面により反射された散乱
光もまたその原因の一つであると思われる。従って、分
解能は、支持体表面と光重合可能な層との間にハレーシ
ョン防止層を備えさせることにより改善することができ
るかまたは光重合可能な層自体に染料または紫外線吸収
剤を加えることにより改善することができる。この目的
のため、層が感受性である波長領域内で吸収する染料ま
たは顔料が通常使われる。この型の材料は、例えば米国
特許第2791504号明細書、同第4173673号明細書、西ドイ
ツ国特許出願公開第2202360号明細書、および西ドイツ
国特許出願公開第2658422号明細書に記載されている。
これらの中に記載されている染料は、殊に支持体表面で
の反射によって起こる散乱光の割合を減少させる。感光
層自体に染料を添加した結果として分解能が改善される
ことは、殊に350〜450nmの波長領域内で吸収する染料を
使用することにより可能である。しかしながら、分解能
が改善されることにより、常に著しく減少された感光度
が生じる。
比較して、現在製造されている光重合可能な材料を基礎
とする平板印刷版の多くは、明らかに減少された画像分
解能を生じる。この分解能の損失は、一部には、画像領
域の光誘導重合の後に層中で暗反応が増大することによ
るものと推測される。支持体表面により反射された散乱
光もまたその原因の一つであると思われる。従って、分
解能は、支持体表面と光重合可能な層との間にハレーシ
ョン防止層を備えさせることにより改善することができ
るかまたは光重合可能な層自体に染料または紫外線吸収
剤を加えることにより改善することができる。この目的
のため、層が感受性である波長領域内で吸収する染料ま
たは顔料が通常使われる。この型の材料は、例えば米国
特許第2791504号明細書、同第4173673号明細書、西ドイ
ツ国特許出願公開第2202360号明細書、および西ドイツ
国特許出願公開第2658422号明細書に記載されている。
これらの中に記載されている染料は、殊に支持体表面で
の反射によって起こる散乱光の割合を減少させる。感光
層自体に染料を添加した結果として分解能が改善される
ことは、殊に350〜450nmの波長領域内で吸収する染料を
使用することにより可能である。しかしながら、分解能
が改善されることにより、常に著しく減少された感光度
が生じる。
米国特許第3218167号明細書には、引き剥し方法によ
り転写画像を得るための光重合可能な材料が開示されて
いる。この方法は顕著な画像コントラストを必要とする
ので、光重合可能な層は染料の添加により濃く染色され
なければならない。感光度の重大な減少を阻止するた
め、染料は光重合層の化学線領域内でできるだけ少ない
吸収を行なわなければならない。しかし、使用される染
料の大部分がなお比較的大量の光を光開始剤の活性化範
囲内で吸収してしまうので、感光性は、一般に著しく減
少される。染料添加剤の他の効果は何も記載されていな
い。
り転写画像を得るための光重合可能な材料が開示されて
いる。この方法は顕著な画像コントラストを必要とする
ので、光重合可能な層は染料の添加により濃く染色され
なければならない。感光度の重大な減少を阻止するた
め、染料は光重合層の化学線領域内でできるだけ少ない
吸収を行なわなければならない。しかし、使用される染
料の大部分がなお比較的大量の光を光開始剤の活性化範
囲内で吸収してしまうので、感光性は、一般に著しく減
少される。染料添加剤の他の効果は何も記載されていな
い。
また、重合抑制剤を添加することにより暗反応を抑制
し、こうして分解能を改良することも公知である。これ
らの抑制剤が有効である場合、多くの場合には、抑制剤
は感光度を減少させるという欠点を有する。さらに、こ
れらの抑制剤の多くはある貯蔵期間の後層の変色という
望ましくない結果を示す。非常に多くの公知の抑制剤
は、光重合の開始にとって重要な300〜700nmの波長範囲
内で吸収し、したがって画像に応じての重合を阻害また
は抑制する。
し、こうして分解能を改良することも公知である。これ
らの抑制剤が有効である場合、多くの場合には、抑制剤
は感光度を減少させるという欠点を有する。さらに、こ
れらの抑制剤の多くはある貯蔵期間の後層の変色という
望ましくない結果を示す。非常に多くの公知の抑制剤
は、光重合の開始にとって重要な300〜700nmの波長範囲
内で吸収し、したがって画像に応じての重合を阻害また
は抑制する。
国際特許出願公表第86/7473号明細書の記載から、化
学線範囲内の光に暴露することにより漂白されるコント
ラストを強める被覆層を有するナラトキノンジアジドを
基礎とするポジ型フォトレジスト材料を得ることは、公
知である。この高度に分解する材料の分解能は、画像の
コントラストを増すことにより、さらに改善される。
学線範囲内の光に暴露することにより漂白されるコント
ラストを強める被覆層を有するナラトキノンジアジドを
基礎とするポジ型フォトレジスト材料を得ることは、公
知である。この高度に分解する材料の分解能は、画像の
コントラストを増すことにより、さらに改善される。
国際特許出願公表第86/6182号明細書には、中間色調
の増加を阻止しかつ露光寛容度を広げるため、光学的フ
ィルター層を色校正フィルムのポジ型感光層と色分離個
所との間に備えさせる色校正方法が記載されている。フ
ィルター層は、感光層の最大吸収領域内の光を吸収しな
ければならない。
の増加を阻止しかつ露光寛容度を広げるため、光学的フ
ィルター層を色校正フィルムのポジ型感光層と色分離個
所との間に備えさせる色校正方法が記載されている。フ
ィルター層は、感光層の最大吸収領域内の光を吸収しな
ければならない。
西ドイツ国特許第2123702号明細書には、酸素に対し
て低い透過性の化合物を含有するレリース層が引き剥し
可能の一時的な支持フィルムと光重合可能な層との間に
ある光重合可能なドライレジスト材料が記載されてい
る。このレリース層は少量の染料で染色できるが、この
ことは何ら特別な影響を及ぼさない。
て低い透過性の化合物を含有するレリース層が引き剥し
可能の一時的な支持フィルムと光重合可能な層との間に
ある光重合可能なドライレジスト材料が記載されてい
る。このレリース層は少量の染料で染色できるが、この
ことは何ら特別な影響を及ぼさない。
［発明が達成しようとする課題］ 本発明の目的は、光重合可能な層、殊に平板印刷版の
製造のための材料の光重合可能な層の分解能を、感光度
の同時に起こる実質的な減少なしに改善することであっ
た。改善された分解能は特に、光還元可能な染料と、光
開始剤としての相乗効果を有する場合による他の化合物
との組合せ物で光酸化可能な基を有する重合可能な化合
物を基礎とした高度に感光性の層の場合に達成されるは
ずであり、それによってこの開始剤組合せ物の効果は、
支障ある層添加剤によって損なわれないはずである。
製造のための材料の光重合可能な層の分解能を、感光度
の同時に起こる実質的な減少なしに改善することであっ
た。改善された分解能は特に、光還元可能な染料と、光
開始剤としての相乗効果を有する場合による他の化合物
との組合せ物で光酸化可能な基を有する重合可能な化合
物を基礎とした高度に感光性の層の場合に達成されるは
ずであり、それによってこの開始剤組合せ物の効果は、
支障ある層添加剤によって損なわれないはずである。
［課題を達成するための手段］ 本発明によれば、層支持体と、 本質的成分として高分子量結合剤、少なくとも１つの
末端エチレン性不飽和基および光還元可能な染料の存在
下に露光によって光酸化しうる少なくとも１つの基を有
するフリーラジカル反応によって重合しうる化合物およ
び重合開始剤として化学線によって活性化しうる光還元
可能な染料を含有する光重合可能な層と、 空気酸素に対して低い透過性を有しかつ水または水／
アルコール混合物中で可溶性である重合体および20℃で
水中で可溶性であり、300〜700nmの範囲内の光を吸収
し、かつこの範囲内で望ましい複写光源の放出範囲に相
応する非吸収領域を有する染料または幾つかの染料の適
当な混合物を含有する被覆層とから構成されている光重
合可能な記録材料が得られる。
末端エチレン性不飽和基および光還元可能な染料の存在
下に露光によって光酸化しうる少なくとも１つの基を有
するフリーラジカル反応によって重合しうる化合物およ
び重合開始剤として化学線によって活性化しうる光還元
可能な染料を含有する光重合可能な層と、 空気酸素に対して低い透過性を有しかつ水または水／
アルコール混合物中で可溶性である重合体および20℃で
水中で可溶性であり、300〜700nmの範囲内の光を吸収
し、かつこの範囲内で望ましい複写光源の放出範囲に相
応する非吸収領域を有する染料または幾つかの染料の適
当な混合物を含有する被覆層とから構成されている光重
合可能な記録材料が得られる。
本発明の範囲内で、“染料”という用語は、上述した
スペクトル範囲内で強い光吸収を示す任意の化合物を意
味するものとして定義され、すなわちそれは紫外線領域
内で吸収しかつ可視スペクトル領域内で僅かにのみ染色
されるか、または全く染色されない化合物をも含む。
スペクトル範囲内で強い光吸収を示す任意の化合物を意
味するものとして定義され、すなわちそれは紫外線領域
内で吸収しかつ可視スペクトル領域内で僅かにのみ染色
されるか、または全く染色されない化合物をも含む。
それ故、とりわけ、適当な染料は、紫外線吸収体、感
光性化合物、例えばジアゾニウム塩および1,2−キノン
−ジアジド、ジ−またはトリアリールカルベニウム染
料、アゾ染料、アザ（18）アニュレン染料、ニトロ染
料、ニトロソ染料、ポリメチン染料、カルボニル染料ま
たは硫黄染料を包含する。
光性化合物、例えばジアゾニウム塩および1,2−キノン
−ジアジド、ジ−またはトリアリールカルベニウム染
料、アゾ染料、アザ（18）アニュレン染料、ニトロ染
料、ニトロソ染料、ポリメチン染料、カルボニル染料ま
たは硫黄染料を包含する。
これらの染料の中で、カルボニル染料、特にアントラ
キノン染料、アゾ染料、トリアリールカルベニウム染
料、特にトリフェニールメタン染料、アザ（18）アニュ
レン染料、例えば水溶性ポルフィリンまたはフタロシア
ニン染料およびポリメチン染料は好ましい。
キノン染料、アゾ染料、トリアリールカルベニウム染
料、特にトリフェニールメタン染料、アザ（18）アニュ
レン染料、例えば水溶性ポルフィリンまたはフタロシア
ニン染料およびポリメチン染料は好ましい。
適当な染料の例は、次のものを包含する： 2,2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、４−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシ−ベンゾフェ
ノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ
フェニルベンゾトリアゾール、レソルシノールモノベン
ゾエート、オイルオレンジ（C.I.12055）、スーダンオ
レンジRA（C.I.12055）、カプラシルオレンジ（C.I.6
0）、スーダンイエロー（C.I.30）、シリウスライトイ
エローＲエクストラ（C.I.29025）、レマゾールブリリ
アントオレンジRR（C.I.17756）、レマゾールブリリア
ントオレンジ3R（C.I.17757）、レマゾールゴールドイ
エローＧ（C.I.18852）、レマゾールイエローRTL（リア
クティブイエロー24）、ファストライトイエロー3G（C.
I.19120）、アストラゾンイエロー3G（C.I.48055）、ア
ストラゾンイエロー5G（C.I.48065）またはベイシック
イエロー52115（C.I.48060）、アストラゾンオレンジ3R
（ベイシックイエロー22）、アストラゾンイエロー7GL
L、アストラゾンイエローGRL、アストラゾンイエローブ
ラウン3GL（ベイシックオレンジ30012）、アストラゾン
ブルー3RL（ベイシックブルー47）、ベイシックブルー3
RL、メチレンブルー、イルガセットブルー2GLN、ブロモ
フェノールブルー（CAS-62625-28-9）、セルバブルー
Ｇ、コルボリンイエローHG、ノボフィルイエローGR（ピ
グメントイエロー13）、オラソールイエロー、レマゾー
ルイエロー、タートラジン、ザポンファストイエローCG
G、ファティーイエロー、マキシロンブリアントイエロ
ー、レマクリルイエロー、アストラゾンレッドバイオレ
ット3RN、アストラゾンバイオレットFRL、アストラゾン
グリーンＭ、ブリリアントグリーン（42040）、メチル
オレンジ、メチルレッド、デュアミン酸ブルーＲ、ビク
トリアブルーFB（44045）、オラソールレッドＢ、レマ
ゾールイエローオレンジ、オラソールオレンジRW-A、ア
シッドグリーン、マキシロンレッドGRL、マキシロンレ
ッドBL-N、ヌビロンオレンジＲ（アシッドオレンジ７）
およびアストライエローＲ。特に適当なのは、アストラ
ゾンオレンジＲ（C.I.48040）、アストラゾンイエロー
ブラウン3GL、ブロモフェノールブルー、メチレンブル
ー、マキシロンブルーGRLおよびアストラゾンブルー3RL
である。更に、西ドイツ特許出願公開第1058836号明細
書に記載のオキサジアゾール誘導体、６−フェニル−２
−ピロン（西ドイツ国特許出願公開第1668358号明細
書）、4,4′−ジベンザールアセトン、例えば４−ジエ
チルアミノ−４′−メトキシ−ジベンザルアセトン、お
よびクマリン誘導体、例えば３−アセチル−７−ジエチ
ルアミノクマリンは好適である。
ン、４−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシ−ベンゾフェ
ノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ
フェニルベンゾトリアゾール、レソルシノールモノベン
ゾエート、オイルオレンジ（C.I.12055）、スーダンオ
レンジRA（C.I.12055）、カプラシルオレンジ（C.I.6
0）、スーダンイエロー（C.I.30）、シリウスライトイ
エローＲエクストラ（C.I.29025）、レマゾールブリリ
アントオレンジRR（C.I.17756）、レマゾールブリリア
ントオレンジ3R（C.I.17757）、レマゾールゴールドイ
エローＧ（C.I.18852）、レマゾールイエローRTL（リア
クティブイエロー24）、ファストライトイエロー3G（C.
I.19120）、アストラゾンイエロー3G（C.I.48055）、ア
ストラゾンイエロー5G（C.I.48065）またはベイシック
イエロー52115（C.I.48060）、アストラゾンオレンジ3R
（ベイシックイエロー22）、アストラゾンイエロー7GL
L、アストラゾンイエローGRL、アストラゾンイエローブ
ラウン3GL（ベイシックオレンジ30012）、アストラゾン
ブルー3RL（ベイシックブルー47）、ベイシックブルー3
RL、メチレンブルー、イルガセットブルー2GLN、ブロモ
フェノールブルー（CAS-62625-28-9）、セルバブルー
Ｇ、コルボリンイエローHG、ノボフィルイエローGR（ピ
グメントイエロー13）、オラソールイエロー、レマゾー
ルイエロー、タートラジン、ザポンファストイエローCG
G、ファティーイエロー、マキシロンブリアントイエロ
ー、レマクリルイエロー、アストラゾンレッドバイオレ
ット3RN、アストラゾンバイオレットFRL、アストラゾン
グリーンＭ、ブリリアントグリーン（42040）、メチル
オレンジ、メチルレッド、デュアミン酸ブルーＲ、ビク
トリアブルーFB（44045）、オラソールレッドＢ、レマ
ゾールイエローオレンジ、オラソールオレンジRW-A、ア
シッドグリーン、マキシロンレッドGRL、マキシロンレ
ッドBL-N、ヌビロンオレンジＲ（アシッドオレンジ７）
およびアストライエローＲ。特に適当なのは、アストラ
ゾンオレンジＲ（C.I.48040）、アストラゾンイエロー
ブラウン3GL、ブロモフェノールブルー、メチレンブル
ー、マキシロンブルーGRLおよびアストラゾンブルー3RL
である。更に、西ドイツ特許出願公開第1058836号明細
書に記載のオキサジアゾール誘導体、６−フェニル−２
−ピロン（西ドイツ国特許出願公開第1668358号明細
書）、4,4′−ジベンザールアセトン、例えば４−ジエ
チルアミノ−４′−メトキシ−ジベンザルアセトン、お
よびクマリン誘導体、例えば３−アセチル−７−ジエチ
ルアミノクマリンは好適である。
更に、280〜450nmのスペクトル範囲内で感受性を有す
るジアゾニウム塩またはキノンジアジドのような感光性
化合物は、染料として適当である。これらの黄色成分を
被覆層中に配合することにより、ネガ型層の分解能は、
同様に大きく増大させることができる。
るジアゾニウム塩またはキノンジアジドのような感光性
化合物は、染料として適当である。これらの黄色成分を
被覆層中に配合することにより、ネガ型層の分解能は、
同様に大きく増大させることができる。
光学フィルター層を用いることにより、選択された染
料およびその吸収性に依存する“光学窓”は、300〜700
nmのスペクトル範囲内で感受性であるパンクロ的に感度
を有する光重合体層により製造させることができる。こ
の方法で例えば、次の応用分野： ａ）投映露光（400〜450nm） ｂ）レーザー露光（488および514nm;アルゴンイオンレ
ーザー） ｃ）紫外露光（〜400nmまで） に対する印刷版は、単一の高感度光重合体層を基礎と
して製造できる。
料およびその吸収性に依存する“光学窓”は、300〜700
nmのスペクトル範囲内で感受性であるパンクロ的に感度
を有する光重合体層により製造させることができる。こ
の方法で例えば、次の応用分野： ａ）投映露光（400〜450nm） ｂ）レーザー露光（488および514nm;アルゴンイオンレ
ーザー） ｃ）紫外露光（〜400nmまで） に対する印刷版は、単一の高感度光重合体層を基礎と
して製造できる。
本発明による材料の場合、染料は、被覆層中に存在
し、フィルター層および酸素遮断の双方として働き、望
ましい性質を達成するのに効果的である。被覆層中の染
料濃度は、とりわけ感光記録材料の意図する適用（例え
ば投映露光にとってのオフセット印刷版として、レーザ
ー照射により画像を形成することができる印刷版とし
て、感紫外線印刷版として、またはフォトレジストとし
て）、被覆層の厚さ、光重合可能な層の組成、感光性の
型および使用された光源の型および強さに依存してお
り、それゆえ広い範囲内で変動できる。
し、フィルター層および酸素遮断の双方として働き、望
ましい性質を達成するのに効果的である。被覆層中の染
料濃度は、とりわけ感光記録材料の意図する適用（例え
ば投映露光にとってのオフセット印刷版として、レーザ
ー照射により画像を形成することができる印刷版とし
て、感紫外線印刷版として、またはフォトレジストとし
て）、被覆層の厚さ、光重合可能な層の組成、感光性の
型および使用された光源の型および強さに依存してお
り、それゆえ広い範囲内で変動できる。
一般に、被覆層中に含有されている染料の量は、0.01
〜70重量％、好ましくは0.5〜50重量％、より好ましく
は0.5〜25重量％である。この量は染料の吸収領域内で
被覆層が0.5〜2.5の光学濃度を有するように選択される
べきである。
〜70重量％、好ましくは0.5〜50重量％、より好ましく
は0.5〜25重量％である。この量は染料の吸収領域内で
被覆層が0.5〜2.5の光学濃度を有するように選択される
べきである。
空気酸素に対して殆ど透過性でない重合体は、米国特
許第458311号明細書中で指摘さている重合体の１つであ
ることができる。例は、殊にポリビニルアルコールおよ
び特に加水分解されたポリビニルアセテートであり、そ
れは、重合体が20℃で水またはアルコール含量が50％以
内、好ましくは30％以内であるエタノールのような低級
アルコールと水の混合物に可溶のままである限り、ビニ
ルエーテルおよびビニルアセタール単位を含有してもよ
い。また、ゼラチン、アラビアゴム、アルキルビニルエ
ーテルと無水マレイン酸との共重合体、ポリビニルピロ
リドン、ポリカルボン酸、酸化エチレンの水溶性高分子
量重合体（Ｍ＝100000〜3000000）、ポリビニルアルコ
ール上での酸化エチレンの水溶性グラフト重合体、炭化
水素およびヒドロキシエチルセルロースも使用可能であ
る。好ましいのは、20℃で層中での酸素透過率が30cm3
／m2/d/バール殊に25cm3／m2/d/バール未満である重合
体である。
許第458311号明細書中で指摘さている重合体の１つであ
ることができる。例は、殊にポリビニルアルコールおよ
び特に加水分解されたポリビニルアセテートであり、そ
れは、重合体が20℃で水またはアルコール含量が50％以
内、好ましくは30％以内であるエタノールのような低級
アルコールと水の混合物に可溶のままである限り、ビニ
ルエーテルおよびビニルアセタール単位を含有してもよ
い。また、ゼラチン、アラビアゴム、アルキルビニルエ
ーテルと無水マレイン酸との共重合体、ポリビニルピロ
リドン、ポリカルボン酸、酸化エチレンの水溶性高分子
量重合体（Ｍ＝100000〜3000000）、ポリビニルアルコ
ール上での酸化エチレンの水溶性グラフト重合体、炭化
水素およびヒドロキシエチルセルロースも使用可能であ
る。好ましいのは、20℃で層中での酸素透過率が30cm3
／m2/d/バール殊に25cm3／m2/d/バール未満である重合
体である。
被覆層は、化学線を透過し、一般に0.5〜10μｍ、好
ましくは１〜４μｍの厚さを有する。この被覆層は、水
溶液または水と有機溶剤との混合物から常法で光重合可
能な層の表面に塗布される。塗布液は、より良好な湿潤
性のために、界面活性剤をその固体含量に対して10重量
％まで、好ましくは５重量％まで含有することができ
る。使用可能な界面活性剤は、陰イオン、陽イオンおよ
び非イオン性界面活性剤、例えばドデシル硫酸ナトリウ
ムのような12〜18個の炭素原子を有するアルキル硫酸ナ
トリウムおよびアルキルスルホン酸ナトリウム、Ｎ−セ
チルベタイン、Ｃ−セチルベタイン、アルキルアミノカ
ルボキシレート、アルキルアミノジカルボキシレートお
よび400までの平均分子量を有するポリエチレングリコ
ールを包含する。
ましくは１〜４μｍの厚さを有する。この被覆層は、水
溶液または水と有機溶剤との混合物から常法で光重合可
能な層の表面に塗布される。塗布液は、より良好な湿潤
性のために、界面活性剤をその固体含量に対して10重量
％まで、好ましくは５重量％まで含有することができ
る。使用可能な界面活性剤は、陰イオン、陽イオンおよ
び非イオン性界面活性剤、例えばドデシル硫酸ナトリウ
ムのような12〜18個の炭素原子を有するアルキル硫酸ナ
トリウムおよびアルキルスルホン酸ナトリウム、Ｎ−セ
チルベタイン、Ｃ−セチルベタイン、アルキルアミノカ
ルボキシレート、アルキルアミノジカルボキシレートお
よび400までの平均分子量を有するポリエチレングリコ
ールを包含する。
本発明による記録材料の光重合可能な層は、本質的成
分として、高分子量結合剤、少なくとも１個、好ましく
は２個のエチレン系不飽和末端基を有する遊離基重合可
能な化合物、および化学線により活性化させることので
きる重合化開始剤または開始剤組合せ物を含有する。
分として、高分子量結合剤、少なくとも１個、好ましく
は２個のエチレン系不飽和末端基を有する遊離基重合可
能な化合物、および化学線により活性化させることので
きる重合化開始剤または開始剤組合せ物を含有する。
本発明の目的に適当な重合可能な化合物は、公知であ
り、例えば、米国特許第2760863号明細書および同第306
0023号明細書に記載されている。
り、例えば、米国特許第2760863号明細書および同第306
0023号明細書に記載されている。
好ましい例は、エチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリ
トールおよびジペンタエリトリトールのアクリレートお
よびメタクリレート、ならびに多価脂環式アルコールの
アクリレートおよびメタクリレートのような二価また多
価アルコールのアクリル酸エステルおよびメタクリル酸
エステルまたはＮ置換されたアクリルアミドおよびメタ
クリルアミドである。また、モノイソシアネートまたは
ジイソシアネートと、多価アルコールの部分エステルと
の反応生成物を使用することも有利である。このような
単量体は、西ドイツ国特許出願公開第2064079号明細
書、同第2361041号明細書および同第2822190号明細書に
記載されている。
ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリ
トールおよびジペンタエリトリトールのアクリレートお
よびメタクリレート、ならびに多価脂環式アルコールの
アクリレートおよびメタクリレートのような二価また多
価アルコールのアクリル酸エステルおよびメタクリル酸
エステルまたはＮ置換されたアクリルアミドおよびメタ
クリルアミドである。また、モノイソシアネートまたは
ジイソシアネートと、多価アルコールの部分エステルと
の反応生成物を使用することも有利である。このような
単量体は、西ドイツ国特許出願公開第2064079号明細
書、同第2361041号明細書および同第2822190号明細書に
記載されている。
特に好ましいのは、分子中に少なくとも１個の光酸化
可能な基を単独で有するかまたは１個もしくはそれ以上
のウレタン基を一緒に有するか重合可能な化合物であ
る。
可能な基を単独で有するかまたは１個もしくはそれ以上
のウレタン基を一緒に有するか重合可能な化合物であ
る。
適当な光酸化可能な基は、殊に複素環の成分であって
もよいアミノ基、尿素基、チオ基およびエノール基であ
る。このような基の例は、トリエタノールアミノ、トリ
フェニルアミノ、チオ尿素、イミダゾール、オキサゾー
ル、チアゾール、アセチルアセトニル、Ｎ−フェニルグ
リシンおよびアスコルビン酸基である。重合可能な化合
物は、第一，第二および殊に第三アミノ基を有するもの
が好ましい。
もよいアミノ基、尿素基、チオ基およびエノール基であ
る。このような基の例は、トリエタノールアミノ、トリ
フェニルアミノ、チオ尿素、イミダゾール、オキサゾー
ル、チアゾール、アセチルアセトニル、Ｎ−フェニルグ
リシンおよびアスコルビン酸基である。重合可能な化合
物は、第一，第二および殊に第三アミノ基を有するもの
が好ましい。
光酸化可能な基を有する化合物の例は、式I: ［式中、 Ｑは または−Ｓ−であり、 Ｒはアルキル、ヒドロキシアルキルまたはアリル基で
あり、 R1およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル基またはア
ルコキシアルキル基であり、 R3は水素原子またはメチルもしくはエチル基であり、 X1は２〜12個の炭素原子の飽和炭化水素基であり、 X2は５個までのメチレン基が酸素原子により置換され
ていてもよい（Ｃ＋１）価の飽和炭化水素基であり、 D1およびD2はそれぞれ１〜５個の炭素原子の飽和炭化
水素であり、 Ｅは２〜12個の炭素原子の飽和炭化水素基、 環員として２個までのN,OまたはＳ原子を含有できる
５〜７個の環員の脂環式基、６〜12個の炭素原子のアリ
ーレン基または５〜６個の環員の複素環式芳香族基であ
り、 ａは０または１〜４の整数であり、 ｂは０または１であり、 ｃは１〜３の整数であり、 ｍはＱの原子価に依存して2,3または４であり、か
つ、 ｎは１〜ｍの整数である］で示されるアクリル酸エス
テルおよびアルキルアクリル酸エステルであり、この場
合同じ定義の全ての符合は、同一でも異なっていてもよ
い。
あり、 R1およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル基またはア
ルコキシアルキル基であり、 R3は水素原子またはメチルもしくはエチル基であり、 X1は２〜12個の炭素原子の飽和炭化水素基であり、 X2は５個までのメチレン基が酸素原子により置換され
ていてもよい（Ｃ＋１）価の飽和炭化水素基であり、 D1およびD2はそれぞれ１〜５個の炭素原子の飽和炭化
水素であり、 Ｅは２〜12個の炭素原子の飽和炭化水素基、 環員として２個までのN,OまたはＳ原子を含有できる
５〜７個の環員の脂環式基、６〜12個の炭素原子のアリ
ーレン基または５〜６個の環員の複素環式芳香族基であ
り、 ａは０または１〜４の整数であり、 ｂは０または１であり、 ｃは１〜３の整数であり、 ｍはＱの原子価に依存して2,3または４であり、か
つ、 ｎは１〜ｍの整数である］で示されるアクリル酸エス
テルおよびアルキルアクリル酸エステルであり、この場
合同じ定義の全ての符合は、同一でも異なっていてもよ
い。
この式の化合物、ならびにこの化合物の製造および使
用は、先行の西ドイツ国特許出願第P3710279.6号明細書
に詳細に記載されている。
用は、先行の西ドイツ国特許出願第P3710279.6号明細書
に詳細に記載されている。
一般式Ｉの化合物において、１個より多いラジカルＲ
または括弧内に表示した型の１個より多いラジカルが中
心の基Ｑに結合している場合には、これらのラジカルは
互いに異なることができる。
または括弧内に表示した型の１個より多いラジカルが中
心の基Ｑに結合している場合には、これらのラジカルは
互いに異なることができる。
Ｑのすべての置換基が重合可能なラジカルである、す
なわちｍがｎである化合物は、一般に好ましい。
なわちｍがｎである化合物は、一般に好ましい。
一般に、１個以下のラジカルの場合、ａは０であり、
好ましくはａは１である。
好ましくはａは１である。
アルキルまたはヒドロキシアルキル基Ｒは、一般に２
〜８個、好ましくは２〜４個の炭素原子を有する。アリ
ール基Ｒは通常単核または二核であってよく、好ましく
は単核であり、５個までの炭素原子のアルキルまたはア
ルコキシ基またはハロゲン原子により置換されていても
よい。
〜８個、好ましくは２〜４個の炭素原子を有する。アリ
ール基Ｒは通常単核または二核であってよく、好ましく
は単核であり、５個までの炭素原子のアルキルまたはア
ルコキシ基またはハロゲン原子により置換されていても
よい。
アルキルおよびアルコキシアルキル基R1およびR2は１
〜５個の炭素原子を有することができる。
〜５個の炭素原子を有することができる。
R3は、好ましくは水素原子またはメチル基、殊にメチ
ル基である。
ル基である。
X1は、好ましくは炭素原子数４〜10の直鎖または分枝
鎖状脂肪族または脂環式ラジカルである。
鎖状脂肪族または脂環式ラジカルである。
X2は好ましくは２〜15個の炭素原子を有し、そのうち
５個までが酸素原子によって代えられていてよい。純粋
に炭素鎖だけの場合には、一般に２〜12個、好ましくは
２〜６個の炭素原子を有するものが使用される。X2は５
〜10個の炭素原子の脂環式基でもよく、殊にシクロヘキ
サレン基でよい。
５個までが酸素原子によって代えられていてよい。純粋
に炭素鎖だけの場合には、一般に２〜12個、好ましくは
２〜６個の炭素原子を有するものが使用される。X2は５
〜10個の炭素原子の脂環式基でもよく、殊にシクロヘキ
サレン基でよい。
D1およびD2は同一のものでも異なるものでもよく、２
個のチッ素原子と一緒になって５〜10個、好ましくは６
個の環員の飽和複素環を形成する。
個のチッ素原子と一緒になって５〜10個、好ましくは６
個の環員の飽和複素環を形成する。
アルキレン基Ｅは、好ましくは２〜６個の炭素原子を
有し、アリーレン基Ｅは好ましくはフェニレン基であ
る。好ましい脂環式基はシクロヘキサン基であり、好ま
しい芳香族複素環式化合物はヘテロ原子としてＮまたは
Ｓを有しかつ５または６個の環員を有するものである。
有し、アリーレン基Ｅは好ましくはフェニレン基であ
る。好ましい脂環式基はシクロヘキサン基であり、好ま
しい芳香族複素環式化合物はヘテロ原子としてＮまたは
Ｓを有しかつ５または６個の環員を有するものである。
Ｃの値は、好ましくは１である。
全てのラジカル中に２個のウレタン基を有する式Ｉの
重合可能な化合物（ｂ＝１）は、遊離ヒドロキシル基を
有するアクリル酸またはアルキルアクリル酸エステルを
常法で等モル量のジイソシアネートを反応させ、かつ過
剰のイソシアネート基をそれぞれ個々のヒドロキシアル
キル基がアルキルまたはアリール基Ｒによって代えられ
ていてよいヒドロキシアルキルアミン、N,N−ビスヒド
ロキシアルキルピペラジンまたはN,N,N′,N′−テトラ
ヒドロキシアルキルアルキレンジアミンと反応させるこ
とによって得られる。ａが０である場合、結果は尿素基
である。ヒドロキシアルキルアミン出発物質の例は、ト
リエタノールアミン、Ｎ−アルキル−N,N−ジ（ヒドロ
キシアルキル）アミン、ジエタノールアミン、トリス
（２−ヒドロキシプロピル）アミンおよびトリス（２−
ヒドロキシブチル）アミンである。
重合可能な化合物（ｂ＝１）は、遊離ヒドロキシル基を
有するアクリル酸またはアルキルアクリル酸エステルを
常法で等モル量のジイソシアネートを反応させ、かつ過
剰のイソシアネート基をそれぞれ個々のヒドロキシアル
キル基がアルキルまたはアリール基Ｒによって代えられ
ていてよいヒドロキシアルキルアミン、N,N−ビスヒド
ロキシアルキルピペラジンまたはN,N,N′,N′−テトラ
ヒドロキシアルキルアルキレンジアミンと反応させるこ
とによって得られる。ａが０である場合、結果は尿素基
である。ヒドロキシアルキルアミン出発物質の例は、ト
リエタノールアミン、Ｎ−アルキル−N,N−ジ（ヒドロ
キシアルキル）アミン、ジエタノールアミン、トリス
（２−ヒドロキシプロピル）アミンおよびトリス（２−
ヒドロキシブチル）アミンである。
ジイソシアネートの出発物質の例は、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシア
ネートおよび1,1,3−トリメチル−３−イソシアネート
メチル−５−イソシアネートシクロヘキサンである。
ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシア
ネートおよび1,1,3−トリメチル−３−イソシアネート
メチル−５−イソシアネートシクロヘキサンである。
使用されたヒドロキシル含有エステルは、殊にヒドロ
キシエチルメタクリレートおよびヒドロキシプロピルメ
タクリレート（ｎまたはイソ）および相応するルアクリ
レートである。
キシエチルメタクリレートおよびヒドロキシプロピルメ
タクリレート（ｎまたはイソ）および相応するルアクリ
レートである。
ｂが０である式Ｉの重合可能な化合物は、上記のヒド
ロキシアルキルアミノ化合物をイソシアネート含有のア
クリル酸またはアルキルアクリル酸エステルと反応させ
ることにより得られる。殊に使用されたイソシアネート
含有エステルはイソシアネートエチル（メタ）アクリレ
ートである。
ロキシアルキルアミノ化合物をイソシアネート含有のア
クリル酸またはアルキルアクリル酸エステルと反応させ
ることにより得られる。殊に使用されたイソシアネート
含有エステルはイソシアネートエチル（メタ）アクリレ
ートである。
更に、光酸化可能な基を有する適当な化合物は、式I
I: ［式中、Ｑ、Ｒ、R1、R2、R3、ａ、ｍおよびｎはそれ
ぞれ上述のものであり、Ｑは付加的に 基であってもよく、E1は式III: （Ｃは式Ｉの場合と同じ意味を有する）の基である］
て示される基である。
I: ［式中、Ｑ、Ｒ、R1、R2、R3、ａ、ｍおよびｎはそれ
ぞれ上述のものであり、Ｑは付加的に 基であってもよく、E1は式III: （Ｃは式Ｉの場合と同じ意味を有する）の基である］
て示される基である。
式IIの化合物は、ヒドロキシアルキル（アルカ）アク
リレートが相応するグリシジル（アルカ）アクリレート
により代えられていること以外、式Ｉの化合物と同様に
して得られる。
リレートが相応するグリシジル（アルカ）アクリレート
により代えられていること以外、式Ｉの化合物と同様に
して得られる。
前記式の化合物ならびにこの化合物の製造および使用
は、先行の西ドイツ国特許出願第P3738864.9号明細書に
詳細に記載されている。
は、先行の西ドイツ国特許出願第P3738864.9号明細書に
詳細に記載されている。
更に、光酸化可能な基を有する適当な化合物は、式I
V: ［式中、 Ｑ′は であり、 X1′はCiHiまたは であり、 D3はチッ素原子と一緒に５または６員環を形成する４
〜８個の炭素原子の飽和炭化水素基であり、 Ｚは水素原子または式： のラジカルであり、 ｉおよびｋは１〜12までの整数であり、 ｎ′はＱ′の原子価に依存して1,2または３であり、 R3,X1,X2,D1,D2,aおよびｂはそれぞれ式Ｉで定義した
ものである］で示されるアクリル酸エステルおよびアル
キルアクリル酸エステルであり、この場合同じ定義の全
ての符号は、同一かまたは異なり、かつ基Ｑ上の少なく
とも１つの置換基の場合にａは０である。
V: ［式中、 Ｑ′は であり、 X1′はCiHiまたは であり、 D3はチッ素原子と一緒に５または６員環を形成する４
〜８個の炭素原子の飽和炭化水素基であり、 Ｚは水素原子または式： のラジカルであり、 ｉおよびｋは１〜12までの整数であり、 ｎ′はＱ′の原子価に依存して1,2または３であり、 R3,X1,X2,D1,D2,aおよびｂはそれぞれ式Ｉで定義した
ものである］で示されるアクリル酸エステルおよびアル
キルアクリル酸エステルであり、この場合同じ定義の全
ての符号は、同一かまたは異なり、かつ基Ｑ上の少なく
とも１つの置換基の場合にａは０である。
式IVの化合物のうち、ウレタン基は別にして、少くと
も１つの尿素基を有するものは好ましい。尿素基は、本
発明の目的のためにチッ素の原子価が置換または未置換
の炭化水素ラジカルにより飽和されている式： N-CO-Nの基である。しかしながら、１個のチッ素
原子の一つの原子価をさらにカルボニルアミド基（CON
H）に混合させ、ビューレット構造を生じさせることも
可能である。
も１つの尿素基を有するものは好ましい。尿素基は、本
発明の目的のためにチッ素の原子価が置換または未置換
の炭化水素ラジカルにより飽和されている式： N-CO-Nの基である。しかしながら、１個のチッ素
原子の一つの原子価をさらにカルボニルアミド基（CON
H）に混合させ、ビューレット構造を生じさせることも
可能である。
式IV中の符合ａは、好ましくは０または１であり;iは
好ましくは２〜10の数である。
好ましくは２〜10の数である。
式IVの重合可能な化合物は、式Ｉの化合物と同様の方
法で得られる。
法で得られる。
式IVの化合物およびその製造は、先行の西ドイツ国特
許出願第P3824903.0号明細書に詳細に記載されている。
許出願第P3824903.0号明細書に詳細に記載されている。
光重合可能な層中での光重合可能な化合物の割合は、
通常非揮発性成分に対して、約10〜80重量％、好ましく
は20〜60重量％である。
通常非揮発性成分に対して、約10〜80重量％、好ましく
は20〜60重量％である。
使用できる結合剤の例は、塩素化されたポリエチレ
ン、塩素化されたポリプレピレン、アルキルが例えばメ
チル、エチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ヘキシル
または２−エチルヘキシルであるポリ（メタ）アクリル
酸アルキルエステル、前記（メタ）アクリル酸アルキル
エステルと、アクリロニトリルのような少くとも一つの
単量体との共重合体、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ス
チレンまたはフタジエン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
／アクリロニトリル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニリデン／アクリロニトリル共重合体、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、
アクリロニトリル／スチレン共重合体、アクリロニトリ
ル／ブタジエン／スチレン共重合体、ポリスチレン、ポ
リメチルスチレン、ポリアミド（例えばナイロン６）、
ポリウレタン、メチルセルロース、エチルセルロース、
アセチルセルロース、ポリビニルフォルマールおよびポ
リビニルブチラールである。
ン、塩素化されたポリプレピレン、アルキルが例えばメ
チル、エチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ヘキシル
または２−エチルヘキシルであるポリ（メタ）アクリル
酸アルキルエステル、前記（メタ）アクリル酸アルキル
エステルと、アクリロニトリルのような少くとも一つの
単量体との共重合体、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ス
チレンまたはフタジエン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
／アクリロニトリル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニリデン／アクリロニトリル共重合体、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、
アクリロニトリル／スチレン共重合体、アクリロニトリ
ル／ブタジエン／スチレン共重合体、ポリスチレン、ポ
リメチルスチレン、ポリアミド（例えばナイロン６）、
ポリウレタン、メチルセルロース、エチルセルロース、
アセチルセルロース、ポリビニルフォルマールおよびポ
リビニルブチラールである。
特に適当な結合剤は、水に不溶であり、有機溶剤に可
溶であり、かつアルカリ水溶液に可溶または少くとも膨
潤可能であるものである。
溶であり、かつアルカリ水溶液に可溶または少くとも膨
潤可能であるものである。
特に記載すべきものは、カルボキシル含有結合剤、例
えば（メタ）アクリル酸および／またはクロトン酸のよ
うなその不飽和同族体の共重合体、無水マレイン酸また
はその半エステルの共重合体、ヒドロキシル基含有重合
体と無水ジカルボン酸との反応生成物、ならびにその混
合物である。
えば（メタ）アクリル酸および／またはクロトン酸のよ
うなその不飽和同族体の共重合体、無水マレイン酸また
はその半エステルの共重合体、ヒドロキシル基含有重合
体と無水ジカルボン酸との反応生成物、ならびにその混
合物である。
また、全部または部分的に活性化イソシアネートと反
応された酸のＨ原子からなる基を有する重合体の反応生
成物、例えばヒドロキシル基含有重合体と脂肪族スルホ
ニルイソシアネートまたは亜リン酸イソシアネートとの
反応生成物を使用することも可能である。
応された酸のＨ原子からなる基を有する重合体の反応生
成物、例えばヒドロキシル基含有重合体と脂肪族スルホ
ニルイソシアネートまたは亜リン酸イソシアネートとの
反応生成物を使用することも可能である。
また、適当なものは次の通りである：ヒドロキシル基
含有重合体、例えば、ヒドロキシルアルキル（メタ）ア
クリレートの共重合体、アリルアルコールの共重合体、
ビニルアルコール共重合体、ポリウレタンまたはポリエ
ステル、ならびに十分な数の遊離OH基を有しているかま
たはアルカリ水溶液に可溶であるように変性されたエポ
キシ樹脂、または芳香族的に結合されたヒドロキシル基
を有する重合体、例えば縮合可能なカルボニル化合物、
殊にホルムアルデヒド、アセトアルデヒドまたはアセト
ンと、フェノールまたはヒドロキシスチレン共重合体と
の縮合生成物である。最後に、また（メタ）アクリルア
ミドとアルキル（メタ）アクリレートとの共重合体を使
うことも可能である。
含有重合体、例えば、ヒドロキシルアルキル（メタ）ア
クリレートの共重合体、アリルアルコールの共重合体、
ビニルアルコール共重合体、ポリウレタンまたはポリエ
ステル、ならびに十分な数の遊離OH基を有しているかま
たはアルカリ水溶液に可溶であるように変性されたエポ
キシ樹脂、または芳香族的に結合されたヒドロキシル基
を有する重合体、例えば縮合可能なカルボニル化合物、
殊にホルムアルデヒド、アセトアルデヒドまたはアセト
ンと、フェノールまたはヒドロキシスチレン共重合体と
の縮合生成物である。最後に、また（メタ）アクリルア
ミドとアルキル（メタ）アクリレートとの共重合体を使
うことも可能である。
上記の重合体は、殊に分子量が500〜200000またはそ
れ以上、好ましくは1000〜100000であり、かつ酸価が10
〜250、好ましくは20〜200であり、またはヒドロキシル
価が50〜750、好ましくは100〜500である場合に適当で
ある。
れ以上、好ましくは1000〜100000であり、かつ酸価が10
〜250、好ましくは20〜200であり、またはヒドロキシル
価が50〜750、好ましくは100〜500である場合に適当で
ある。
好ましいアルカリ可溶性結合剤は次の通りである： （メタ）アクリル酸とアルキル（メタ）アクリレー
ト、（メタ）アクリロニトリルまたは類似物との共重合
体、クロトン酸とアルキル（メタ）アクリレート、（メ
タ）アクリロニトリルまたは類似物との共重合体、ビニ
ル酢酸とアルキル（メタ）アクリレートとの共重合体、
無水マレイン酸と、置換されているかまたは置換されて
いないスチレン、不飽和炭化水素、不飽和エーテルまた
はエステルとの共重合体、無水マレイン酸の共重合体の
エステル化生成物、ヒドロキシル基含有重合体とジまた
はポリカルボン酸の無水物とのエステル生成物、ヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレートとアルキル（メタ）
アクリレート、（メタ）アクリロニトリルまたは類似物
との共重合体、アリルアルコールと、置換されているか
または置換されていないスチレンとの共重合体、ビニル
アルコールとアルキル（メタ）アクリレートまたは他の
重合可能な不飽和化合物との共重合体、ポリウレタン、
十分な数の遊離OH基を有しているという条件でエポキシ
樹脂、ポリエステル、部分的に加水分解されたビニルア
セテート共重合体、遊離OH基を有するポリビニルアセタ
ール、ヒドロキシスチレンとアルキル（メタ）アクリレ
ートまたはその類似物との共重合体、フェノールホルム
アルデヒド樹脂例えばノボラック。
ト、（メタ）アクリロニトリルまたは類似物との共重合
体、クロトン酸とアルキル（メタ）アクリレート、（メ
タ）アクリロニトリルまたは類似物との共重合体、ビニ
ル酢酸とアルキル（メタ）アクリレートとの共重合体、
無水マレイン酸と、置換されているかまたは置換されて
いないスチレン、不飽和炭化水素、不飽和エーテルまた
はエステルとの共重合体、無水マレイン酸の共重合体の
エステル化生成物、ヒドロキシル基含有重合体とジまた
はポリカルボン酸の無水物とのエステル生成物、ヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレートとアルキル（メタ）
アクリレート、（メタ）アクリロニトリルまたは類似物
との共重合体、アリルアルコールと、置換されているか
または置換されていないスチレンとの共重合体、ビニル
アルコールとアルキル（メタ）アクリレートまたは他の
重合可能な不飽和化合物との共重合体、ポリウレタン、
十分な数の遊離OH基を有しているという条件でエポキシ
樹脂、ポリエステル、部分的に加水分解されたビニルア
セテート共重合体、遊離OH基を有するポリビニルアセタ
ール、ヒドロキシスチレンとアルキル（メタ）アクリレ
ートまたはその類似物との共重合体、フェノールホルム
アルデヒド樹脂例えばノボラック。
感光層中の結合剤の量は、通常20〜90重量％、好まし
くは40〜80重量％である。
くは40〜80重量％である。
使用された光開始剤は、多数の物質であることができ
る。例は、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイ
ル、ベンジルモノケタール、フルオレノン、チオキサン
トン、多核キノン、アクリジンおよびキナゾリンの基本
骨格から誘導されるもの、ならびに西ドイツ国特許出願
公開第3333450号明細書に記載されているようなトリク
ロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−ハロメチル−５−ビ
ニル−1,3,4−オキサジアゾール誘導体、トリクロロメ
チル−置換されたハロオキサゾールまたはトリハロメチ
ル含有カルボニルメチレン複素環式化合物である。
る。例は、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイ
ル、ベンジルモノケタール、フルオレノン、チオキサン
トン、多核キノン、アクリジンおよびキナゾリンの基本
骨格から誘導されるもの、ならびに西ドイツ国特許出願
公開第3333450号明細書に記載されているようなトリク
ロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−ハロメチル−５−ビ
ニル−1,3,4−オキサジアゾール誘導体、トリクロロメ
チル−置換されたハロオキサゾールまたはトリハロメチ
ル含有カルボニルメチレン複素環式化合物である。
好ましい光開始剤は、殊に、先行の西ドイツ国特許出
願第P3710281.8号明細書および同第P3710282.6号明細書
に記載されているように照射開裂できるトリハロメチル
化合物および、恐らくアクリジン、フェナジンまたはキ
クノサリン光開始剤化合物と結合している場合には光還
元可能な染料である。
願第P3710281.8号明細書および同第P3710282.6号明細書
に記載されているように照射開裂できるトリハロメチル
化合物および、恐らくアクリジン、フェナジンまたはキ
クノサリン光開始剤化合物と結合している場合には光還
元可能な染料である。
適当な光還元染料は、殊にキサンテン、ベンゾキサン
テン、ベンゾチオキサンテン、チアジン、ピロニン、ポ
リフィリンおよびアクリジン染料である。染料の量は、
一般に層の非揮発性成分に対して0.1〜10重量％、好ま
しくは0.05〜４重量％である。
テン、ベンゾチオキサンテン、チアジン、ピロニン、ポ
リフィリンおよびアクリジン染料である。染料の量は、
一般に層の非揮発性成分に対して0.1〜10重量％、好ま
しくは0.05〜４重量％である。
感光度を増すために、層は、光重合可能な混合物によ
って遊離基形成開始剤として使用されるそれ自体公知の
光分解開裂可能なトリハロメチル基を有している化合物
を加えてもよい。この型の確かめられた共開始剤は、殊
に塩素および臭素、特に塩素をハロゲンとして含有する
化合物である。トリハロメチル基は、直接にまたは完全
な共役鎖を経て、芳香族炭素環または複素環に結合させ
ることができる。好ましい化合物は、有利に２個のトリ
ハロメチル基を有する基本骨格中にトリアジン環を有し
ているものであり、殊に欧州特許出願公開第137452号明
細書、西ドイツ国特許出願公開第2718259号明細書およ
び同第2243621号明細書に記載れさている化合物であ
る。これらの化合物は、350〜400nm付近の近紫外領域内
で強く吸収する。また、比較的短かい共鳴現象捕獲電子
系を有する置換基、または脂肪族置換基を有するトリハ
ロメチルトリアジンのようにそれ自身複写光スペクトル
領域におけるどんな吸収もほとんど示さない共開始剤を
使用することも可能である。また、短波長の紫外線領域
内で吸収する異なる基本構造を有する化合物、例えばフ
ェニルトリブロモメチルスルホンのようなフェニルトリ
ハロメチルスルホンまたはフェニルトリハロメチルケト
ンを使用することも可能である。
って遊離基形成開始剤として使用されるそれ自体公知の
光分解開裂可能なトリハロメチル基を有している化合物
を加えてもよい。この型の確かめられた共開始剤は、殊
に塩素および臭素、特に塩素をハロゲンとして含有する
化合物である。トリハロメチル基は、直接にまたは完全
な共役鎖を経て、芳香族炭素環または複素環に結合させ
ることができる。好ましい化合物は、有利に２個のトリ
ハロメチル基を有する基本骨格中にトリアジン環を有し
ているものであり、殊に欧州特許出願公開第137452号明
細書、西ドイツ国特許出願公開第2718259号明細書およ
び同第2243621号明細書に記載れさている化合物であ
る。これらの化合物は、350〜400nm付近の近紫外領域内
で強く吸収する。また、比較的短かい共鳴現象捕獲電子
系を有する置換基、または脂肪族置換基を有するトリハ
ロメチルトリアジンのようにそれ自身複写光スペクトル
領域におけるどんな吸収もほとんど示さない共開始剤を
使用することも可能である。また、短波長の紫外線領域
内で吸収する異なる基本構造を有する化合物、例えばフ
ェニルトリブロモメチルスルホンのようなフェニルトリ
ハロメチルスルホンまたはフェニルトリハロメチルケト
ンを使用することも可能である。
これらの化合物は、一般に非揮発性成分に対して0.01
〜10重量％、好ましくは0.05〜６重量％の量で使用され
る。
〜10重量％、好ましくは0.05〜６重量％の量で使用され
る。
本発明による材料は、好ましくは他の開始剤成分とし
てアクリジン、フェナジンまたはキノキサリン化合物を
含有する。これらの化合物は、光開始剤としての使用が
知られておりかつ西ドイツ国特許第2027467号明細書お
よび同第2039861号明細書に記載されている。これらの
化合物は、殊に近紫外線領域内での混合物の感度を増大
させる。この成分の量は、同様に0.01〜10重量％の範囲
内、好ましくは0.05〜５重量％の間にある。
てアクリジン、フェナジンまたはキノキサリン化合物を
含有する。これらの化合物は、光開始剤としての使用が
知られておりかつ西ドイツ国特許第2027467号明細書お
よび同第2039861号明細書に記載されている。これらの
化合物は、殊に近紫外線領域内での混合物の感度を増大
させる。この成分の量は、同様に0.01〜10重量％の範囲
内、好ましくは0.05〜５重量％の間にある。
更に、スペクトルの可視光領域内で感度の増大が望ま
れる場合には、ジベンザールアセトンまたはクマリン型
の化合物を添加することによって感度の増大をもたらす
ことができる。この添加により、波長約600nmまでのス
ペクトルの可視光領域に対してより高度に分解されるコ
ピーおよび混合物の完全な増感が生じる。この化合物の
量は、同様に0.01〜10重量％、有利に0.05〜４重量％の
範囲内にある。
れる場合には、ジベンザールアセトンまたはクマリン型
の化合物を添加することによって感度の増大をもたらす
ことができる。この添加により、波長約600nmまでのス
ペクトルの可視光領域に対してより高度に分解されるコ
ピーおよび混合物の完全な増感が生じる。この化合物の
量は、同様に0.01〜10重量％、有利に0.05〜４重量％の
範囲内にある。
重合開始剤の全体量は、一般に0.05〜20重量％、有利
に0.1〜10重量％である。
に0.1〜10重量％である。
光重合可能な層は、意図した使用および望ましい性質
に依存して添加剤としての種々の物質を含有することが
できる。例は次のものである：単量体の熱重合を妨げる
抑制剤、水素供与体、染料、有色顔料および白色顔料、
色形成成分、指示薬、可塑剤および鎖転移剤。これらの
成分は、開始過程にとって重要な化学線をできるだけ少
なく吸収するように有利に選択される。
に依存して添加剤としての種々の物質を含有することが
できる。例は次のものである：単量体の熱重合を妨げる
抑制剤、水素供与体、染料、有色顔料および白色顔料、
色形成成分、指示薬、可塑剤および鎖転移剤。これらの
成分は、開始過程にとって重要な化学線をできるだけ少
なく吸収するように有利に選択される。
本発明の目的にとって化学線は、少くともそのエネル
ギーが可視光に等しい全ての放射線である。殊に、可視
光線および長波長の紫外線を使用することができるが、
短波長の紫外線、レーザー光、電子線およびＸ線も使用
することができる。感光度は、約300nm〜700nmの範囲内
にあり、それ故極めて広い範囲を覆う。
ギーが可視光に等しい全ての放射線である。殊に、可視
光線および長波長の紫外線を使用することができるが、
短波長の紫外線、レーザー光、電子線およびＸ線も使用
することができる。感光度は、約300nm〜700nmの範囲内
にあり、それ故極めて広い範囲を覆う。
本発明による材料の適当な使用は、凸版印刷、平板印
刷、凹版印刷およびスクリーン印刷、レリーフコピーの
印刷板の写真製版法による製造のための記録層、例えば
点字テキストの製造、個々のコピー、黄色画像、顔料画
像等である。この混合物は、またエッチレジスト、写真
製版法による製造、例えば名札または複写された回路の
製造および化学的ミリングのために使用することもでき
る。本発明による混合物は、特に平板印刷版の製造およ
びフォリジスト技術のための記録層として重要である。
刷、凹版印刷およびスクリーン印刷、レリーフコピーの
印刷板の写真製版法による製造のための記録層、例えば
点字テキストの製造、個々のコピー、黄色画像、顔料画
像等である。この混合物は、またエッチレジスト、写真
製版法による製造、例えば名札または複写された回路の
製造および化学的ミリングのために使用することもでき
る。本発明による混合物は、特に平板印刷版の製造およ
びフォリジスト技術のための記録層として重要である。
本発明による記録材料の適当な支持材料は、例えばア
ルミニウム、スチール、亜鉛および銅箔、プラスチック
フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートまたはセ
ルロースアセテートフィルム、ならびにパーロンガーゼ
（Perlon gauze）のようなスクリーン印刷材料である。
多くの場合〈層に正確にぴったりと付着させ、支持材料
表面のリソグラフィック特性を改善し、または複写層の
化学線領域における支持材料の反射を減少させる。（ハ
レーション防止）目的で、支持材料表面に前処理（化学
的なまたは機械的な）を受けさせることは有利である。
ルミニウム、スチール、亜鉛および銅箔、プラスチック
フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートまたはセ
ルロースアセテートフィルム、ならびにパーロンガーゼ
（Perlon gauze）のようなスクリーン印刷材料である。
多くの場合〈層に正確にぴったりと付着させ、支持材料
表面のリソグラフィック特性を改善し、または複写層の
化学線領域における支持材料の反射を減少させる。（ハ
レーション防止）目的で、支持材料表面に前処理（化学
的なまたは機械的な）を受けさせることは有利である。
感光材料は、常法で製造される。例えば、層成分を溶
剤に溶解し、この溶液または分散液を意図した支持材料
に、流し込み、吹き付け、浸漬、ロール塗布および類似
する方法により塗布し、さらに乾燥することは可能であ
る。
剤に溶解し、この溶液または分散液を意図した支持材料
に、流し込み、吹き付け、浸漬、ロール塗布および類似
する方法により塗布し、さらに乾燥することは可能であ
る。
本発明による記録材料が幅広いスペクトル感度を有す
るため、当業者にとって常用の全ての光源、例えば蛍光
管、キセノン灯、金属ハロゲン化物をドープした高圧水
銀灯および炭素アーク灯を使用することが可能である。
付加的に、本発明による感光混合物を普通の投映および
拡大装置中で金属フィラメント灯からの光を使用して
〈常用の白熱灯での接触露光により照射することは可能
である。また、照射はレーザーのコヒーレント光を用い
て行うことができる。本発明の目的に適当なのは、適度
な出力のレーザー、例えばアルゴンイオン、クリプトン
イオン、染料、ヘリウムカドミウムおよびヘリウムネオ
ンレーザーであり、これらのレーザーは、殊に250〜650
nmの範囲内で発光するものである。レーザー光線は、プ
ログラミングした線に応じて走査される。移動法により
調整させることができる。
るため、当業者にとって常用の全ての光源、例えば蛍光
管、キセノン灯、金属ハロゲン化物をドープした高圧水
銀灯および炭素アーク灯を使用することが可能である。
付加的に、本発明による感光混合物を普通の投映および
拡大装置中で金属フィラメント灯からの光を使用して
〈常用の白熱灯での接触露光により照射することは可能
である。また、照射はレーザーのコヒーレント光を用い
て行うことができる。本発明の目的に適当なのは、適度
な出力のレーザー、例えばアルゴンイオン、クリプトン
イオン、染料、ヘリウムカドミウムおよびヘリウムネオ
ンレーザーであり、これらのレーザーは、殊に250〜650
nmの範囲内で発光するものである。レーザー光線は、プ
ログラミングした線に応じて走査される。移動法により
調整させることができる。
更にこの材料は、常法で加工処理される。層中でより
良好な架橋を行うために、露光後に加熱することは可能
である。現像するため、この層は適当な現像液、例えば
有機溶剤で処理されるが、好ましくは、支持材料上の複
写層の露光された部分を残して、層の露光されなかった
部分を除去するのに役立つ弱アルカリ性水溶液で処理さ
れる。現像液は、少量の、好ましくは５重量％以下の水
混和性有機溶剤を含有することができる。さらに、現像
液は、潤滑剤、染料、塩および他の添加剤を含有するこ
とができる。現像の過程で全被覆層は、光重合可能な層
の露光されていない部分と一緒に除去される。
良好な架橋を行うために、露光後に加熱することは可能
である。現像するため、この層は適当な現像液、例えば
有機溶剤で処理されるが、好ましくは、支持材料上の複
写層の露光された部分を残して、層の露光されなかった
部分を除去するのに役立つ弱アルカリ性水溶液で処理さ
れる。現像液は、少量の、好ましくは５重量％以下の水
混和性有機溶剤を含有することができる。さらに、現像
液は、潤滑剤、染料、塩および他の添加剤を含有するこ
とができる。現像の過程で全被覆層は、光重合可能な層
の露光されていない部分と一緒に除去される。
以下、本発明を例証となる実施態様に関連して詳細に
記載する。重量部（p.b.w）対容量部（p.b.v.）は、ｇ
対cm3の関係にある。別記しない限り、百分率および混
合の割合は重量による。
記載する。重量部（p.b.w）対容量部（p.b.v.）は、ｇ
対cm3の関係にある。別記しない限り、百分率および混
合の割合は重量による。
［実施例］ 例１（比較例） 印刷板に使用された支持材料は、3g/m2の重量の酸化
物層を有しかつポリビニルホスホン酸水溶液で前処理さ
れた、電気化学的に粗面化されかつ陽極酸化されたアル
ミニウムであった。この支持材料を次の組成： 酸価190を有するスチレン、ｎ−ヘキシルメタクリレ
ートおよびメタクリル酸（10:60:30）の三元重合体のメ
チルエチルケトン中の22.3％濃度溶液2.84p.b.w、トリ
エタノールアミンと３モルのイソシアネートエチルメタ
クリレートとの反応生成物1.49p.b.w、アルコール可溶
性エオシン（C.I.45386）0.04p.b.w、 2,4−ビス−トリクロロメチル−６−（４−スチリル
フェニル）−フェニル）−ｓ−トリアジン0.03p.b.w、 ９−フェニルアクリジン0.049p.b.w、およびプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル22p.b.w中のカルボニ
ル化合物（第Ｉ表）0.1p.b.wの溶液で塗布した。
物層を有しかつポリビニルホスホン酸水溶液で前処理さ
れた、電気化学的に粗面化されかつ陽極酸化されたアル
ミニウムであった。この支持材料を次の組成： 酸価190を有するスチレン、ｎ−ヘキシルメタクリレ
ートおよびメタクリル酸（10:60:30）の三元重合体のメ
チルエチルケトン中の22.3％濃度溶液2.84p.b.w、トリ
エタノールアミンと３モルのイソシアネートエチルメタ
クリレートとの反応生成物1.49p.b.w、アルコール可溶
性エオシン（C.I.45386）0.04p.b.w、 2,4−ビス−トリクロロメチル−６−（４−スチリル
フェニル）−フェニル）−ｓ−トリアジン0.03p.b.w、 ９−フェニルアクリジン0.049p.b.w、およびプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル22p.b.w中のカルボニ
ル化合物（第Ｉ表）0.1p.b.wの溶液で塗布した。
2.0〜2.5g/m2の乾燥重量が得られるような方法で回転
塗布により塗布した。次に、この板を循環乾燥箱中で２
分間100℃で乾燥した。次にこの板をポリビニルアルコ
ール（12％のアセチル残基、ｋ値４）の染色されていな
い７％濃度の水溶液で塗布した。乾燥により、２〜2.5g
/m2の重量を有する被覆層が残った。得られた印刷板を
0.15ずつ濃度増加する13段階露光ウエッジのもと、110c
mの距離をもって5kwの金属ハロゲン化物灯に露光し、必
要に応じて、このウエッジ上には、付加的に全ての有効
スペクトルにわたって均一なブラッキング（濃度1.57）
および均一な吸収を行う銀フィルムが灰色フィルターと
して取付けられた。可視光における印刷板の感度を試験
するために、表に示された遮断透過率を有するスコット
社製の厚さ3mmの遮断フィルターを露光ウエッジ上に取
付けた。この板のスペクトル感度範囲を測定するため
に、露光を75cmの距離をもって置かれた500wの白熱球か
らの平行光を使用して、300〜700nmの干渉フィルターを
通して実施した。露光に続いて、板を１分間100℃に加
熱した。次に、現像を次の組成： メタケイ酸ナトリウムX9 H2O 120p.b.w、塩化ストロ
ンチウム 2.13p.b.w、非イオン性湿潤剤（約８個のエ
チレンオキシ単位を含有するココナッツ脂肪アルコール
ポリオキシエチレンエーテル）1.2p.b.w、および完全に
脱塩された水4000p.b.w中の消泡剤の現像液を使用して
実施した。
塗布により塗布した。次に、この板を循環乾燥箱中で２
分間100℃で乾燥した。次にこの板をポリビニルアルコ
ール（12％のアセチル残基、ｋ値４）の染色されていな
い７％濃度の水溶液で塗布した。乾燥により、２〜2.5g
/m2の重量を有する被覆層が残った。得られた印刷板を
0.15ずつ濃度増加する13段階露光ウエッジのもと、110c
mの距離をもって5kwの金属ハロゲン化物灯に露光し、必
要に応じて、このウエッジ上には、付加的に全ての有効
スペクトルにわたって均一なブラッキング（濃度1.57）
および均一な吸収を行う銀フィルムが灰色フィルターと
して取付けられた。可視光における印刷板の感度を試験
するために、表に示された遮断透過率を有するスコット
社製の厚さ3mmの遮断フィルターを露光ウエッジ上に取
付けた。この板のスペクトル感度範囲を測定するため
に、露光を75cmの距離をもって置かれた500wの白熱球か
らの平行光を使用して、300〜700nmの干渉フィルターを
通して実施した。露光に続いて、板を１分間100℃に加
熱した。次に、現像を次の組成： メタケイ酸ナトリウムX9 H2O 120p.b.w、塩化ストロ
ンチウム 2.13p.b.w、非イオン性湿潤剤（約８個のエ
チレンオキシ単位を含有するココナッツ脂肪アルコール
ポリオキシエチレンエーテル）1.2p.b.w、および完全に
脱塩された水4000p.b.w中の消泡剤の現像液を使用して
実施した。
下記したスペクトル領域において、現像された板は完
全に硬化したことが判明した。印刷版の分解能を試験用
オリジナル（FOGRA/PMSウエッジ）により測定し、かつ
複写物を読み取った。
全に硬化したことが判明した。印刷版の分解能を試験用
オリジナル（FOGRA/PMSウエッジ）により測定し、かつ
複写物を読み取った。
カルボニル化合物を用いない場合には、板は300〜430
nmおよび470〜600nmの領域で、それぞれ30秒後に硬化さ
れた。カルボニル化合物および染料を用いない場合に
は、硬化領域は300〜430nmであった。
nmおよび470〜600nmの領域で、それぞれ30秒後に硬化さ
れた。カルボニル化合物および染料を用いない場合に
は、硬化領域は300〜430nmであった。
カルボニル化合物なしの板に油性印刷インキを着肉し
た。下記の完全に架橋されたウエッジ段階が得られた。
た。下記の完全に架橋されたウエッジ段階が得られた。
例２ 例１の支持材料を2.0g/m2の層重量がそのつど得られ
るように次の成分： 例１で明記された三元重合体溶液2.840p.b.w、 例１で明記された重合可能な化合物1.490p.b.w、 染料（第II表）0.040p.b.w、 例１のＳ−トリアジン0.030p.b.w、および プロピレングリコールモノメチルエーテル22.000p.b.
w中の９−フェニルアクリジン0.049p.b.wの溶液で塗布
した。
るように次の成分： 例１で明記された三元重合体溶液2.840p.b.w、 例１で明記された重合可能な化合物1.490p.b.w、 染料（第II表）0.040p.b.w、 例１のＳ−トリアジン0.030p.b.w、および プロピレングリコールモノメチルエーテル22.000p.b.
w中の９−フェニルアクリジン0.049p.b.wの溶液で塗布
した。
試験１〜4,6,8および10の板に例１の場合と同様にポ
リビニルアルコールの被膜を備えさせた。試験5,7およ
び９の板に0.25％のアストラゾンブルー3RL（C.I.ベイ
シックブルー47）を付加的に含有させた溶液からの同じ
厚さの被覆層を塗布した。
リビニルアルコールの被膜を備えさせた。試験5,7およ
び９の板に0.25％のアストラゾンブルー3RL（C.I.ベイ
シックブルー47）を付加的に含有させた溶液からの同じ
厚さの被覆層を塗布した。
スペクトル感度を例１と同様に露光および現像により
測定した。結果は下記の第II表および第III表に記載さ
れている。
測定した。結果は下記の第II表および第III表に記載さ
れている。
例３ 例１のようにカルボニル化合物として４−ジメチルア
ミノ−４′−メトキシジベンザールアセトンを使用して
製造された板に、回転塗布により、染色されていないポ
リビニールアルコール被覆層の代わりに次の組成： ７％濃度のポリビニールアルコール水溶液（12％のア
セチル残基、Ｋ値４）100p.b.wおよび染料（第IV表）0.
1p.b.w、の被覆層を備えさせた。
ミノ−４′−メトキシジベンザールアセトンを使用して
製造された板に、回転塗布により、染色されていないポ
リビニールアルコール被覆層の代わりに次の組成： ７％濃度のポリビニールアルコール水溶液（12％のア
セチル残基、Ｋ値４）100p.b.wおよび染料（第IV表）0.
1p.b.w、の被覆層を備えさせた。
被覆層の乾燥後の重量は２〜2.5g/m2となった。塗布
された板を75cmの距離をもって置かれた500Wの白熱電球
からの平行光で、300〜700nmの干渉フィルターを通して
露光し、その後に循環乾燥箱中で１分間焼付けた。現像
は、例１で記載されたように行われ、その後、下記の第
IV表に明記されたスペクトル領域において完全な硬化が
示された。
された板を75cmの距離をもって置かれた500Wの白熱電球
からの平行光で、300〜700nmの干渉フィルターを通して
露光し、その後に循環乾燥箱中で１分間焼付けた。現像
は、例１で記載されたように行われ、その後、下記の第
IV表に明記されたスペクトル領域において完全な硬化が
示された。
例４ 例１で明記された条件のもと、例１の支持材料に乾燥
層の重量が2.0g/m2になるように次の組成： 例１の三元重合体溶液 1.4p.b.w、 １モルのトリエタノールアミンと３モルのイソシアネ
ートエチルメタクリレートとの反応生成物 1.4p.b.w、 結晶性バイオレット塩基 0.001p.b.w、 ロイコ結晶性バイオレット 0.04p.b.w、 ９−フェニルアクリジン 0.04p.b.w、 2,4−ビス−トリクロロメチル−６−（４−スチリル
−フェニル）−Ｓ−トリアジン 0.03p.b.w、およびプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル35.00p.b.w、中
のジベンザールアセトン0.04p.b.wの溶液を回転塗布し
た。
層の重量が2.0g/m2になるように次の組成： 例１の三元重合体溶液 1.4p.b.w、 １モルのトリエタノールアミンと３モルのイソシアネ
ートエチルメタクリレートとの反応生成物 1.4p.b.w、 結晶性バイオレット塩基 0.001p.b.w、 ロイコ結晶性バイオレット 0.04p.b.w、 ９−フェニルアクリジン 0.04p.b.w、 2,4−ビス−トリクロロメチル−６−（４−スチリル
−フェニル）−Ｓ−トリアジン 0.03p.b.w、およびプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル35.00p.b.w、中
のジベンザールアセトン0.04p.b.wの溶液を回転塗布し
た。
この板に例３で記載されたようにアストラゾンイエロ
ーブラウン3GL、アストラゾンブルー3RLおよびビクトリ
アブルーFBをそれぞれ染料として使用して製造されたポ
リビニールアルコール被覆層を備えさせた。被覆層は2g
/m2の乾燥重量を有した。これらの印刷版を全ての場合
において灰色フィルターを使用して例１の場合のように
露光した。
ーブラウン3GL、アストラゾンブルー3RLおよびビクトリ
アブルーFBをそれぞれ染料として使用して製造されたポ
リビニールアルコール被覆層を備えさせた。被覆層は2g
/m2の乾燥重量を有した。これらの印刷版を全ての場合
において灰色フィルターを使用して例１の場合のように
露光した。
画像分解能に関連して被覆層に添加された染料の効果
をオリジナルとしてのFOGRAPMS試験用ウエッジを使用し
て測定し、複写物上に読み取った。
をオリジナルとしてのFOGRAPMS試験用ウエッジを使用し
て測定し、複写物上に読み取った。
印刷試験では、200000枚の良好な印刷が得られた。
例５ 印刷板を例１のように４−ジメチルアミノ−４′−メ
トキシジベンザールアセトンを使用して製造したが、染
色されていないポリビニールアルコール被覆層の代わり
に、次の組成： ７％濃度のポリビニールアルコール水溶液（12％のア
セチル残基、Ｋ値４）100p.b.w、アストラゾンブルー3R
L0.1p.b.w、およびマキシロンイエロー2RL0.1p.b.wの被
覆層を回転塗布により塗布した。
トキシジベンザールアセトンを使用して製造したが、染
色されていないポリビニールアルコール被覆層の代わり
に、次の組成： ７％濃度のポリビニールアルコール水溶液（12％のア
セチル残基、Ｋ値４）100p.b.w、アストラゾンブルー3R
L0.1p.b.w、およびマキシロンイエロー2RL0.1p.b.wの被
覆層を回転塗布により塗布した。
乾燥重量は２〜2.5g/m2であった。例１で記載された
ように、板を干渉フィルターを通して、60秒間露光し、
かつ現像した。300〜400nmのスペクトル領域において完
全な硬化が達成された。複写物の分解能は10μｍであ
り、FOGRA PMSウエッジにより測定された。
ように、板を干渉フィルターを通して、60秒間露光し、
かつ現像した。300〜400nmのスペクトル領域において完
全な硬化が達成された。複写物の分解能は10μｍであ
り、FOGRA PMSウエッジにより測定された。
例６ 例１におけるのと同様な条件下で、例１の支持材料を
乾燥した層重量が2.0g/m2であるように次の組成： 例Ｉの三元重合体溶液 1.4p.b.w、 １モルの２−ピペリジノエタノールと２モルのイソシ
アネートエチルメタクリレートの反応生成物 1.4p.b.
w、 アルコール可溶性エオシン（C.I.45386）0.04p.b.w、 2,4−ビス−トリクロロメチル−６−（４−スチリル
−フェニル）−Ｓ−トリアジン0.03p.b.w、 ９−フェニルアクリジン0.049p.b.w、 およびプロピレングリコールモノメチルエーテル22.0
p.b.wの溶液で回転塗布した。
乾燥した層重量が2.0g/m2であるように次の組成： 例Ｉの三元重合体溶液 1.4p.b.w、 １モルの２−ピペリジノエタノールと２モルのイソシ
アネートエチルメタクリレートの反応生成物 1.4p.b.
w、 アルコール可溶性エオシン（C.I.45386）0.04p.b.w、 2,4−ビス−トリクロロメチル−６−（４−スチリル
−フェニル）−Ｓ−トリアジン0.03p.b.w、 ９−フェニルアクリジン0.049p.b.w、 およびプロピレングリコールモノメチルエーテル22.0
p.b.wの溶液で回転塗布した。
この印刷板を２つに切断した。片半分（板Ａ）を７％
濃度のポリビニールアルコール（12％のアセチル残基、
Ｋ値８）水溶液からなる被覆層で回転塗布した。別の片
半分（板Ｂ）に次の組成： ７％の濃度ポリビニールアルコール（12％のアセチル
残基、Ｋ値８）水溶液100p.b.w、および アストラゾールブルー3RL0.07p.b.w、の染色された被
覆層を備えさせた。
濃度のポリビニールアルコール（12％のアセチル残基、
Ｋ値８）水溶液からなる被覆層で回転塗布した。別の片
半分（板Ｂ）に次の組成： ７％の濃度ポリビニールアルコール（12％のアセチル
残基、Ｋ値８）水溶液100p.b.w、および アストラゾールブルー3RL0.07p.b.w、の染色された被
覆層を備えさせた。
それぞれの被覆層は2g/m2の乾燥重量を有した。得ら
れた印刷板を例４の場合と同様に露光した。この材料の
分解能に関連して染料の有効性を試験用オリジナルとし
てFOGRA PMSウエッジを使用して測定し、かつ複写物上
を読み取った。印刷板の感度を試験するために、遮断フ
ィルターを露光ウエッジ上に取付けた。露光された板を
通し循環乾燥箱中で100℃で１分間加熱し、次に例１に
従って現像した。
れた印刷板を例４の場合と同様に露光した。この材料の
分解能に関連して染料の有効性を試験用オリジナルとし
てFOGRA PMSウエッジを使用して測定し、かつ複写物上
を読み取った。印刷板の感度を試験するために、遮断フ
ィルターを露光ウエッジ上に取付けた。露光された板を
通し循環乾燥箱中で100℃で１分間加熱し、次に例１に
従って現像した。
455nmよりも高い波長では、板Ｂはもはや感度を有し
なかった。
なかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヴエルナー・フラス ドイツ連邦共和国ヴイースバーデン‐ナ ウロート・エルプゼンアツカー 37 (56)参考文献 特開 昭61−117549（ＪＰ，Ａ) 特開 昭47−16124（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/11,7/00,7/004 G03F 7/027
Claims (12)
- 【請求項１】層支持体と、 本質的成分として高分子量結合剤、少なくとも１つの末
端エチレン性不飽和基および光還元可能な染料の存在下
に露光によって光酸化しうる少なくとも１つの基を有す
るフリーラジカル反応によって重合しうる化合物および
重合開始剤として化学線によって活性化しうる光還元可
能な染料を含有する光重合可能な層と、 空気酸素に対して低い透過性を有しかつ水または水／ア
ルコール混合物中で可溶性である重合体および20℃で水
中で可溶性であり、300〜700nmの範囲内の光を吸収し、
かつこの範囲内で望ましい複写光源の放出範囲に相応す
る非吸収領域を有する染料または幾つかの染料の適当な
混合物を含有する被覆層とから構成されている光重合可
能な記録材料。 - 【請求項２】染料がジ−もしくはトリアリールカルベニ
ウム染料、アゾ染料、アザ（18）アヌレン染料、ニトロ
染料、ニトロソ染料、ポリメチン染料、カルボニル染料
またはサルファ染料である、請求項１記載の記録材料。 - 【請求項３】被覆層が0.2g/m2〜10g/m2の間の単位面積
あたりの重量を有する、請求項１記載の記録材料。 - 【請求項４】染料0.05〜50重量％が被覆層中に含有され
ている、請求項１記載の記録材料。 - 【請求項５】染料の吸収領域内で被覆層が0.5〜2.5の光
学的密度を有する、請求項１記載の記録材料。 - 【請求項６】複写光源の放出範囲が350〜400nm、400〜4
50nmまたは488〜514nmである、請求項１記載の記録材
料。 - 【請求項７】フリーラジカル重合可能な化合物が多価ア
ルコールのアクリル酸エステルまたはアルキルアクリル
酸エステルである、請求項１記載の記録材料。 - 【請求項８】フリーラジカル重合可能な化合物が光還元
可能な染料の存在下に露光によって光酸化しうる少なく
とも１つの基を有する多価アルコールのアクリル酸エス
テルまたはアルキルアクリル酸エステルである、請求項
１記載の記録材料。 - 【請求項９】さらに光開始剤としての光分解により開裂
可能なトリハロメチル化合物および光開始剤として作用
するアクリジン、フェナジンもしくはキノキサリン化合
物を含有する、請求項７記載の記録材料。 - 【請求項１０】結合剤が水不溶性でありかつアルカリ水
溶液中で可溶性である、請求項１記載の記録材料。 - 【請求項１１】光重合可能な層が0.5〜20g/m2の単位面
積当たりの重量を有する、請求項１記載の記録材料。 - 【請求項１２】層支持体が平版印刷に適した親水性表面
を有する、請求項１記載の記録材料。
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|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| DE19739299A1 (de) * | 1997-09-08 | 1999-03-11 | Agfa Gevaert Ag | Weißlicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck |
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| DE10022786B4 (de) | 1999-05-12 | 2008-04-10 | Kodak Graphic Communications Gmbh | Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte |
| EP1156369A4 (en) * | 1999-12-09 | 2006-12-06 | Toray Industries | MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING A PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE |
| US6706462B2 (en) * | 2000-04-18 | 2004-03-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive image-recording material |
| JP3912663B2 (ja) * | 2002-02-26 | 2007-05-09 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルター用画素の形成方法、液晶表示装置用カラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起の形成方法、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起 |
| EP1507171A3 (en) * | 2003-08-15 | 2008-03-05 | FUJIFILM Corporation | Light-Sensitive sheet comprising support, first and second light-sensitive layers and barrier layer |
| AU2003260206A1 (en) * | 2003-09-24 | 2005-04-11 | Ibf Industria Brasileira De Filmes Ltda. | Light sensitive coating compositions useful for lithographic elements |
| JP4701042B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2011-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
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| JP5189448B2 (ja) * | 2008-09-26 | 2013-04-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
| EP2194429A1 (en) | 2008-12-02 | 2010-06-09 | Eastman Kodak Company | Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates |
| EP2196851A1 (en) | 2008-12-12 | 2010-06-16 | Eastman Kodak Company | Negative working lithographic printing plate precursors comprising a reactive binder containing aliphatic bi- or polycyclic moieties |
| WO2010086850A2 (en) | 2009-01-29 | 2010-08-05 | Digiflex Ltd. | Process for producing a photomask on a photopolymeric surface |
| US8034538B2 (en) | 2009-02-13 | 2011-10-11 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
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| US8257907B2 (en) | 2009-06-12 | 2012-09-04 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
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| EP2293144B1 (en) | 2009-09-04 | 2012-11-07 | Eastman Kodak Company | Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing |
| EP2735903B1 (en) | 2012-11-22 | 2019-02-27 | Eastman Kodak Company | Negative working lithographic printing plate precursors comprising a hyperbranched binder material |
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| KR102209143B1 (ko) | 2019-07-31 | 2021-01-29 | 주식회사 성현 | 발전설비용 회전형 열교환기의 공기 누출을 방지하는 익스펜션 슬리브 씰 제조 방법 |
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|---|---|---|---|---|
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| CA993709A (en) * | 1971-01-21 | 1976-07-27 | Leo Roos | Composite, mask-forming photohardenable elements |
| DE2123702B2 (de) * | 1971-05-13 | 1979-11-08 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes |
| US4126466A (en) * | 1974-07-22 | 1978-11-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Composite, mask-forming, photohardenable elements |
| US4173673A (en) * | 1975-11-17 | 1979-11-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dot-etchable masks from photopolymerizable elements |
| DE2658422C2 (de) * | 1976-12-23 | 1986-05-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms |
| DE2943632A1 (de) * | 1979-10-29 | 1981-05-07 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Diazoverbindungen enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung desselben |
| CA1143207A (en) * | 1980-06-10 | 1983-03-22 | Vladimir N. Kuznetsov | Dry film photoresist including an intermediate uv transparent, polymeric layer and a photopolymerizable layer |
| JPS59226346A (ja) * | 1983-06-07 | 1984-12-19 | Fuotopori Ouka Kk | プリント回路の製造方法 |
| JPH0760268B2 (ja) * | 1984-11-13 | 1995-06-28 | 三菱化学株式会社 | 感光性平版印刷版 |
| EP0217792B1 (en) * | 1985-04-16 | 1989-09-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Exposure latitude improvements in printing proofs |
| US4672021A (en) * | 1985-06-03 | 1987-06-09 | Fairmount Chemical Company | Contrast enhancement layer composition with naphthoquinone diazide, indicator dye and polymeric binder |
| DE3710281A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
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-
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- 1989-08-02 EP EP89114344A patent/EP0354475B1/de not_active Expired - Lifetime
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-
1997
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