JP2000292930A - ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体 - Google Patents

ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体

Info

Publication number
JP2000292930A
JP2000292930A JP9925999A JP9925999A JP2000292930A JP 2000292930 A JP2000292930 A JP 2000292930A JP 9925999 A JP9925999 A JP 9925999A JP 9925999 A JP9925999 A JP 9925999A JP 2000292930 A JP2000292930 A JP 2000292930A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
photosensitive resin
hydrogen atom
alkyl group
branched
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9925999A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000292930A5 (ja
JP4507026B2 (ja
Inventor
Koji Ogi
浩二 小木
Satoshi Takahashi
敏 高橋
Yuji Taguchi
祐二 田口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP9925999A priority Critical patent/JP4507026B2/ja
Publication of JP2000292930A publication Critical patent/JP2000292930A/ja
Publication of JP2000292930A5 publication Critical patent/JP2000292930A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4507026B2 publication Critical patent/JP4507026B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ハレーション防止機能のみならず、着色がな
く、経時安定性にも優れるとともに、スリット深度や網
点深度を充分に有する感光性樹脂積層体を提供するこ
と。 【解決手段】下記一般式(1)及び/又は一般式
(2)で示される化合物を含有することを特徴とするハ
レーション防止用組成物、下記一般式(3)で示され
る置換基を側鎖に有する高分子化合物を含有することを
特徴とするハレーション防止用組成物および前記組成
物を用いた感光性樹脂積層体。 【化1】 【化2】 【化3】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明はハレーション防止機
能を有する組成物および該組成物を接着層中に含有した
感光性樹脂積層体に関するものであり、特にハレーショ
ン防止機能のみならず、着色が少なく経時安定性にも優
れるとともに、スリット深度や網点深度を充分に有する
ものである。
【0002】
【従来の技術】通常、感光性樹脂積層体(以下感光性樹
脂版ともいう)を用いて印刷用レリーフを作成する際、
感光性樹脂層の上にネガフィルムを重ね、該フィルムの
上から活性光線を照射して、露光部の樹脂を光硬化さ
せ、未露光部を溶媒で洗浄除去することにより印刷用レ
リーフを得ている。
【0003】このようにして得られたレリーフは原理的
には樹脂層の頂面から支持体の表面にかけて垂直に切り
立つように形成されるべきものであるが、実際には未露
光部側にかけてなだらかな裾広がり状の断面を形成する
ことが多く、通常「ショルダー角が広くなる」と称して
いる。このような裾広がり部は支持体に対するレリーフ
の固着強度を高めるものであって、レリーフ強度という
面から見れば必要なこととされている。しかし、ショル
ダー角が大きくなり過ぎると印刷段階で大きな印圧がか
かった場合に画像部や網点部が太り、あるいはスリット
部や非画像部に汚れが発生するといった問題があった。
【0004】上記のように本来、未露光部であるべき部
位の光硬化性樹脂が光硬化し、レリーフのショルダー角
が大きくなったり、あるいはレリーフ間深度が浅くなっ
たりするという事態が発生する原因については、露光部
分に隣接している未露光部に斜め方向から散乱光線が入
射して硬化反応を引き起こすということと、その他にハ
レーションの問題が挙げられる。即ち、光硬化性樹脂の
上方から入射される平行活性光線が支持体との界面でハ
レーションを起こすと共に、支持体が透明である場合に
は活性光線がこれを通過して露光機表面(支持体の裏
側)でハレーションを起こすが、これらのハレーション
に伴う反射・散乱光が光硬化性樹脂層の下方から上方に
向けて再入射することは避けられず、該再入射光が本来
未露光部であるべき部位を露光して部分的な硬化反応を
起こし、前述のような事態を招くことになる。
【0005】このような理由から、感光性樹脂版にハレ
ーション防止機能を与えることは不可欠な要素とされて
おり、例えば感光性樹脂層と支持体との間に設けられる
接着剤層中にハレーション防止機能を与える方法や、感
光性樹脂層と支持体の間に、ハレーション防止剤層と接
着剤層を幾層にも交互に形成する方法等が実用化されて
いる。ところが、360nm付近まで吸収を持つ一般の
UV吸収剤を添加した接着層を有する感光性樹脂版を用
いて、ケミカルランプなどの露光ランプで製版した場合
には、スリット深度や網点深度がまだ浅く、ハレーショ
ン防止効果が小さいという問題があった。
【0006】また、450nm以降にも吸収を持つ化合
物についてもハレーション防止効果があることが確認さ
れたが、このような化合物をハレーション防止剤として
用いると着色度が大きくなり、製版検査時に見にくい、
また、目が疲れやすい等検版性が悪くなるといった問題
点が出てくる。
【0007】さらに、生版(未露光版)の保存期間中に
ハレーション防止剤が光硬化性樹脂層内へ拡散移行して
生版を経時変化させてしまうという問題があり、細線
(細線状レリーフ)のよじれや、独立点(小さな点状レ
リーフ)の欠けなどを引き起こてしまう問題点がある。
【0008】したがって、ハレーション防止効果がある
理想的なUV吸収剤としてはλmaxが360nmで、U
V吸収端が400nm付近まで有し、かつ経時による感
光性樹脂層中への抽出を防ぐため、接着層中のイソシア
ネートと反応する官能基(-NH2,-OH等)を有する
化合物をハレーション防止剤として添加すれば良いのだ
が、このような化合物は数が少なく、また、これらは製
造コストや安全性等の理由から使用できないものだっ
た。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、着色が少な
く、ハレーション防止効果を有し、経時安定性にも優れ
るとともに、スリット深度や網点深度を充分に有するレ
リーフ版となる感光性樹脂積層体を得ることを課題とす
るものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するために鋭意、研究、検討した結果、下記の化合
物群から構成される組成を用いることにより本発明を完
成するに到った。即ち本発明は、下記一般式(1)及
び/又は一般式(2)で示される化合物を含有すること
を特徴とするハレーション防止用組成物。
【0011】
【化4】 (式中、Xは−NH−基、酸素原子、硫黄原子を表し、
YはOH基、NR910基(ここでR9,R10は水素原
子、炭素数1〜3のアルキル基を表す)を表す。R1
8は水素原子、炭素数1〜10の直鎖、分岐、環状の
いずれでも良いアルキル基、−SO311(ここでR11
は水素原子、炭素数1〜6の直鎖、分岐、環状のいずれ
でも良いアルキル基を表す)で示される置換基で表され
る。)
【0012】
【化5】 (式中、Xは−NH−基、酸素原子、硫黄原子を表し、
YはOH基、NR2324基(ここでR23,R24は水素原
子、炭素数1〜3のアルキル基を表す。)を示し、nは
1〜3の整数を表す。R12〜R22は水素原子、炭素数1
〜10の直鎖、分岐、環状のいずれでも良いアルキル
基、−SO325(ここで、R25は水素原子、炭素数1
〜6の直鎖、分岐、環状のいずれでも良いアルキル基を
表す)で示される置換基で表される。)
【0013】下記一般式(3)で示される置換基を側
鎖に有する高分子化合物を含有することを特徴とするハ
レーション防止用組成物。
【0014】
【化6】 (式中、Xは−NH−基、酸素原子、硫黄原子を表し、
Yは高分子主鎖への連結基を表す。nは0〜3の整数を
示し、R26〜R32は水素原子、炭素数1〜10の直鎖、
分岐、環状のいずれでも良いアルキル基、−SO333
(ここでR33は水素原子、アルキル基を表す)で示され
る置換基で表される。)
【0015】少なくとも支持体、接着層および感光性
樹脂層を有する感光性樹脂積層体において、前記接着層
中に、前記、記載のハレーション防止用組成物が含
有されていることを特徴とする感光性樹脂積層体であ
る。
【0016】本発明において、前記一般式(1)で示さ
れる化合物として具体的には、デヒドロチオ−p−トル
イジン等が挙げられ、一般式(1)におけるXが、硫黄
原子、Yが、NH2基、R1がCH3基、R2〜R8が水素
原子であることが好ましい。
【0017】また、前記一般式(2)で示される化合物
として具体的には、デヒドロチオ−p−トルイジン等が
挙げられ、一般式(2)におけるXが、硫黄原子、Y
が、NH2基、R12がCH3基、R13〜R19が水素原子で
あることが好ましい。
【0018】本発明の一般式(3)で示される置換基を
側鎖に有する高分子化合物として、具体的にはデヒドロ
チオ−p−トルイジニル基を側鎖に有する共重合ポリエ
ステル等が好ましく、該高分子化合物はラジカル重合、
アニオン重合、カチオン重合などの方法により合成する
ことが出来る。その形態は溶液重合、懸濁重合、乳化重
合、塊状重合等種々の方法が可能である。上記高分子化
合物の分子量は使用される塗布溶剤、要求される溶液粘
度、要求される膜形状等により異なるが、重量平均とし
て1000〜1000000、好ましくは2000〜3
00000、さらに好ましくは3000〜200000
である。本発明において上記の高分子化合物の反射防止
膜材料組成物中の含有量としては2〜50重量%であ
る。
【0019】なお、これらを溶解させる溶剤としては、
ベンゼンやトルエンなどのベンゼン系有機溶剤、メチル
エチルケトン、アセトンなどのケトン系有機溶剤、酢酸
エチルなどのエステル系溶剤、エチレングリコール系溶
剤、ジメチルアミノホルムアルデヒド、ジメチルアミノ
アセトアミドなどの有機溶剤が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。
【0020】次に、本発明感光性樹脂積層体は、少なく
とも支持体、接着層および感光性樹脂層を有し、接着層
中に、前記一般式(1)および/または(2)で示され
る化合物が含有されていることを特徴とするものであ
り、前記化合物の添加量は接着層組成物中の含有量で、
好ましくは0.1重量%以上20重量%以下、さらに好
ましくは0.2重量%以上5重量%以下で添加すると良
い。0.1%未満ではハレーション防止効果は小さく、
20重量%を超えると着色の問題や、コート液の硬化反
応が阻害されて、接着力の低下や耐溶剤性が悪くなるの
で、好ましくない。
【0021】本発明における感光性樹脂積層体を構成す
る感光性樹脂層としては特に限定されるものではない
が、感光性樹脂層を構成する成分として、ベースポリマ
ー、光架橋剤、光増感剤、重合禁止剤、その他の添加剤
等が含有され、その主成分であるベースポリマーの種類
によって、例えばポリアミド系、ポリウレタン系、ポリ
ビニルアルコール系、ポリエステル系、ポリ酢酸ビニル
系などと称されている。本発明は公知のいずれの感光層
へ適応しても良く、特に制限はない。なお、本発明にお
いて、その他の要素、例えば各層の厚みや保護層の有無
などの要件については一切制限するものではない。
【0022】本発明における支持体としては、スチー
ル、アルミニウム、プラスチックフィルム、ガラス等任
意のものが使用できるが、本発明においては、プラスチ
ックフィルム、とくにポリエステルフィルムが好まし
い。
【0023】本発明における接着層を構成する成分とし
ては、特に限定されるものではなく、支持体(ポリエス
テルフィルムの場合)と接着層と360nmでの吸光度
0.6以上、好ましくは、0.80以上、特に0.85
以上が望ましい。また380〜400nmでの吸光度
0.3以上、好ましくは、0.40以上、特に0.45
以上が望ましい。さらに450nm以上での吸光度が0.
1以下、好ましくは、0.08以下、特に0.05以下
が望ましい。なお、360nmでの吸光度が0.6未満あ
るいは、380〜400nmでの吸光度が0.3未満の
場合は、白抜け深度が浅くなってしまい、ハレーション
防止効果が発現しない等の問題がある。さらに450nm
以上での吸光度が0.1を超えると、着色度が大きくな
り、製版検査時に見にくい、また目が疲れやすい、検版
性が悪くなる等の問題があるので好ましくない。
【0024】前記条件を満足する接着層の成分として
は、例えば、バインダーポリマー、ハレーション防止剤
(または、UV吸収剤)、イソシアネート化合物、重合禁
止剤、その他の添加剤からなり、主成分であるバインダ
ーポリマーとして、イソシアネート基と反応し得る官能
基を有しているポリマーが好ましく、具体的には、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基
などが挙げられ、それらを主鎖(末端基も含む)あるい
は側鎖に有するオリゴマーまたはポリマーとして、具体
的にはテレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバ
チン酸などの酸成分とエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、4,4’ージ
(2ーヒドロキシエトキシフェニル)2,2’ープロパ
ンなどのグリコール成分とから、あるいはカプロラクト
ンから得られるポリエステル、2量化した乾性油脂肪酸
(ダイマー酸など)とジアミンまたはポリアミンとの反
応物、メトキシメチルー6,6ーナイロン、メトキシメ
チルー6ーナイロン、ナイロン6/ナイロン6,6/ナ
イロン6,10などのポリアミド、ポリ酢酸ビニルのケ
ン化物、アクリル変性ポリオール(ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートなど)、エチレンー酢酸ビニル共
重合体のケン化物などのビニル系ポリマー、ビスフェノ
ール型、o−クレゾール・ノボラック型、トリス(エポ
キシプロピル)イソシアヌレート型などのエポキシ樹脂
あるいはそれらアミン変性したポリオール、アジピン酸
とトリオールおよび/またはブチレングリコールよりな
るポリエステルポリオールと4,4’ージフェニルメタ
ンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートあるい
はトリイソシアネートなどの各種イソシアネートよりな
るウレタン結合を有するオリゴマーまたはポリマー、尿
素とホルマリンとより得られる、あるいはジメチロール
尿素縮合体などの尿素系樹脂、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラールなどのホルマール樹脂、ヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、
メチルセルロース、エチルセルロース、酢酸セルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、プロピルセルロー
ス、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体、フェノ
ールとホルムアルデヒドよりなるレゾール樹脂またはノ
ボラック樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポ
リエーテル1,6ーヘキサンジオールとエチレンカーボ
とより得られるポリカーボネートジオール、末端に水酸
基あるいはアミノ基を有する液状ポリブタジエンなどの
共役ジオレフィン系ポリマー、フォスフェート系、フォ
スフォネート系、あるいはフォスフォロアミデート系含
リンポリオールなどが挙げられ、本発明においてハレー
ション防止層が接着層を兼ねる方が好ましいので、前記
バインダーポリマーが接着性能を有するものの方が好ま
しい。
【0025】また接着層中のイソシアネート化合物とし
ては、イソシアネート基を2個以上有する化合物であ
り、例えば、2,4−または2,6−トリレンジイソシ
アネート、2,4−または2、6ーシクロヘキサンジイ
ソシアネートー1ーメチル、ナフチレン−1,5−ジイ
ソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネー
ト、4,4’ージフェニルメタンジイソシアネート、
4,4’ージシクロヘキシルメタンジイソシアネート、
イソプロピリデンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト)、m−またはpーキシリレンジイソシアネート、
1,3−または1,4−シクロヘキサンジメチルイソシ
アネート、イソホロンジイソシアネート、リジンジイソ
シアネート、ビス(2ーイソシアネートエチル)フマラ
ート、2,2,4ートリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート、3,3’ージメトキシー4,4’ージフェニ
ルジイソシアネート、2,4ートリレンダイマー、トリ
ス(4ーフェニルイソシアネート)チオフォスフェー
ト、ジフェニルエーテル2,4,4’ートリイソシアネ
ート、2,4’ートリレンジイソシアネートの3量体、
トリレンジイソシアネートと多官能アルコールの反応物
から得られるオリゴイソシアネート(例えばトリメチロ
ールプロパンー1ーメチルー2ーイソシアノー4ーカル
バメートなど)、トリフェニルメタンp,p’,p”ト
リイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートの
2量体、3量体(例えばDESMODUR−N〔BAY
ER社商標〕、ポリメチレンポリフェニルイソシアネー
ト、3ーヒドロキシメチルペンタン−2,4−ジオール
とヘキサメチレンジイソシアネートとの反応物、あるい
は前記イソシアネート類のオキシム、フェノールなどの
ブロックイソシアネート類などが挙げられる。
【0026】
【実施例】以下、本発明を以下の実施例を用いて具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお本発明の評価は以下の方法により測定した。 1)360nm、380〜400nm、450nmでの
吸光度:基板を日立製作所株式会社製U−3210形自
記分光光度計により測定した。 2)版性能:未露光の感光性樹脂積層体(製造後50℃
で1週間保存した生版、3ヶ月保存した生版)を検査ネ
ガを用いて、ケミカルランプ付き露光機で4分間露光、
現像してレリーフを作って評価した。 3)白抜け深度(スリット深度):ネガにおける細線
(600μm巾、300μm巾)が、レリーフにおいて
何μmの深さとなって現れるかを評価するものであり、
これはレリーフ同士が接近した網点や白抜き文字等のレ
リーフ間の深さの評価となり、深いほどシャープな印刷
物が得られる。
【0027】実施例1 デヒドロチオ-p-トルイジン0.8重量部、ビスデヒド
ロチオーp−トルイジン0.6重量部をジメチルアミノ
アセトアミド2.2重量部に溶解させて、ポリエステル
樹脂溶液として"バイロン30SS"(東洋紡績(株)製
品、固形分濃度30%、分子量20000〜2500
0)100重量部、アミン塩触媒として"U−CAT
SA102"0.2重量部をジオキサン0.7重量部に
溶解して調合した。次に多官能イソシアネートとして"
コロネートL"(日本ポリウレタン工業(株)製品)1
0.2重量部を酢酸エチル1.4重量部で溶解させて調
合し、接着剤組成物溶液1を得た。この溶液を125μ
m厚みの透明ポリエステルフィルム(支持体)に均一に
塗布し、120℃熱風乾燥機で1分間乾燥して塗膜約2
0μmの透明な接着剤層を有する支持体1を得た。
【0028】比較例1 デヒドロチオ-p-トルイジン0.5重量部をジメチルア
ミノアセトアミド3.6重量部に溶解させて、ポリエス
テル樹脂溶液として"バイロン30SS"(東洋紡績
(株)製品、固形分濃度30%、分子量20000〜2
5000)100重量部、アミン塩触媒として"U−C
AT SA102"0.2重量部をジオキサン0.7重
量部に溶解して調合した。次に多官能イソシアネートと
して"コロネートL"(日本ポリウレタン工業(株)製
品)10.2重量部を酢酸エチル1.4重量部で溶解さ
せて調合し、接着剤組成物溶液2を得た。この溶液を1
25μm厚みの透明ポリエステルフィルム(支持体)に
均一に塗布し、120℃熱風乾燥機で1分間乾燥して塗
膜約20μmの透明な接着剤層を有する支持体2を得
た。
【0029】前記実施例1、比較例1で得られた接着層
を有する支持体1、2の上にそれぞれ水現像可能な感光
性樹脂版“プリンタイト”EFタイプ及びKFタイプ
(商標、東洋紡績(株)製)に相当する感光性樹脂組成
物を約300μm程度の層厚になるように、それぞれ塗
布した後で125μmのポリエステルフィルムをラミネ
ートし、感光性樹脂積層体(生版)1、2を得た。製造
後50℃で1週間保存した生版と3ヶ月保存した生版を
用いて、それぞれケミカルランプ付き露光機で4分間露
光、現像してレリーフを作って評価した。その結果を下
記表1に示す。
【0030】
【表1】
【0031】
【発明の効果】本発明感光性樹脂積層体は、表1からも
明らかなように、ハレーション防止効果および解像性も
優れ、且つ経時安定性にも優れているので、産業界に寄
与すること大である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/004 506 C08L 101/00 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA02 AA03 AB02 AC01 AD01 BC00 CC20 DA34 DA35 2H096 AA02 BA05 CA05 EA02 4J002 CK001 EU116 EU226 EV326 FD200 FD206 GF00 GJ01

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記一般式(1)及び/又は一般式(2)
    で示される化合物を含有することを特徴とするハレーシ
    ョン防止用組成物。 【化1】 (式中、Xは−NH−基、酸素原子、硫黄原子を表し、
    YはOH基、NR910基(ここでR9,R10は水素原
    子、炭素数1〜3のアルキル基を表す)を示す。R1
    8は水素原子、炭素数1〜10の直鎖、分岐、環状の
    いずれでも良いアルキル基、−SO311(ここでR11
    は水素原子、炭素数1〜6の直鎖、分岐、環状のいずれ
    でも良いアルキル基を表す)で示される置換基で表され
    る。) 【化2】 (式中、Xは−NH−基、酸素原子、硫黄原子を表し、
    YはOH基、NR2324基(ここでR23,R24は水素原
    子、炭素数1〜3のアルキル基を表す。)を示し、nは
    1〜3の整数を表す。R12〜R22は水素原子、炭素数1
    〜10の直鎖、分岐、環状のいずれでも良いアルキル
    基、−SO325(ここで、R25は水素原子、炭素数1
    〜6の直鎖、分岐、環状のいずれでも良いアルキル基を
    表す)で示される置換基で表される。)
  2. 【請求項2】下記一般式(3)で示される置換基を側鎖
    に有する高分子化合物を含有することを特徴とするハレ
    ーション防止用組成物。 【化3】 (式中、Xは−NH−基、酸素原子、硫黄原子を表し、
    Yは高分子主鎖への連結基を表す。nは0〜3の整数を
    示し、R26〜R32は水素原子、炭素数1〜10の直鎖、
    分岐、環状のいずれでも良いアルキル基、−SO333
    (ここでR33は水素原子、アルキル基を表す)で示され
    る置換基で表される。)
  3. 【請求項3】少なくとも支持体、接着層および感光性樹
    脂層を有する感光性樹脂積層体において、前記接着層中
    に、請求項1、2記載のハレーション防止用組成物が含
    有されていることを特徴とする感光性樹脂積層体。
JP9925999A 1999-04-06 1999-04-06 ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体 Expired - Lifetime JP4507026B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9925999A JP4507026B2 (ja) 1999-04-06 1999-04-06 ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9925999A JP4507026B2 (ja) 1999-04-06 1999-04-06 ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2000292930A true JP2000292930A (ja) 2000-10-20
JP2000292930A5 JP2000292930A5 (ja) 2006-05-25
JP4507026B2 JP4507026B2 (ja) 2010-07-21

Family

ID=14242725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9925999A Expired - Lifetime JP4507026B2 (ja) 1999-04-06 1999-04-06 ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4507026B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009104165A (ja) * 2001-09-26 2009-05-14 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 上塗りされたフォトレジストとともに使用されるコーティング組成物
US7701129B2 (en) 2000-12-06 2010-04-20 Sumitomo Chemical Company, Limited Polymeric fluorescent substance and polymer light-emitting device using the same
US10118920B2 (en) 2015-04-20 2018-11-06 Cellcentric Ltd Isoxazolyl substituted benzimidazoles
US10428065B2 (en) 2015-04-20 2019-10-01 Cellcentric Ltd Isoxazolyl substituted imidazopyridines
CN114436971A (zh) * 2022-02-25 2022-05-06 陕西维世诺新材料有限公司 二(4-(苯并杂唑-2-基)苯基)甲胺衍生物及制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60260948A (ja) * 1984-06-07 1985-12-24 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂積層体
JPS6314886A (ja) * 1986-07-04 1988-01-22 Nippon Kagaku Sangyo Kk 酸性銅めつき浴
JPH0289055A (ja) * 1988-08-11 1990-03-29 Hoechst Ag 光重合可能な記録材料
JPH0364753A (ja) * 1989-08-03 1991-03-20 Nippon Kagaku Kogyosho:Kk 感光性樹脂用及び感光性樹脂下地材用添加物
JPH04153290A (ja) * 1990-10-18 1992-05-26 Nippon Kagaku Kogyosho:Kk 光線遮蔽剤

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60260948A (ja) * 1984-06-07 1985-12-24 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂積層体
JPS6314886A (ja) * 1986-07-04 1988-01-22 Nippon Kagaku Sangyo Kk 酸性銅めつき浴
JPH0289055A (ja) * 1988-08-11 1990-03-29 Hoechst Ag 光重合可能な記録材料
JPH0364753A (ja) * 1989-08-03 1991-03-20 Nippon Kagaku Kogyosho:Kk 感光性樹脂用及び感光性樹脂下地材用添加物
JPH04153290A (ja) * 1990-10-18 1992-05-26 Nippon Kagaku Kogyosho:Kk 光線遮蔽剤

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7701129B2 (en) 2000-12-06 2010-04-20 Sumitomo Chemical Company, Limited Polymeric fluorescent substance and polymer light-emitting device using the same
JP2009104165A (ja) * 2001-09-26 2009-05-14 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 上塗りされたフォトレジストとともに使用されるコーティング組成物
JP4667509B2 (ja) * 2001-09-26 2011-04-13 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. 上塗りされたフォトレジストとともに使用されるコーティング組成物
KR101379219B1 (ko) * 2001-09-26 2014-03-31 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨 오버코팅된 포토레지스트와 함께 사용하기 위한 코팅 조성물
US10118920B2 (en) 2015-04-20 2018-11-06 Cellcentric Ltd Isoxazolyl substituted benzimidazoles
US10428065B2 (en) 2015-04-20 2019-10-01 Cellcentric Ltd Isoxazolyl substituted imidazopyridines
CN114436971A (zh) * 2022-02-25 2022-05-06 陕西维世诺新材料有限公司 二(4-(苯并杂唑-2-基)苯基)甲胺衍生物及制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4507026B2 (ja) 2010-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1045881A (en) Support for liquid photosensitive resin
US4316949A (en) Photoreactive oligomer composition and printing plate
US3861921A (en) Subbing layers comprising polyamide and phenolic resin for metal bases of photopolymerizable elements
DE3716607C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und vorsensibilisierte Platte mit einer lichtempfindlichen Schicht, enthaltend das lichtempfindliche Gemisch
DE3812278C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
US4565771A (en) Production of gravure printing plates having plastic printing layers
EP0072918B1 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefformen mittels dieses Aufzeichnungsmaterials
US4408532A (en) Lithographic printing plate with oleophilic area of radiation exposed adduct of diazo resin and sulfonated polymer
WO2010091807A1 (de) Photopolymerzusammensetzungen als verdruckbare formulierungen
JPH02103051A (ja) 光重合可能な記録材料
US4387157A (en) Photosensitive multi-layer material and preparation of adhesive layers employed therein
JP2000292930A (ja) ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体
US4839254A (en) Photosensitive mixture and photosensitive recording material produced therefrom with polymeric binder which is reaction product of (thio) phosphinic acidiso (thio) cyanate and active hydrogen containing polymer
US5821030A (en) Lithographic printing plates having a photopolymerizable imaging layer overcoated with an oxygen barrier layer
DE4102924A1 (de) Ps-platte zur verwendung in der herstellung von lithographischen druckplatten, die kein anfeuchtwasser erfordern
US4401743A (en) Aqueous developable photosensitive composition and printing plate
CA1267478A (en) Radiation-polymerizable composition
US5340685A (en) Light-sensitive composition containing diazo resin, polyurethane resin and fluorine atom-containing copolymer surfactant
DE69610384T2 (de) Fotopolymerisierbare Zusammensetzung und fotographische Druckplatte unter Verwendung derselben
EP0040470A2 (en) Aqueous developable photosensitive composition and printing plate
JP2000206700A (ja) 感光性樹脂積層体
DE69123886T2 (de) Vorsensibilisierte Platten für die Herstellung von Druckplatten für wasserlosen Offsetdruck
JPH02223952A (ja) 放射線重合性混合物およびそれから製造された複写材料
DE69718998T2 (de) Trocken flachdruckplatte
DE2202357C3 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zu seiner Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060403

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060403

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090401

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090416

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090615

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100121

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100318

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100408

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100421

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

EXPY Cancellation because of completion of term