JPS6314886A - 酸性銅めつき浴 - Google Patents

酸性銅めつき浴

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JPS6314886A JP15619986A JP15619986A JPS6314886A JP S6314886 A JPS6314886 A JP S6314886A JP 15619986 A JP15619986 A JP 15619986A JP 15619986 A JP15619986 A JP 15619986A JP S6314886 A JPS6314886 A JP S6314886A
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板花 正
Toshio Kaneko
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Miyoshi Okamura
見好 岡村
Kiyoshi Kakuhari
潔 覚張
Kazuyoshi Iwahara
岩原 一義
Giichi Mizuno
水野 義一
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は高速の酸性銅めっき浴に関し、更に詳しくは銅
めっきの外観及び物性を改善するために′添加される光
沢剤、平゛滑化剤、硬質化剤、展延性向上剤、均−電着
性向上剤等の各種有機系添加剤の高電流密度めっきに於
ける過剰消耗を防止して、常に優れためっき外観とめっ
き皮膜物性を与えることが出来る改良された高速酸性鋼
めっき浴に関するものである。
〈従来の技術〉 硫#銅と硫酸と塩素イオンを基本成分とした酸性銅めっ
き浴に於いて、めっき速度を速める目的で電流密度を増
加させていくと、無光沢で平滑性のない脆いめっきが形
成されるようになる。この高電流密度のめっきに於ける
銅めっきの外観不良や物性低下を防止するために、従来
より数多くの研究開発が行われ、多種多様の添加剤が提
案され実用化されてきた。
その代表的なものとしては、 (A)ポリエーテル化合物またはそれらの混合物(B)
硫黄含有有機化合物またはそれらの混合物(C)窒素含
有有機化合物またはそれらの混合物(D)硫黄及び窒素
含有有機化合物またはそれらの混合物 などが挙げられる。これらは光沢化、平滑化、硬質化、
展延性向上、均一電着性向上等の作用を示すが、限定さ
れた1つの作用だけを示すものより同時にいくつかの作
用を示すものが多い、また、これら添加剤は単独添加す
るよりも、2種以上組み合わせて添加した方が各作用の
効果が大きい。
このように従来の酸性鋼めっき浴は硫酸銅と硫酸と塩素
イオンを基本成分とした浴に、銅めっきに光沢を付与す
る光沢剤、平滑性を付与する平滑化剤、硬さを付与する
硬質化剤、展延性を向上させる展延性向上剤、均一電着
性を向上させる均一電着性向上剤を、少なくとも1種を
添加して、換言すれば上記(A)、(B)、(C)、(
D)の各群の添加剤を1種または2種以上添加して、光
沢、平滑性、硬さ、展延性、均一電着性などのめっき性
能の向上を図ってきた。
〈発明が解決しようとする問題点〉 従来のめっき浴は建浴当初は確かに光沢、平滑性、展延
性等に優れた良好な銅めっきが得られる。
しかしながら、長期間高電流密度によるめっきを、低な
いし中電流密度によるめっきに於いて設定された規定補
給だけで行うと、半光沢ないし無光沢状のめっきとなり
平滑性も低下してくる。そして、ついにはやけやこげが
発生しめっき不能となる。この現象は電流密度が増加す
ればするほど、また温度が高ければ高いほど起こりやす
くなる。これは明らかに高7け流富度のめっきに於いて
、浴中の添加剤が陽極または陰極で異常消耗されている
ことを示唆している。従って、この高電流密度めっきに
於けるめっきの外観不良や物性低下は、添加剤を規定補
給以外に多量に特別補給すれば防止することが出来る。
しかし、その特別補給は規定補給と異なる組成のものが
要求され、しかも頻繁に補給しなければならないので、
浴管理が煩雑となり特別補給する添加剤の費用も無視出
来ない等の欠点や問題があった。
未発11の目的は上述の従来技術の問題点を解消し、高
速の酸性鋼めっきに於いて添加剤の過剰消耗を防止して
、外観と物性に優れためっきを与える改良された高速酸
性鋼めっき浴を提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉 本発明は硫酸銅と硫酸と塩素・fオンを基本成分とし、
かつこの基本成分に光沢剤、平滑化剤、硬   1質化
剤、展延性向上剤、均一電着性向上剤を少なくとも1種
含有させた酸性鋼めっき浴に、0.01〜100g/ 
Qの遷移金属イオンを添加したことを特徴とする酸性鋼
めっき浴である。
く作用〉 本発明は上述の如く、硫酸銅と硫酸と塩素イオンを基本
成分とし、その中に光沢剤、平滑化剤。
硬質化剤、展延性向上剤、均一電着性向上剤を少なくと
も1種含有させた酸性鋼めっき浴に、0.O1〜 lo
ng/ Qの遷移金属イオンを添加して酸性鋼めっき浴
を構成したので、このめっき浴を使用した場合にはめっ
き浴中の遷移金属イオンが各種有機系添加剤の過剰消耗
を防止するので、各種添加剤の定期補給は高電流密度の
めっきに於いても低ないし中電流密度のめっきに於いて
設定された補給賃で充分であり、得られるめっきの外観
や物性も極めて良好にすることが出来る。
〈実施例〉 本発明は硫酸銅と硫酸と塩素イオンを基本成分とし、銅
めっきに光沢を付与する光沢剤、平滑性を付与する平滑
化剤、硬さを付与する硬質化剤、展延性を向上させる展
延性向上剤、均一電着性を向上させる均−主君性向上剤
を、少なくとも1種含有する酸性鋼めっき浴、換言すれ
ば。
(A)ポリエーテル化合物またはそれらの混合物(B)
硫黄含有有機化合物またはそれらの混合物(C)窒素含
有有機化合物またはそれらの混合物(D)硫黄及び窒素
含有有機化合物またはそれらの混合物 の1種または2種以上を含有する酸性鋼めっき浴に0.
O1〜 100g/ Qの遷移金属イオンを特別に添加
することによって、高電流密度のめっきに於けるめっき
の外観不良や物性低下及び添加剤の過剰消耗を防止して
、外観と物性の優れた銅めっき皮膜を得ることを要旨と
している。
本発明に於ける酸性鋼めっきの基本浴は、硫酸銅が10
0〜350g/Q、硫酸が10〜110g/12.11
2素イオンが0.001〜0.5gIQの範囲のものが
使用し得るが、一般的には硫酸銅220±40g/Q、
硫酸60±20g/Q、塩素イオン0.07±0.03
g/Qの組成で使用される場合が多い。
本発明に於ける(A)のポリエーテル化合物とは、1分
子量たり少なくとも5個のエーテル酸素原子を含むもの
で、平均分子量300〜1,000.000のポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキ
シエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウ
リルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエー
テル等カo、oo+〜103/ Qの範囲、好ましくは
0.02〜2gIQの範囲で用いられる。
本発明に於ける(B)の硫黄含有有機化合物とは、各種
の有機スルホン酸及びそれらの塩、一般式R’ −(S
)、−R−3O3Mで表される多硫化化合物(ただし、
Mはアルカリ金属またはアンモニウムイオン;Rは独立
に1〜lO個の炭素原子の2価の脂肪族または芳呑族非
複素環式基;R′は水素、金属陽イオン、1〜20個の
炭素原子の1価の脂肪族または芳香族有機基、或いは−
R−S O。
Mまたは−R(S)q   R301M基;nとqは2
〜5の整数)、  S  CH2OR501M団を含有
するスルホフォーマルアルキル硫化物(ただし、Mはア
ルカリ陽イオン;Rは炭素原子3〜8個含むアルキル基
)′:gで、0.0001〜20g/ Qの範囲で好ま
しくは0.001−0.1g/ Qの範囲で用いられる
本発明に於ける(C)の窒素含有有機化合物とは、浴可
溶性のアミン類(アリルアミン類、アラルキルアミン類
、アルカリルアミン類、環式脂肪式アミン類等)、一般
式R−Co−NH2で示される酸アミド(ただし、Rは
脂肪族または芳香族の単量体または重合体の炭化水素基
)、アルキル化ポリアルキレンイミン類(ポリアルキレ
ンイミンとエピハロヒドリン及びアルキル化剤との反応
生成物)、アゾ染料(フェナジン染料、サフラニン染u
等)、 フタロシアニン染料、ポリマーフェナゾニウム
化合物等で、o、ooot〜40g/Qの範囲、好まし
くは0.0002〜Ig/Qの範囲で用いられる。
本発明に於ける(D)の硫黄及び窒素含有有機化合物と
は、チオ尿素及びその誘導体、チオカルバゾン酸誘導体
、デヒドロチオパラトルイジン及びその誘導体、一般式 %式% の複素環式化合物及びその互変異性体(ただし、XはS
、O,Nのいずれかの原子;Yは1〜2oの炭素原子を
有する有機基)、一般式 で示される多硫化アルキレン化合物(ただし、R1+ 
R2はアルキル基または水素;R3は芳香族、複素環式
或いは脂環式基、或いはそれらのアルキル誘導体)等で
、0.0001〜10g/ Qの範囲、好ましくは0.
0001〜0.5gIQの範囲で用いられる。
本発明に於ける遷移金属イオンとは、チタン、バナジウ
ム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、イツ
トリウム、ジルコニウム、ルテニウム、銀、イリジウム
、ランタン、セリウム等で代表される遷移金属のイオン
で、硫酸酸性の硫酸銅浴に可溶な化合物の形で、好まし
くはめっきに悲影響を及ぼす心配のない硫酸塩の形でめ
っき浴に添加される。勿論、遷移金属が希硫酸溶液に溶
解するものであるなら、金属メタルの形でめっき浴に投
入しても良い。
この遷移金属イオンは0.01g/12以下では添加剤
の過剰消耗の防止効果がなく、一方long/ Q以上
ではやけなどの外観不良を生じる。従って、0.01〜
100g/ Qが使用範囲となるが、特に0.1〜10
g/Qの範囲が好ましい結果を与える。遷移金属イオン
が何故高TL流密度のめっきに於いて、前記(A)、C
B)、(C)、(D)の如き各種有機系添加剤の過剰消
耗を防止し、かつ、それら添加剤の作用を助長するのか
、現段階では理論的に解明されていない、しかし、高電
流密度のめっきに於いて遷移金属イオンが陽極及び陰極
で何らかの電気化学的な挙動を示すために、上記添加剤
の共析、吸着、酸化、還元等による消耗が防止されてい
るものと思われる。これら遷移金属イオンはめっき皮膜
中にほとんど共析しないので、建浴時に所定量添加する
だけで充分である。ただし、めっき液のすくい出しが多
い場合はもちろん若干の補正が必要となる。
次に実施例及び比較例を示し本発明を更に詳述する0本
発明の具体例のために用いた装置はめっき静容量100
0 Qのシリンダー輪転銅めっき装置で、連続濾過ユニ
ット、加熱及び冷却装置、シリンダー輪転装置等が装着
されている。シリンダーは長さ1100!+1111周
長60Qmmの鉄製シリンダーを、また、電源は三相全
波のシリコン整流器を用いた。めっき浴は硫酸銅200
g/ Q、硫i!i1i80gIQ、塩素イオン0.0
7z/Qの組成のものを基本浴として使用した。シリン
ダーを電解脱脂、酸洗、ニッケルめっき、酸洗の順に前
処理してから本装置でめっきした。めっき条件は実施例
、比較例とも、温度45°C1陰極電流密度30A/d
112、陽極電流密度10A/dm2. シリンダー回
転数+20cpm、電気量525A)!(約16分で 
1ooJLの膜厚)とした、めっき後水洗乾燥してから
シリンダーのめつき状態を観察した。また、必要に応じ
てめっき皮膜を剥離して折り曲げ試験や硬度測定を行っ
た。
比較例1−1 基本浴に分子! 750のポリプロピレングリコール[
A−1コ0.12g/ Q、3−スルホプロビルジ硫化
物[B −1] 0.02g/12、ポリエチレンイミ
ン反応物[C−1] 00.01z/Q Janus 
Green B  [C−2] 0.01g/Qを添加
した浴で、合計20本のシリンダーをめっきした。
最初の4木までは光沢、平滑性の良好なめっきが得られ
たが、5木目から光沢かにふくなり始め、またシリンダ
一端面エツジ部にもやけが生じ始めた。 10木目から
は半光沢となりエツジ部にひげ状析出が見られた。更に
、15木目以降は完全に無光沢となりエツジ部のひげ状
析出物の数が増大した。
比較例1−2 比較例1−1と同様の浴、すなわち基本浴に[A−1]
 を0.12g/ Q、 [B−1コを0.02g/ 
Q、[C−1コを0.01g/12、 [C−2] を
0.01z/Q添加した浴でシリンダーを4本めっきし
た後、めっき浴に[A−1コを0.12g/ Q、 [
B−1] を0.02z/Q、 [C−11を0.01
g/12、 [C−21を0.01z/Q添加してめっ
きを継続した。
添加剤補給後3木目までは良好な外観のシリンダーが得
られたが、4木目は光沢かにぶり始めひげ状析出物も僅
かに発生した。ここで、めっき浴に更に[A−1]を0
.12z/Q、[B−11を0.02z/Q、 [C−
1]を0.01z/Q、[C−2] を0.01g/+
2添加してめっきを続けた。再補給後2木目までは良好
なめつきであったが、3木目には光沢の低下とひげ状析
出が見られた。
実施例1−1 比較例1−1と同様の浴、すなわち基水浴番と[A−1
1をO,12z/Q 、  [B −11を0.02g
/ Q、[C−11を0.01z/Q、[C−21を0
.01z/Q添加した浴に硫酸セリウムを5 g/ Q
添加して、シ1ノングーを合計20本めっきしたが、い
ずれのシリンダーも光沢、外観とも良好であった。
実施例1−2 比較例1−1と同様の浴、すなわち基本浴に[A−1]
 を0.12g/ Q、 [B−1コを0.02g/ 
Q、[C−13を0.01g/12、 [C−2コを0
.01g/ Q添加した浴に硫酸マンガンを5 g/ 
Q添加して、シリンダーを合計20本めっきしたが、い
ずれのシリンダーも光沢、外観とも良好であった。勿論
、実施例1−1の場合と同様にシリンダーを20木めっ
きする間は添加剤の補給は全く行っていない。
比較例2 基本浴にHO(C2H405) s H[A −2]0
.2g/Q、 N aoI S 11CH2CH2CH
2CH2OS  CH20CH2CH2CH2SO3N
a[B −2] 0.018/i2、 [D −1]  00.001z/Q CH2−N [D −2]  Q、005g/ Qを添加してめっき
を行った。
3木目のシリンダーの光沢がややにぶり始めたので、[
A−2,1を0.5gIQ、〔B−210,02g/2
、 [D −110,002gIQ[D −2’l を
0.01g/i2添加した。添加剤補給後2木目までは
良好なめっきが得られたが、3木目は光沢が低下しエツ
ジ部にひげ状析出物が僅かに発生した。
実施例2−1 比較例2と同様の浴、すなわち基本浴に[A−2]を 
0.2gIQ 、  [B −2]を0.018/Q、
 [D−1]をo、001g/12 [D −2]を0
.005g/Q添加した浴に硫酸第一鉄を20gIQ添
加して同一条件でめっきを行った。添加剤の補給なしに
10本のシリンダーをめっきしたが、いずれも良好な外
観と物性を示した。
実施例2−2 比較例2と同様の浴、すなわち基本浴に[A−2]を 
0.28IQ、  [B−2] を0.01g/+2、
 [D−11を0.001g/Ω[0−2]を0.00
5g/Q添加した浴に硫酸ジルコニウムを2g/Q添加
して同一条件でめっきを折った。添加剤の補給なしに1
0本のシリンダーをめっきしたが、いずれも良好な外観
と物性を示した。
比較例3 基本浴に分子量4000のポリエチレングリコール[A
 −3] 2gIQ 、 3−メルカプトプロパン−1
−スルホン酸ナドリウムrB−3] 0.01g/12
、平均分子l  1,000のポリアクリル酸アミド[
C−3]0.02g/Q、チオフラビンKT [D−3
] 0.01gIQを添加しめっきを行った。
3木目のシリンダーから光沢が低下し、エツジ部にひげ
状析出が見られた。また、剥離した皮膜を折り曲げたと
ころ簡単に折れてしまいもろい皮膜であることが判明し
た。
実施例3 比較例3と同様の浴、すなわち基本浴に[A−3]を2
3/Q、rB−3]をQ、OIg/ Q、 [C−3]
を0.02gIQ、[D−310,01g/Q添加した
浴に硫酸コバルトを10g/ Q添加し同一条件でめっ
きを行った。
10本のシリンダーをめっきしたがいずれも良好なめっ
き外観を示した。また、洞敲した皮膜の折り曲げテスト
を行ったが、 180度折り曲げても折れず可撓性のあ
ることが判明した。
〈発明の効果〉

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 硫酸銅と硫酸と塩素イオンを基本成分とし、かつ、この
    基本成分に光沢剤、平滑化剤、硬質化剤、展延性向上剤
    、均一電着性向上剤を少なくとも1種含有させた酸性銅
    めっき浴に、0.01〜100g/lの遷移金属イオン
    を添加したことを特徴とする酸性銅めっき浴。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000292930A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Toyobo Co Ltd ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体
JP2003147572A (ja) * 2001-10-02 2003-05-21 Shipley Co Llc 基体上に金属層を堆積させるためのメッキ浴および方法
JP2003183875A (ja) * 2001-10-02 2003-07-03 Shipley Co Llc 基体上に金属層を堆積させるためのメッキ浴および方法
US6843819B2 (en) * 2000-05-23 2005-01-18 Toyo Roki Seizo Kabushiki Kaisha Air filter
JP2006283169A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Okuno Chem Ind Co Ltd 酸性電気銅めっき液、及び含硫黄有機化合物の電解消耗量の少ない電気銅めっき方法
JP2009065207A (ja) * 2008-12-10 2009-03-26 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 集積回路チップ上の電気めっき相互接続構造
US7666283B2 (en) 2005-04-12 2010-02-23 Enthone Inc. Insoluble anode
JP2010530928A (ja) * 2007-06-22 2010-09-16 マクダーミッド インコーポレーテッド 酸性銅電気めっき浴組成物
JP2010236058A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 粗化処理銅箔、粗化処理銅箔の製造方法及び銅張積層板
JP2014513211A (ja) * 2011-04-26 2014-05-29 アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 銅の電解析出用水性酸浴

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09221140A (ja) * 1996-02-13 1997-08-26 Eihachi Iwakiri ワンパック整理整頓箱

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000292930A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Toyobo Co Ltd ハレーション防止用組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体
US6843819B2 (en) * 2000-05-23 2005-01-18 Toyo Roki Seizo Kabushiki Kaisha Air filter
JP2003147572A (ja) * 2001-10-02 2003-05-21 Shipley Co Llc 基体上に金属層を堆積させるためのメッキ浴および方法
JP2003183875A (ja) * 2001-10-02 2003-07-03 Shipley Co Llc 基体上に金属層を堆積させるためのメッキ浴および方法
JP2006283169A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Okuno Chem Ind Co Ltd 酸性電気銅めっき液、及び含硫黄有機化合物の電解消耗量の少ない電気銅めっき方法
US7666283B2 (en) 2005-04-12 2010-02-23 Enthone Inc. Insoluble anode
JP2010530928A (ja) * 2007-06-22 2010-09-16 マクダーミッド インコーポレーテッド 酸性銅電気めっき浴組成物
JP2009065207A (ja) * 2008-12-10 2009-03-26 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 集積回路チップ上の電気めっき相互接続構造
JP2010236058A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 粗化処理銅箔、粗化処理銅箔の製造方法及び銅張積層板
JP2014513211A (ja) * 2011-04-26 2014-05-29 アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 銅の電解析出用水性酸浴

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