DE4103586A1

DE4103586A1 - Entwickler fuer eine ps-platte, die kein anfeuchtwasser erfordert

Info

Publication number: DE4103586A1
Application number: DE4103586A
Authority: DE
Inventors: Yoshihiko Urabe; Susumu Yoshida; Nobuyuki Kita
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1990-02-07
Filing date: 1991-02-06
Publication date: 1991-08-08
Also published as: JPH03231752A; US5230989A; JP2532287B2

Description

Die Erfindung betrifft einen Entwickler für eine vorsensibi lisierte Platte (im folgenden bezeichnet als "PS-Platte, die kein Anfeuchtwasser erfordert") zur Verwendung in der Her stellung einer lithographischen Druckplatte, die während des Druckvorgangs kein Anfeuchtwasser erfordert und die eine Silikongummischicht aufweist, die als druckfarbeabstoßende Schicht dient (im folgenden bezeichnet als "lithographische Platte, die kein Anfeuchtwasser erfordert"), und insbesondere einen Entwickler für eine PS-Platte, die kein Anfeuchtwasser erfordert, und der insbesondere ausgezeichnete(s) Entwick lungsvermögen und Halbtonpunktwiedergabe zeigt und kaum Schaumbildung verursacht.

Es ist bereits eine Vielzahl von PS-Platten vorgeschlagen worden, die kein Anfeuchtwasser erfordern und die als druck farbeabstoßende Schicht eine Silikongummischicht aufweisen. Unter ihnen sind insbesondere diejenigen bevorzugt, die ein Substrat aufweisen, das in dieser Reihenfolge mit einer lichtempfindlichen Harzschicht und einer Silikongummischicht versehen ist. Konkrete Beispiele dafür sind zum Beispiel in den japanischen Patentveröffentlichungen für Einspruchszwecke (im folgenden bezeichnet als "J. P. KOKOKU") Nrn. Sho 54-26 923 (US-Pat. 38 94 873) und Sho 55-22 781) (Brit. Pat. 14 19 643) offenbart.

Die PS-Platten, die kein Anfeuchtwasser erfordern, können grob in zwei Gruppen aufgeteilt werden, von denen eine zum Beispiel J. P. KOKOKU Nrn. Sho 42-21 879, Sho 46-16 044 (US- Pat. 35 11 178) und Sho 55-22 781 und den ungeprüften japani schen Patentveröffentlichungen (im folgenden bezeichnet als "J. P. KOKAI") Nrn. 49-86 103 und Sho 49-68 803 offenbart, und deren nicht-belichteten bzw. exponierten Anteile (Bildflächen) durch einen Entwickler aufgelöst werden, und bei denen die Silikongummischicht auf den Bildflächen ent sprechend entfernt wird, und die andere ist die z. B. in J. P. KOKOKU Nrn. Sho 54-26 923, Sho 56-23 150 und Sho 56-12 861 offenbarte, deren belichteten bzw. exponierten Anteile (Nichtbildflächen) durch Photohaftung bzw. Photoadhäsion fest auf der lichtempfindlichen Schicht haften und bei denen nur die Silikongummischicht auf den nicht-belichteten bzw. -exponierten Anteilen (Bildflächen) durch die Wirkung eines organischen Lösungsmittels entfernt wird, das in der Lage ist, nur die Silikongummischicht auf den nicht-belichteten Flächen zu schwellen.

Obwohl diese PS-Platte, die kein Anfeuchtwasser erfordert, mit einem geeigneten organischen Lösungsmittel entwickelt werden kann, sind Entwickler vorgeschlagen worden, die haupt sächlich Wasser enthalten, um jede mögliche Brandgefahr aus zuschließen (siehe zum Beispiel J. P. KOKAI Nr. Hei 1-1 59 644 (US-Pat. Nr. 49 59 296) und die japanische Patentanmel dungsreihe (im folgenden bezeichnet als "J.P.A.") Nr. Hei 1-1 39 558 (EP 04 00 657 A).

Die Entwickler, die hauptsächlich Wasser enthalten, werden jedoch durch Auflösen eines kaum oder wenig in Wasser lösli chen Lösungsmittels mit Hilfe eines oberflächenaktiven Mit tels erhalten, und dementsprechend verursachen sie während den Entwicklungsarbeitsgängen Schaumbildung. Wenn sie in einer automatischen Entwicklungsmaschine verwendet werden, fließt die Lösung wegen der Schaumbildung aus dem Tank über. Außerdem schwellt oder löst das oberflächenaktive Mittel eine lichtempfindliche Schicht überhaupt nicht, und demzufolge wird das Entwicklungsvermögen des Entwicklers durch die Zugabe eines oberflächenaktiven Mittels nicht verbessert, und dessen Zugabe führt lediglich zu einer Verminderung des Was sergehalts. Deshalb ist das Entwicklungsvermögen nicht gut, obwohl der Wassergehalt sehr hoch ist.

Folglich ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Entwickler für PS-Platten, die kein Anfeuchtwasser erfordern, zur Verfügung zu stellen, der hauptsächlich Wasser enthält, aber frei ist von einem oberflächenaktiven Mittel, der ein(e) ausgezeichnete(s) Entwicklungsvermögen und Halbtonpunktwie dergabe hat und keine ernsthafte Schaumbildung verursacht.

Die Erfinder dieser Erfindung haben intensive Studien durch geführt, um die vorstehende Aufgabe zu lösen und haben her ausgefunden, daß der gewünschte Entwickler erhalten werden kann, wenn ein spezifisches Alkoholderivat mit Hilfe eines organischen Lösungsmittels, das einen Teil einer lichtemp findlichen Schicht auflösen oder schwellen kann und einen spezifischen Siedepunkt hat, in einer vorbestimmten Menge in Wasser aufgelöst wird, und haben die vorliegende Erfindung auf der Grundlage dieses Fundes fertiggestellt.

Erfindungsgemäß kann die vorstehende Aufgabe erfolgreich ge löst werden, indem ein Entwickler für PS-Platten, die kein Anfeuchtwasser erfordern, bereitgestellt wird, der aufweist:

(1) 1 bis 39 Gew.-% mindestens eines Alkoholderivats, ausge wählt aus der Gruppe der Verbindungen, die durch die fol gende allgemeine Formel (I) dargestellt werden: (wobei R¹ eine Alkyl- oder Alkenylgruppe mit 4 bis 12 Kohlenstoffatomen darstellt; R² ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt; und n eine ganze Zahl im Bereich von 1 bis 6 ist);
(2) 1 bis 39 Gew.-% mindestens eines wasserlöslichen organi schen Lösungsmittels mit einem Siedepunkt von nicht weni ger als 100°C; und
(3) 60 bis 98 Gew.-% Wasser.

Der erfindungsgemäße Entwickler für PS-Platten, die kein An feuchtwasser erfordern, wird im folgenden detaillierter er klärt.

Der erfindungsgemäße Entwickler ist eine wäßrige Lösung, die durch das Lösen bzw. Solubilisieren des Alkoholderivats (1) mit der Formel (I) in Wasser (3) mit Hilfe des wasserlösli chen organischen Lösungsmittels (2) mit einem Siedepunkt von nicht weniger als 100°C erhalten wird.

Konkrete Beispiele für die vorstehend genannten Alkoholderi vate (1) umfassen Diethylenglykol-mono-n-pentylether, Diethy lenglykol-mono-n-hexylether, Diethylenglykol-mono-n-heptyl ether, Diethylenglykol-mono-octylether, Ethylenglykol-mono-n- pentylether, Ethylenglykol-mono-n-hexylether, Ethylenglykol- mono-n-heptylether, Ethylenglykol-mono-octylether, Propylen glykol-mono-butylether, Propylenglykol-mono-pentylether, Propylenglykol-mono-n-hexylether, Propylenglykol-mono- heptylether, Propylenglykol-mono-octylether, Dipropylen glykol-mono-butylether, Dipropylenglykol-mono-pentylether, Dipropylenglykol-mono-n-hexylether, Dipropylenglykol-mono- octylether und Dipropylenglykol-mono-octenylether.

Konkrete Beispiele für das wasserlösliche organische Lösungsmittel (2) sind Glycerin, Ethylenglykol, Diethylen glykol, Propylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Diethylenglykolmonomethylether, 1,2-Butandiol, 1,3-Butandiol, 1,4-Butandiol, Carbitol, Milchsäure, Essigsäure, Triethyl phosphat, Methyllactat und Ethyllactat.

Das Alkoholderivat der Formel (I) ist ein Entwicklungsmittel (das das Entwicklungsvermögen der vorgenannten wäßrigen Lösung sicherstellt). Wenn die Menge davon geringer als 1 Gew.-% ist, zeigt die wäßrige Lösung keinerlei Entwick lungsvermögen, und wenn sie 39 Gew.-% überschreitet, wird der Wassergehalt des Entwicklers auf nicht mehr als 60 Gew.-% be schränkt, und die gewünschten Eigenschaften als wäßrige Ent wickler werden nicht erhalten. Der erhaltene Entwickler fällt in den Bereich der explosiven Verbindungen oder gefährlichen Substanzen, wie in den Feuerschutzvorschriften beschrieben (d. h. es wird möglicherweise Feuer verursacht).

Wenn die Menge des wasserlöslichen organischen Lösungsmittels geringer ist als 1 Gew.-%, wird außerdem das Lösen bzw. Solu bilisieren des vorgenannten Alkoholderivats in Wasser schwie rig, während, wenn es 39 Gew.-% übersteigt, das gleiche Pro blem, wie oben in Verbindung mit dem Alkoholderivat beschrie ben, auftritt.

Ein oberflächenaktives Mittel kann gegebenenfalls gleichzei tig als solubilisierendes Mittel für die vorgenannten Alko holderivate verwendet werden, um die Stärke des Entwicklungs vermögens zu steuern. Als oberflächenaktives Mittel zum Lös lichmachen der Alkoholderivate kann jedes oberflächenaktive Mittel, wie anionische, nichtanionische, kationische und ampho tere oberflächenaktive Mittel verwendet werden, aber insbe sondee werden anionische oberflächenaktive Mittel erfin dungsgemäß bevorzugt eingesetzt.

Die Menge dieser oberflächenaktiven Mittel liegt in allgemei nen im Bereich von 0,01 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers. Es ist eine Selbstverständ lichkeit, daß deren Menge wünschenswert so gering wie möglich ist und am bevorzugtesten Null.

Abhängig von den Arten der photopolymerisierbaren Haftschich ten auf PS-Platten, die behandelt werden sollten, können ge gebenenfalls die folgenden Verbindungen zum Entwickler zuge geben werden, um das Entwicklungsvermögen des Entwicklers zu erhöhen. Konkrete Beispiele für solche Verbindungen sind or ganische Säuren, wie Propionsäure, Buttersäure, Isobutter säure, n-Valeriansäure, Isovaleriansäure, Methylethylessig säure, Trimethylessigsäure, Capronsäure, Isocapronsäure, α-Methylvaleransäure, 2-Ethyl-n-buttersäure, Heptansäure, Octansäure und 2-Ethylhexansäure; und Aminverbindungen wie Methylamin, Ethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Triethyl amin, Propylamin, Butylamin, Amylamin, Dipropylamin, Dibu tylamin, Diamylamin, Tripropylamin, Tributylamin, Methyl diethylamin, Ethylendiamin, Trimethylendiamin, Tetramethylen diamin, Benzylamin, N,N,-Dimethylbenzylamin, N,N-Diethylben zylamin, o-, m- und p-Methoxy- (oder Methyl)benzylamin,N,N- Di-(methoxybenzyl)amin, β-Phenylethylamin, γ-Phenylpro pylamin, Cyclohexylamin, α- oder β-Naphthylamin, o-, m- und p-Phenylendiamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Trietha nolamin, 2-Methylaminoethanol, 2-Ethylaminoethanol, 2-(2- Aminoethyl)ethanol, 2-Amino-2-methyl-1,3-propandiol, 2-Amino- 1,3-propandiol, 2-Amino-2-hydroxymethyl-1,3-propandiol, 3- Methoxypropylamin, 3-Ethoxypropylamin, 3-Propoxypropylamin, 3-Isopropoxypropylamin, 3-Butoxypropylamin, 3-Isobutoxy propylamin, 2-Ethylhexyloxypropylamin, 2-Ethoxyethylamin, 2- Propoxyethylamin und 2-Butoxyethylamin.

Zusätzlich zu den vorgenannten Verbindungen kann der Entwick ler ferner einen Farbstoff wie Kristall-Violett und Astrazon- Rot enthalten, um mit der Entwicklung gleichzeitig Bildan teile zu färben.

Die PS-Platten, die kein Anfeuchtwasser erfordern, die mit den erfindungsgemäßen Entwickler entwickelt werden können, sind solche, die eine Silikongummischicht als Druckfarben-ab stoßende Schicht aufweisen, insbesondere solche, die ein Substrat aufweisen, das darauf in Reihenfolge mit einer lichtempfindlichen Schicht und einer Silikongummischicht versehen ist.

Das Substrat für PS-Platten, die kein Anfeuchtwasser erfor dern, muß eine ausreichende Flexibilität haben, um es auf den lithographischen Druckpressen anzupassen, und muß der Bela stung widerstehen, die während der Druckarbeitsgänge angewen det wird. Typische Beispiele für solche Substrate sind be schichtetes Papier, Metallplatten wie Stahl-, Eisen-, Alumi nium- und Aluminiumlegierungenplatten, Kunststoffilme wie Poly ethylenterephthalatfilm, und Papier- oder Kunststoffilme, die mit einer dünnen Platte bzw. einem Blech aus dem vorgenannten Metall laminiert sind oder auf denen eines der vorgenannten Metalle abgelagert wurde. Aluminiumplatten sind wegen ihrer extremen Dimensions- bzw. Formbeständigkeit und Billigkeit besonders bevorzugt.

Gegebenenfalls kann eine Grundierungsschicht oder dgl. auf die Oberfläche dieses Substrats aufgebracht werden, um eine lichtempfindliche Schicht zu bilden, die, wie unten beschrie ben wird, eine gleichförmige Dicke und/oder eine verbesserte Haftung zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Sub strat hat.

Als Stoffe für die Grundierungsschicht können z. B. solche erwähnt werden, die ein Epoxidharz enthalten, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 61-54 219 offenbart, oder Urethanharze, Phenol harze, Acrylharze, Alkydharze, Polyesterharze, Polyamidharze oder Melaminharze. Andererseits kann die Grundierungsschicht auch durch Photohärten einer der lichtempfindlichen Schicht ähnlichen Zusammensetzung gebildet werden. Die Grundierungs schicht kann Farbstoffe und/oder Pigmente enthalten, um die Lichthofbildung bzw. Halation zu hemmen und für andere Zwecke.

Die Dicke der Grundierungsschicht liegt vorzugsweise im Be reich von 1 bis 50 g/m², ausgedrückt durch die Beschichtungs menge.

In der vorliegenden Erfindung kann jede lichtempfindliche Schicht mit dem erfindungsgemäßen Entwickler verarbeitet wer den, sofern sich deren Löslichkeit im Entwickler ändert oder die Haftung an der Grenzfläche zwischen der lichtempfindli chen Schicht und der oberen Silikongummischicht durch die Be strahlung mit Licht geändert wird. Daher kann die lichtemp findliche Schicht entweder vom negativ arbeitenden posi tiv arbeitenden Typ sein.

Verbindungen oder Zubereitungen zum Bilden solcher lichtemp findlichen Schichten sind zum Beispiel die unten aufgeliste ten:

(A) Photopolymerisierbare lichtempfindliche Harzschicht

Schichten dieser Art können mit einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung erhalten werden, die (i) ein Monomer oder ein Oligomer mit einer olefinisch ungesättigten Doppelbindung, (ii) eine wahlfreie polymere Verbindung mit Filmbildungsver mögen und (iii) einen Photopolymerisationsinitiator bzw. -auflöser enthält.

Unter den lichtempfindlichen Harzschichten, die die vorge nannten Komponenten (i) bis (iii) enthalten, werden erfin dungsgemäß bevorzugt lichtempfindliche Harzschichten verwen det, die eine polymere Verbindung enthalten, die durch Kombi nieren der Komponenten (i) und (ii) erhalten wurde, insbeson dere eine polymere Verbindung mit photopolymerisierbaren oder photovernetzbaren und olefinisch ungesättigten Doppelbindun gen in den Seitenketten und mit Filmbildungsvermögen. Darüber hinaus werden lichtempfindliche Harzschichten, die eine Ver bindung enthalten, die durch Kombinieren der vorgenannten Komponenten (i) und (ii) erhalten wurde, und ein Monomer oder ein Oligomer (i) in der Erfindung besonders bevorzugt. Die vorliegende Erfindung ist jedoch überhaupt nicht auf diese konkreten Beispiele beschränkt.

Komponente (i) Monomere oder Oligomere mit olefinisch unge sättigten Doppelbindungen

Konkrete Beispiele für solche Monomere und Oligomere umfassen monofunktionelle Acrylate oder Methacrylate wie Polyethylen glykolmono(meth)acrylat, Polypropylenglykolmono(meth)acrylat, Phenoxyethyl(meth)acrylat; Polyethylenglykoldi(meth)acrylat, Trimethylolethantri(meth)acrylat, Neopentylglykoldi(meth) acrylat, Pentaerythritoltri(meth)acrylat, Pentaerythritol tetra(meth)acrylat, Dipentaerythritolhexa(meth)acrylat, Hexandioldi(meth)acrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxy propyl)ether, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Calcium (meth)acrylat, Natrium(meth)acrylat, solche, die erhalten wurden durch Zugeben von Ethylenoxid oder Propylenoxid zu polyfunktionellen Alkoholen wie Glycerin und Trimethylolethan und Umwandeln des Addukts in (Meth)acrylate, Urethanacrylate, wie in J. P. KOKOKU Nrn. Sho 48-41 708 und Sho 50-6034 und J. P. KOKAI Nr. Sho 51-37 193 offenbart, Polyesteracrylate wie in J. P. KOKAI Nr. Sho 48-64 183 und J. P. KOKOKU Nrn. Sho 49-43 191 und Sho 52-30 490 offenbart, polyfunktionelle Acrylate und Methacrylate so wie die, die erhalten werden durch Umset zen von Epoxidharzen mit (Meth)acrylsäure und N-Methylol acrylamid-Derivate wie in US-Patent Nr. 45 40 649 offen bart. Außerdem können die in Bulletin of Japan Adhesives Society, 1984, 20, Nr. 7, S. 300-308 aufgelisteten photo härtbaren Monomeren und Oligomeren effektiv in der vorliegen den Erfindung verwendet werden. Diese Monomeren und Oligome ren werden in der lichtempfindlichen Schicht in einer Menge im Bereich von 70 bis 1 Gew.-% und vorzugsweise 50 bis 3 Gew.-%, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der lichtemp findlichen Harzschicht, verwendet.

Komponente (ii) Polymere Verbindungen mit Filmbildungs vermögen

Konkrete Beispiele für solche polymeren Verbindungen mit Filmbildungsvermögen sind Methacrylsäurecopolymere, Acrylsäure copolymere, Crotonsäurecopolymere, Maleinsäurecopolymere, teilweise veresterte Maleinsäurecopolymere, saure Cellulose derivate, Polyvinylpyrrolidon, Polyethylenoxide, alkohollös liche Nylons, Polyester, ungesättigtes Polyester, Poly urethane, Polystrol, Epoxidharze, Phenoxyharze, Polyvinylbu tyral, Polyvinylformal, Polyvinylchlorid, Polyvinylalkohole, Polyvinylalkohole, teilweise modifiziert mit Acetal, wasser lösliche Nylons, wasserlösliche Urethanharze, Gelatine und wasserlösliche Cellulosederivate.

Durch Kombinieren der Komponenten (i) und (ii) erhaltene po lymere Verbindungen

Konkrete Beispiele für solche polymeren Verbindungen sind Co polymere von Allyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/wahlweise anderen additionspolymerisierbaren Vinylmonomeren und Alkali metallsalze und Aminsalze davon, wie in J. P. KOKAI Nr. Sho 59-53 836 offenbart; Umsetzungsprodukte von Hydroxy ethyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/Alkyl(meth)acrylat-Copo lymeren oder Alkalimetall oder Aminsalzen davon mit (Meth)acrylsäurechlorid, wie in J. P, KOKOKU Nr. Sho 59-45 979 offenbart; Umsetzungsprodukte von Maleinsäureanhydridcopoly meren mit Pentaerythritoltriacrylat durch Halbveresterung und Alkalimetall- oder Aminsalzen davon, wie in J. P. KOKAI Nr. Sho 59-71 048 offenbart; Umsetzungsprodukte von Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymeren mit Monohydroxy alkyl(meth)acrylat, Polyethylenglykolmono(meth)acrylat oder Polypropylenglykolmono(meth)acrylat durch Halbversterung sowie Alkalimetall- oder Aminsalze davon, Umsetzungsprodukte, erhalten durch Umsetzen eines Teils der Carboxylgruppen von (Meth)acrylsäurecopolymeren oder Crotonsäurecopolymeren mit Glycidyl(meth)acrylat und Alkalimetall- oder Aminsalze davon; Umsetzungsprodukte von Hydroxyalkyl(meth)acrylatcopolymeren, Polyvinylformalen oder Polyvinylbutyralen mit Maleinsäurean hydrid oder Itaconsäureanhydrid sowie Alkalimetall- oder Aminsalze davon; Produkte erhalten durch Umsetzen von Hydroxyalkyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure-Copolymeren mit dem 1 : 1-Addukt von 2,4-Tolylendiisocyanat/Hydroxyalkyl (meth)acrylat sowie Alkalimetall- und Aminsalze davon; das Produkt erhalten durch Umsetzen eines Teils von (Meth)acrylsäurecopolymeren mit Allylglycidylether sowie Alkalimetall- und Aminsalze davon, wie in J. P. KOKAI Nr. Sho 59-53 836 offenbart; Vinyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure-Co polymere sowie Alkalimetall- und Aminsalze davon; Allyl (meth)acrylat/Natriumstyrolsulfonat-Copolymere; Vinyl(meth) acrylat/Natriumstyrolsulfonat-Copolymere; Allyl(meth)acrylat/ Natriumacrylamido-1,1-dimethylethylensulfonat-Copolymere; Vinyl(meth)acrylat/Natriumacrylamido-1,1-dimethylethylensul fonat-Copolymere; 2-Allyloxyethylmethacrylat/Methacrylsäure- Copolymere und 2-Allyloxyethylenmethacrylat/2-Methacryloxy ethylhydrogensuccinat-Copolymere.

Die polymeren Verbindungen können alleine oder in Kombination verwendet werden, und zwar in einer Menge im Bereich von 30 bis 99 Gew.-% und vorzugsweise 50 bis 97 Gew.-%, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Harz schicht.

Komponente (iii) Photopolymerisationsinitiatoren

Beispiele für solche Photopolymerisationsinitiatoren sind vicinale Polyketaldonylverbindungen, wie in US-Patent Nr. 23 67 660 offenbart; α-Carbonylverbindungen, wie in US- Patent Nrn. 23 67 661 und 23 67 670 offenbart; Acyloinether, wie in US-Patent Nr. 24 48 828 offenbart; aromatische Acyloinverbindungen, die mit einem α-Kohlenwasserstoff sub stituiert sind, wie in US-Patent Nr. 27 22 512 offenbart; mehrkernige Chinonverbindungen, wie in US-Patent Nrn. 30 46 127 und 29 51 758 offenbart; eine Kombination von Tri arylimidazol-Dimer/p-Aminophenylketon, wie in US-Patent Nr. 35 49 367 offenbart; Benzothiazolverbindungen, wie in US- Patent Nr. 38 70 524 offenbart; Kombinationen von Benzothia zolverbindungen/Trihalomethyl-s-triazinverbindungen, wie in US-Patent Nr. 42 39 850 offenbart; Acridin- und Phenazin verbindungen, wie in US-Patent Nr. 37 51 259 offenbart; Oxadiazolverbindungen, wie in US-Patent Nr. 42 12 970 offenbart; Trihalomethyl-s-triazinverbindungen, die chromo phore Gruppen tragen, wie in US-Patent Nrn. 39 54 475 und 41 89 323 und J. P. KOKAI Nrn. Sho 53-1 33 428, Sho 60-1 05 667, Sho 62-58 241 und Sho 63-1 53 542 offenbart; und Benzophenon gruppen-enthaltenden Peroxyesterverbindungen, wie in J. P. KOKAI Nrn. 59-1 97 401 und Sho 60-76 503 offenbart, die al leine oder in jeder Kombination verwendet werden können.

Die Menge an diesen Photopolymerisationsinitiatoren liegt im Bereich von 0,1 bis 20 Gew.-% und vorzugsweise 1 bis 10 Gew.-%, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der lichtempfindli chen Harzschicht.

Andere Komponenten

Zusätzlich zu den vorgenannten Komponenten kann die lichtemp findliche Harzschicht weiterhin eine geringe Menge eines pho tohärtenden Diazoharzes enthalten, um die Haftung an die Grundierungsschicht zu verbessern. Beispiele für die Diazo harze sind die in US-Patent Nr. 38 67 147 und 26 32 703 offenbarten, und insbesondere werden Diazoharze, die durch Kondensate von aromatischen Diazoniumsalzen mit aktive Carbo nylgruppen enthaltenden Verbindungen (wie Formaldehyd) dargestellt werden, effektiv in der Erfindung verwendet. Bevorzugte Beispiele davon umfassen Hexafluorophosphate, Tetrafluorborate oder Phosphate von Kondensaten von p-Diazophenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd. Außerdem können bevorzugte Beispiele davon auch umfassen Sulfonate (wie p-Toluolsulfonate, Dodecylbenzolsulfonate und 2-Methoxy- 4-hydro-5-benzoylbenzolsulfonate), Phosphinate und organische Carbonate von Kondensaten von p-Diazodiphenylamin mit Formaldehyd, wie in US-Patent Nr. 33 00 309 offenbart. Diese Diazoharze können allein oder in jeder Kombination verwendet werden, und die Menge davon liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 5 Gew.-%, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Harzschicht.

Außerdem enthält die lichtempfindliche Harzschicht vorzugs weise mindestens einen Hitzepolymerisationsinhibitor. Bei spiele für brauchbare Hitzepolymerisationsinhibitoren sind Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyro gallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4′-Thiobis(3-methyl- 6-t-butylphenol), 2,2′-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol) und 2-Mercaptobenzimidazol.

Die lichtempfindliche Harzschicht kann auch Farbstoffe und/ oder Pigmente zum Färben der lichtempfindlichen Harzschicht enthalten und pH-Indikatoren und/oder Leucofarbstoffe als Auskopiermittel. Die lichtempfindliche Harzschicht kann eine geringe Menge einer Silikonverbindung enthalten, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Polydimethylsiloxan, Methylsty rol-modifiziertes Polydimethylsiloxan, Olefin-modifiziertes Polydimethylsiloxan, Polyether-modifiziertes Polydimethylsi loxan, Silanhaftvermittler, Silokondiacrylate und/oder Sili kondimethacrylate. Außerdem kann ein fluoratomhaltiges ober flächenaktives Mittel oder ein fluoratomhaltiges oberflä chenorientierendes Mittel zu der lichtempfindlichen Schicht gegeben werden, um deren Überzugs- bzw. Beschichtungseigen schaften zu verbessern. Die Mengen an diesen Additiven bzw. Zusätzen, die zu der lichtempfindlichen Schicht zugegeben werden, ist im allgemeinen nicht größer als 10 Gew.-%, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Harz schicht. Außerdem kann die lichtempfindliche Harzschicht ge gebenenfalls Siliciumdioxidpulver oder hydrophobes Silicium dioxidpulver, dessen Oberfläche mit einem (Meth)acrylolylgruppen- oder Allylgruppen-enthaltenden Silan haftvermittler behandelt ist, enthalten, und zwar in einer Menge von nicht mehr als 50 Gew.-%, auf der Grundlage des Ge samtgewichts der lichtempfindlichen Harzschicht.

(B) Photodimerisierbare lichtempfindliche Schicht

Die Schichten dieses Typs umfassen solche, die mit polymeren Verbindungen erhalten wurden, die in ihren Seitenketten oder in der Hauptkette eine Gruppe haben, die durch die folgende Strukturformel oder allgemeine Formel dargestellt wird:

(wobei R eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen dar stellt);

(wobei R₁ und R₂ unabhängig voneinander eine Alkylgruppe dar stellen, oder R₁ und R₂ können verbunden sein, um einen 5-gliedrigen oder 6-gliedrigen Ring zu bilden); oder

(wobei R eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen dar stellt).

Konkrete Beispiele davon umfassen solche, die hauptsächlich ein lichtempfindliches Polymer wie Polyester, Polyamide oder Polycarbonate, die in der Hauptkette oder in den Seitenketten als lichtempfindliche Gruppe eine Gruppe haben, die durch die folgende Formel dargestellt wird:

(zum Beispiel die in US-Patent Nrn. 30 30 208, 37 07 373 und 34 53 237 offenbarten; solche, die hauptsächlich licht empfindliche Polyester enthalten, abgeleitet von (2-Propeli den)malonsäureverbindungen wie Cinnamylidenmalonsäure und bi funktionelle Glykole (zum Beispiel lichtempfindliche Poly mere, wie in den US-Patent Nrn. 29 56 878 und 31 73 737 of fenbart); Cinnamate von Hydroxylgruppen enthaltenden Polyme ren wie Polyvinylalkohole, Stärken, Cellulosen oder Homologen davon (zum Beispiel lichtempfindliche Polymere, wie in den US-Patent Nr. 26 90 966, 27 52 372 und 27 32 301 offen bart); und Polymere, wie in J. P. KOKAI Nrn. Sho 58-25 302 und Sho 59-17 550 offenbart.

(C) Zubereitung, enthaltend photohärtbares Diazoharz oder Azidharz, wahlfreien Sensibilisator und einige Füllstoffe oder Additive

Beispiele für solche photohärtbaren Diazoharze sind Zinkchlo ridkomplexsalze von Kondensaten von Diazoaminen wie p-Diazo diphenylamin, p-Diazomonoethylanilin und p-Diazobenzylethyl anilin mit Formaldehyd.

Die lichtempfindliche Harzschicht dieses Typs differiert we sentlich von der oben in Verbindung mit dem vorhergehenden Punkt (A) aufgelisteten lichtempfindlichen Harzschicht, und zwar weil sie keine Verbindung enthält, die eine photopolymeri sierbare ungesättigte Doppelbindung trägt.

Beispiele für die photohärtbaren Azidharze sind Azidophthalat oder Azidobenzoate von Polyvinylalkohol und Ester von Styrol- Maleinsäureanhydrid-Copolymeren mit aromatischen Azidalkoho len wie β-(4-Azidophenol)ethanol.

Die lichtempfindliche Harzschicht kann ferner Sensibilisato ren, Füllstoffe, Zusätze bzw. Additive oder dgl. aufweisen, und konkrete Beispiele davon sind die gleichen wie die in Verbindung mit dem vorhergehenden Punkt (A) aufgelisteten.

(D) Zusammensetzung, enthaltend o-Chinondiazidverbindungen

Besonders bevorzugte Beispiele für die o-Chinondiazidverbin dungen sind die o-Naphthochinonverbindungen, die in einer Vielzahl von Druckschriften offenbart sind, wie in den US- Patent Nrn. 27 66 118; 27 67 092; 27 72 972; 28 59 112; 29 07 665; 30 46 110; 30 46 111; 30 46 115; 30 46 118; 30 46 119; 30 46 120; 30 46 121; 30 46 122; 30 46 123; 30 61 430; 31 02 809; 31 06 465; 36 35 709; und 36 47 443, und diese Verbindungen können bevorzugt in der lichtempfind lichen Harzschicht verwendet werden. Besonders bevorzugt sind o-Naphthochinondiazidosulfonate oder o-Naphthochinondiazido carboxylate von aromatischen Hydroxyverbindungen und o- Naphthochinondiazidosulfonsäuramide oder o-Naphthochinon diazidocarboxylsäureamide oder aromatische Aminoverbindungen, und konkrete Beispiele dafür umfassen Ester von Benzochinon- 1,2-diazidosulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazidosulfon säure mit Polyhydrophenyl (im folgenden umfaßt der Ausdruck "Ester" auch Teilester); Ester von Naphthochinon-1,2-diazido- 4-sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure mit Pyrogallol/Acetonharzen; Ester von Benzochinon-1,2-diazi dosulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazidosulfonsäure mit Phenol/Formaldehydharzen vom Novolaktyp oder Cresol/ Formaldehydharze von Novolaktyp; Amide von Poly(p- aminostyrol) mit Naphthochinon-1,2-diazido-4-sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure; Ester von Poly)p- hydroxystyrol) mit Naphthochinon-1,2-diazido-4-sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure; Ester von Poly ethylenglykol mit Naphthochinon-1,2-diazido-4-sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure; Amide von poly meren Aminen mit Naphthochinon-1,2-diazido-4-sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure; Ester von Polymeth acrylsäure p-Hydroxyanilid mit Naphthochinon-1,2-diazido-4- sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure; Amide von aminmodifiziertem Rosin, als natürlichem Harz, mit Naphthochinon-1,2-diazido-4-sulfonsäure oder Naphthochinon- 1,2-diazido-5-sulfonsäure; Ester von Epoxidharzen (erhalten aus Bisphenol A und Propylenoxid) mit Naphthochinon-1,2- diazido-4-sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sul fonsäure; Ester von Copolymeren von (Meth)acrylsäure und Dihydroxyphenylmonoester mit Naphthochinon-1,2-diazido-4- sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure; Polymerisationsprodukte von Kondensaten von Diallylamino isophthalat mit Naphthochinondiazidosulfonsäure; Produkte, erhalten durch Vernetzung von Chinondiazidosulfonaten oder Chinondiaziden mit Isocyanat oder dgl.; Ester von Bisphenol A mit Naphthochinon-1,2-diazido-4-sulfonsäure oder Naphtho chinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure; Ester von Naphthochinon- 1,2-diazido-4-sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5- sulfonsäure mit Phenolen wie Phenol und p-Cresol, oder Alkoholen wir Ethylalkohol, Propylalkohol, Butylalkohol und Amylalkohol; und Säureamide von Naphthochinon-1,2-diazido-4- sulfonsäure oder Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure mit Aminen wie Anilin und p-Hydroxyanilin.

Die vorgenannten Zusammensetzungen zur Bildung von licht empfindlichen Schichten können weiter ein oberflächenaktives Mittel wie das in den US-Patenten Nrn. 37 87 351; 44 87 823 und 48 22 713 beschriebenen enthalten; und die erhaltenen Zusammensetzungen werden in einem geeigneten Lösungsmittel aufgelöst, ausgewählt zum Beispiel aus der Gruppe bestehend aus 2-Methoxyethanol, 2-Methoxyethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Propylenglykolmonomethylether, Methanol, Etanol, Methylethylketon, Wasser und Gemische davon und dann auf die Oberfläche eines Substrats aufgebracht. Die Menge der Zusammensetzung, die aufgebracht wird, liegt wünschenswert im Bereich von etwa 0,1 bis 10 g/m² und vorzugsweise 0,5 bis 5 g/m² (gewogen nach dem Trocknen).

Die Dicke der Silikongummischicht liegt wünschenswert im Be reich von 0,5 bis 50 µm, vorzugsweise 0,5 bis 5 µm. Beispiele für geeignete Silikongummi sind die, die mit einer sogenann ten kondensierten Silikongummizusammensetzung erhalten wer den, die hauptsächlich ein lineares Organopolysiloxan (vorzugsweise Dimethylpolysiloxan) enthalten, das durch die Kondensation seiner Endgruppen Vernetzung verursacht und ein Molekulargewicht von 100 bis 100 000 hat; oder sogenannte Si likongummizusammensetzungen vom Additionstyp, bei denen ein Vernetzungsmittel mit Methylhydrogensiloxaneinheiten mit ein nem linearen Organopolysiloxan umgesetzt wird, das an beiden Enden oder in der Hauptkette Vinylgruppen hat.

Die Silikongummischicht zeigt Druckfarbenabstoßung, ihre Oberfläche hat eine leichte Haftung, und deshalb neigen Staub oder dgl. dazu, auf der Oberfläche zu haften. Aus diesem Grund wird ein Positivfilm nicht zufriedenstellend darauf haften, während die PS-Platte dem Licht ausgesetzt wird. Folglich kann ein dünner transparenter Schutzfilm auf die Oberfläche der Silikongummischicht aufgebracht werden. Wie bereits oben erklärt, ist der Schutzfilm im Belichtungsprozeß wirksam, aber im Druckprozeß unnötig und wird daher vor dem Entwicklungsprozeß durch Abschälen oder Auflösen vor dem Ent wicklungsprozeß von der Silikongummischicht entfernt. Ver wendbare Schutzfilme sind transparent bzw. durchlässig für ultraviolette Strahlen und haben eine Dicke von nicht mehr als 100 µm, vorzugsweise nicht mehr als 10 µm. Typische Bei spiele dafür umfassen Polyethylen-, Polypropylen-, Polyvinyl chlorid-, Polyvinylidenchlorid-, Polyvinylalkohol-, Polyethy lenterephthalat- und Cellophanfilme.

Außerdem können, um die Geschwindigkeit der Haftung eines Positivfilms an die Oberfläche des Schutzfilms in einem Vakuumdruckrahmen zu erhöhen, Punktmuster auf der Oberfläche des Schutzfilms gebildet werden, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 61-11 673 offenbart.

Die so hergestellten PS-Platten, die kein Anfeuchtwasser er fordern, werden in der Regel unter Vakuum in engen Kontakt mit einem Positivfilm gebracht, und zwar unter Verwendung eines Vakuumdruckrahmens für lithographische Platten, und dann durch den Positivfilm mit aktinischen Strahlen be strahlt. Wenn ein Schutzfilm aufgebracht ist, wird er zuerst von der Silikongummischicht entfernt, und dann wird die Ober fläche der belichteten PS-Platte mit einem weichen Kissen wie Gaze oder nichtgewebtem Stoff, die den erfindungsgemäßen Ent wickler enthalten, abgerieben, um die Silikongummischicht auf den Bildflächen im wesentlichen zu entfernen und daher die lichtempfindliche Schicht, die Grundierungsschicht oder die Oberfläche des Substrats auf den Bildflächen zu exponieren.

Die exponierte lichtempfindliche Schicht, die Grundierungs schicht oder die Oberfläche des Substrats auf den Bildflächen können gegebenenfalls mit einer Färbelösung, wie in J. P. KOKAI Nr. Sho 54-1 03 103 beschrieben, gefärbt werden.

Die oben beschriebene Behandlung kann auch mit einer platten befördernden automatischen Entwicklungsmaschine durchgeführt werden. Die automatische Entwicklungsmaschine weist eine Ent wicklungsfläche und gegebenenfalls eine Einfärbfläche auf, und die Fläche ist mit rotierenden Bürsten versehen. Vorzugs weise werden die rotierenden Bürsten, die in der Entwick lungsfläche angeordnet sind, bezüglich der Plattenbeförde rungsrichtung in Vorwärtsrichtung rotiert und in Richtung der Achenrotation oszilliert bzw. gependelt. Vorzugsweise werden die in der Einfärbefläche angeordneten rotierenden Bürsten in der entgegengesetzten Richtung zur Plattenbeförderungsrich tung rotiert. Der Entwickler und die Einfärbelösung werden jeweils durch eine Sprühleitung auf die zu entwickelnde oder einzufärbende Fläche auf der Oberfläche der Platte gesprüht.

Wenn der erfindungsgemäße Entwickler verwendet wird, wird kaum Schaumbildung bei der Behandlung einer PS-Platte, die kein Anfeuchtwasser erfordert, beobachtet, und der Entwickler kann ausgezeichnete Entwickelbarkeit und Halbtonpunktwieder gabe sicherstellen, und es kann eine ausgezeichnete lithogra phische Druckplatte, die kein Anfeuchtwasser erfordert, zur Verfügung gestellt werden, die frei von Defekten bzw. Fehlern wie Kratzspuren ist.

Der erfindungsgemäße Entwickler wird unten unter Bezugnahme auf die folgenden nichteingeschränkenden Arbeitsbeispiele de taillierter erklärt, und die praktisch erreichten Effekte, die mit der vorliegenden Erfindung erzielt werden, werden im Vergleich mit den unten angegebenen Vergleichsbeispielen auch im Detail diskutiert. In den folgenden Beispielen und Ver gleichsbeispielen bedeutet der Ausdruck "%", wenn nicht an ders angegeben, "Gew.-%".

Beispiel 1

Eine glatte Aluminiumplatte, die in der üblichen Weise ent fettet und mit einer wäßrigen Lösung von Natriumsilicat be handelt wurde, wurde mit einer 0,1%igen wäßrigen Lösung von -Aminopropyltrimethoxysilan 10 Sekunden behandelt und 1 min auf 140°C erhitzt, um sie zu trocknen. Dann wurde die Alumi niumplatte mit einer Titanweißdispersion mit der folgenden Zusammensetzung in einer Menge von 4,0 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) beschichtet, um eine Grundierungsschicht zu bilden.

Titanweißdispersion
Komponente
Menge (Gew.-Teile)
PARAPPRENE P26SRNAT (erhältlich von NIPPON POLYURETHANE CO., LTD.)
10
TYPEKE R-782 (erhältlich von ISHIHARA INDUSTRIES, LTD.)	1
Methylethylketon	60
Dimethylsulfoxid	20

Die folgende photopolymerisierbare lichtempfindliche Zusam mensetzung wurde auf eine Aluminiumplatte aufgebracht, auf der die Grundierungsschicht aufgebracht wurde, und zwar in einer Menge von 2,0 g/m² (gewogen nach dem Trocknen), um eine lichtempfindliche Schicht zu bilden.

Lichtempfindliche Zusammensetzung

Dann wurde die folgende Silikongummizusammensetzung auf die vorgenannte lichtempfindliche Schicht aufgebracht, und zwar in einer Menge von 2,0 g/m² (gewogen nach dem Trocknen), um eine gehärtete Silikongummischicht zu bilden.

Silikongummizusammensetzung
Komponente
Menge (Gew.-Teile)
Polydimethylsiloxan mit Hydroxylgruppen an beiden Enden (Molekulargewicht: etwa 70 000)
90
Methyltriacetoxysilan	3
Dibutylzinndioctanoat	1
Isopar G (erhältlich von ESSO CHEMICAL CO., LTD.)	1

Die so gebildete Silikongummischicht wurde mit einem einsei tig mattierten OPP (zweiachsig orientierter Polypropylen)- Film mit einer Dicke von 9 µm laminiert, um eine PS-Platte zu bilden, die kein Anfeuchtwasser erfordert. Ein positiver Film wurde auf die PS-Platte, die kein Anfeuchtwasser erfordert, gelegt, um einen engen Kontakt miteinander zu erhalten, die Anordnung wurde bildweise unter Verwendung eines üblichen Be lichtungs- bzw. Expositionsgerätes bildweise dem Licht ausge setzt, der Laminatfilm wurde abgeschält, die belichtete PS- Platte wurde 1 min in den folgenden wäßrigen Entwickler ge taucht, und die PS-Platte wurde leicht mit einem Entwick lungskissen für 1 bis 2 min abgerieben, um so nur die Sili kongummischicht auf den nichtbelichteten Anteilen zu entfer nen.

Entwickler
Komponente
Menge (Gew.-Teile)
Diethylenglykolmono-n-hexylether
15
Diethylenglykolmonoethylether	17
reines Wasser	68

Die so erhaltene lithographische Druckplatte, die kein An feuchtwasser erfordert, wurde auf einer "LISRON PRINTING PRESS" (Druckpresse) (erhältlich von KOMORI PRINTING PRESS MANUFACTURING CO., LTD.), aus der die Einrichtung zur Versor gung mit Anfeuchtwasser ausgebaut worden war, angebracht, und der Druckarbeitsgang wurde ausgeführt. Als Ergebnis konnten 50 000 oder mehr gute Kopien erhalten werden.

Beispiel 2

Ein Positivfilm wurde auf eine PS-Platte TAP, die kein An feuchtwasser erfordert (erhältlich von Toray Industries, Ltd.) gelegt, die ein Substrat mit einer lichtempfindlichen Schicht und einer Silikongummischicht darauf aufwies, um un ter Vakuum in engen Kontakt damit zu kommen, dann wurde die Anordnung unter Verwendung eines üblichen Belichtungsapparats bildweise dem Licht ausgesetzt, und ein Laminatfilm wurde von der belichteten Platte entfernt. Ein erstes Bad und ein zwei tes Bad einer automatischen Entwicklungsmaschine für PS-Platten, die kein Anfeuchtwasser erfordern, TWL 860 (erhältlich von Toray Industries, Ltd.), wurde mit einem Entwickler der folgenden Zusammensetzung gefüllt, und die Temperaturen des ersten und zweiten Bades wurden auf 35°C bzw. Raumtemperatur geregelt, um die belichtete PS-Platte zu behandeln. So wurde eine lithographische Druckplatte erhalten, die kein Anfeucht wasser erfordert, bei der nur die Silikongummischicht auf den nichtbelichteten Flächen entfernt wurde und bei der die Bil der, die der Positivfilm trug, originalgetreu wiedergegeben wurden.

Entwickler
Komponente
Menge (Gew.-Teile)
Diethylenglykolmono-n-hexylether
3,5
Triethylphosphat	6,5
reines Wasser	90

Darüber hinaus wurde ein drittes Bad der automatischen Ent wicklungsmaschine mit einer Einfärbelösung, PA-2 (erhältlich von Toray Industries, Ltd.), gefüllt, und die entwickelte PS- Platte wurde sofort nach der Entwicklungsbehandlung gefärbt. So wurde eine ausgezeichnete lithographische Druckplatte er halten, deren Untersuchung gute Platteneigenschaften zeigte.

Die Höhe des Schaums, der während des Betriebs der automati schen Entwicklungsmaschine erzeugt wurde, überschritt 1 cm nicht.

Vergleichsbeispiel 1

In der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 2 wurden das erste und zweite Bad der automatischen Entwicklungsmaschine TWL 860 mit dem folgenden wäßrigen Entwickler gefüllt, und eine bildweise belichtete TAP-Platte wurde behandelt. Der Entwickler erzeugte ernsthafte Schaumbildung, und das Ent wicklungsbad lief über.

Die Wiedergabe der Bilder war jedoch die gleiche wie in Bei spiel 2 beobachtet.

Entwickler

Beispiele 3 bis 6

In der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 2 wurden das erste und zweite Bad der automatischen Entwicklungsmaschine TWL 860 mit den folgenden wäßrigen Entwicklern 3-6 gefüllt, und eine bildweise belichtete TAP-Platte wurde behandelt. Die Bildwiedergabe war in allen Beispielen 3-6 wie in Beispiel 2 sehr gut.

Entwickler 3-6
Komponente
Menge (Gew.-Teile)
Diethylenglykolmono-n-hexylether
6
Y (siehe Tabelle 1)	X (siehe Tabelle 1)
reines Wasser	94 - X

Tabelle 1

Beispiel 7

Die folgende Zusammensetzung für eine Grundierungsschicht wurde auf die Oberfläche einer glatten Aluminiumplatte, die in der üblichen Weise entfettet worden war, in einer Menge von 8,0 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) aufgebracht und dann 3 min auf 120°C erhitzt, um den erhaltenen Film zu trocknen und zu härten.

Herstellung der Zusammensetzung für die Grundierungsschicht

Eine 450 Gew.-Teile reines Wasser und 2,6 Gew.-Teile wasser freies Natriumcarbonat enthaltende Lösung wurde auf 70°C er hitzt, 50 Gew.-Teile pulveriges Caseinlactat (New Zealand growth; erhältlich von Murray Coulburn Cooperative Co., Ltd.) wurden zu der Lösung gegeben und gerührt, um das Casein auf zulösen. Dann wurden die folgenden Komponenten zu der vorge nannten wäßrigen Caseinlösung gegeben, um eine Zusammenset zung zur Bildung einer Grundierungsschicht zu bilden.

Komponente
Menge (Gew.-Teile)
SBR-Latex (Nipol LX 110 (Feststoffgehalt: 40,5%), Tg=-60°C; erhältlich von Nippon Zeon Co., Ltd.)
50 (verringerte Menge an festen Bestandteilen)
Chinolin-Gelb WS (gelber Farbstoff, erhältlich von Chugai Chemical Co., Ltd.)	0,5
Nickole OTP-100S (anionisches oberflächenaktives Mittel, erhältlich von Nickole Chemical Co., Ltd.)	1,2
γ-Glycidoxypropyltrimethoxysilan	3,0
CH₂=CHSO₂CH₂CH(OH)CH₂SO₂CH=CH₂	3,0
reines Wasser	100

Die folgende lichtempfindliche Zusammensetzung wurde dann auf die so gebildete Grundierungsschicht aufgebracht, so daß die Überzugsmenge davon 3,0 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) war und 1 min auf 100°C erhitzt, um sie zu trocknen.

Lichtempfindliche Zusammensetzung

Die folgende Zusammensetzung für Silikongummischichten wurden auf die Oberfläche der erhaltenen lichtempfindlichen Schicht in einer Menge von 2,0 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) auf gebracht und 2 min auf 140°C erhitzt, um sie zu trocknen und so eine gehärtete Silikongummischicht zu bilden.

Zusammensetzung für Silikongummischichten

Ein einseitig mattierter Polypropylenfilm mit einer Dicke von 9 µm wurde mit der so gebildeten Silikongummischicht lami niert, um eine PS-Platte zu erhalten, die kein Anfeuchtwasser erfordert. Ein Positivfilm wurde auf die PS-Platte gelegt, um in engen Kontakt miteinander zu kommen, die Anordnung wurde für 30 counts bzw. Zählungen dem Licht eines FT 26V UDNS ULTRA-PLUS FLIP-TOP PLATE MAKER (erhältlich von Nu Arc Co., Ltd.) ausgesetzt, der Laminatfilm wurde abgeschält, und dann wurde die bildweise belichtete Platte in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 2 entwickelt. So wurde nur die licht empfindliche Schicht und die Silikongummischicht auf den nichtbelichteten Anteilen entfernt, und die belichtete bzw. exponierte Grundierungsschicht wurde getrocknet. Als Ergebnis wurde eine lithographische Druckplatte erhalten, auf der die Bilder des Positivfilms über die gesamte Oberfläche der Platte originalgetreu wiedergegeben wurden.

Claims

1. Entwickler für eine vorsensibilisierte Platte zur Verwen dung in der Herstellung einer lithographischen Druck platte, die kein Anfeuchtwasser erfordert, gekennzeichnet durch:

(1) 1 bis 39 Gew.-% mindestens eines Alkoholderivats ausgewählt aus der Gruppe, die aus Verbindungen besteht, die durch die folgende allgemeine Formel (I) dargestellt werden: (wobei R¹ eine Alkyl- oder Alkenylgruppe mit 4 bis 12 Kohlenstoffatomen darstellt; R² stellt ein Wasserstoff atom oder eine Methylgruppe dar; und n ist eine ganze Zahl im Bereich von 1 bis 6);
(2) 1 bis 39 Gew.-% mindestens eines wasserlöslichen or ganischen Lösungsmittels mit einem Siedepunkt von nicht weniger als 100°C, und
(3) 60 bis 98 Gew.-% Wasser.

2. Entwickler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkoholderivat (1) mindestens ein Mitglied ist aus gewählt aus der Gruppe bestehend aus Diethylenglykol- mono-n-pentylether, Diethylenglykol-mono-n-hexylether, Diethylenglykol-mono-n-heptylether, Diethylenglykol-mono- octylether, Ethylenglykol-mono-n-pentylether, Ethylenglykol- mono-n-hexylether, Ethylenglykol-mono-n-heptyl ether, Ethylenglykol-mono-octylether, Propylenglykol- mono-butylether, Propylenglykol-mono-pentylether, Propy lenglykol-mono-n-hexylether, Propylenglykol-mono- heptylether, Propylenglykol-mono-octylether, Dipropylen glykol-mono-butylether, Dipropylenglykol-mono-pentyl ether, Dipropylenglykol-mono-n-hexylether, Dipropylenglykol- mono-octenylether und Dipropylenglykol-mono-octyl ether.

3. Entwickler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das wasserlösliche organische Lösungsmittel (2) ein Mit glied ist ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Glycerin, Ethylenglykol, Diethylenglykol, Propylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Diethylenglykolmono methylether, 1,2-Butandiol, 1,3-Butandiol, 1,4-Butandiol, Carbitol, Milchsäure, Essigsäure, Triethylphosphat, Metyllactat und Ethyllactat.

4. Entwickler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er ferner ein oberflächenaktives Mittel als solubilisie rendes Mittel für das vorgenannte Alkoholderivat enthält.

5. Entwickler nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Mittel ein anionisches oberflächen aktives Mittel ist.

6. Entwickler nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des oberflächenaktiven Mittels im Bereich von 0,01 bis 20 Gew.-% auf der Grundlage des Gesamtgewichts des Entwicklers liegt.

7. Entwickler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er weiterhin eine organische Säure und/oder eine Aminver bindung enthält.

8. Entwickler nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Säure mindestens ein Mitglied ist aus gewählt aus der Gruppe bestehend aus Propionsäure, n- Buttersäure, Iso-Buttersäure, n-Valeriansäure, Isovaleriansäure, Methylethylessigsäure, Trimethylessigsäure, Capronsäure, Isocapronsäure, α- Methylvaleriansäure, 2-Ethyl-n-buttersäure, Heptansäure, Octansäure und 2-Ethylhexansäure.

9. Entwickler nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Aminverbindung mindestens ein Mitglied ist ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Methylamin, Ethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Triethylamin, Propylamin, Butylamin, Amylamin, Dipropylamin, Dibutylamin, Diamylamin, Tripropylamin, Tributylamin, Methyldiethylamin, Ethylendiamin, Triethylendiamin, Tetramethylendiamin, Benzylamin, N,N-Dimethylbenzylamin, N,N-Diethylbenzylamin, o-, m- und p-Methoxy- (oder Methyl)benzylamin, N,N-Di(methoxybenzyl)amin, β-Phenyl ethylamin, γ-Phenylpropylamin, Cyclohexylamin, α- oder β-Naphthylamin, o-, m- und p-Phenyldendiamin, Mono ethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, 2-Methyl aminoethanol, 2-Ethylaminoethanol, 2-(2- Aminoethyl)ethanol, 2-Amino-methyl-1,3-propandiol, 2- Amino-1,3-propandiol, 2-Amino-2-hydroxymethyl-1,3- propandiol, 3-Methoxypropylamin, 3-Ethoxypropylamin, 3- Propoxypropylamin, 3-Isopropoxypropylamin, 3- Butoxypropylamin, 3-Isobutoxypropylamin, 2- Ethylhexyloxypropylamin, 2-Ethoxyethylamin, 2-Propoxy ethylamin und 2-Butoxyethylamin.

10. Entwickler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er weiterhin einen Farbstoff zum gleichzeitigen Einfärben der Bildanteile mit der Entwicklung enthält.

11. Entwickler nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Farbstoff Kristall-Violett oder Astrazon-Rot ist.

12. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druck platte, die kein Anfeuchten beim Druckbetrieb erfordert, dadurch gekennzeichnet, daß es in Reihenfolge die Schritte aufweist: (a) bildweises Belichten einer vorsen sibilisierten Platte, die in dieser Reihenfolge ein Sub strat mit einer lichtempfindlichen Schicht und einer Si likongummischicht aufweist, und (b) Entwickeln der bildweise belichteten vorsensibilisierten Platte mit einem Entwickler, aufweisend

1) 1 bis 39 Gew.-% mindestens eines Alkoholderivats, ausgewählt aus der Gruppe, die aus Verbindungen besteht, die durch die folgende allgemeine Formel (I) dargestellt werden: (wobei R¹ eine Alkyl- oder Alkenylgruppe mit 4 bis 12 Kohlenstoffatomen darstellt; R² ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt; und n eine ganze Zahl im Be reich von 1 bis 6 ist);
(2) 1 bis 39 Gew.-% mindestens eines wasserlöslichen organischen Lösungsmittels mit einem Siedepunkt von nicht weniger als 100°C, und
(3) 60 bis 98 Gew.-% Wasser,

um mindestens die Silikongummischicht in entweder der be lichteten Fläche oder der unbelichteten Fläche zu entfer nen und dadurch eine lithographische Platte zu erhalten.

13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die vorsensibilisierte Platte weiterhin eine Grundie rungsschicht zwischen dem Substrat und der licht empfindlichen Schicht und einen Schutzfilm auf der licht empfindlichen Schicht aufweist, und daß die Schritte wei terhin einen Schritt des Entfernens des Schutzfilms nach Schritt (a), aber vor Schritt (b) aufweisen.

14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht aufweist: (i) ein Monomer oder ein Oligomer mit einer olefinisch ungesättigten Doppelbindung, (ii) ein filmbildendes polymeres Bindemittel und (iii) einen Photopolymerisationsinitiator.

15. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkoholderivat (1) mindestens ein Mitglied ist aus gewählt aus der Gruppe bestehend aus Diethylenglykol- mono-n-pentylether, Diethylenglykol-mono-n-hexylether, Diethylenglykol-mono-n-heptylether, Diethylenglykol-mono- octylether, Ethylenglykol-mono-n-pentylether, Ethylenglykol- mono-n-hexylether, Ethylenglykol-mono-n-heptyl ether, Ethylenglykol-mono-octylether, Propylenglykol- mono-butylether, Propylenglykol-mono-pentylether, Propy lenglykol-mono-n-hexylether, Propylenglykol-mono-heptyl ether, Propylenglykol-mono-octylether, Dipropylenglykol- mono-butylether, Dipropylenglykol-mono-pentylether, Di propylenglykol-mono-n-hexylether, Dipropylenglykol-mono- octenylether und Dipropylglykol-mono-octylether.

16. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das wasserlösliche organische Lösungsmittel (2) minde stens ein Mitglied ist ausgewählt aus der Gruppe beste hend aus Glycerin, Ethylenglykol, Diethylenglykol, Propylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Diethylenglykolmonomethylether, 1,2-Butandiol, 1,3-Butan diol, 1,4-Butandiol, Carbitol, Milchsäure, Essigsäure, Triethylphosphat, Methyllactat und Ethyllactat.

17. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkoholderivat (1) Diethylenglykolmono-n-hexylether ist.

18. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das wasserlösliche organische Lösungsmittel (2) Diethy lenglykolmonoethylether ist.

19. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Entwickler weiterhin einen Farbstoff enthält.

20. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die bildweise belichtete vorsensibilisierte Platte mit einem Entwickler entwickelt wird, um nur die Silikongummi schicht in den nichtbelichteten Flächen zu entfernen, um die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht in die ser Fläche freizulegen.