JPS639026B2 - - Google Patents
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- JPS639026B2 JPS639026B2 JP1886882A JP1886882A JPS639026B2 JP S639026 B2 JPS639026 B2 JP S639026B2 JP 1886882 A JP1886882 A JP 1886882A JP 1886882 A JP1886882 A JP 1886882A JP S639026 B2 JPS639026 B2 JP S639026B2
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
本発明は、平滑で緻密な亜鉛めつきを行なうた
めの酸性亜鉛めつき液に関する。 緻密なめつき面及び電流密度のムラに影響され
ず、均一なめつき面を得ることはめつき技術の基
本的課題である。 従来多くの化学物質がこの目的のために広く使
用されてきた。 酸性亜鉛めつきにおいても、ポリエチレングリ
コールなどが使われているが、より平滑化作用の
すぐれた添加剤、特に電流密度のムラによつて生
ずる電着不均一性をできるだけ小さくするような
添加剤が望まれている。 本発明は酸性亜鉛めつき液に使用する新規な平
滑化剤、特に電流密度のムラによつて生ずる電着
不均一性を改良する平滑化剤を含む酸性亜鉛めつ
き液を提供することを目的とする。 即ち、本発明の酸性亜鉛めつき液は、 塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウフ
ツ化アンモニウム、塩化カリウムの1種又は2種
以上と、亜鉛塩類を主成分としてなる酸性亜鉛め
つき液(あるいはさらにこれにホウ酸を加えため
つき液)において、一般式() HOOCCH2O−(CH2CH2O)o−CH2COOH で表わされるジカルボン酸および/又は、一般式
() H2N−(CH2)3−O−(CH2CH2O)o −(CH2)3−NH2 で表わされるジアミン(但しいずれもn=0〜
1000)を0.01〜30g/添加して成る酸性亜鉛め
つき液であり、またこれに公知の減極剤、光沢剤
のうち好適なものを組合せた酸性亜鉛めつき液で
ある。 本発明の平滑化剤を使用する亜鉛めつき液の基
本組成は、シアン塩を含まないタイプのものであ
り、亜鉛イオン源としては塩化亜鉛、硫酸亜鉛、
ホウフツ化亜鉛、スルフアミン酸亜鉛等の1種以
上を約10〜300g/用い、これに電導性塩とし
て塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウフ
ツ化アンモニウム、塩化カリウムのいずれか1種
又は2種以上を20〜350g/使用する。 さらにPH緩衝剤としてホウ酸を加えることもあ
る。本発明の新期な平滑化剤は前記一般式()
で表わされるジカルボン酸(ポリエチレンオキシ
ジカルボン酸)又は一般式()で表わされるジ
アミン(ポリエチレンオキシジアミン)である。 ポリエチレングリコール鎖の重合度がめつき効
果に及ぼす影響は重合度1000以下の範囲ではさほ
ど極端な変化はなくどの重合度でも効果が認めら
れるが、重合度3〜150(分子重300〜7000)程度
が扱いやすい。 添加量は0.01g/で効果が認められるが、そ
れ以下では平滑化作用が不十分でめつき表面が粗
くなる。 添加量0.5〜6g/の範囲は最も実用性のあ
る好ましい範囲で効果も明確である。 さらに増量すれば30g/程度までは増量の効
果が認められる。それ以上では増量効果がなく経
済的に利点はないが悪影響はないので工程管理上
の理由でそれ以上に増量することもできる。 本発明のジカルボン酸とジアミンは電着面を平
滑化、緻密化する作用にすぐれ、特に電流密度の
変動によつても影響されず均一なめつきが得られ
る特徴をもつ。適切な光沢剤を併用した場合には
光沢のでる電流密度範囲も広くなる利点がある。
例えば、公知のポリエチレングリコールを使用し
た液(特公昭47−16526など)と比較すれば、光
沢範囲は塩化亜鉛/塩化アンモニウム系では従来
法では0.1〜6A/dm2のものが、本発明では0.1〜
10A/dm2に、塩化亜鉛/塩化カリウム系では、
従来法で0.2〜8A/dm2が本発明では0.1〜12A/
dm2、硫酸亜鉛/塩化アンモニウム系では従来法
の0.2〜8A/dm2から本発明の0.1〜10A/dm2に
拡大し、実用上のメリツトが大である。 さらにめつき面の状態を見ると、従来法では高
電流密度側では表面が粗く、しばしばピツトが発
生するのに対し、本発明の場合そのようなことは
ない。平均的な表面粗さは従来法では0.5〜
0.65μ、本法では0.4〜0.5μであり、均一電着性は
従来法の30〜40%から40〜50%に向上する。これ
らの特性は製品価値を高めるのに役立つことは勿
論、作業効率、電流効果も改善し、コストダウン
に寄与する他、従来困難であつた複雑な構造物の
均一めつきをも容易にするものである。 本発明の平滑化剤は公知の他の添加剤と併用す
ることができるが、公知の光沢剤、減極剤のいず
れとも併用できるわけではなく、ある特定のもの
との組合せが好適である。 芳香族カルボン酸およびその塩は減極剤として
作用することが公知であり、安息香酸をはじめフ
タル酸、サルチル酸、およびそれらのナトリウム
塩、カリウム塩などが使用される。 これらは本発明の平滑化剤との併用が効果的で
ある。上記減極剤の添加量は0.1〜20g/、特
に好ましくは1〜10g/であり、濃度が下限以
下ではクモリが発生し、上限をこえるとピツト発
生の危険がある。 光沢剤として公知の芳香族アルデヒド又は芳香
族ケトンも本発明の平滑化剤との併用が望ましい
添加剤である。ベンズアルデヒド、アセトフエノ
ン、ベンザルアセトンなどの添加は、光沢を改良
する。添加量は0.001〜3g/特に好ましくは
0.01〜1.0g/で添加量不足ではクモリ発生、
光沢度不足をもたらし、添加量過多はやはりピツ
トを発生させる。 以上の光沢剤、減極剤は、本発明の平滑化剤と
併用することが特に望ましいが、その他にも併用
が好適な公知の光沢剤としてはナフタリンスルホ
ン酸ソーダ、2エチルヘキシル硫酸ソーダ、フエ
ニルチオ尿素があげられる。 添加量は、前二者の場合は0.1〜20g/特に
好ましくは1〜10g/であり、フエニルチオ尿
素の場合は0.001〜2g/特に好ましくは0.005
〜0.5g/である。これらの添加剤が上限を超
える時には光沢に影響しないが脆くなり、下限を
超える時には芳香族アルデヒド系光沢剤の場合と
同様の問題が発生する。 本発明のめつき法の他の条件につき以下概説す
る。 液のPHは4.5〜6.0であり、6.0を超えると亜鉛の
不溶性錯塩が沈澱しはじめ、クモリ発生の危険が
ある。 4.5以下の強酸性とした場合は、光沢剤の沈澱
がおこりヤケの原因となるので、PHは適切に管理
されねばならない。液温は20〜40℃が好適で、高
すぎると電着物の表面が荒れ、クモリが発生す
る。まためつき液が濁りはじめる。逆に低すぎれ
ば、電導度が低下し、ヤケ、コゲの原因となる。
撹拌は通常の空気吹込みでよい。 電流密度は、0.1〜10A/dm2で通常行なわれ
るが、上限付近の高密度では析出は早いが、ピツ
ト、ヤケの危険があり、下限付近ではめつきにつ
きまわりが悪い。 実施例 次表に示した基本液組成と添加剤からなるめつ
き液でハルセル試験を行ない、その結果8例を比
較例3例とともに示す。ハルセル試験条件は、総
電流2A、めつき時間10分間、液温30℃(但し、
塩化カリウム液では25℃)、PH5.0、空気吹込撹拌
であり、試験結果は、光沢範囲を光沢を示す電流
密度範囲で表示し、表面粗さは表面突起の高さμ
を小坂研究所製表面粗さ計SE−3型で電流密度
2A/dm2の部分を測定した。 また均一電着性はハルセルパネルの二点の膜厚
を測定してフイールドの式から算出した。
めの酸性亜鉛めつき液に関する。 緻密なめつき面及び電流密度のムラに影響され
ず、均一なめつき面を得ることはめつき技術の基
本的課題である。 従来多くの化学物質がこの目的のために広く使
用されてきた。 酸性亜鉛めつきにおいても、ポリエチレングリ
コールなどが使われているが、より平滑化作用の
すぐれた添加剤、特に電流密度のムラによつて生
ずる電着不均一性をできるだけ小さくするような
添加剤が望まれている。 本発明は酸性亜鉛めつき液に使用する新規な平
滑化剤、特に電流密度のムラによつて生ずる電着
不均一性を改良する平滑化剤を含む酸性亜鉛めつ
き液を提供することを目的とする。 即ち、本発明の酸性亜鉛めつき液は、 塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウフ
ツ化アンモニウム、塩化カリウムの1種又は2種
以上と、亜鉛塩類を主成分としてなる酸性亜鉛め
つき液(あるいはさらにこれにホウ酸を加えため
つき液)において、一般式() HOOCCH2O−(CH2CH2O)o−CH2COOH で表わされるジカルボン酸および/又は、一般式
() H2N−(CH2)3−O−(CH2CH2O)o −(CH2)3−NH2 で表わされるジアミン(但しいずれもn=0〜
1000)を0.01〜30g/添加して成る酸性亜鉛め
つき液であり、またこれに公知の減極剤、光沢剤
のうち好適なものを組合せた酸性亜鉛めつき液で
ある。 本発明の平滑化剤を使用する亜鉛めつき液の基
本組成は、シアン塩を含まないタイプのものであ
り、亜鉛イオン源としては塩化亜鉛、硫酸亜鉛、
ホウフツ化亜鉛、スルフアミン酸亜鉛等の1種以
上を約10〜300g/用い、これに電導性塩とし
て塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウフ
ツ化アンモニウム、塩化カリウムのいずれか1種
又は2種以上を20〜350g/使用する。 さらにPH緩衝剤としてホウ酸を加えることもあ
る。本発明の新期な平滑化剤は前記一般式()
で表わされるジカルボン酸(ポリエチレンオキシ
ジカルボン酸)又は一般式()で表わされるジ
アミン(ポリエチレンオキシジアミン)である。 ポリエチレングリコール鎖の重合度がめつき効
果に及ぼす影響は重合度1000以下の範囲ではさほ
ど極端な変化はなくどの重合度でも効果が認めら
れるが、重合度3〜150(分子重300〜7000)程度
が扱いやすい。 添加量は0.01g/で効果が認められるが、そ
れ以下では平滑化作用が不十分でめつき表面が粗
くなる。 添加量0.5〜6g/の範囲は最も実用性のあ
る好ましい範囲で効果も明確である。 さらに増量すれば30g/程度までは増量の効
果が認められる。それ以上では増量効果がなく経
済的に利点はないが悪影響はないので工程管理上
の理由でそれ以上に増量することもできる。 本発明のジカルボン酸とジアミンは電着面を平
滑化、緻密化する作用にすぐれ、特に電流密度の
変動によつても影響されず均一なめつきが得られ
る特徴をもつ。適切な光沢剤を併用した場合には
光沢のでる電流密度範囲も広くなる利点がある。
例えば、公知のポリエチレングリコールを使用し
た液(特公昭47−16526など)と比較すれば、光
沢範囲は塩化亜鉛/塩化アンモニウム系では従来
法では0.1〜6A/dm2のものが、本発明では0.1〜
10A/dm2に、塩化亜鉛/塩化カリウム系では、
従来法で0.2〜8A/dm2が本発明では0.1〜12A/
dm2、硫酸亜鉛/塩化アンモニウム系では従来法
の0.2〜8A/dm2から本発明の0.1〜10A/dm2に
拡大し、実用上のメリツトが大である。 さらにめつき面の状態を見ると、従来法では高
電流密度側では表面が粗く、しばしばピツトが発
生するのに対し、本発明の場合そのようなことは
ない。平均的な表面粗さは従来法では0.5〜
0.65μ、本法では0.4〜0.5μであり、均一電着性は
従来法の30〜40%から40〜50%に向上する。これ
らの特性は製品価値を高めるのに役立つことは勿
論、作業効率、電流効果も改善し、コストダウン
に寄与する他、従来困難であつた複雑な構造物の
均一めつきをも容易にするものである。 本発明の平滑化剤は公知の他の添加剤と併用す
ることができるが、公知の光沢剤、減極剤のいず
れとも併用できるわけではなく、ある特定のもの
との組合せが好適である。 芳香族カルボン酸およびその塩は減極剤として
作用することが公知であり、安息香酸をはじめフ
タル酸、サルチル酸、およびそれらのナトリウム
塩、カリウム塩などが使用される。 これらは本発明の平滑化剤との併用が効果的で
ある。上記減極剤の添加量は0.1〜20g/、特
に好ましくは1〜10g/であり、濃度が下限以
下ではクモリが発生し、上限をこえるとピツト発
生の危険がある。 光沢剤として公知の芳香族アルデヒド又は芳香
族ケトンも本発明の平滑化剤との併用が望ましい
添加剤である。ベンズアルデヒド、アセトフエノ
ン、ベンザルアセトンなどの添加は、光沢を改良
する。添加量は0.001〜3g/特に好ましくは
0.01〜1.0g/で添加量不足ではクモリ発生、
光沢度不足をもたらし、添加量過多はやはりピツ
トを発生させる。 以上の光沢剤、減極剤は、本発明の平滑化剤と
併用することが特に望ましいが、その他にも併用
が好適な公知の光沢剤としてはナフタリンスルホ
ン酸ソーダ、2エチルヘキシル硫酸ソーダ、フエ
ニルチオ尿素があげられる。 添加量は、前二者の場合は0.1〜20g/特に
好ましくは1〜10g/であり、フエニルチオ尿
素の場合は0.001〜2g/特に好ましくは0.005
〜0.5g/である。これらの添加剤が上限を超
える時には光沢に影響しないが脆くなり、下限を
超える時には芳香族アルデヒド系光沢剤の場合と
同様の問題が発生する。 本発明のめつき法の他の条件につき以下概説す
る。 液のPHは4.5〜6.0であり、6.0を超えると亜鉛の
不溶性錯塩が沈澱しはじめ、クモリ発生の危険が
ある。 4.5以下の強酸性とした場合は、光沢剤の沈澱
がおこりヤケの原因となるので、PHは適切に管理
されねばならない。液温は20〜40℃が好適で、高
すぎると電着物の表面が荒れ、クモリが発生す
る。まためつき液が濁りはじめる。逆に低すぎれ
ば、電導度が低下し、ヤケ、コゲの原因となる。
撹拌は通常の空気吹込みでよい。 電流密度は、0.1〜10A/dm2で通常行なわれ
るが、上限付近の高密度では析出は早いが、ピツ
ト、ヤケの危険があり、下限付近ではめつきにつ
きまわりが悪い。 実施例 次表に示した基本液組成と添加剤からなるめつ
き液でハルセル試験を行ない、その結果8例を比
較例3例とともに示す。ハルセル試験条件は、総
電流2A、めつき時間10分間、液温30℃(但し、
塩化カリウム液では25℃)、PH5.0、空気吹込撹拌
であり、試験結果は、光沢範囲を光沢を示す電流
密度範囲で表示し、表面粗さは表面突起の高さμ
を小坂研究所製表面粗さ計SE−3型で電流密度
2A/dm2の部分を測定した。 また均一電着性はハルセルパネルの二点の膜厚
を測定してフイールドの式から算出した。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウ
フツ化アンモニウム、塩化カリウムの1種又は2
種以上と亜鉛塩類を主成分とし、任意成分として
さらにホウ酸を含有する酸性亜鉛めつき液におい
て、一般式 HOOCCH2O−(CH2CH2O)n−CH2COOH で表わされるジカルボン酸及び/又は、一般式 H2N−(CH2)3−O−(CH2CH2O)n −(CH2)3−NH2 で表わされるジアミン(但しいずれもn=0〜
1000)を0.01〜30g/含有することを特徴とす
る酸性亜鉛めつき液。 2 塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウ
フツ化アンモニウム、塩化カリウムの1種又は2
種以上と亜鉛塩類を主成分とし、任意成分として
さらにホウ酸を含有する酸性亜鉛めつき液におい
て、 (A) 一般式 HOOCCH2O−(CH2CH2 O)n−CH2COOH で表わされるジカルボン酸及び/又は、 一般式 H2N−(CH2)3−O−(CH2CH2O)n −(CH2)3−NH2 で表わされるジアミン(但しいずれもn=0〜
1000)を0.01〜30g/と、 (B) 芳香族カルボン酸又はその塩を0.1〜20g/
と、 (C) 芳香族アルデヒド、又は芳香族ケトン0.001
〜3g/と、 (D) ナフタリンスルホン酸ソーダ、2エチルヘキ
シル硫酸ソーダ、フエニルチオ尿素の1種又は
2種以上を0.001〜20g/ とを添加してなる酸性亜鉛めつき液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1886882A JPS58136793A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 酸性亜鉛めつき液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1886882A JPS58136793A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 酸性亜鉛めつき液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58136793A JPS58136793A (ja) | 1983-08-13 |
JPS639026B2 true JPS639026B2 (ja) | 1988-02-25 |
Family
ID=11983515
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1886882A Granted JPS58136793A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 酸性亜鉛めつき液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58136793A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220157355A (ko) * | 2019-03-04 | 2022-11-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 디스플레이 장치 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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USRE39529E1 (en) * | 1988-04-18 | 2007-03-27 | Renesas Technology Corp. | Graphic processing apparatus utilizing improved data transfer to reduce memory size |
JPH0736162B2 (ja) * | 1988-04-18 | 1995-04-19 | 株式会社日立製作所 | 図形処理装置 |
FR2765247B1 (fr) * | 1997-06-26 | 1999-07-30 | Lorraine Laminage | Bain aqueux d'electrodeposition a base de chlorures pour la preparation d'un revetement a base de zinc ou d'alliage de zinc |
JP4872407B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2012-02-08 | Jfeスチール株式会社 | 亜鉛めっき液、亜鉛めっき方法および鋼材の水素脆化感受性評価方法 |
TWI391456B (zh) * | 2007-04-03 | 2013-04-01 | 羅門哈斯電子材料有限公司 | 金屬電鍍組成物及其方法 |
-
1982
- 1982-02-10 JP JP1886882A patent/JPS58136793A/ja active Granted
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20220157355A (ko) * | 2019-03-04 | 2022-11-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 디스플레이 장치 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58136793A (ja) | 1983-08-13 |
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