JPH0289055A - 光重合可能な記録材料 - Google Patents

光重合可能な記録材料

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JPH0289055A
JPH0289055A JP1205847A JP20584789A JPH0289055A JP H0289055 A JPH0289055 A JP H0289055A JP 1205847 A JP1205847 A JP 1205847A JP 20584789 A JP20584789 A JP 20584789A JP H0289055 A JPH0289055 A JP H0289055A
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デイーター・モール
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、層支持体、光重合可能な層および空気酸素に
対して低い透過性を有する被覆層から構成された光重合
可能な記録材料に関する。
この材料は、特に印刷版、殊に平板印刷版の製造に適当
である。
[従来の技術] 記載された型の印刷版は、例えば米国特許第34583
11号明細書の記載から公知であるこの米国特許明細書
中で記載された被覆層は、水溶性重合体、例えばポリビ
ニルアルコールポリビニルビロリドン、ゼラチンまたは
アラビアゴムから成る。これらの物質中、酸素に対する
遮断効果が著しく高いという観点からポリビニルアルコ
ールが好ましい。
ジアゾニウム化合物を基礎とするネガ型平板印刷版に比
較して、現在製造されている光重合可能な材料を基礎と
する平゛板印刷版の多くは、明らかに減少された画像分
解能を生じる。この分解能の損失は、一部には、画像領
域の光誘導重合の後に層中で暗反応が増大することによ
るものと推測される。支持体表面により反射された数置
光もまたその原因の一つであると思われる。従って、分
解能は、支持体表面と光重合可能な層との間にハレーシ
ョン防止層を備えさせることにより改善することができ
るかまたは光重合可能な層目体に染料または紫外線吸収
剤を加えることにより改善することができる。この目的
のため、層が感受性である波長領域内で吸収する染料ま
たは顔料が通常側われる。この型の材料は、例えば米国
特許第2791504号明細書、同第4173673号
明細書、西ドイツ国特許出願公開第2202360号明
細書、および西ドイツ国特許出願公開第2658422
号明細書に記載されている。これらの中に記載されてい
る染料は、殊に支持体表面での反射によって起こる散乱
光の割合を減少させる。感光層自体に染料を添加した結
果として分解能が改善されることは、殊に350〜45
0nmの波長領域内で吸収する染料を使用することによ
り可能であ、る。しかしながら、分解能が改善されるこ
とにより、常に著しく減少された感光度が生じる。
米国特許第3218167号明細書には、引き剥し方法
により転写画像を得るだめの光重合可能な材料が開示さ
れている。この方法は顕著な画像コントラストを必要と
するので、光重合可能な層は染料の添加により濃く染色
されなければならない。感光度の重大な減少を阻止する
ため、染料は光重合層の化学線領域内でできるだけ少な
い吸収を行なわなければならない。しかし、使用される
染料の大部分がなお比較的大量の光を光開始剤の活性化
範囲内で吸収してしまうので、感光性は、一般に著しく
減少される。染料添加剤の他の効果は何も記載されてい
ない。
また、重合抑制剤を添加することにより暗反応を抑制し
、こうして分解能を改良することも公知である。これら
の抑制剤が有効である場合、多くの場合には、抑制剤は
感光度を減少させるという欠点を有する。さらに、これ
らの抑制剤の多くはある貯蔵期間の後層の変色という望
ましくない結果を示す。非常に多くの公知の抑制剤は、
光重合の開始にとって重要な300〜700nmの波長
範囲内で吸収し、したがって画像に応じての重合を阻害
または抑制する。
国際特許出願公表第86/7473号明細書の記載から
、化学線範囲内の光に暴露することにより漂白されるコ
ントラストを強める被覆層を有するナラトキノンジアジ
ドを基礎とするポジ型フォトレジスト材料を得ることは
、公知である。この高度に分解する材料の分解能は、画
像のコントラストを増すことにより、さらに改善される
国際特許出願公表第86/6182号明細書には、中間
色調の増加を阻止しかつ露光寛容度を広げるため、光学
的フィルター層を色校正フィルムのポジ型感光層と色分
離個所との間に備えさせる色校正方法が記載されている
。フィルター層は、感光層の最大吸収領域内の光を吸収
しなければならない。
西ドイツ国特許第2123702号明細書には、酸素に
対して低い透過性の化合物を含有するレリース層が引き
剥し可能の一時的な支持フィルムと光重合可能な層との
間にある光重合可能なドライレジスト材料が記載されて
いる。このレリース層は少量の染料で染色できるが、こ
のことは何ら特別な影響を及ぼさない。
〔発明が達成しようとする課題〕
本発明の目的は、光重合可能な層、殊に平板印刷版の製
造のための材料の光重合可能な層の分解能を、感光度の
同時に起こる実質的な減少なしに改善することであった
。改善された分解能は特に、光還元可能な染料と、光開
始剤としての相乗効果を有する場合による他の化合物と
の組合せ物で光酸化可能な基を有する重合可能な化合物
を基礎とした高度に感光性の層の場合に達成されるはず
であり、それによってこの開始剤組合せ物の効果は、支
承ある層温加削によって損なわれないはずである。
[課題を達成するための手段J 本発明によれば、層支持体、光重合可能な層および空気
酸素に対して低い透過性を有しかつ水または水/アルコ
ール混合物に可溶の重合体を含有する被覆層から成る光
重合可能な記録材料が得られる。
本発明による材料は、被覆層がさらに一つの染料または
いくつかの染料の適当な混合物を含有し、それが20℃
で水に溶解し、300〜700nmの範囲内の光を吸収
し、かつこの範囲内で、意図された複写光源の放出範囲
に相応する非吸収領域を有することを特徴とする。
本発明の範囲内で、“染料″という用語は、上述したス
ペクトル範囲内で強い光吸収を示す任意の化合物を意味
するものとして定義され、すなわちそれは紫外線領域内
で吸収しかつ可視スペクトル領域内で僅かにのみ染色さ
れるか、または全く染色されない化合物をも含む。
それ故、とりわけ、適当な染料は、紫外線吸収体、感光
性化合物、例えばジアゾニウム塩およびl、2−キノン
−ジアジド、ジ−またはトリアリールカルベニウム染料
、アゾ染料、アザ(18)アニュレン染料、ニトロ染料
、ニトロソ染料、ポリメチン染料、カルボニル染料また
は硫黄染料を包含する。
これらの染料の中で、カルボニル染料、特にアントラキ
ノン染料、アゾ染料、トリアリールカルベニウム染料、
特にトリフェニールメタン染料、アザ(18)アニュレ
ン染料、例えば水溶性ポルフィリンまたは7タロシアニ
ン染料およびポリメチン染料は好ましい。
適当な染料の例は、次のものを包含する:2.2′−ジ
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、4−ドデシ
ルオキシ−2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、2.4−
ジヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシフェニルベン
ゾトリアゾール、レソルシノールモノベンゾエートオイ
ルオレンジ(C,1,12055)、スーダンオレンジ
RA (c、t、l 2055) 、カブラシルオレン
ジ(C,1,60) 、スーダンイエロー(C,1,3
0) 、シリウスライトイエローRエクストラ(c、 
1.29025) 、レマゾールブリリアントオレンジ
RR(C,1,17756)、レマゾールブリリアント
オレンジ3R(C,1,17757) 、レマゾールゴ
ールドイエローc(c、+、18852)、レマゾール
イエローRTL (リアクティブイエロー24)、ファ
ストライトイエロー3G(C,J、19120)、アス
トラゾンイエロー3G (c、 r、 48055)、
アストラゾンイエロー5G (C,1,48065)ま
たはペイシックイエロー52115 (C,1,480
60)、アストラゾンオレンジ3R(ペイシックイエロ
ー22)、アストラゾンイエロー7GLL、アストラゾ
ンイエローGRL1アストラゾンイエローブラウン3G
L(ペイシックオレンジ30012)、アストラゾンブ
ル−3RL (ペイシックブルー47)、ペイシックブ
ルー3RL1メチレンブルー イルガセットブルー2G
LN、ブロモフェノールブルー(CAS−62625−
28−9) 、セルバブル−G1コルポリンイエローH
G、ノボフィルイエローGR(1:’クメントイエロー
13)、オラソールイエロー レマゾールイエローター
トラジン、ザポンファストイエローCGG1ファティー
イエロー マキシロンブリアントイエロー レマゾール
イエロー、アストラゾンレッドバイオレット3RN1ア
ストラゾンバイオレットFRL、アストラゾングリーン
M1ブリリアントグリーン(42040)、メチルオレ
ンジ、メチルレッド、デュアミン酸ブルーR1ビクトリ
アブルーFB(44045)、オラソールレッFB1 
レマゾールイエローオレンジ、オラソールオレンジRW
−A1アシッドグリーン、マキシロンレッドGRL、マ
キシロンレッドBt−N、ヌビロンオレンジR(アシッ
ドオレンジ7)およびアストライエローR0特に適当な
のは、アストラゾンオレンジR(C,1゜48040)
、アストラゾンイエローブラウン3GL、ブロモフェノ
ールブルー メチレンブルー マキシロンブルーGRL
およびアストラゾンプル−3RLである。更に、西ドイ
ツ特許出願公開第1058836号明細書に記載のオキ
サジアゾール誘導体、6−フェニル−2−ピロン(西ド
イツ国特許出願公開第1668358号明細書)、4.
4’−ジベンザールアセトン、例えば4−ジエチルアミ
ノ−4′−メトキシージベンザルアセトン、およびクマ
リン誘導体、例えば3−アセチル−7−ジニチルアミノ
クマリンは好適である。
”l::、280〜450nmのスペクトル範囲内で感
受性を有するジアゾニウム塩またはキノンジアジドのよ
うな感光性化合物は、染料として適当である。これらの
黄色成分を被覆層中に配合することにより、ネガ型層の
分解能は、同様に大きく増大させることができる。
光学フィルター層を用いることにより、選択された染料
およびその吸収性に依存する“光学窓”は、300〜7
00nmのスペクトル範囲内で感受性であるパンクロ的
に感度ををする光重合体層により製造させることができ
る。この方法で例え・ば、次の応用分野: a)投映露光(400〜450 nm)b)レーザー露
光(488および514nm;アルゴンイオンレーザ−
) C)紫外露光(〜400nmまで) に対する印刷版は、単一の高感度光重合体層を基礎とし
て製造できる。
本発明による材料の場合、染料は、被覆層中に存在し、
フィルター層および酸素遮断の双方として働き、望まし
い性質を達成するのに効果的である。被覆層中の染料濃
度は、とりわけ感光記録材料の意図する適用(例えば投
映露光にとってのオフセット印刷版として、レーザー照
射により画像を形成することができる印刷版として、感
紫外線印刷版として、またはフォト・レジストとして)
、被覆層の厚さ、光重合可能な層の組成、感光性の型お
よび使用された光源の型および強さに依存しており、そ
れゆえ広い範囲内で変動できる。
一般に、被覆層中に含有されている染料の量は、0.0
1〜70重量%、好ましくは0,5〜54重量%、より
好ましくは0.5〜25重量%である。この量は染料の
吸収領域内で被覆層が0.5〜2.5の光学濃度を有す
るように選択されるべきである。
空気酸素に対して殆ど透過性でない重合体は、米国特許
第458311号明細書中で指摘さている重合体の1つ
であることができる。例は、殊にポリビニルアルコール
および特に加水分解されたポリビニルアセテートであり
、それは、重合体が20°Cで水またはアルコール含量
が50%以内、好ましくは30%以内であるエタノール
のような低級アルコールと水の混合物に可溶のままであ
る限り、ビニルエーテルおよびビニルアセタール単位を
含有してもよい。またゼラチン、アラビアゴム、アルキ
ルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体、ポリ
ビニルピロリドン、ポリカルボン酸、酸化エチレンの水
溶性高分子量重合体(M −100000〜30000
00)、ポリビニルアルコール上での酸化エチレンの水
溶性グラフト重合体、炭化水素およびヒドロキンエチル
セルロースも使用可能である。
好ましいのは、20°Cで層中での酸素透過率が30 
crtr”/ ra2/ d/バール殊に25 crm
”/ ra2/ ct/バール未満である重合体である
被覆層は、化学線を透過し、一般に0.5〜10 p 
m s好ましくは1〜4μmの厚さを有する。この被覆
層は、水溶液または水と有機溶剤との混合物から常法で
光重合可能な層の表面に塗布される。塗布液は、より良
好な湿潤性のために、界面活性剤をその固体含量に対し
て10重量%まで、好ましくは5重量%まで含有するこ
とができる。使用可能な界面活性剤は、陰イオン、陽イ
オンおよび非イオン性界面活性剤、例えばドデシル硫酸
ナトリウムのような12〜18個の炭素原子を有するア
ルキル硫酸ナトリウムおよびアルキルスルホン酸ナトリ
ウム、N−セチルベタイン、C−セチルベタイン、アル
キルアミノカルボキシレート、アルキルアミノジカルボ
キシレート 子量を有するポリエチレングリコールを包含する。
本発明による記録材料の光重合可能な層は、本質的成分
として、高分子量結合剤、少なくとも1個、好ましくは
2個のエチレン系不飽和末端基を有する遊離基重合可能
な化合物、および化学線により活性化させることのでき
る重合化開始剤または開始剤組合せ物を含有する。
本発明の目的に適当な重合可能な化合物は、公知であり
、例えば、米国特許第2760863号明細書および同
第3060023号明細書に記載されている。
好ましい例は、エチレングリコールジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロー
ルエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリト
ールおよびジペンタエリトリトールのアクリレートおよ
びメタクリレート、ならびに多価脂環式アルコールのア
クリレートおよびメタクリレートのような二価または多
価アルコールのアクリル酸エステルおよびメタクリル酸
エステルまたはN置換されたアクリルアミドおよびメタ
クリルアミドであるまた、モノイソシアネートまたはジ
イソシアネートと、多価アルコールの部分エステルとの
反応生成物を使用することも有利である。このような単
量体は、西ドイツ国特許出願公開第2064079号明
細書、同第2361041号明細書および同第2822
190号明細書に記載されている。
特に好ましいのは、分子中に少なくとも1個の光酸化可
能な基を単独で有するかまたは1個もしくはそれ以上の
ウレタン基を一緒に有するか重合可能な化合物である。
適当な光酸化可能な基は、殊に複素環の成分であっても
よいアミノ基、尿素基、チオ基およびエノール基である
。このような基の例は、トリエタノールアミノ、トリフ
ェニルアミノ、チオ尿素、イミダゾール、オキサゾール
、チアゾール、アセチルアセトニル、N−フェニルグリ
シンおよびアスコルビン酸基である。重合可能な化合物
は、第一.第二および殊に第三アミノ基を有するものが
好ましい。
光酸化可能な基を有する化合物の例は、式■:R1 Rはアルキル、ヒドロキシアルキルまたはアリル基であ
り、 R1およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル基または
アルコキシアルキル基で あり、 R3は水素原子またはメチルもしくはエチル基であり、 xlは2〜12個の炭素原子の飽和炭化水素基であり、 x2は5個までのメチレン基が酸素原子により置換され
ていてもよい(C+1)価の飽和炭化水素基であり、 DIおよびD2はそれぞれ1〜5個の炭素原子の飽和炭
化水素であり、 Eは2〜12個の炭素原子の飽和炭化水素基、環員とし
て2個までのN、OまたはS原子を含有できる5〜7個
の環員の脂環式基、6〜12個の炭素原子のアリーレン
基または5〜6個の環員の複素環式芳香族基であり、 aはOまたは1〜4の整数であり、 bは0またはlであり、 Cは1〜3の整数であり、 mはQの原子価に依存して2.3または4であり、かつ
、 nはl−mの整数である]で示されるアクリル酸エステ
ルおよびアルキルアクリル酸エステルであり、この場合
同じ定義の全ての符合は、同一でも異なっていてもよい
この式の化合物、ならびにこの化合物の製造および使用
は、先行の西ドイツ国特許出願第P3710279.6
号明細書に詳細に記載されている。
一般式Iの化合物において、1個より多いラジカルRま
たは括弧内に表示した型の1個より多いラジカルが中心
の基Qに結合している場合には、これらのラジカルは互
いに異なることができる。
Qのすべての置換基が重合可能なラジカルである、すな
わちmがnである化合物は、一般に好ましい。
一般に、1個以下のラジカルの場合、aはOであり、好
ましくはaはlである。
アルキルまたはヒドロキシアルキル基Rは、一般に2〜
8個、好ましくは2〜4個の炭素原子を有する。アリー
ル基Rは通常単核または二核であってよく、好ましくは
単核であり、5個までの炭素原子のアルキルまたはアル
コキシ基またはハロゲン原子により置換されていてもよ
い。
アルキルおよびアルコキシアルキル基R1およびR2は
1〜5個の炭素原子を有することができる。
R3は、好ましくは水素原子またはメチル基、殊にメチ
ル基である。
Xlは、好ましくは炭素原子数4〜10の直鎖または分
枝鎖状脂肪族または脂環式ラジカルである。
x2は好ましくは2〜15個の炭素原子を有し、そのう
ち5個までが酸素原子によって代えられていてよい。純
粋に炭素鎖だけの場合には一般に2〜12個、好ましく
は2〜6個の炭素原子を有するものが使用される。X2
は5〜lO個の炭素原子の脂環式基でもよく、殊にシク
ロヘキサン基でよい。
DIおよびD2は同一のものでも異なるものでもよく、
2個のチッ素原子と一緒になって5〜lO個、好ましく
は6個の環員の飽和複素環を形成する。
アルキレン基Eは、好ましくは2〜6個の炭素原子を有
し、アリーレン基Eは好ましくはフェニレン基である。
好ましい脂環式基はシクロヘキサン基であり、好ましい
芳香族複素環式化金物はへテロ原子としてNまたはSを
有しかつ5または6個の環員を有するものである。
Cの値は、好ましくはlである。
全てのラジカル中に2個のウレタン基を有する式Iの重
合可能な化合物(b−1)は、遊離ヒドロキシル基を有
するアクリル酸またはアルキルアクリル酸エステルを常
法で等モル量のジイソシアネートを反応させ、かつ過剰
のインシアネート基をそれぞれ個々のヒドロキシアルキ
ル基がアルキルまたはアリール基Rによって代えられて
いてよいヒドロキシアルキルアミン、N、N−ビスヒド
ロキシアルキルピペラジンまたはN、N、N’、N’−
テトラヒドロキシアルキルアルキレンジアミンと反応さ
せることによって得られる。aが0である場合、結果は
原素基である。ヒドロキシアルキルアミン出発物質の例
は、トリエタノールアミン、N−アルキルN、N−ジ(
ヒドロキシアルキル)アミン、ジェタノールアミン、ト
リス(2−ヒドロキシプロピル)アミンおよびトリス(
2−ヒドロキシブチル)アミンである。
ジイソシアネートの出発物質の例は、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、2.2.4−)リメチルへキサメチレ
ンジイソシアネート%114−シクロヘキシレンジイソ
シアネートおよび1.1.3−トリメチル−3−インシ
アネートメチル−5−インシアネートシクロヘキサンで
ある。
使用されたヒドロキシル含有エステルは、殊にとドロキ
シエチルメタクリレートおよびヒドロキシプロピルメタ
クリレート(nまたはイソ)および相応するルアクリレ
ートである。
bが0である式Iの重合可能な化合物は、上記のヒドロ
キシアルキルアミノ化合物をインシアネート含有のアク
リル酸またはアルキルアクリル酸エステルと反応させる
ことにより得られる。殊に使用されたインシアネート含
有エステルはインシアネートエチル(メタ)アクリレー
トである。
更に、光酸化可能な基を有する適当な化合物は、式■: 00C−C= CH2 [式中、Q、R,R1、R2、R3、a、mおよびnは
それぞれ上述のものであり、Qは付加的に738864
.9号明細書に詳細に記載されている。
更に、光酸化可能な基を有する適当な化合物は、弐■: / Q’ [(−X ” −CH20)a−CONH(−X
’−NHCOO)b−Xl−00C=CH2]n(rV
 )CH3 (Cは式Iの場合と同じ意味を有する)の基である1で
示される基である。
式■の化合物は、ヒドロキシアルキル(アルカ)アクリ
レートが相応するグリシジル(アルカ)アクリレートに
より代えられていること以外、式Iの化合物と同様にし
て得られる。
前記式の化合物ならびにこの化合物の製造および使用は
、先行の西ドイツ国特許出願第P3xl/はCi旧また
は        R3/ C4Hi−1−0−CONH(−Xl−NHCOO)b
−Xl−00C−C<H2テto リ、D3はチッ素原
子と一緒に5または6員環を形成する4〜8個の炭素原
子の飽和炭化水素基であり、 Zは水素原子または式: %式% 1およびkは1−12までの整数であり、n′はQ′の
原子価に依存して1.2または3であり、 R3,X ’、X 2.D 1.D 2. aおよびb
はそれぞれ式Iで定義したものであるJで示されるアク
リル酸エステルおよびアルキルアクリル酸エステルであ
り、この場合同じ定義の全ての符号は、同一かまたは異
なり、かつ基Q上の少なくとも1つのR換基の場合にa
はOである。
式■の化合物のうち、ウレタン基は別にして、少くとも
1つの尿素基を有するものは好ましい。尿素基は、本発
明の目的のためにチッ素の原子価が置換または未置換の
炭化水素ラジカルにより飽和されている式: %式%1 個のチッ素原子の一つの原子価をさらにカルボニルアミ
ド基(C0NH)に混合させ、ビューレット構造を生じ
させることも可能である。
式■中の符合aは、好ましくはOまたはlであり;1は
好ましくは2〜10の数である。
式■の重合可能な化合物は、式■の化合物と同様の方法
で得られる。
式■の化合物およびその製造は、先行の西ドイツ国特許
出願第P3824903.0号明細書に詳細に記載され
ている。
光重合可能な層中での光重合可能な化合物の割合は、通
常非揮発性成分に対して、約10〜80重量%、好まし
くは20〜60重量%である。
使用できる結合剤の例は、塩素化されたポリエチレン、
塩素化されたポリプレピレン、アルキルが例えばメチル
、エチル、n−ブチル、イソブチル、n−ヘキシルまた
は2−エチルヘキシルであるポリ(メタ)アクリル酸ア
ルキルエステル、前記(メタ)アクリル酸アルキルエス
テルと、アクリロニトリルのような少くとも一つの単量
体との共重合体、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレ
ンまたはブタジェン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/ア
クリロニトリル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニリデン/アクリロニトリル共重合体、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリルアクリ
ロニトリル/スチレン共重合体、アクリロニトリル/ブ
タジェン/スチレン共重合体ポリスチレン、ポリメチル
スチレン、ポリアミド(例えばナイロン6)、ポリウレ
タン、メチルセルロース、エチルセルロース、アセチル
セルロース、ポリビニルフォルマールおよびポリビニル
ブチラールである。
特に適当な結合剤は、水に不溶であり、有機溶剤に可溶
であり、かつアルカリ水溶液に可溶または少くとも膨潤
可能であるものである。
特に記載すべきものは、カルボキシル含有結合剤、例え
ば(メタ)アクリル酸および/またはクロトン酸のよう
なその不飽和同族体の共重合体、無水マレイン酸または
その半エステルの共重合体、ヒドロキシル基含有重合体
と無水ジカルボン酸との反応生成物、ならびにその混合
物である。
また、全部または部分的に活性化インシアネートと反応
された酸のHrL子からなる基を有する重合体の反応生
成物、例えばヒドロキシル基含有重合体と脂肪族スルホ
ニルイソシアネートまたは亜リン酸インシアネートとの
反応生成物を使用することも可能である。
また、適当なものは次の通りである:ヒドロキシル基含
有重合体、例えば、ヒドロキシルアルキル(メタ)アク
リレートの共重合体、アリルアルコールの共重合体、ビ
ニルアルコール共重合体、ポリウレタンまたはポリエス
テル、ならびに十分な数の遊離OH基を有しているかま
たはアルカリ水溶液に可溶であるように変性されたエポ
キシ樹脂、または芳香族的に結合されたヒドロキシル基
を有する重合体、例えば縮合可能なカルボニル化合物、
殊にホルムアルデヒド、アセトアルデヒドまたはアセト
ンと、フェノールまたはヒドロキシスチレン共重合体ト
の縮合生成物である。最後に、また(メタ)アクリルア
ミドとアルキル(メタ)アクリレートとの共重合体を使
うことも可能である。
上記の重合体は、殊に分子量が500〜200000ま
たはそれ以上、好ましくは1000〜100000であ
り、かつ酸価がlO〜250、好ましくは20〜200
であり、またはヒドロキシル価が50〜7501好まし
くは100〜500である場合に適当である。
好ましいアルカリ可溶性結合剤は次の通りである: (メタ)アクリル酸とアルキル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリロニトリルまたは類似物との共重合体、
クロトン酸とアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)
アクリロニトリルまたは類似物との共重合体、ビニル酢
酸とアルキル(メタ)アクリレートとの共重合体、無水
マレイン酸と、置換されているかまたは置換されていな
いスチレン、不飽和炭化水素、不飽和エーテルまたはエ
ステルとの共重合体、無水マレイン酸の共重合体のエス
テル化生成物、ヒドロキシル基含有重合体とジまたはポ
リカルボン酸の無水物とのエステル生成物、ヒドロキシ
アルキル(メタ)アクリレートとアルキル(メタ)アク
リレート、(メタ)アクリロニトリルまたは類似物との
共重合体、アリルアルコールと、置換されているかまた
は置換されていないスチレンとの共重合体、ビニルアル
コールとアルキル(メタ)アクリレートまたは他の重合
可能な不飽和化合物との共重合体、ポリウレタン、十分
な数の遊離OH基を有しているという条件でエポキシ樹
脂、ポリエステル、部分的に加水分解されたビニルアセ
テート共重合体、遊離OH基を有するポリビニルアセタ
ール、ヒドロキシスチレンとアルキル(メタ)アクリレ
ートまたはその類似物との共重合体、フェノールホルム
アルデヒド樹脂例えばノボラック。
感光層中の結合剤の量は、通常20〜90重量%、好ま
しくは40〜80重量%である。
使用された光開始剤は、多数の物質であることができる
。例は、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン
、ベンジルモノケタール、フルオレノン、チオキサント
ン、多核キノン、アクリジンおよびキナゾリンの基本骨
格から誘導されるもの、ならびに西ドイツ国特許出願公
開第3333450号明細書に記載されているようなト
リクロロメチル−5−トリアジン、2ハロメチル−5−
ビニル−1,3,4−オキサジアゾール誘導体、トリク
ロロメチル−置換すれたハロオキサゾールまたはトリハ
ロメチル含有カルボニルメチレン複素環式化合物である
好ましい光開始剤は、殊に、先行の西ドイツ国特許出願
第P3710281.8号明細書および同第P3710
282.6号明細書に記載されているように照射開裂で
きるトリハロメチル化合物および、恐らくアクリジン、
フェナジンまたはキクノサリン光開始剤化合物と結合し
ている場合には光還元可能な染料である。
適当な光還元染料は、殊にキサンチン、ベンゾキサンチ
ン、ベンゾチオキサンチン、チアジン、ピロニン、ポリ
フィリンおよびアクリジン染料である。染料の量は、一
般に層の非揮発性成分に対して0.1−10重量%、好
ましくは0.05り4重量%である。
感光度を増すために、層は、光重合可能な混合物によっ
て遊離基形成開始剤として使用されるそれ自体公知の光
分解開裂可能なトリハロメチル基を有している化合物を
加えてもよい。この型の確かめられた共開始剤は、殊に
塩素および臭素、特に塩素をハロゲンとして含有する化
合物である。トリハロメチル基は、直接にまたは完全な
共役鎖を経て、芳香族炭素環または複素環に結合させる
ことができる。好ましい化合物は、有利に2個のトリハ
ロメチル基を有する基本骨格中tこトリアジン環を有し
ているものであり、殊に欧州特許出願公開第13745
2号明細書、西ドイツ国特許出願公開第2718259
号明細書および同第2243621号明細書に記載れさ
ている化合物である。これらの化合物は、350〜40
0nm付近の近紫外領域内で強く吸収する。また、比較
的短かい共鳴現象捕獲電子系を有する置換基、または脂
肪族置換基を有するトリハロメチルトリアジンのように
それ自身複写光スペクトル領域におけるどんな吸収もほ
とんど示さない共開始剤を使用することも可能である。
また、短波長の紫外線領域内で吸収する異なる基本構造
を有する化合物、例えばフェニルトリブロモメチルスル
ホンのようなフェニルトリハロメチルスルホンまたはフ
ェニルトリハロメチルケトンを使用することも可能であ
る これらの化合物は、一般に非揮発性成分に対して0.0
1〜10重量%、好ましくは0.05〜6重量%の量で
使用される。
本発明による材料は、好ましくは他の開始剤成分として
アクリジン、フェナジンまたはキノキサリン化合物を含
有する。これらの化合物は、光開始剤としての使用が知
られておりかつ西ドイツ国特許第2027467号明細
書および同第2039861号明細書に記載されている
これらの化合物は、殊に近紫外線領域内での混合物の感
度を増大させる。この成分の量は、同様に0.01−1
0重量%の範囲内、好ましくは0.05〜5重量%の間
にある。
更に、スペクトルの可視光領域内で感度の増大が望まれ
る場合には、ジベンザールアセトンまたはクマリン型の
化合物を添加することによって感度の増大をもたらすこ
とができる。この添加により、波長的600nmまでの
スペクトルの可視光領域に対してより高度に分解される
コピーおよび混合物の完全な増感が生じる。この化合物
の量は、同様に0.01−10重量%、有利に0.05
〜4重量%の範囲内にある。
重合開始剤の全体量は、一般に0.05〜20重量%、
有利に0.1〜10重量%である。
光重合可能な層は、意図した使用および望ましい性質に
依存して添加剤としての種々の物質を含有することがで
きる。例は次のものである:単量体の熱重合を妨げる抑
制剤、水素供与体、染料、有色顔料および白色顔料、色
形成成分、指示薬、可塑剤および鎖転移剤。これらの成
分は、開始過程にとって重要な化学線をできるだけ少な
く吸収するように有利に選択される。
本発明の目的にとって化学線は、少くともそのエネルギ
ーが可視光に等しい全ての放射線である。殊に、可視光
線および長波長の紫外線を使用することができるが、短
波長の紫外線、レーザー光、電子線およびX線も使用す
ることができる。感光度は、約300nm〜700nm
の範囲内にあり、それ故極めて広い範囲を覆う。
本発明による材料の適当な使用は、凸版印刷、平板印刷
、凹版印刷およびスクリーン印刷、レリーフコピーの印
刷板の写真製版法による製造のための記録層、例えば点
字テキストの製造、個々のコピー、黄色画像、顔料画像
等であるこの混合物は、またエッチレジスト、写真製版
法による製造、例えば名札または複写された回路の製造
および化学的ミリングのために使用することもできる。
本発明による混合物は、特に平板印刷版の製造および7
オリジスト技術のための記録層として重要である。
本発明による記録材料の適当な支持材料は、例えばアル
ミニウム、スチール、亜鉛および銅箔、プラスチックフ
ィルム、例えばポリエチレンテレフタレートまたはセル
ロースアセテートフィルム、ならびにパーロンガーゼ(
Per Iongauze)のようなスクリーン印刷材
料である。多くの場合く層に正確にぴったりと付着させ
、支持材料表面のリングラフイック特性を改善し、また
は複写層の化学線領域における支持材料の反射を減少さ
せる。(ハレーション防止)目的で、支持材料表面に前
処理(化学的なまたは機械的な)を受けさせることは有
利である。
感光材料は、常法で製造される。例えば、層成分を溶剤
に溶解し、この溶液または分散液を意図した支持材料に
、流し込み、吹き付け、浸漬、ロール塗布および類似す
る方法により塗布し、さらに乾燥することは可能である
本発明による記録材料が幅広いスペクトル感度を有する
ため、当業者にとって常用の全ての光源、例えば蛍光管
、キセノン灯、金属ハロゲン化物をドープした高圧水銀
灯および炭素アーク灯を使用することが可能である。付
加的に、本発明による感光混合物を普通の投映および拡
大装置中で金属フィラメント灯からの光を使用してく常
用の白熱灯での接触露光により照射することは可能であ
る。また、照射はレーザーのコヒーレント光を用いて行
うことができる。本発明の目的に適当なのは、適度な出
力のレーザ、例えばアルゴンイオン、クリプトンイオン
、染料、ヘリウムカドミウムおよびヘリウムネオンレー
ザ−であり、これらのレーザーは、殊に250〜650
nmの範囲内で発光するものである。レーザー光線は、
プログラミングした線に応じて走査される。移動法によ
り調整させることができる。
更にこの材料は、常法で加工処理される。層中でより良
好な架橋を行うために、露光後に加熱することは可能で
ある。現像するため、この層は適当な現像液、例えば有
機溶剤で処理されるが、好ましくは、支持材料上の複写
層の露光された部分を残して、層の露光されなかった部
分を除去するのに役立つ弱アルカリ性水溶液で処理され
る。現像液は、少量の、好ましくは5重量%以下の水混
和性有機溶剤を含有することができる。さらに、現像液
は、潤滑剤、染料、塩および他の添加剤を含有すること
ができる。
現像の過程で全被覆層は、光重合可能な層の露光されて
いない部分と一緒に除去される。
以下、本発明を例証となる実施態様に関連して詳細に記
載する。重量部(p、b、w)対容量部(p、b、v、
)は、g対C−の関係にある。別記しない限り、百分率
および混合の割合は重量による。
[実施例] 例1(比較例) 印刷板に使用された支持材料は、3g/II+2の重量
の酸化物層を有しかつポリビニルホスホン酸水溶液で前
処理された、電気化学的に粗面化されかつ陽極酸化され
たアルミニウムであった。この支持材料を次の組成: 酸価190を有するスチレン、n−へキシルメタクリレ
ートおよびメタクリル酸(lO:60:30)の三元重
合体のメチルエチルケトン中の22,3%濃度溶液2.
84p、b、w、トリエタノールアミンと3モルのイソ
シアネートエチルメタクリレートとの反応生成物1.4
9p。
b、w、  アルコール可溶性エオシン(c、 r、 
45386)0.04 p、b、w、 2.4−ビス−トリクロロメチル−6−(4−スチリル
フェニル)−フェニル) −s −トUアジン0.03
p、b、金、 9−7エニルアクリジン0−049p、b、wおよびプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル22p、b、w
中のカルボニル化合物(第1表)0.1 p、b、wの
溶液で塗布した。
2.0〜2.5g/m2の乾燥重量が得られるような方
法で回転塗布により塗布した。次に、この板を循環乾燥
箱中で2分間100℃で乾燥した。次にこの板をポリビ
ニルアルコール(12%のアセチル残基、k値4)の染
色されていない7%濃度の水溶液で塗布した。乾燥によ
り、2〜2.5g/m2の重量を有する被覆層が残った
。得られた印刷板を0.15ずつ濃度増加する13段階
露光ウェッジのもと、llOCmの距離をもって5kw
の金属ハロゲン化物灯に露光し、必要に応じて、このウ
ェッジ上には、付加的に全ての有効スペクトルにわたっ
゛て均一なプクッキング(濃度1.57)および均一な
吸収を行う銀フィルムが灰色フィルターとして取付けら
れた。可視光における印刷板の感度を試験するために、
表に示された遮断透過率を有するスコツト社製の厚さ3
ml++の遮断フィルターを露光ウェッジ上に取付けt
;。この板のスペクトル感度範囲を測定するために、露
光を75cmの距離をもって置かれた500wの白熱球
からの平行光を使用して、300〜700nmの干渉フ
ィルターを通して実施した。露光に続いて、板を1分間
100℃に加熱した。次に、現像を次の組成: メタケイ酸ナトリウムX9 H2O1201) 、b 
−”1塩化ストロンチウム 2.13p、b、w。
非イオン性湿潤剤(約8個のエチレンオキシ単位を含有
するココナツツ脂肪アルコールポリオキシエチレンエー
テル)l−2p、b、w、および完全に脱塩された水4
000 p、b、w中の消泡剤の現像液を使用して実施
した。
下記しt;スペクトル領域において、現像された板は完
全に硬化したことが判明した。印刷版の分解能を試験用
オリジナル(FOGRA/ PMSウェッジ)により測
定し、かつ複写物を読み取った。
第1表 カルボニル化合物を用いない場合には、板は300〜4
30nmおよび470〜600nmの領域で、それぞれ
30秒後に硬化されt;。カルボニル化合物および染料
を用いない場合には、硬化領域は300〜430nmで
あった。
カルボニル化合物なしの板に油性印刷インキを着肉した
。下記の完全に架橋されたウェッジ段階が得られた。
例  2 例1の支持材料を2.0g/m2の層重量がそのつと得
られるように次の成分: 例1で明記された三元重合体溶液 2.840p、b、
w。
例1で明記された重合可能な化合物 1.490p、b
、wl 染料(第■表)0.040 p、b、w。
例1のS−トリアジン0.030p、b、w、 および プロピレングリコールモノメチルエーテル 22.00
0p、b、w中の9−フェニルアクリジン0.049 
p、b、wの溶液で塗布した。
試験1〜4,6.8および10の板に例1の場合と同様
にポリビニルアルコールの被膜ヲ備えさせた。試験5.
7および9の板に0.25%のアストラゾンブル−3R
L(C,1,ペイシンクブルー47)を付加的に含有さ
せた溶液からの同し厚さの被覆層を塗布した。
スペクトル感度を例1と同様に露光および現像により測
定した。結果は下記の第■表および第■表に記載されて
いる。
第■表 第 ■ 表 300〜700nmの干渉フィルターを通して露光し、
その後に循環乾燥箱中で1分間焼付けた。現像は、例1
で記載されたように行われ、その後、下記の第■表に明
記されたスペクトル領域において完全な硬化が示された
例  3 例1のようにカルボニル化合物として4−ジメチルアミ
ノ−4′−メトキシジベンザールアセトンを使用して製
造された板に、回転塗布により、染色されていないポリ
ビニールアルコール被覆層の代わりに次の組成ニ ア%濃度のポリビニールアルコール水溶液(12%のア
セチル残基、K値4)100p、b、wおよび染料(第
■表)0.i p、b、w、の被覆層を備えさせた。
被覆層の乾燥後の重量は2〜2.5g/+n2となった
。塗布された板を75cmの距離をもって置かれた50
0Wの白熱電球からの平行光で、第■表 例  4 例1で明記された条件のもと、例1の支持材料に乾燥層
の重量が2.0g/m2になるようIこ次の組成: 例1の三元重合体溶液 1.4 p 、b 、w。
1モルのトリエタノールアミンと3モルのイソシアネー
トエチルメタクリレートとの反応生成物  1 .4 
 p 、b 、w。
結晶性バイオレット塩基 0.0O1p、b、w。
ロイコ結晶性バイオレット 0.04p、b、w。
9−フェニルアクリジン 0.04 p、b、w。
2.4−ビス−トリクロロメチル−6−(4−スチリル
−フェニル)−5−トリアジン 0゜03 p 、b−
W%およびプロピレングリコールモノメチルエーテル3
5.OOp、b、w、中のジベンザールアセトン0.0
4p、b、wの溶液を回転塗布した。
この板に例3で記載されたようにアストラゾンイエロー
ブラウン3GL、アストラゾンブル−3RLおよびビク
トリアブルーFBをそれぞれ染料として使用して製造さ
れたポリビニールアルコール被覆層を備えさせた。被覆
層は2g/Ii2の乾燥重量を有した。これらの印刷版
を全ての場合において灰色フィルターを使用して例1の
場合のように露光した。
画像分解能に関連して被覆層に添加された染料の効果を
オリジナルとしてのFOGRAPMS試験用ウェッジを
使用して測定し、複写物上に読み取った。
印刷試験では、200000枚の良好な印刷が得られた
第7表 例  5 印刷板を例1のように4−ジメチルアミノ−4′−メト
キシジベンザールアセトンを使用して製造したが、染色
されていないポリビニールアルコール被覆層の代わりに
、次の組成ニア%濃度のポリビニールアルコール水溶液
(12%のアセチル残基、K値4)100p、b、w1
アストラゾンブル−3RL0.1 p 、b 、w、お
よびマキシロンイエロー2RLO,1p 、b 、wの
被覆層を回転塗布により塗布した。
乾燥重量は2〜2.5g/+m2であった。例1で記載
されたように、板を干渉フィルターを通して、60秒間
露光し、かつ現像した。300〜400nmのスペクト
ル領域において完全な硬化が達成されI;。複写物の分
解能はlopmであり、FOGRA PMSウェッジに
より測定された。
例  6 例1におけるのと同様な条件下で、例1の支持材料を乾
燥した層重量が2.0g/+I+2であるように次の組
成: 例■の三元重合体溶液 1.4 p 、b 、w。
1モルの2−ピペリジノエタノールと2モルのイソシア
ネートエチルメタクリレートの反応生成物 1.4 p
 、b 、w。
アルコール可溶性エオシン(C,1,45386)0.
04p、b、w。
2.4−ビス−トリクロロメチル−6−(4−スチリル
−フェニル)−5−トリアジン0.03p、b、w。
9−フェニルアクリジン0.049p、b、w。
およびプロピレングリコールモノメチルエーテル22.
0p、b、wの溶液で回転塗布した。
この印刷板を2つに切断した。片半分(板A)を7%濃
度のポリビニールアルコール(12%のアセチル残基、
K値8)水溶液からなる被覆層で回転塗布した。別の片
半分(板B)に次の組成ニ ア%の濃度ポリビニールアルコール(12%のアセチル
残基、K値8)水溶液100p、b、wおよび アストラゾールブル−3RL0.07 p、b、w。
の染色された被覆層を備えさせた。
それぞれの被覆層は2g/l112の乾燥重量を有した
。得られた印刷板を例4の場合と同様に露光した。この
材料の分解能に関連して染料の有効性を試験用オリジナ
ルとしてFOGRA  PMSウェッジを使用して測定
し、かつ複写物上を読み取った。印刷板の感度を試験す
るために、遮断フィルターを露光ウェッジ上に取付けた
。露光された板を通し循環乾燥箱中で100°Cで1分
間加熱し、次に例1に従って現像した。
第■表 455n+wよりも高い波長では、板Bはもはや感度を
有しなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、層支持体、光重合可能な層および空気酸素に対して
    低い透過性を有しかつ水または水/アルコール混合物中
    で可溶性である重合体を含有する被覆層から構成されて
    いる光重合可能な記録材料において、この被覆層がさら
    に染料または幾つかの染料の適当な混合物を含有し、2
    0℃で水中で可溶性であり、300〜700nmの範囲
    内の光を吸収し、かつこの範囲内で望ましい複写光源の
    放出範囲に相応する非吸収領域を有することを特徴とす
    る、光重合可能な記録材料。 2、染料がジ−もしくはトリアリールカルベニウム染料
    、アゾ染料、アザ(18)アヌレン染料、ニトロ染料、
    ニトロソ染料、ポリメチン染料、カルボニル染料または
    サルファ染料である、請求項1記載の記録材料。 3、被覆層が0.2g/m^2〜10g/m^2の間の
    単位面積あたりの重量を有する、請求項1記載の記録材
    料。 4、染料0.05〜50重量%が被覆層中に含有されて
    いる、請求項1記載の記録材料。5、染料の吸収領域内
    で被覆層が0.5〜2.5の光学的密度を有する、請求
    項1記載の記録材料。 6、複写光源の放出領域が350〜400nm、400
    〜450nmまたは488〜514nmである、請求項
    1記載の記録材料。 7、光重合可能な層が本質的成分として高分子量結合剤
    、少なくとも1つの末端エチレン性不飽和基を有するラ
    ジカル重合可能な化合物および化学線によって活性化す
    ることができる重合開始剤を含有する、請求項1記載の
    記録材料。 8、層が光還元可能な染料を重合開始剤として含有する
    、請求項7記載の記録材料。 9、ラジカル重合可能な化合物が光還元可能な染料の存
    在下での露光によって光酸化可能である少なくとも1つ
    の基を有する多価アルコールのアクリル酸またはメタク
    リル酸エステルである、請求項8記載の記録材料。 10、さらに光開始剤としての光分解により開裂可能な
    トリハロメチル化合物および光開始剤としてのアクリジ
    ン、フェナジンもしくはキノキサリン化合物を含有する
    、請求項8記載の記録材料。 11、結合剤が水不溶性でありかつアルカリ水溶液中で
    可溶性である、請求項7記載の記録材料。 12、光重合可能な層が0.5〜20g/m^2の単位
    面積当りの重量を有する、請求項1記載の記録材料。 13、層支持体が平版印刷に適した親水性表面を有する
    、請求項1記載の記録材料。
JP1205847A 1988-08-11 1989-08-10 光重合可能な記録材料 Expired - Fee Related JP2840640B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06109911A (ja) * 1992-09-29 1994-04-22 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JP2000292930A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Toyobo Co Ltd ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体
JP2010079088A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19739299A1 (de) * 1997-09-08 1999-03-11 Agfa Gevaert Ag Weißlicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
WO2001042857A1 (fr) * 1999-12-09 2001-06-14 Toray Industries, Inc. Materiau et procede de fabrication pour plaque d'impression a resine photosensible
EP1152294B1 (en) * 2000-04-18 2012-06-13 FUJIFILM Corporation Photosensitive image-recording material
JP3912663B2 (ja) * 2002-02-26 2007-05-09 富士フイルム株式会社 カラーフィルター用画素の形成方法、液晶表示装置用カラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起の形成方法、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起
EP1507171A3 (en) * 2003-08-15 2008-03-05 FUJIFILM Corporation Light-Sensitive sheet comprising support, first and second light-sensitive layers and barrier layer
AU2003260206A1 (en) * 2003-09-24 2005-04-11 Ibf Industria Brasileira De Filmes Ltda. Light sensitive coating compositions useful for lithographic elements
JP4701042B2 (ja) * 2005-08-22 2011-06-15 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
KR100943421B1 (ko) 2007-12-24 2010-02-19 연세대학교 산학협력단 에폭시기와 불포화이중결합을 갖는 광중합성 단량체 및이를 함유한 광중합 조성물
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
EP2196851A1 (en) 2008-12-12 2010-06-16 Eastman Kodak Company Negative working lithographic printing plate precursors comprising a reactive binder containing aliphatic bi- or polycyclic moieties
EP2391924B1 (en) 2009-01-29 2013-07-24 Digiflex Ltd. Process for producing a photomask on a photopolymeric surface
US8034538B2 (en) 2009-02-13 2011-10-11 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US20100215919A1 (en) 2009-02-20 2010-08-26 Ting Tao On-press developable imageable elements
US8257907B2 (en) 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US8247163B2 (en) 2009-06-12 2012-08-21 Eastman Kodak Company Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast
EP2284005B1 (en) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
EP2735903B1 (en) 2012-11-22 2019-02-27 Eastman Kodak Company Negative working lithographic printing plate precursors comprising a hyperbranched binder material
EP2778782B1 (en) 2013-03-13 2015-12-30 Kodak Graphic Communications GmbH Negative working radiation-sensitive elements
US10025183B2 (en) * 2014-01-22 2018-07-17 Macdermid Graphics Solutions, Llc Photosensitive resin composition
KR102209143B1 (ko) 2019-07-31 2021-01-29 주식회사 성현 발전설비용 회전형 열교환기의 공기 누출을 방지하는 익스펜션 슬리브 씰 제조 방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61117549A (ja) * 1984-11-13 1986-06-04 Mitsubishi Chem Ind Ltd 感光性平版印刷版

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL101499C (ja) * 1951-08-20
BE552915A (ja) * 1956-11-26
NL287134A (ja) * 1959-08-05
US3458311A (en) * 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
CA993709A (en) * 1971-01-21 1976-07-27 Leo Roos Composite, mask-forming photohardenable elements
DE2123702C3 (de) * 1971-05-13 1988-05-26 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
US4126466A (en) * 1974-07-22 1978-11-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Composite, mask-forming, photohardenable elements
US4173673A (en) * 1975-11-17 1979-11-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dot-etchable masks from photopolymerizable elements
DE2658422C2 (de) * 1976-12-23 1986-05-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms
DE2943632A1 (de) * 1979-10-29 1981-05-07 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Diazoverbindungen enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung desselben
CA1143207A (en) * 1980-06-10 1983-03-22 Vladimir N. Kuznetsov Dry film photoresist including an intermediate uv transparent, polymeric layer and a photopolymerizable layer
JPS59226346A (ja) * 1983-06-07 1984-12-19 Fuotopori Ouka Kk プリント回路の製造方法
JPS62502496A (ja) * 1985-04-16 1987-09-24 ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニ− プル−フの焼付けにおける露光寛容度の改善
US4672021A (en) * 1985-06-03 1987-06-09 Fairmount Chemical Company Contrast enhancement layer composition with naphthoquinone diazide, indicator dye and polymeric binder
DE3710281A1 (de) * 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61117549A (ja) * 1984-11-13 1986-06-04 Mitsubishi Chem Ind Ltd 感光性平版印刷版

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06109911A (ja) * 1992-09-29 1994-04-22 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JP2000292930A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Toyobo Co Ltd ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体
JP2010079088A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法

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Publication number Publication date
DE3827245A1 (de) 1990-02-15
DE58909494D1 (de) 1995-12-21
KR0132430B1 (ko) 1998-04-14
EP0354475A3 (de) 1991-03-20
US5922508A (en) 1999-07-13
EP0354475A2 (de) 1990-02-14
JP2840640B2 (ja) 1998-12-24
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KR900003685A (ko) 1990-03-26

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