KR0132430B1 - 광중합성 기록물질 - Google Patents

광중합성 기록물질

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KR0132430B1 KR1019890011315A KR890011315A KR0132430B1 KR 0132430 B1 KR0132430 B1 KR 0132430B1 KR 1019890011315 A KR1019890011315 A KR 1019890011315A KR 890011315 A KR890011315 A KR 890011315A KR 0132430 B1 KR0132430 B1 KR 0132430B1
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베트라우퍼, 오일러
훽스트 아크티엔게젤샤프트
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Abstract

내용없음.

Description

광중합성 기록물질
본 발명은 층 지지체, 광중합성 층 및 대기 산소에 대한 투과성이 낮은 피복층을 포함하는 광중합성 기록물질에 관한 것이다.
당해 물질은 인쇄판, 특히 평판 인쇄판의 제조에 특히 적합하다.
전술한 유형의 인쇄판은, 예를 들면, 미합중국 특허 제3,458,311호의 기술되어 있다. 여기에 기술되어 있는 피복층은 수용성 중합체, 예를 들면, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐피롤리돈, 젤라틴 또는 아라비아 고무로 이루어진다. 이들 물질 중에서 폴리비닐 알콜이 산소 차단효과가 매우 양호하기 때문에 바람직하다.
디아조늄 화합물을 기본으로 하는 네가티브 작용성 평판인쇄판에 비하여, 광중합성 물질을 기본으로 하는 기존의 평판 인쇄판 대부분은 해상도가 현저히 떨어진다. 이러한 해상도의 저하는 상 영역의 광 유도 중합반응 후 층내의 암반응 확산이 그 원인의 일부라고 생각된다.
지지체 표면에서 반사된 산란광도 원인의 하나이다.
따라서, 해상도는 지지체 표면과 광중합성 층사이에 할레이션(halation) 방지층을 제공하거나 광중합성 층자체에 염료 또는 자외선 흡수제를 첨가하여 향상시킬 수 있다.
이러한 목적으로 층이 감광되는 파장 영역에서 흡수하는 염료 또는 안료를 통상 사용한다. 이러한 유형의 물질은, 예를 들면, 미합중국 특허 제2,791,504호, 미합중국 특허 제4,173,673호, 독일연방공화국 특허원 제22 02 360호 및 독일연방공화국 특허원 제 26 58 442호에 기술되어 있다.
이들 문헌에 기술된 염료는 특히 지지체 표면에서 반사되어 생긴 산란광의 비율을 감소시킨다.
특히 350 내지 450nm의 범위에서 흡수되는 염료를 사용하는 경우, 감광층 자체에 염료를 첨가하여 해상도를 향상시킬 수 있다.
그러나, 해상도가 향상되면 언제나 감광도가 현저히 감소된다.
미합중국 특허 제 3,218, 167호에는 박리방법(peel-apart process)에 의한 전사(transfer)상을 만드는 광중합성 물질이 기술되어 있다.
이 방법은 현저한 상 콘트라스트를 필요로 하기 때문에, 염료를 첨가하여 광중합성 층을 짙게 염색하여야 한다.
감광성의 급격한 감소를 피하기 위해, 광중합체 층의 화학선 영역에서는 염료를 가능한 한 적게 흡수하여야 한다: 그러나 현재 사용되고 있는 대부분의 염료는 광 개시제의 활성 영역에서 비교적 다량의 광선을 많이 흡수하기 때문에, 통상, 감광도가 현저하게 떨어진다.
그밖의 염료 첨가제의 효과는 언급되어 있지 않다.
중합 억제제를 첨가하여 암반응을 억제하여 해상도를 향상시키는 방법도 공지되어 있다.
이들 억제제가 아주 효과적일 경우, 이들은 대부분의 경우에 감광도를 감소시키는 단점이 있다.
또한, 이들 억제제중 다수가 일정한 저장기간 후에 층을 바람직하지 않게 변색시킨다.
공지된 억제제중 많은 억제제가 광중합 억제에 중요한 300 내지 700nm의 파장 영영게서 흡수되어 상 형성 중합반응을 방해하거나 억제한다.
국제 특허원 제WO 86/7473호에는 나프토퀴는 디아지드를 기본으로 하는 포지티브-작용성 감광성 내식막 물질에, 화학선영역의 광에 노출시킴으로써 표백되는 콘트라이트-강화 피복 층을 제공하는 방법이 공지되어 있다.
이들 고해상 물질의 해상도는 상 콘트라스트의 증가로 더욱 향상된다.
WO 제86/6182호에는 착색방지(color proofing)필름의 포지티브 작용성 감광층과 색 분해층 사이에 광학 필터 층을 제공하여 간색점(halftone dot) 증가를 막고 노출 관용도를 확장시키는 착색방지방법이 기술되어 있다.
필터층은 감광층의 최대 흡수 영역에서 광을 흡수해야 한다.
DE-C 제 21 23 702호에는 박리성 임시 지지체 필름과 광중합성 층 사이에 산소에 대한 투과성이 낮은 화합물을 함유하는 박리층이 존재하는 건내식막 물질이 기술되어 있다.
박리층은 소량의 염료로 염색시킬 수 있지만, 이 염료는 어떤 특정한 효과가 있는 것은 아니다.
감광도를 현저하게 감소시키지 않으면서 광중합성 층, 특히 평판 인쇄판 제조용 물질의 해상력을 향상시키는 것이 본발명의 목적이다.
특히, 광환원성 염료 및 임의로 광 개시제로서 상승효과를 갖는 추가의 화합물과 혼합된 광산화될 수 있는 그룹을 갖는 광중합성 화합물을 기본으로 하되 이에 의해 층 첨가물을 방해함으로써 광 개시제가 혼합효과가 손상받지 않아야하고 고감강층의 경우에 해상도가 향상되어야 한다.
본 발명은 층 지지체, 광중합성 층 및 대기 산소에 대한 투과성이 낮으며 물 또는 물/알콜 혼합물에 가용성인 중합체를 함유하는 피복층을 포함하는 광중합성 기록물질을 제공한다.
본 발명의 물질은 피복층이 20°c에서 물에 용해되고 300 내지 700nm의 범위에서 광을 흡수하여 이러한 범위에서 목적하는 복사 광원의 방사 범위에 상응하는 비흡수 영역을 갖는 염료 또는 여러 가지 염료의 적합한 혼합물을 추가로 함유함을 특징으로 한다.
본 발명의 범위내에서, “염료”란 용어는 위의 스펙트럼영역에서 광을 강하게 흡수하는 화합물(예를 들면, 이는 또한 자외선 영역에서 흡수하며 가시 스펙트럼 영역에서 조금만 염색되거나 전혀 염색되지 않는 화합물을 포함한다)을 의미하는 것으로 정의된다.
따라서, 적합한 염료는 무엇보다도 자외선 흡수제, 디아조늄 염 및 1,2-퀴논디아지드, 디-또는 트리아릴카베늄염료, 아조 염료, 아자(18) 애뉼렌 염료, 니트로 염료, 니트로소 염료, 폴리메틴 염료, 카보닐 염료 또는 황화 염료와 같은 감광성 화합물을 포함한다.
이들 염료 중에서, 카보닐 염료, 특히 안트라퀸논 염료, 아조 염료, 트리아릴카베늄 염료, 특히 트리페니메탄 염료, 아자(18) 애뉼렌 염료(예: 수용성 포르피린) 또는 프탈로시아닌 염료 및 폴리메틴 염료가 바람직하다.
적합한 염료의 예에는 다음과 같은 화합물이 포함된다. 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 4-도데실옥시-2-하이드록시-벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 하이드록시페닐벤조트리아졸, 레소르시놀 모노벤조에이트, 오일 오렌지(C.I. 12 055), 수단 오렌지 RA(C.I. 12055), 카프라실 오렌지(C.I. 60), 수단 옐로우(C.I. 30), 시리우스 라이트 옐로우 R 엑스트라(C.I. 29 025), 레마졸 브릴리언트 오렌지 RR(C.I. 17 756), 레마졸 브릴리언트 오렌지 3R(C.I. 17 757), 레마졸 골드 옐로우 G(C.I. 18 852) 레마졸 옐로우 RTL(리액티브 옐로우 24), 패스트 라이트 옐로우 3G(C.I. 19 120), 아스트라존 옐로우 3G(C.I. 48 055), 아스트라존 옐로우 5G(C.I. 48 065) 또는 베이직 옐로우 52 115(C.I. 48 060), 아스트라존 오렌지 3R(베이직 오렌지 22), 아스트라존옐로우 7GLL, 아스트라존 옐로우 GRL, 아스트라존 옐로우 브라운 3GL(베이직 오렌지 3012), 아스트라존 블루 3RL(베이직 블루 47), 베이직 블루 3RL, 메틸렌 블루, 이르가세트 블루 2GLN, 브로모페놀 블로(CAS-62625-28-9), 세르바 블루 G, 코르볼린옐로우 HG, 노보필 옐로우 GR(피그멘트 옐로우 13), 오라솔 옐로우, 레마졸 옐로우, 타트라진, 자폰 패스트 옐로우CGG, 패티 옐로우 맥실론 블릴리언트 옐로우, 레마크릴 옐로우, 아스트라존레드 바이올릿 3 RN, 아스트라존 바이올릿 F3 RL, 아스트라존 그린 M, 블릴리언트 그린 (42040), 메틸 오렌지, 메틸 레드, 두아신애시드 블루 R, 빅토리아 블루 FB(44045), 오라솔 레드 B, 레마졸 옐로우 오렌지, 오라솔 오렌지 RW-A, 애시드 그린, 맥실론 레드 GRL, 맥실론 레드 BL-N, 누빌론 오렌지 R(애시드 오렌지 7) 및 아스트라 옐로우 R. 특히 적합한 것은 아스트라존 오렌지 R(C.I. 48 040), 아스트라존 옐로우 브라운 3GL, 브로모페놀 블루, 메틸렌 블루, 맥실론 블루 GRL 및 아스트라존 블루 3 RL이다. 더우기, 독일연방공화국 특허 제1 058 836호에 따른 옥사디아졸 유도체, 6-페닐-2-피론 (독일연방공화국 특허 제 16 68 358호), 4,4'-디벤잘 아세톤(예: 4-디에틸아미노 -4'-메톡시-디벤잘아세톤) 및 쿠마린 유도체(예: 3-아세틸-7-디에틸아미노쿠마린)가 더욱 적합하다.
또한, 280 내지 450nm의 스펙트럼 영역에서 감광되는 디아조늄 염 또는 퀴논 디아지드와 같은 감광성 화합물이 염료로서 적합하다.
이들 황색 화합물을 피복층에 혼입시킴으로써 네가티브 작용성 층의 해상력을 현저하게 향상시킬 수 있다.
광학 필터 층을 부착시킴으로써 전색적으로 감광되는 광중합성 층이 300 내지 700nm의 스펙트럼 영역에서 감광되어 선택된 염료 및 이의 흡수 특성에 따라 달라지는 “광학적 창문(optical windows)”이 생길 수 있다.
이렇게 하여 다음과 같은 이용 분야에 사용되는 인쇄판을, 예를 들면, 단일의 고감광성 광중합체 층으로서 제조할 수 있다:
a) 영상(projection) 노출(400내지 450nm)
b) 레이저 노츨(488 내지 514nm; 아르곤 이온 레이저)
c) 자외선 노츨(400nm이하)
본 발명에 따른 물질에 있어서, 염료는 필터 층 및 산소차단층 역할을 하는 피복층에 목적하는 특성을 얻기에 유효한양으로 존재한다.
피복층내에서의 염료의 농도는 무엇보다도 감광성 기록물질의 목적하는 용도(예:영사 노출용 옵셋 인쇄판, 레이저 조사로 상을 만들 수 있는 인쇄판, 자외선에 감광되는 인쇄판 또는 감광성 내식막), 피복층의 두께, 광중합성 층의 조성, 감광 유형 및 사용되는 광원의 형태 및 강도에 따라 달려져 광범위한 범위내에서 변할 수 있다.
통상, 피복층에 함유된 염료의 양은 0.01 내지 70중량% 바람직하게는 0.05 내지 50중량%, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 25중량%이다.
이는 염료의 흡수 범위에서 피복층의 광학 밀도가 0.5 내지 2.5로 되도록 선택해야 한다.
대기 산소가 거의 투과하지 못하는 중합체는 미합중국 특허 제3,458,311호에 있는 중합체 중의 하나일 수 있다.
예로는 특히 중합체가 물 또는 물과 저급 알콜(예 : 에탄올)로 이루어진 혼합물(여기서, 알콜의 함량은 50% 이하, 바람직하게는 30% 이하이다)에 20℃에서 가용성을 유지하는 한 비닐 에테르 및 비닐아세탄 단위도 함유할 있는 폴리비닐 알콜 및 부분적으로 가수분해될 폴리비닐 아세테이트가 있다.
또한 젤라틴 아라비아 고무, 알킬 비닐 에테르와 말레산 무수물과의 공중합체, 폴리비닐 피롤리돈, 콜리카복실산, 에틸렌 옥사이드의 수용성 고분자량 중합체(M=100,00 내지 3,000,000), 폴리비닐 알콜에 대한 에틸렌옥사이드의 수용성 그라프트 중합체, 탄화수소 및 하이드록시에틸셀률로즈도 사용할 수 있다.
20℃에서 층에서의 산소 투과도가 30㎤/㎡/d/bar, 특히 5㎤/㎡/d/bar미만인 중합체가 바람직하다.
피복층은 화학선을 투과해야 하며, 이의 두께는 통상 0.5내지 10㎛, 바람직하게는 1 내지 4㎛이다.
이는 수용액 또는 물과 용기 용매와의 혼합물로부터 통상의 방법으로 광중합성 층의 맨 윗부분에 피복시킨다.
피복용액은 보다 나은 습윤 특성을 위해 이의 고체 함량을 기준으로하여 10중량% 이하, 바람직하게는 5중량%이하의 계면활성제를 함유할 수 있다.
사용할 수 있는 계면활성 물질에는 음이온성, 양이온성 및 비이온성 계면활성제, 예를 들면, 탄소수 12 내지 18의 나트륨 알킬 설폐이트(예: 나트륨 도델실 실페이트) 및 나트륨 알킬 설포네이트, N-세틸-베타인, C-세틸베타인, 알킬아미노칼복실레이트, 알킬아민디카복실이트 및 평균 분자량 400 이하의 폴리에틸렌 글리콜이 포함된다. 본 발명에 따르는 기록물질의 광중합성 층은 필수 구성성분으로서 중합성 결합제, 1 개 이상, 바람직하게는 2개 이상의 말단 에틸렌계 불포화 그룹을 갖는 유리 라디칼 중합성 화합물 및 화학선에 의해 활성화될 수 있는 중합 개시제 또는 개시제 혼합물을 함유한다.
본 발명의 목적에 적합한 중합성 화합물은 공지되어 있으며, 예를 들면, 미합중국 합중국 특허 제 3,060,023호에 기술되어 있다.
바람직한 예는 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리올 및 디펜타에리트리올의 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 및 다가 지환족 알콜 또는 N-치환된 아크릴아미드 및 메타크릴아미드의 아크릴레이트 및 메타크릴레이트와 같은 2가 또는 다가 알콜의 아클릴산 및 메타크릴산 에스테르이다. 또한 모노 이소시아네이트 또는 디이소시아네이트와 다가알콜의 부분 에스테르와의 반응 생성물을 사용하는 것도 이점이 있다.
이러한 단량체는 독일연방공화국 특허 제2,064,079호, 독일연방공화국 특허 제2,361,041호 및 독일연방공화국 특허 제 2,822,190호에 기술되어 있다.
분자내에 하나 이상의 광산화성 그룹만을 함유하거나 하나 이상의 우레탄 그룹을 추가로 함유하는 중합성 화합물이 특히 바람직하다.
적합한 광산화성 그룹은 특히 아미노 그룹, 우레아 그룹, 티오 그룹(이는 헤테로사이클릭 환의 구성 성분일 수도 있다) 및 엔올 그룹이다.
이러한 그룹의 예에는 틀리에탄올아미노, 트리페닐아미노, 티오우레아, 이미다졸, 옥사졸, 티아졸, 아세틸아세토닐, N-페닐글리신 및 아스코르브산 그룹이 있다. 1급, 2급 및 특히 3급 아미노 그룹을 갖는 중합성 화합물이 바람직하다.
광산화성 그룹을 갖는 화합물의 예는 일반식(Ⅰ)의 아크릴산 및 알크아크릴산 에스테르이다.
Figure kpo00001
상기식에서,
Figure kpo00002
또는 -S-이고,
R은 알킬, 하이드록시알킬 또는 아릴 그룹이며, R1및 R2는 각각 수소원자, 알킬 그룹 또는 알콕시 알킬 룹이고, R3은 수소원자이거나, 메틸 또는 에틸 그룹이며, X1은 탄소수 2내지 12의 포화 탄화수소 그룹이고, X2는 5개 이하의 메틸렌 그룹이 산소원자에 의해 치환된 (c+1)가 포화 탄화수소 그룹이며, D1및 D2는 각각 탄소수 1 내지 5의 포화 탄화수소 그룹이고, E는 탄소수 2내지 12의 포화 탄화수소 그룹, 환 구성원자로서 2개 이하의 N, O또는 S원자를 함유하는 지환족 그룹, 탄소수 6 내지 12의 아릴렌 또는 5내지 6개의 환 구성원자를 갖는 헤테로사이클릭 방향족 그룹이며, a는 0 또는 1 내지 4의 정수이고, b는 0 또는 1이며, c는 1 내지 3의 정수이고, m은 Q의 원자가에 따라 2, 3 또는 4이며, n은 1 내지 m의 정수이되, 동일한 정의의 기호는 모두 서로 동일하거나 상한이다.
이러한 일반식의 화합물, 이의 제조방법 및 용도는 이전의 독일연방공화국 특허원 제 p37 10 279.6호에 상세히 기술되어 있다.
일반식(I)의 화합물에서 하나 이상의 라디칼 R 또는 하나 이상의모난 괄호 속에 표시된 유형의 라디칼이 중심 그룹 Q에 결합될 경우, 이들 라디칼은 서로 상이하다.
Q의 치환체가 모두 중합성 라디칼인, 예를 들면, m이 n인 화합물이 통상 바랍직하다.
통상, 하나 이하의 라디칼 a가 0이며, 바람직하게는 a는 1이다.
알킬 또는 하이드록시알킬 그룹 R의 탄소수는 통상 2내지 8, 바람직하게는 2 내지 4이다.
아릴 라디칼 R은 통상 단핵 또는 이핵, 바람직하게는 단핵이며, 탄소수 5 이하의 알킬 또는 알콕시 그룹으로 또는 할로겐 원자로 치환될 수 있다.
알킬 및 알콕시알킬 그룹 R1및 R2는 1 내지 5개의 탄소원자를 함유할 수 있다.
R3은 바람직하게는 수소원자 또는 메틸 그룹, 특히 메틸 그룹이다.
X1은 바람직하게는 탄소수 4내지 10의 직쇄 또는 측쇄 지방족 또는 치환족 라디칼이 바람직하다.
X2는 바람직하게는 5개 이하의 탄소가 산소로 치환된 탄소수 2내지 15의 그룹이다.
순수한 탄소쇄의 경우, 통상 탄소수가 2 내지 12, 바람직하게는 2 내지 6인 것이 사용된다.
X2는 또한 탄소수 5 내지 10의 치환족 그룹, 특히 사이클로 헥실렌 그룹일 수 잇다.
D1및 D2는 동일하거나 상이할 수 있으며, 2개의 질소원자와 함께 5 내지 10개, 바람직하게는 6개의 환 구성원자를 갖는 포화 헤테로사이클릭 환을 형성한다.
알킬렌 그룹 E는 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소원자를 가지며, 아릴렌 그룹 E는 바람직하게는 페닐렌 그룹이다.
바람직한 지환족 그룹은 사이클로헥실렌 그룹이며 바람직한 방향족 헤텔로사이클은 헤텔로원자로서 또는 S를 가지며 5 또는 6개의 환 원을 갖는 것이다.
c의 값이 1이 바람직하다.
라디칼마다 2개의 우레탄 그룹을 함유하는 일반식(I)의 중합성 화합물(b=1)은 유리 하이드록실 그룹를 함유하는 아크릴산 또는 알킬아크릴산 에스타르를 종래의 방법으로 동몰량의 디이소시아네이트와 반응시키고 과량의이소시아네이트 그룹을 하이드록실알킬아민, N,N-비스-하이드록시알킬피페라진 또는 N,N,N',N'-테트라하이드록시알킬-알킬렌디아민(이들 각각에서 개개의 하이드록시알킬 그룹은 알킬 또는 아릴 그룹 R로 치환될 수 있다)고 반응시켜 제조한다.
a가 0일 경우, 결과는 우레아그룹화이다.
출발 물질인 하이드록시알킬아민의 예는 트리에탄올아민, N-알킬-N, N디(하이드록시알킬)아민, 디에탈올아민, 트리스 (2-하이드록시프로필)아민 및 트리스(2-하이드록시부틸)아민이다.
출발 물질 디이소시아네이트의 예는 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 1,4-사이클로헥실렌 디이소시아네이트 및 1,1,3-트리메틸-3-이소시아 나토메틸-5-이소시아네이토사이클로헥산이다.
사용되는 하이드록실-함유 에스테르는 특히 하이드록시에틸 메타크릴레이트 및 하이드록시프로필 메타크릴레이트(n 또는 이소) 및 상응하는 아크릴레이트이다.
b가 0인 일반식(I)이 중합성 화합물은 전술한 하이드록시 알킬아미노 화합물을 이소시아네이토-함유 아크릴산 또는 알킬아크릴산 에스테르와 반응시켜 제조한다. 사용되는 이소시아네이트-함유 에스테르는 특히 이소시아네이토에틸(메트)아크릴레이트이다.
그외에 광산화성 그룹을 갖는 적합한 화합물은 일반식 (Ⅱ)의 화합물이다.
Figure kpo00003
상기식에서 Q, R, R1, R2, R3, a, m 및 n은 각각 위에서 정의한 바와 같고,
Q는 추가로 그룹 -N-E'-N-(여기서, E'는 다음 일반식(Ⅲ)의 그룹이다)일 수 있다.
Figure kpo00004
상기식에서, C는 일반식(Ⅰ)에서 정의한 바와 같다.
일반식(Ⅱ)의 화합물은 하이드록시알킬 (알크)아크릴 레이트가 상응하는 글리시딜 (알크)아크릴레이트로 치환되는 것을 제외하고는 일반식(Ⅰ)의 화합물과 유사하게 제조한다.
이 일반식의 화합물, 이의 제법 및 용도는 독일연반공화국 특허원 제P 37 38 864.9호에 상세히 기술되어 있다.
또한 광산화성 그룹을 갖는 적합한 화합물은 일반식 (Ⅳ)의 아크릴산 및 알크아크릴산 에스테르이다.
Figure kpo00005
1'는 C1Hi 또는 CiHi-1O-CONH(-X1-NHCOO)b-X2-OOC-C=CH2이며, D3은 질소원자와 함께 5- 또는 6-원 환을 형성하는 탄소수 4 내지 8의 포화 탄화수소 그룹이고,
Z는 수소원자 또는 일반식 CKH2K-O-CONH(-X1-NHCOO)b-
Figure kpo00006
의 라디칼이며,
i 및 k는 1 내지 12의 정수이고, n'는 Q'의 원자가에 따라 1, 2 또는 3이며, R3, X1, X2, D1, D2, a 및 b는 각각 일반식(Ⅰ)에서 정의한 바와 같되, 동일한 정의의 기호는 서로 동일하거나 상이하며 그룹 Q상의 적어도 하나의 치환체가 0이다.
일반식(Ⅳ)의 화합물 중에서, 우레탄 그룹을 제외한 하나이상의 우레아 그룹을 함유한 것이 바람직하다.
우레아 그룹은 질소의 원자가가 치환되거나 비치환된 탄화수소 라디칼로 포화된 일반식
Figure kpo00007
의 본 발명의 그룹을 위한 것이다.
그러나, 하나의 질소원자상의 하나의 원자가가 추가의 카보닐아미드 그룹(CONH)에 결합되어 뷰렛 구조를 형성할 수 있다.
일반식(Ⅳ)에서 a는 0 또는 1이 바람직하고, i는 2 내지 10이 바람직하다.
일반식(Ⅳ)의 중합성 화합물은 일반식(Ⅰ)의 화합물과 동일하게 제조한다.
일반식(Ⅳ)의 화합물 및 이의 제법은 상기한 독일연방 공화국 특허원 제P 38 24 903.0호에 상세히 기술되어 있다.
광중합층내의 광중합성 화합물의 비율은 비휘발성 성분을 기준으로 통상 약 10 내지 80중량%, 바람직하게는 20 내지 60중량%이다.
사용할 수 있는 결합제의 예에는 염소화 폴리에틸렌, 염소화 폴리프로필렌, 폴리(메트)아크릴산 알킬 에스테르(여기서, 알킬 그룹은, 예를 들면 메틸, 에틸, n-부틸, i-부틸, n-헥실 또는 2-에틸헥실이다), (메트)아크릴산 알킬 에스테르와 하나 이상의 단량체(예:아크릴로니트릴, 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, 스티렌 또는 부타디엔)와의 공중합체, 폴리비닐 클로라아드, 비닐 클로라이드/아크릴로니트릴 공중합체, 폴리비닐리덴 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드/아크릴로 니티릴 공중합체, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비니 알콜, 폴리아크릴로니트릴, 아크릴로니트릴/스티렌 공중합체, 아클리로니트릴/부타디엔/스티렌 공중합체, 폴리스티렌, 폴리메틸스티렌, 폴리아미드(예:나일론-6), 폴리우레탄, 메틸셀룰로즈, 에틸셀룰로즈, 아세틸셀룰로즈, 폴리비닐포르말 및 폴리비닐 부티랄이 있다.
특히 적합한 결합제는 수 불용성이며 유기 용매에 용해되고 알칼리성 수용액에 용해되거나 적어도 팽창되는 결합체이다.
특히 언급할 수 있는 것에는 카복실 함유 결합제, 예를 들면, (메트)아클리산 및/또는 이의 불포화 동족체(예:크로톤산)의 공중합체, 말레산 무수물 또는 이의 반에스테르의 공중합체, 하이드록실 함유 중합체와 티카복실산 무수물과의 반응생성물 및 이의 혼합물이 있다.
활성화된 이소시아네이트와 완전히 또는 일부만 반응된 산성 H원장를 포함하는 그룹을 갖는 중합체의 반응 생성물, 예를 들면, 하이드록실 함유 중합체와 지방족 또는 방향족 설포닐이소시아네이트 또는 포스핀산 이소시아네이트와의 반응 생성물도 사용할 수 있다.
또한 충분한 수의 유리 OH 그룹을 함유하거나 알칼리성 수용액에 용해되도록 개질될 경우 하이드록실 함유 중합체［예:하이드록실알킬 (메트)아클릴레이트의 공중합체, 알릴 알콜의 공중합체, 비닐 알콜의 공중합체, 폴리우레탄 또는 폴리에스테르］ 및 에폭시 수지, 또는 방향족이 되도록 결합된 하이드록실 그룹을 함유하는 중합체, 예를 들면, 페놀과 축합될 수 있는 카보닐 화합물, 특히 포름알데히도, 아세트알데히도 또는 아세톤의 축합생성물 또는 하이드록시스티렌의 공중합체도 적합하다. 끝으로, (메트)아크릴아미트와 알킬 (메트)아클릴레이트와의 공중하베도 사용할 수 있다.
전술한 중합체는 특히 500 내지 200,000 이상, 바람직하게는 1,000 내지 100,000의 분자량의 10 내지 250, 바람직하게는 20 내지 200의 산가나 50 내지 750, 바람직하게는 100 내지 500의 하이드록실 가를 가질 경우에 바람직하다.
바람직한 알칼리 가용성 결합제는 다음과 같다:
(메트)아클리산과 알킬 (메트)아클리레이트, 또는 (메트) 알크릴로니트릴 등과의 공중합체, 크로톤산과 알킬 (메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴로니트릴 등과의 공중합체, 비닐 아세트산과 알킬 (메트)아크릴레이트와 공중합체, 말레산 무수물과 치환되거나 비치환된 스티렌과의 공중합체, 불포화 탄화수소, 불포화 에테르 또는 에스테르, 말레산 무수물의 공중합체의 에스테르화 생성물, 디-또는 폴리카복실산의 무수물과의 하이드록실 함유 중합체의 에르테르화 생성물, 하이드록실알킬 (메트)아크릴레이트와 알킬 (메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴로니트릴등과의 공중합체, 알릴 알콜과 치환되거나 비치환된 스티렌과의 공중합체, 비닐 알콜과 알킬 (메트)아크릴레이트 또는 기타 중합성 불포화 화합물과의 공중합체, 폴리우레탄(단, 이들은 충분한 수의 유리 OH 그룹을 가져야 한다), 에폭시 수지, 폴리에스테르, 부분 가수분해된 비닐 아세테이트 공중합, 유리 OH그룹을 갖는 폴리비닐 아세탈, 하이드록시스티렌과 알킬 (메트) 아크릴레이트 등과의 공중합체, 페놀-폴름알데히드 수지 (예:노볼락).
감광층내의 결합제의 양은 통상 20 내지 90중량%, 바람직하게는 40 내지 80중량%이다.
사용되는 광 개시제는 여러 가지 물질일 수 있다. 이의 예를 들면 벤조페논, 아세토페논, 벤조인, 벤질, 벤질 모노케날, 플로우레논, 티옥산톤, 다핵 퀴논, 아크리딘 및 퀴나졸린의 기본 골격으로부터 유도된 것, 및 트리클로로메틸-S-트리아진, 2-할로멜틸-5-비닐-1,3,4-옥사디아졸 유도체, 트리클로로메틸-치환된 할로옥사졸 또는 트리할로베틸 함유 카보닐메틸렌 헤테로사이클(독일연방공화국 특허 제 3,333,450호에 기재되어 있음)이 있다.
광 개시제는 특히 방사선에 의해 분해되는 트리할로메틸 화합물 및 경우에 따라서는 아크리딘, 페나진 또는 퀴녹살린 광개시제 화합물(이는 초기의 독일연방공화국 특허원 제 P 37 10 281.8호 및 제 P 37 10 282.6호에 기재되어 있다)과 혼합되는 경우, 광환원성 염료가 바람직하다.
적합한 광환원성 염료는 특히 크산텐, 벤조크산텐, 벤조티오크산텐, 티아진, 피로닌, 포르피린 및 아크리딘 염료이다.
염료의 양은 층의 비휠발성 성분을 기준으로하여 통상 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 4중량%이다.
감광성을 증가시키기 위해, 층에 광중합성 혼합물용 유리라디칼 형성 광 개시제로서 사용하기 위한 자체 공지된 광분해적으로 분해될 수 있는 트리할로메틸 그룹을 갖는 화합물을 첨가할 수 있다.
이러한 유형의 입증된 광 개시제는 할로겐으로서 특히 염소 및 브룸, 그중에서도 염소를 함유하는 화합물이다.
트리할로메틸 그룹은 방향족 카보시이클릭 또는 헤테로사이클릭 환에 직접 결합되거나 충분히 공액된 쇄를 통해 결합될 수 있다.
바람직하게는 2개의 트리할로메틸 그룹을 함유하는 기본 골격에 트리아진 환을 갖는 화합물, 특히 유럽 특허 제137,452호, 독일 연방공화국 특허 제2,718,259호 및 독일연방공화국 특허 제2,243,621호에 기술되어 있는 화합물이 바람직하다.
이들 화합물은 약 350 내지 400nm의 자외선 영역에서 강하게 흡수한다. 복사광의 스펙트럼 영역에서 흡수력이 있다고 할지라도, 거의 없는 비교적 짧은 분자내 전자전위(mesomerism) 가능한 전자 시스템을 갖는 치환체 또는 지방족 치환체를 함유하는 트리할로메틸트리아진과 같은 광 개시제를 사용할 수 있다.
또한, 보다 단파장의 자외선 영역에서 흡수하는 상이한 기본 구조를 갖는 화합물, 예를 들면, 페닐 트리브로모메틸 설폰과 같은 페닐 트리할로메틸 설폰 또는 페닐 트리할로메틸 케톤을 사용할 수 있다.
이들 성분은 층의 비휘발성 성분을 기준으로 하여 통상 0.01내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 6중량%를 사용한다.
본 발명에 따른 물질은 추가의 개시제 성분으로서 아크리딘, 페나진 또는 퀴녹살린 화합물을 함유한다.
이들 화합물은 광 개시제로서의 용도가 공지되어 있으며 DE-C-제2,027,467호 및 DE-C-제2,038,861호에 기술되어 있다.
이들 화합물은 특히 자외선 영역 부근에서 혼합물의 감도를 증가시킨다. 이 성분의 양은 마찬가지로 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 5중량%의 범위내이다.
디벤잘아세톤 또는 쿠마린 형태의 화합물을 첨가하여 스펙트럼의 가시광선 영역에서 감도를 더욱 증가시킬 수 있다.
이를 첨가하면 해상력이 훨씬 우수한 복사가 가능하며 파장이 약 600nm 이하인 스펙트럼의 가시광 영역에 혼합물에 완전히 감광시킬 수 있다.
이 화합물의 양은 마찬가지로 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.005 내지 4중량% 범위내이다.
중합 개시제의 총량은 통상은 0.05 내지 20중량%, 바람직하게는 0.05 내지 10중량%이다.
광중합성 층은 목적하는 용도와 원하는 특성에 따라 첨가제제로서 여러가지 물질을 함유할 수 있다.
예를 들면, 다음과 같다: 단량체의 열중합방지용 억제제, 수소 공여제, 염료, 유색 또는 무색 안료, 색-형성 성분, 지시약, 가소제, 연쇄 전달제.
이들 성분은 개시 공정에 중요한 화학선을 가능한 한 흡수하지 않는 것으로 선택하는 것이 편리하다.
본 발명의 목적을 위한 화학선은 에너지가 가시광선의 에너지 이상인 방사선이다.
특히 가시광선 및 장파장 자외선 뿐만 아니라 단파장 자외선, 레이저 광, 전자 빔 및 X-선을 사용 할 수도 있다.
광 감도는 약 300 내지 700nm로서 광범위에 걸친다.
본 발명에 따른 물질의 적합한 용도는 다음과 같다:활판인쇄용 인쇄판의 광기계선 제조를 위한 기록층, 용판 인쇄 및 스크린 인쇄, 릴리프 복사, 예를 들면, 점자 교재의 생산, 개인용 복사, 탠닝된 상, 안료 상 등. 혼합물은 내부식막의 광기계적 제조, 예를 들면, 명찰 또는 복사 회로(copied circuit) 제조 및 화학적 밀링에 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 혼합물은 특히 평판 인쇄판 제조용 및 감광성 내식막 기술용 기록층으로서 중요하다.
본 발명에 따른 기록물직용으로 적합한 지지체 물질의 예에는 알루미늄, 강철, 아연 및 구리 박(foil), 플라스틱 필름(예:폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 셀룰로즈 아세테이트 필름) 및 스크린 인쇄 물질(예:펄론 가아제)이 있다.
많은 경우에 있어 지지체 물질의 표면을 층의 접착을 바로 조정하거나, 지지 물질의 표면의 석판인쇄 특성을 개선시키거나, 복사층의 화학선영역에서의 지지 물직의 반사율을 저하(할레이션 방지)시킬 목적으로 예비처리하는 것이 유리하다.
감광성 물질은 종래의 방법으로 가공한다.
예를 들면, 층 구성 성분을 용매에 용해시켜 용액 또는 분산액을 목적하는 지지 물질에 캐스팅, 분무, 침지, 로울러 피복 등의 방법으로 입혀건조시킨다.
본 발명에 따른 기록물질은 이의 광범위한 스펙트럼 감광도로 인하여 당해 기술 분야의 숙련가들에게 공지되어 있는 광원, 예를 들면, 형광 튜브, 펄스 크세논 램프, 금속-할라이드-도우핑된 고압 수은 증기 램프 및 탄소 아아크 램프를 사용할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 감광성 혼합물을 금속 필라멘트 램프로부터 광선을 사용하여 종래의 영상 및 확대 장비로, 그리고 통상의 백열등을 사용하여 밀착 노출시켜 조사할 수 있다.
조사는 레이저의 일정한 광선으로 수행할 수 있다.
본 발명의 목적에 접합한 레이저는, 적당한 강도의 레이저, 예를 들면, 특히250 내지 650nm의범위에서 방사하는 아르몬 이온, 크립톤 이온, 염료, 헬륨-카드뮴 및 헬륨-네온 레이저이다. 레이저 빔은 미리 프로그램된 대로 선을 그리듯이 주사하여 조절한다.
당해 물질을 종래의 방법에 의해 추가로 가공한다. 층의 가교결합을 향상시키기 위해, 노출후 가열할 수 있다.
이를 현상하기 위해 적합한 현상액, 예를 들면, 유기 용매, 바람직하게는 층의 비노츨 부분을 제거하고 노출된 부분을 지지체 물질상의 복사층의 노출된 부분을 남겨 놓는 약알칼리성 수용액으로 처리한다.
현상액은 소량, 바람직하게는 5중량% 미만의 수-혼화성 유기 용매를 함유할 수 있다.
이들은 습윤제, 염료, 염 및 기타 첨가제를 추가로 함유할 수 있다. 현상 도중에 전체 피폭층을 광중합성 층의 비노출 부분과 함께 제거한다.
이하, 본 발명은 하기 예시용 실시예로 구체적으로 설명된다. 중량부(p.b.w)와 용적부(p.b.v)에 대한 관계는 g과 ㎤에 대한 관계와 같다.
%및 혼합비는 달리 명시되지 않는 한 중량%를 나타낸다.
[실시예1(비교 실시예)]
인쇄판에 사용되는 지지 물질은 무게가 3g/㎡인 산화층을 가지며 폴리비닐포스폰산의 수용액으로 예비처리된 전기 화학적으로 그레이닝(graining)되고 양극에서 산화된 알루미늄이다.
지지 물질을 하기 조성물의 용액으로 피복한다.
프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 22중%중,
메틸 에틸케톤 중의 산가 190의 스티렌, n-헥신 메타크릴레이트 및 메타크릴산(10:60:30)의 삼원공중합체의 22.3%농도 용액 2.84중량부,
트리에탄올아민과 이소시아네이토에틸 메타크릴레이트 3몰과의 반응 생성물 1.49중량부,
알콜-가용성 에오신(C.I. 45 386) 0.04중량부,
2.4-비스-트리클로로메틸-6-(4-스티릴페닐)-페닐)-s- 틀리아진 0.03중량부,
9-페닐아크리딘 0.049중량부 및 카보닐 화합물(표 Ⅰ) 0.1중량부.
건조 중량이 2.0 내지 2.5g/㎡으로 되도록 스핀 피복한다.
그리고 판을 2분 동안 100℃의 공기 순환 캐비넷 속에서 건조시킨다.
이어서, 판을 폴리비닐 알콜의 비염색된 7%농도의 수용액(12%의 잔류 아세틸 그룹, K갑:4)으로 피복한다.
건조 시킨 후, 중량이 2 내지 2.5g/㎡인 피복층으로 된다.
수득된 인쇄판을, 필요한 경우, 전체 유효 프펙트럼에 걸쳐 블랙킹(blacking, 밀도 1.57)과 흡수가 균일한 은 필름을 그레이(gray) 필터로서 추가로 부착시킨 밀도가 0.15씩 증가하는 13단계 노출 웨지(wedge)하에서 110㎝의 거리에서 5KW 금속 할라이드 램프에 노출시킨다.
가시광선에서의 인쇄판의 감도를 시험하기 위해, 표에 지시된 컷-옵투과율을 갖는 쇼트(schott)로부터의 두께 3㎜의 컷-옵 필터를 노출 웨지에 올려 놓는다.
판의 스펙트럼 감광도 범위를 측정하기 위해 75㎝의 거리에 배치한 500W 백열 전구로부터의 평행광선을 사용하여 300 내지 700nm의 간섭 필터를 통해 노출시킨다.
노츨에 이어, 판을 100℃에서 1분 동안 가열한 다음, 하기 조성을 갖는 현상액을 사용하여 현상한다:
완전 탈염수 4,000중량부 중의 나트륨 메타실리케이트×9H2O 120중량부, 스트론튬 클로라이드 2.13 중량부, 바이온성 습윤제(약 8개의 에틸렌옥시 단위를 함유한 코코낫 지방 알콜 폴리에시에틸렌 에테르)
1.2중량부 및 소포제 0.12중량부, 현상된 판은 하기 지시된 스펙트럼 영역에서 완전히 경화된 것으로 밝혀졌다.
인쇄판의 해상력은 시험 원판(FOGRAPMS 웨지)으로 측정하며 사본을 읽어 판단한다.
Figure kpo00008
카보닐 화합물이 없을 경우, 판은 30초 후에 300 내지 430nm 및 470 내지 600nm의 영역에서 각각 경화된다.
카보닐 화합물이 없고 염료가 없을 경우, 강화 영역은 300 내지 430nm이다.
카보닐 화합물이 없는 판은 유성 인쇄 잉크로 칠한다.
하기된 완전 가교결합된 웨지 단계를 얻는다.
Figure kpo00009
[실시예 2]
실시예 1의 지지체 물질을 각각의 경우에 2.0g/㎡의 중량으로 되도록 다음 조성을 갖는 용액으로 피복시킨다:
프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 22.000중량%중, 실시예 1에 명시된 삼원공중합체 용액 2.840중량부, 실시예 1에 명시된 중합성 화합물 1.490중량부, 염료(표Ⅱ) 0.040중량부, 실시예 1의 s-트리아진 0.030중량부 및 9-페닐아크리딘 0.049중량부.
시험 1 내지 4, 6, 8 및 10의 판에 실시예 1에서와 같이 폴리비닐 알콜을 피복시킨다.
시험 5, 7 및 9의 판을 아스트라존 블루 3RL(C. I. 베이직 블루 47) 0.25%를 추가로 함유하는 용액으로의 동일한 두께의 피복층을 피복한다.
실시예 1에서와 유사하게 노출 및 현상시켜 스펙트럼 감광도를 측정한다. 결과는 하기 표 Ⅱ 및 Ⅲ에 수록되어 있다:
Figure kpo00010
Figure kpo00011
[실시예 3]
카보닐 화합물로서 4-디메틸아미노-4'-메톡시 디벤잘아세톤을 사용하여 실시예 1에서와 같이 제조한 판에 스핀 피복으로 비염색된 폴리비닐 알콜 피복층 대신 다음 조성을 갖는 피복층을 입힌다:
폴리비닐 알콜(12% 잔류 아세틸 그룹, K 갑 4)의 7% 농도 수용액 100중량부 및 염료(표Ⅳ) 0.1중량부.
건조 후, 중량이 2 내지 2.5g/㎡인 피복층이 생긴다. 피복된 판을 75㎝의 거리에 배치한 500W 백열 전구로부터의 평행 광선을 사용하여 300 내지 700nm의 간섭 필터를 통해 노출시키고, 이어서 1분동안 공기 순환 캐비넷 속에서 베이킹(baking)한다.
실시예 1에서와 같은 현상시키면 하기 표 Ⅳ에 명시된 스펙트럼 영역에서 완전 경화된다.
Figure kpo00012
[실시예 4]
실시예 1에 명시된 조건하에, 실시예 1의 지지체 물질을 다음 조성을 갖는 용액으로 건조층 중량이 2.0g/㎡로 되도록 스핀 피복시킨다:
프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 35.00중량부 중의 실시예 1의 삼원공중합체 용액 1.4중량부, 틀리에탄올아민 1M과 이소시아네이토에틸 메타크릴레이트
3M과의 반응 생성물 1.4중량부, 크리스탈 바이올릿 베이스 0.001중량부, 류코 클리스탈 비이올릿 0.04중량부, 9-페니아크리닌 0.04중량부, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(4-스티릴페닐)-s- 트리아진 0.03중량부 및 디벤잘 아세톤 0.04중량부.
판에 염료로서 아스트라존 옐로우 블라운 3GL, 아스트라존블루 3RL 및 빅토리아 블루 FB를 각각 사용하여 제조한 실시예 3에 기술된 폴리비닐 알콜 피복층을 입힌다. 피복층의 건조층 중량은 2g/㎡이다.
이들 인쇄판을 모든 경우에 그레이 필터를 사용하여 실시예 1에서와 같이 노출시킨다. 상 용해도에에 있어 피복층에 첨가한 염료의 효율은 원판으로서 FOGRA PMS 시험웨지를 사용하여 측정하고 사본을 판독한다.
인쇄 시험결과 200,000개의 양호한 인쇄물을 찍을 수 있었다.
Figure kpo00013
[실시예 5]
비염색된 폴리비닐 알콜 피복층 대신 4-디메틸아미노-4'-메톡시벤잘 아세톤을 사용하여 실시예 1에서와 같이 인쇄판을 제조하고, 다음과 같은 조성을 갖는 피복층을 스핀 피복한다:
폴리비닐 알콜의 7%농도 수용액(12%잔류 아세틸 그룹, K값 4) 100중량부, 아스트라존 블루 3RL 0.1중량부 및 맥실론 열로우 2RL 0.1중량부.
건조층 중량은 2 내지 2.5g/㎡로 된다.
실시예 1에서와 같이, 판을 간섭 필터르 통해 60초 동안 노출시켜 현상한다.
300내지 400nm의 스펙트럼 영역에서 완전 경화된다.
FOGRA FMS 웨지로 측정한 사본의 해상도는 10㎛이다.
실시예6
실시예 1에서와 동일한 조건하에, 실시예 1의 지지체물질을 다음 조성을 갖는 용액으로 건조층의 중량이 2.0g/㎡로 되도록 스핀 피복한다:
실시예 1의 삼원공중합체 용액 1.4중량%, 2-피페리디노에탄올 1M과 이소시네이토에틸 메타크릴레이트 2M로부터의 반응 생성물 1.4중량부, 알콜-용해성 에오신(C.I. 45386) 0.04중량부, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(4-스티릴페닐)-s-트리아진 0.03중량부, 9-페닐아크리딘 0.049중량부 및 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 22.00중량부.인쇄판을 둘로 절단한다.
이중 하나(판 A)는 폴리비닐 알콜 7% 농도의 수용액(잔류 아세틸 그룹 12% K 값 8)을 함유하는 피복층으로 스핀 피복시킨다.
다른 하나는 (판 B)에는 다음 조성을 갖는 염색된 피복층을 입힌다: 폴리비닐 알콜 7% 농도 수용액(잔류 아세틸 그룹 12%, K 값 8) 100중량% 및 아스트라존 블루 3RL 0.07중량% 각 피복층의 건조 증량은 2g/㎡이다.
수득된 인쇄판을 실시예 4에서와 같이 노출시킨다. 물질의 해상력에 있어서 염료의 효율을 시험 원판으로서 FOGRA PMS 웨지를 사용하여 측정하고 사본을 읽어 판단한다.
가스 스펙트럼 영역에서의 인쇄판의 감도를 시험하기 위해 노츨 웨지에 컷-옵 필터를 장착한다.
노출된 판을 공기 순환 건조 오븐 속에서 1분 동안 100℃로 가열한 다음 실시예 1에 따라 현상한다.
Figure kpo00014
판 B는 455nm 이상의 파장에서는 감광되지 않는다.

Claims (13)

  1. 층 지지체, 광중합성 층 및 대기 산소에 대한 투과성이 낮으며 물 또는 물/알콜 혼합물에 가용성인 중합체를 함유하는 피복층을 포함하는 광중합성 기록물질에 있어서, 피복층이 20℃에서 수용성이고 300 내지 700nm 범위의 광을 흡수하며 이러한 범위내에서 목적하는 복사 광원의 방사 범위에 상응하는 비흡수 영역을 갖는 염료 또는 여러 가지 염료의 적절한 혼합물을 추가로 함유함을 특징으로 하는 광중합성 기록물질.
  2. 제1항에 있어서, 염료가 디-또는 트리아릴카베늄 염료, 아조 염료, 아자(18) 애뉼렌 염료, 니트로 염료, 니트로소염료, 폴리메틴 염료, 카보닐 염료 또는 황화 염료임을 특징으로하는 기록물질.
  3. 제1항에 있어서, 피복층의 단위면적당 중량이 0.2g/㎡ 내지 10g/㎡임을 특징으로 하는 기록물질.
  4. 제1항에 있어서, 피복층에 염료를 0.05 내지 50중량g/㎡함유함을 특징으로 하는 기록물질.
  5. 제1항에 있어서, 염료의 흡수 영역에서 피복층의 광학 밀도가 0.5 내지 2.5임을 특징으로 하는 기록물질.
  6. 제1항에 있어서, 복사 광원의 방사 영역이 350 내지 400nm, 400 내지 450nm 또는 488 내지 514nm임을 특징으로 하는 기록물질.
  7. 제1항에 있어서, 광중합성 층이 필수 구성성분으로서 중합성 결합제, 하나 이상의 말단 에틸렌계 불포화 그룹을 갖는 유리 라디칼 중합성 화합물 및 화학선에 의해 활성화될 수 있는 중합 개시제를 함유함을 특징으로 하는 기록물질.
  8. 제7항에 있어서, 층이 중합 개시제로서 광환원성 염료를 함유함을 특징으로 하는 기록물질.
  9. 제8항에 있어서, 유리 라디칼 중합성 화합물이 광환원성 염료의 존재하에 노츨에 의해 광산화성으로 되는 그룹을 하나 이상 갖는 다가 알콜의 아크릴산 또는 알크아크릴산 에스테르 임을 특징으로 하는 기록물질.
  10. 제8항에 있어서, 광 개시제로서 광분해적으로 분해되는 트리할로메틸 화합물과 광 개시제로서 작용하는 아크리딘, 페나진 또는 퀴녹살린 화합물을 추가로 함유함을 특징으로 하는 기록물질.
  11. 제7항에 있어서, 결합제가 수불용성이고 알칼리성 수용액에 가용성임을 특징으로 하는 기록물질.
  12. 제1항에 있어서, 광중합성 층의 단위면적당 중량이 0.5 내지 20g/㎡임을 특징으로 하는 기록물질.
  13. 제1항에 있어서, 층 지지체가 평판 인쇄에 적합한 친수성 표면을 가짐을 특징으로 하는 기록물질.
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