JP2820437B2 - 改良されたアミドペルオキシ酸貯蔵安定性のためのホスフェート緩衝液洗浄 - Google Patents

改良されたアミドペルオキシ酸貯蔵安定性のためのホスフェート緩衝液洗浄

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JP2820437B2
JP2820437B2 JP1169705A JP16970589A JP2820437B2 JP 2820437 B2 JP2820437 B2 JP 2820437B2 JP 1169705 A JP1169705 A JP 1169705A JP 16970589 A JP16970589 A JP 16970589A JP 2820437 B2 JP2820437 B2 JP 2820437B2
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、アミドペルオキシ酸合成後、最終製品への
配合前にアミドペルオキシ酸をpH約3.5〜６においてホ
スフェート緩衝液と接触させることを特徴とするアミド
ペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法に関する。キレート
化剤（chelant）は、アミドペルオキシ酸の貯蔵安定性
を更に改良するために緩衝液に場合によって添加でき
る。
発明の背景 有機ペルオキシ酸は、布帛漂白剤として有用である
が、限定された貯蔵安定性の高反応性化合物である。貯
蔵安定性は、ペルオキシ酸の有効酸素（AvO）含量が長
時間にわたって維持される程度を意味する。
従来、一般にペルオキシ酸の貯蔵安定性を改良するた
めの３つの方式が、使用されている：キレート化剤、pH
制御、および水分制御。キレート化剤は、存在するいか
なる金属イオンとも結合し、よって、重金属によって触
媒されるであろうペルオキシ酸のいかなる分解も防止す
る。７つの文献が代表的である：米国特許第4,170,453
号明細書、米国特許第4,091,544号明細書、米国特許第
4,100,095号明細書、米国特許第4,126,573号明細書、米
国特許第4,259,201号明細書、米国特許第4,325,828号明
細書、および欧州特許出願第0068547号明細書。
これらの文献における好ましいキレート化安定系は、
８−ヒドロキシキノリンまたはジピコリン酸と酸性ポリ
ホスフェートとの混合物である。キレート化剤は重金属
によって生ずる分解問題を減少または排除するが、ペル
オキシ酸合成後に残る酸性環境によって生ずる酸感受性
ペルオキシ酸の分解問題を扱っていない。
数種の文献は、漂白剤および／または洗剤組成物の安
定性を最適にする方式としてのpH制御を示唆している。
欧州特許出願第0176124号明細書（pH3.5〜4.5）、欧州
特許出願第0201958号明細書（pH4.1）、米国特許第4,28
7,135号明細書（pH2〜６および反応混合物での被覆）お
よび欧州特許出願第0200163号明細書（pH3〜７）参照。
最後の文献は、漂白剤粒状物の重合体被覆物も包含す
る。上記米国特許第4,287,135号明細書を除いたこれら
の文献のすべては、キレート化剤も包含する。
欧州特許出願第0212976号明細書は、過酸の合成時に
水量の制御によって改良された過酸安定性を教示してい
る。
アミドペルオキシ酸などの酸感受性ペルオキシ酸の場
合には、貯蔵に安定なペルオキシ酸を調製する方式を見
出すことが特に重要である。さもなければ、アミドペル
オキシ酸は、既知の貯蔵安定剤、例えば、上記のものを
使用してさえ、長時間にわたって分解するであろう。ア
ミドペルオキシ酸をアミドペルオキシ酸の合成直後にpH
約3.5〜６、好ましくは約４〜５においてホスフェート
緩衝液と接触させることは、この分解を有意に遅くする
ことが見出された。この方法は単純であるが、従来、ペ
ルオキシ酸を安定化するのに使用されていなかった。ホ
スフェート緩衝液中で洗浄されたアミドペルオキシ酸
は、アルカリ性洗剤組成物に配合した時にさえ安定なま
まであり、このことも驚異的である。
アミドペルオキシ酸、または疎水鎖中に極性アミド結
合を有するペルオキシ酸は、米国特許第4,634,551号明
細書および米国特許第4,686,063号明細書に記載されて
いる。このようなアミドペルオキシ酸は、下記一般式を
有する： （式中、R1およびR2は炭素数約１〜約14のアルキル、ア
ルキレン、アリール、アリーレン、アルカリール、また
はアルカリーレン基であり、R5はＨまたは炭素数約１〜
約10のアルキル、アリール、またはアルカリール基であ
る）。
一般にアミドペルオキシ酸よりも安定であるスルホン
ペルオキシ酸は、下記式： （式中、ＡおよびＢは炭素原子によって硫黄原子に結合
された有機部分であり且つＡおよびＢの少なくとも１つ
は炭素原子に結合された少なくとも１つの 基を含有する。）スルホンペルオキシ酸は、欧州特許出
願第0267175号明細書に開示されている。その出願の例
４においては、スルホンペルオキシ酸の塩化メチレン溶
液を一連の工程の一部分としてホスフェート緩衝液で洗
浄し、次いで、水洗し、部分的に蒸発し、ホウ酸と混合
した。
本発明の目的は、アミドペルオキシ酸の貯蔵安定性を
改良するための手段を提供することにある。
また、本発明の目的は、洗剤組成物中でのアミドペル
オキシ酸貯蔵安定性を改良するための手段を提供するこ
とにある。
発明の概要 本発明は、アミドペルオキシ酸合成後、最終製品への
配合前にアミドペルオキシ酸をpH約3.5〜６においてホ
スフェート緩衝液と接触させることを特徴とするアミド
ペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法に関する。キレート
化剤は、アミドペルオキシ酸の貯蔵安定性を更に改良す
るために緩衝液に場合によって添加できる。
発明の具体的な説明 アミドペルオキシ酸を合成し、次いで、pH約3.5〜
６、好ましくは約４〜５においてホスフェート緩衝液と
接触させる。技術上既知の通常の安定剤も、使用でき、
好ましくは使用される。次いで、安定化されたアミドペ
ルオキシ酸は、洗剤組成物中または漂白剤として使用す
るために凝集できる。
アミドペルオキシ酸、または疎水鎖中に極性アミド結
合を有するペルオキシ酸は、米国特許第4,634,551号明
細書および米国特許第4,686,063号明細書に記載されて
いる。
本発明のアミドペルオキシ酸は、下記一般式： （式中、R1およびR2は炭素数約１〜約14のアルキル、ア
ルキレン、アリール、アリーレン、アルカリール、また
はアルカリーレン基であり、R5はＨまたは炭素数約１〜
約10のアルキル、アリールまたはアルカリール基であ
る） を有する。好ましいアミドペルオキシ酸は、下記一般
式： （式中、R1は炭素数約６〜約12のアルキル基であり、R2
は炭素数約１〜約６のアルキルである） を有するものである。
本発明で最も好ましいアミドペルオキシ酸は、ペルオ
キシコハク酸のモノノニルアミド（「NAPSA」）および
ペルオキシアジピン酸のモノノニルアミド（「NAPA
A」）である。米国特許第4,686,063号明細書の例Ｉは、
NAPSAの合成の説明（第８欄第40行〜第９欄第５行）お
よびNAPAAの合成の説明（第９欄第15行〜第９欄第65
行）を含む。
アミドペルオキシ酸合成の終わりに、反応混合物は、
水で急冷し、濾過し、水洗して若干の過剰の硫酸（また
はペルオキシ酸の原料である他の強酸）を除去し、再度
濾過する。
このようにして得られたアミドペルオキシ酸湿潤ケー
クは、pH約3.5〜６、好ましくは約４〜５においてホス
フェート緩衝液と接触させる。アミドペルオキシ酸湿潤
ケークのpHが余りに高く上昇するならば、アミドペルオ
キシ酸は溶解されるが、pHが余りに低いならば、アミド
ペルオキシ酸は、不安定であることが見出された。理論
によって限定されるものではないが、アミドペルオキシ
酸を安定化するためには、ペルオキシ酸の原料である硫
酸（または他の強酸）から残る強酸性度は、ペルオキシ
酸である弱酸を同時に破壊せずに中和しなければならな
いと推測される。緩衝液は、この目的を達成する。ホス
フェート緩衝液洗浄（しかし、アセテート洗浄または水
洗ではない）は。アミドペルオキシ酸を安定化すること
が確認された。同じpHへの水洗は、ホスフェート緩衝液
洗浄と同じ効果を達成しないので、ホスフェートの若干
は、ホスフェート緩衝液との接触後に湿潤ケークに残
り、このことも貯蔵安定性を助長すると理論化される。
このことは、ホスフェート緩衝液で洗浄した後に水洗す
ることがホスフェート緩衝液洗浄単独よりも低い安定性
を有するペルオキシ酸を生ずるという事実によって更に
支持される。
ホスフェート緩衝液は、好ましくは、約0.01M（モル
／）〜約1Mの濃度範囲内のオルトホスフェートまたは
ピロホスフェートである。オルトホスフェートの0.10M
溶液が、最も好ましい。これらは、H3PO4（リン酸）、N
aH2PO4（一塩基性リン酸ナトリウム）、Na2HPO4（二塩
基性リン酸ナトリウム）、およびNa3PO4（三塩基性リン
酸ナトリウム）からなる群から選ぶことができ、それゆ
え、最終溶液はpH約3.5〜６、好ましくは約４〜５を有
する。カリウム塩などの他の塩は、使用できる。ホスフ
ェート緩衝液組成物の例は、D.D.ペリンおよびボイド・
デンプシーによるバッファーズ・フォー・ペーハー・エ
ンド・メタル・イオン・コントロール（Buffers for pH
and Metal Ion Control）（チャップマン・エンド・ホ
ール、1974）に見出すことができる。
アミドペルオキシ酸をホスフェート緩衝液と接触でき
る数種の方法がある。好ましくは、アミドペルオキシ酸
湿潤ケークは、それを覆うのに十分なホスフェート緩衝
液に入れ、その組み合わせ物を湿潤ケークとの完全な接
触を保証するのに十分な時間ゆっくりと撹拌する。例え
ば、ホスフェート緩衝液400ml（0.10M、pH＝4.75）中の
湿潤ケーク20.0gの場合に約１時間は、適量の時間であ
る。次いで、吸引濾過は、好ましくは適用して溶液を除
去する。次いで、湿潤ケークは、一晩中風乾できる。よ
り強い濃度のより少ないホスフェート緩衝液が使用でき
ると考えられる。0.1Mホスフェート緩衝液は、例えば0.
5M溶液よりも大きい容量を与え且つ湿潤ケークとの混合
時に完全な接触および容易な撹拌を与えるので、好まし
い。
湿潤ケークを緩衝液と接触させる別の好ましい方法
は、緩衝液を湿潤ケーク上に注ぎ、次いで、真空濾過を
適用する方法である。プラントにおいては、濾過された
湿潤ケークは、最終洗剤組成物または漂白剤に配合する
前に、最終乾燥用流動床に入れることができる。
ホスフェート緩衝液洗浄は、アミドペルオキシ酸が分
解する前に行うべきである。製品は、もはや有効な漂白
剤ではない程わずかにしかアミドヘルオキシ酸が残って
いない時に分解している。アミドペルオキシ酸の活性
は、有効酸素によって測定できる。一般に、AvOが高け
れば高い程、ペルオキシ酸は、より良く漂白するであろ
う。
貯蔵安定化または発熱制御用の他の薬剤は、最終製品
への配合前にアミドペルオキシ酸に添加できる。ホウ
酸、米国特許第4,686,063号明細書に開示の発熱制御剤
は、NAPSA:ホウ酸の比率約2:1の好ましいNAPSA（ホスフ
ェート緩衝液中で洗浄されている）と混合することが好
ましい。また、ホスフェート緩衝液洗浄NAPSAは、適量
のジピコリン酸およびピロリン酸四ナトリウム、キレー
ト化安定化系（上記背景セクショ参照）と混合すること
が好ましい。この混合物は、粒状物に成形し、乾燥し、
別個に使用するか粒状洗剤組成物の一部分として使用す
ることが好ましい。
粒状物は、ホスフェート緩衝液洗浄アミドペルオキシ
酸約１％〜約50％、好ましくはNAPSAまたはNAPAA約10％
〜約30％；発熱制御剤約0.5％〜約25％、好ましくはホ
ウ酸約５％〜約15％;C11〜13線状アルキルベンゼンスル
ホネートまたはＣ14〜15アルキルサルフェート０〜約10
％、好ましくはＣ11〜13線状アルキルベンゼンスルホネ
ート約２％〜約７％；サルフェート約20％〜約70％、好
ましくは約40％〜約60％；およびキレート化剤０〜約20
％、好ましくはピロリン酸四ナトリウム約0.02％〜約0.
10％およびジピコリン酸約0.05〜約0.20％からなること
ができる。
キレート化剤は、場合によって、湿潤ケークとの接触
前にホスフェート緩衝液に配合できる。理論によって限
定されるものではないが、このようにキレート化剤を加
えることは、キレート化剤を湿潤ケーク全体にわたって
より一様に分布することによって有効性を改善するであ
ろう。
本発明で使用するのに好適なキレート化剤の例は、エ
チレンジアミンテトラアセテート（EDTA）、ジエチレン
トリアミンペンタアセテート（DTPA）などのカルボキシ
レート；酸性ピロリン酸ナトリウム（SAPP）、ピロリン
酸四ナトリウム（TSPP）、トリポリリン酸ナトリウム
（STPP）などのポリホスフェート；ホスホネート、例え
ば、エチルヒドロキシジホスホネート（Dequest 201
0）および商品名デキュエスト で販売されている他の
金属イオン封鎖剤；および上記のものの組み合わせであ
る。本発明で使用する他の金属イオン封鎖剤は、ジピコ
リン酸、ピコリン酸、および８−ヒドロキシキノリン、
およびそれらの組み合わせである。
ホスフェート緩衝液中で洗浄されたアミドペルオキシ
酸は、洗剤組成物中で、または別個の漂白剤として使用
することが好ましい。ホスフェート緩衝液洗浄アミドペ
ルオキシ酸は、粒状洗剤組成物に配合することがより好
ましい。アミドペルオキシ酸は、NAPSAまたはNAPAAであ
り且つ粒状物に成形し（ホスフェート緩衝液洗浄、乾燥
後）、次いで、粒状物は粒状洗剤組成物に配合すること
が最も好ましい。
このような洗剤組成物は、アミドペルオキシ酸約0.5
％〜約30％、好ましくは約１％〜約10％；洗剤界面活性
剤約１％〜約40％、好ましくは約２％〜約30％；および
洗浄性ビルダー約５％〜約80％、好ましくは約10％〜約
60％を含む。これらの洗剤組成物は、米国特許第3,936,
537号明細書に記載の成分のいずれか、またはすべてを
包含できる。このような成分としては、色斑点取り剤
（color speckle）、泡立て増進剤、抑泡剤、曇り防止
剤および／または耐食剤、汚れ沈殿防止剤、汚れ放出
剤、染料、充填剤、光学増白剤、殺菌剤、アルカリ性
源、ヒドロトロープ、酸化防止剤、酵素、酵素安定剤、
香料などが挙げられる。
適当な成分は、米国特許第4,686,063号明細書第４欄
第４行〜第８欄第33行および米国特許第4,634,551号明
細書第７欄第３行〜第11欄第33行に記載されている。
ホスフェート緩衝液中で洗浄され、濾過され、ホウ酸
およびキレート化剤と共に造粒され且つ粒状洗剤組成物
に配合されたNAPSAは、ホスフェート緩衝液中で洗浄さ
れていないコントロールと比較して製品中で長時間にわ
たって有意により覆い有効酸素を有する（例II参照）。
このことは、ホスフェート緩衝液での洗浄が洗剤組成物
中でのアミドペルオキシ酸貯蔵安定性の有意に改良する
ことを示す。
下記例は、本発明のパラメーターおよび組成物を例示
するために与える。すべての％、部および比率は、特に
断らない限り、重量基準である。
例Ｉ 水56.7％、有効酸素2.12％（ペルオキシ酸34.4％に対
応）および残部（未反応出発物質、9.1％）からなるNAP
SA（ペルオキシコハク酸のモノノニルアミド）湿潤ケー
クの調製したての試料が、得られた。この湿潤ケーク
は、NASA（コハク酸のモノノニルアミド）と硫酸と過酸
化水素との粗反応生成物であり、その後、この粗反応生
成物を水への添加によって急冷した後、濾過し、蒸留水
で洗浄し、最終吸引濾過を行って湿潤ケークを回収し
た。湿潤ケークの10％重量容量（w/v）スラリー（蒸留
水100ml中の湿潤ケーク固形分10g）は、pH3.15を有して
いた。次いで、湿潤ケークの一部分を下記処理に付し
た。ホスフェート緩衝液は、NaH2PO4、Na2HPO4、Na3PO4
の0.10M（モル／）溶液を混合して所望のpHを達成す
ることにより調製した。
試料＃１ 湿潤ケーク20.0gを室温で一晩中風乾した。
乾燥時、試料pH（蒸留水中の10％w/vスラリーとして）
は、2.96であった。
試料＃２ 湿潤ケーク15.0gを蒸留水1.0で洗浄し、次
いで、室温で一晩中風乾した。乾燥時、試料pHは、4.60
であった。
試料＃３ 湿潤ケーク20.0gをホスフェート緩衝液（0.1
0M、pH＝4.40）1.0で洗浄した後、蒸留水1.0で洗浄
し、次いで、室温で一晩中風乾した。乾燥時、試料pH
は、4.59であった。
試料＃４ 湿潤ケーク15.0gをホスフェート緩衝液（0.1
0M、pH＝4.50）1.0で洗浄し、次いで、室温で一晩中
風乾した。乾燥時、試料pHは、4.49であった。
試料＃５ 湿潤ケーク20.0gをホスフェート緩衝液（0.1
0M、pH＝4.75）400mlに入れ、１時間撹拌した後、吸引
濾過によって回収し、一晩中風乾した。乾燥時、試料pH
は、4.76であった。
NAPSA試料を貯蔵安定性試験のために80゜F（26.7
℃）、100゜F（37.8℃）、および120゜F（48.9℃）で開
放容器に入れた。安定性をチオ硫酸ナトリウムでのヨウ
素滴定によって監視した。結果を時間の関数として残る
ペルオキシ酸有効酸素（AvO）率によって以下に示す。
ペルオキシ酸のホスフェート緩衝液安定化は、湿潤ケ
ークpHを上げる結果としてのみ生じない。湿潤ケークを
水で同様のpHに洗浄することは、ホスフェート緩衝液洗
浄処理を使用した時よりも120゜F（約48.9℃）で12週間
後に低い安定性を生じた（試料＃2vs試料＃４）。安定
性に対するホスフェート緩衝液の有益な効果の一部分
は、洗浄後にペルオキシ酸湿潤ケークに残る残留量の緩
衝液を明らかに由来する。緩衝液洗浄した後水洗するこ
とは、緩衝液単独で洗浄されたペルオキシ酸よりも低い
安定性を有するペルオキシ酸を生じた（試料＃3vs試料
＃４）。
例II 本例は、ホスフェー緩衝液中で洗浄され、濾過され、
造粒され且つ粒状洗剤組成物に配合されたアミドペルオ
キシ酸の改良貯蔵安定性を示す。
造粒NAPSAの試料＃１は、下記成分を一緒にすること
によって調製した： 乾燥NAPSA湿潤ケーク（例Ｉに記載）80.00g ホウ酸31.31g C13線状アルキルベンゼンスルホネートペースト 25.05g ジピコリン酸0.30g ピロリン酸四ナトリウム0.15g 硫酸ナトリウム123.58g 水45.00g すべての成分を十分に混合した。次いで、粒状物は、
混合物を＃18タイラーメッシュプラスチック製篩を通過
させた後、室温で一晩中風乾することによって調製し
た。乾燥時、このようにして調製された粒状物は、pH4.
21を有していた（蒸留水中の10％重量容量スラリーとし
て測定した）。
造粒NAPSAの試料＃２は、NAPSA湿潤ケークを先ずホス
フェート緩衝液処理に付す以外は、同一の割合の同じ成
分のすべてを一緒にすることによって調製した。湿潤ケ
ーク50.0gをホスフェート緩衝液（0.10M、pH＝4.75）1.
0に加え、次いで、１時間撹拌した後、NAPSA湿潤ケー
クを吸引濾過によって回収した。次いで、造粒を試料＃
１の場合と同様に実施した。試料＃２は、乾燥後に、pH
4.23を有していた。
造粒ペルオキシ酸試料の一部分（16％）をホスフェー
ト洗剤粒状物（84％）と一緒にし、貯蔵安定性試験のた
めに80゜F（26.7℃）、100゜F（37.8℃）、および120゜
F（48.9℃）で開放容器に入れた。
噴霧乾燥ホスフェート洗剤粒状物の組成は、次の通り
であった： 重量％ Ｃ11〜13線状アルキルベンゼンスルホネート 11 Ｃ14〜15アルキルサルフェート 11 Ｃ12〜13アルキルエトキシレート（6.5）★ １ トリポリリン酸ナトリウム 36 ピロリン酸ナトリウムおよび酸性ピロリン 酸ナトリウム ９ ケイ酸ナトリウム（比率2.0） ４ 硫酸ナトリウム、水分、雑成分 28 合計 100★ アルコールおよびモノエトキシ化アルコールを除去。
結果を、時間の関数として残るペルオキシ酸有効酸素
（AvO）率によって以下に示す。
このように、緩衝液処理は、ジピコリン酸、ピロリン
酸四ナトリウムなどの他の安定剤と併用する時にさえ製
品中ペルオキシ酸安定性を増大できる。
例III ペルオキシアジピン酸のモノノニルアミド（NAPAA）
を含有する湿潤ケークを下記方法で調製する。６−ノニ
ルアミノ−６−オキソカルロン酸のメチルエステルの重
量50.0gをメタンスルホン酸100mlに溶解し、得られた溶
液を氷浴中で冷却する。撹拌しながら、70％H2O242.4g
を、反応混合物の温度が20℃よりも高い温度に上がらな
いような速度で滴下する。H2O2の添加完了後、氷浴を取
り外し、反応混合物をフリーザー中で冷却し、次いで、
氷上に注ぐ。固体反応生成物を濾過した後、水洗し、最
終吸引濾過を行うことによって湿潤ケークとして回収す
る。湿潤ケークを湿潤ケーク50g/溶液1.0の比率でピ
ロホスフェート緩衝安定液への添加によって安定化す
る。ピロホスフェーォオ溶液は、0.10M、pH＝5.00であ
る〔１当たりNa2H2P2O721.10g＋Na4P2O71.38g＋デキ
ュエスト 2010（0.10）〕。その後、ピロホスフェート
溶液を15分〜１時間撹拌し、吸引濾過によって回収す
る。次いで、安定化されたペルオキシ酸湿潤ケークは、
乾燥または造粒できる。
例IV 上記例Ｉに記載のように調製されたNAPSA湿潤ケーク5
0.0gをホスフェート緩衝液（0.10M、pH＝4.50）１へ
の添加によって安定化し、１時間撹拌し、次いで、吸引
濾過によって回収する。NAPSAは、安定化された湿潤ケ
ークを下記粒状物成分と一緒にすることによって造粒す
る。
重量％ NAPSA（固形分） 24.00 NASA（湿潤ケークからの固形分） 4.00 ホウ酸 12.50 C12線状アルキルベンゼンスルホネート （ペースト） 5.00 ジピコリン酸 0.12 ピロリン酸四ナトリウム 0.06 硫酸ナトリウム 54.32 粒状物を＃18タイラーメッシュプラスチック製篩を通
過することによって調製し、一晩中風乾する。
次いで、NAPSA粒状物を噴霧乾燥粒状洗剤組成物と混
合して下記組成物を有する完成漂白剤洗剤組成物を与え
る。
重量％ Ｃ11〜13線状アルキルベンゼンスルホネート 8.0 Ｃ14〜15アルキルサルフェート 8.0 Ｃ12〜13アルキルエトキシレート（6.5）★ 0.2 トリポリリン酸ナトリウム 39.4 炭酸ナトリウム 12.3 ケイ酸ナトリウム（比率1.6） 5.6 NAPSA粒状物 18.0 硫酸ナトリウム、水分、雑成分 8.5★ アルコールおよびモノエトキシ化アルコールを除去。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−81499（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 409/40 C07C 407/00 C11D 3/39,3/395,7/18,7/54

Claims (17)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】アミドペルオキシ酸をホスフェート緩衝液
    と接触させ、その際上記ホスフェート緩衝液および緩衝
    化アミドペルオキシ酸はpH3.5〜６を有し、且つ上記ホ
    スフェート緩衝液は0.01M〜1Mの濃度範囲内のオルトホ
    スフェートまたはピロホスフェートまたはそれらの組み
    合わせからなることを特徴とするアミドペルオキシ酸の
    貯蔵安定性の改良法。
  2. 【請求項２】上記アミドペルオキシ酸をアミドペルオキ
    シ酸との完全な接触を保証するのに十分な時間上記ホス
    フェート緩衝液と接触させた後、濾過して過剰の緩衝液
    を除去し、アミドペルオキシ酸を最終製品に配合する、
    請求項１に記載のアミドペルオキシ酸の貯蔵安定性の改
    良法。
  3. 【請求項３】上記ホスフェート緩衝液が、カルボキシレ
    ート、ポリホスフェート、ホスホネート、およびそれら
    の混合物からなる群から選ばれるキレート化剤を更に含
    む、請求項１に記載のアミドペルオキシ酸の貯蔵安定性
    の改良法。
  4. 【請求項４】上記ホスフェート緩衝液は、H3PO4、NaH2P
    O4、Na2HPO4、Na3PO4、およびそれらの組み合わせから
    なる群から選ばれる0.1M混合物であり、それゆえ、最終
    溶液はpH3.5〜６を有する、請求項２に記載のアミドペ
    ルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法。
  5. 【請求項５】上記ホスフェート緩衝液がpH4〜５を有す
    る、請求項１に記載のアミドペルオキシ酸の貯蔵安定性
    の改良法。
  6. 【請求項６】アミドペルオキシ酸が、ペルオキシコハク
    酸のモノノニルアミドである、請求項５に記載のアミド
    ペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法。
  7. 【請求項７】アミドペルオキシ酸が、ペルオキシアジピ
    ン酸のモノノニルアミドである、請求項５に記載のアミ
    ドペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法。
  8. 【請求項８】１以上のキレート化剤を、アミドペルオキ
    シ酸との接触の前に上記ホスフェート緩衝液に添加す
    る、請求項１に記載のアミドペルオキシ酸の貯蔵安定性
    の改良法。
  9. 【請求項９】上記のペルオキシコハク酸のモノノニルア
    ミドをそれを覆うのに十分なホスフェート緩衝液に入
    れ、完全な接触を保証するのに十分な時間撹拌し、次い
    で、濾過する、請求項７に記載のアミドペルオキシ酸の
    貯蔵安定性の改良法。
  10. 【請求項１０】ホスフェート緩衝液洗浄ペルオキシコハ
    ク酸のモノノニルアミドを１以上のキレート化剤および
    発熱制御剤と混合する、請求項７に記載のアミドペルオ
    キシ酸の貯蔵安定性の改良法。
  11. 【請求項１１】請求項１に記載の方法に従って安定化さ
    れたアミドペルオキシ酸0.5〜30％および洗剤界面活性
    剤１％〜40％を含むことを特徴とする洗剤組成物。
  12. 【請求項１２】請求項５に記載の方法に従って安定化さ
    れたアミドペルオキシ酸１％〜10％，洗剤界面活性剤１
    ％〜40％および洗浄性ビルダー５％〜80％を含むことを
    特徴とする洗剤組成物。
  13. 【請求項１３】請求項９に記載の方法に従って安定化さ
    れたペルオキシコハク酸のモノノニルアミド１％〜10
    ％、洗剤界面活性剤15％〜40％および洗浄性ビルダー５
    ％〜80％を含むことを特徴とする洗剤組成物。
  14. 【請求項１４】洗剤界面活性剤２％〜30％および洗浄性
    ビルダー10％〜60％を含む、請求項11に記載の洗剤組成
    物。
  15. 【請求項１５】洗剤界面活性剤２％〜30％および洗浄性
    ビルダー10％〜60％を含む、請求項12に記載の洗剤組成
    物。
  16. 【請求項１６】上記アミドペルオキシ酸１％〜50％、発
    熱制御剤0.5％〜25％、Ｃ11〜13線状アルキルベンゼン
    スルホネートまたはＣ14〜15アルキルサルフェート０〜
    10％、サルフェート20％〜70％、およびキレート化剤０
    〜20％を含む粒状物を更に含む、請求項11に記載の粒状
    洗剤組成物。
  17. 【請求項１７】ペルオキシコハク酸のモノノニルアミド
    またはペルオキシアジピン酸のモノノニルアミド10％〜
    30％、ホウ酸５％〜15％、Ｃ11〜13線状アルキルベンゼ
    ンスルホン酸２％〜７％、サルフェート40％〜60％、ピ
    ロホスホン酸四ナトリウム0.02％〜0.10％、およびジピ
    コリン酸0.05％〜0.20％を含む粒状物を更に含む、請求
    項11に記載の粒状洗剤組成物。
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