JPH02131464A - 改良されたアミドペルオキシ酸貯蔵安定性のためのホスフェート緩衝液洗浄 - Google Patents
改良されたアミドペルオキシ酸貯蔵安定性のためのホスフェート緩衝液洗浄Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、アミドペルオキシ酸合成後、最終製品への配
合前にアミドペルオキシ酸ヲp H 約3.5〜6にお
いてホスフェート緩衝液と接触させることを特徴とする
アミドペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法に関する。キ
レート化剤(chelanDは、アミドペルオキシ酸の
貯蔵安定性を更に改良するために緩衝液に場合によって
添加できる。
合前にアミドペルオキシ酸ヲp H 約3.5〜6にお
いてホスフェート緩衝液と接触させることを特徴とする
アミドペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法に関する。キ
レート化剤(chelanDは、アミドペルオキシ酸の
貯蔵安定性を更に改良するために緩衝液に場合によって
添加できる。
発明の背景
有機ペルオキシ酸は、布帛漂白剤として有用であるが、
限定された貯蔵安定性の高反応性化合物である。貯蔵安
定性は、ベルオキシ酸の合効酸素(AvO)含量が長時
間にわたって維持される程度を意味する。
限定された貯蔵安定性の高反応性化合物である。貯蔵安
定性は、ベルオキシ酸の合効酸素(AvO)含量が長時
間にわたって維持される程度を意味する。
従来、一般にベルオキシ酸の貯蔵安定性を改良するため
の3つの方式が、使用されてぃる:キレ−ト化剤、pH
制御、および水分制御。キレート化剤は、存在するいか
なる金属イオンとも結合し、よっテ、重金属によって触
媒されるであろうベルオキシ酸のいかなる分解も防止す
る。7つの文献が代表的である:米国特許第4,170
,453号明細書、米国特許第4,091,544号明
細書、米国特許第4.100,095号明細書、米国特
許第4,126,573号明細書、米国特許第4,25
9.201号明細書、米国特許第4,325,828号
明細書、および欧州特許出願第0068547号明細書
。
の3つの方式が、使用されてぃる:キレ−ト化剤、pH
制御、および水分制御。キレート化剤は、存在するいか
なる金属イオンとも結合し、よっテ、重金属によって触
媒されるであろうベルオキシ酸のいかなる分解も防止す
る。7つの文献が代表的である:米国特許第4,170
,453号明細書、米国特許第4,091,544号明
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許第4,126,573号明細書、米国特許第4,25
9.201号明細書、米国特許第4,325,828号
明細書、および欧州特許出願第0068547号明細書
。
これらの文献における好ましいキレート化安定系は、8
−ヒドロキシキノリンまたはジビコリン酸と酸性ポリホ
スフェートとの混合物である。キレート化剤は重金属に
よって生ずる分解問題を減少または排除するが、ベルオ
キシ酸合成後に残る酸性環境によって生ずる酸感受性ベ
ルオキシ酸の分解問題を扱っていない。
−ヒドロキシキノリンまたはジビコリン酸と酸性ポリホ
スフェートとの混合物である。キレート化剤は重金属に
よって生ずる分解問題を減少または排除するが、ベルオ
キシ酸合成後に残る酸性環境によって生ずる酸感受性ベ
ルオキシ酸の分解問題を扱っていない。
数種の文献は、漂白剤および/または洗剤組成物の安定
性を最適にする方式としてのpH制御を示唆している。
性を最適にする方式としてのpH制御を示唆している。
欧州特許出願第0176124号明細書(pH3.5〜
4.5)、欧州特許出願第0 2 0 1. 9 5
8号明細書(pH4.1) 、米国特許第4,287,
135号明細書( p H 2〜6および反応混合物で
の被覆)および欧州特許出願第0200163号明細書
(pH3〜7)参照。最後の文献は、漂白剤粒状物の重
合体披覆物も包含する。上記米国特許第4,287,1
35号明細書を除いたこれらの文献のすべては、キレ−
1・化剤も包含する。
4.5)、欧州特許出願第0 2 0 1. 9 5
8号明細書(pH4.1) 、米国特許第4,287,
135号明細書( p H 2〜6および反応混合物で
の被覆)および欧州特許出願第0200163号明細書
(pH3〜7)参照。最後の文献は、漂白剤粒状物の重
合体披覆物も包含する。上記米国特許第4,287,1
35号明細書を除いたこれらの文献のすべては、キレ−
1・化剤も包含する。
欧州特許出願第0212976号明細書は、過酸の合成
時に水二の制御によって改良された過酸安定性を教示し
ている。
時に水二の制御によって改良された過酸安定性を教示し
ている。
アミドペルオキシ酸などの酸感受性ベルオキシ酸の場合
には、貯蔵に安定なペルオキシ酸を調製する方式を見出
すことが特に重要である。さもなければ、アミドペルオ
キシ酸は、既知の貯蔵安定剤、例えば、上記のものを使
用してさえ、長時間にわたって分解するであろう。アミ
ドペルオキシ酸をアミドペルオキシ酸の合成直後にpH
約3.5〜6、好ましくは約4〜5においてホスフ工−
ト緩衝液と接触させることは、この分解を有意に遅くす
ることが見出された。この方法は単純であるが、従来、
ペルオキシ酸を安定化するのに使用されていなかった。
には、貯蔵に安定なペルオキシ酸を調製する方式を見出
すことが特に重要である。さもなければ、アミドペルオ
キシ酸は、既知の貯蔵安定剤、例えば、上記のものを使
用してさえ、長時間にわたって分解するであろう。アミ
ドペルオキシ酸をアミドペルオキシ酸の合成直後にpH
約3.5〜6、好ましくは約4〜5においてホスフ工−
ト緩衝液と接触させることは、この分解を有意に遅くす
ることが見出された。この方法は単純であるが、従来、
ペルオキシ酸を安定化するのに使用されていなかった。
ホスフェート緩衝液中で洗浄されたアミドペルオキシ酸
は、アルカリ性洗剤組成物に配合した時にさえ安定なま
まであり、このことも驚異的である。
は、アルカリ性洗剤組成物に配合した時にさえ安定なま
まであり、このことも驚異的である。
アミドペルオキシ酸、または疎水鎖中に極性アミド結合
を有するペルオキシ酸は、米国特許第4.634.55
1号明細書および米国特許第4.686,063号明細
書に記載されている。
を有するペルオキシ酸は、米国特許第4.634.55
1号明細書および米国特許第4.686,063号明細
書に記載されている。
このようなアミドペルオキシ酸は、下記一般式を有する
: (式中、R1およびR2は炭素数約1〜約14のアルキ
ル、アルキレン、アリール、アリーレン、アルカリール
、またはアルカリーレン基であり、R5はHまたは炭素
数約1〜約10のアルキル、アリール、またはアルカリ
ール基である)。
: (式中、R1およびR2は炭素数約1〜約14のアルキ
ル、アルキレン、アリール、アリーレン、アルカリール
、またはアルカリーレン基であり、R5はHまたは炭素
数約1〜約10のアルキル、アリール、またはアルカリ
ール基である)。
一般にアミドペルオキシ酸よりも安定であるスルホンベ
ルオキン酸は、下記式: (式中、AおよびBは炭素原子によって硫黄原子に結合
された有機部分であり且つAおよびBの少なくとも1つ
は炭素原子に結合された少なくとも1つの 一C−00
H 基を含有する)。スルホンベルオキシ酸は、欧
州特許田願m0267175号明細書に開示されている
。その出願の例4においては、スルホンペルオキシ酸の
塩化メチレン溶液を一連の工程の一部分としてホスフェ
ート緩衝液で洗浄し、次いで、水洗し、部分的に蒸発し
、ホウ酸と混合した。
ルオキン酸は、下記式: (式中、AおよびBは炭素原子によって硫黄原子に結合
された有機部分であり且つAおよびBの少なくとも1つ
は炭素原子に結合された少なくとも1つの 一C−00
H 基を含有する)。スルホンベルオキシ酸は、欧
州特許田願m0267175号明細書に開示されている
。その出願の例4においては、スルホンペルオキシ酸の
塩化メチレン溶液を一連の工程の一部分としてホスフェ
ート緩衝液で洗浄し、次いで、水洗し、部分的に蒸発し
、ホウ酸と混合した。
本発明の目的は、アミドペルオキシ酸の貯蔵安定性を改
良するための手段を提洪することにある。
良するための手段を提洪することにある。
また、本発明の目的は、洗剤組成物中でのアミドペルオ
キシ酸貯蔵安定性を改良するためのf,段を提供するこ
とにある。
キシ酸貯蔵安定性を改良するためのf,段を提供するこ
とにある。
発明の概要
本発明は、アミドペルオキシ酸合成後、最終製品への配
合前にアミドペルオキシ酸をpH約3.5〜6において
ホスフェート緩衝液と接触させることを特徴とするアミ
ドペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法に関する。キレー
ト化剤は、アミドペルオキシ酸の貯蔵安定性を更に改良
するために緩衝液に場合によって添加できる。
合前にアミドペルオキシ酸をpH約3.5〜6において
ホスフェート緩衝液と接触させることを特徴とするアミ
ドペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法に関する。キレー
ト化剤は、アミドペルオキシ酸の貯蔵安定性を更に改良
するために緩衝液に場合によって添加できる。
発明の具体的な説明
アミドペルオキシ酸を合成し、次いで、pH約3.5〜
6、好ましくは約4〜5においてホスフ工一ト緩衝液と
接触させる。技術上既知の通常の安定剤も、使用でき、
好ましくは使用される。次いで、安定化されたアミドペ
ルオキシ酸は、洗剤組成物中または漂白剤として使用す
るために凝集できる。
6、好ましくは約4〜5においてホスフ工一ト緩衝液と
接触させる。技術上既知の通常の安定剤も、使用でき、
好ましくは使用される。次いで、安定化されたアミドペ
ルオキシ酸は、洗剤組成物中または漂白剤として使用す
るために凝集できる。
アミドペルオキシ酸、または疎水鎖中に極性アミド結合
を有するペルオキシ酸は、米国特許第4,634,55
1号明細書および米国特許第4,686,063号明細
書に記載されている。
を有するペルオキシ酸は、米国特許第4,634,55
1号明細書および米国特許第4,686,063号明細
書に記載されている。
本発明のアミドペルオキシ酸は、ド記一股式:(式中、
R1およびR2は炭素数約1〜約14のアルキル、アル
キレン、アリール、アリーレン、アルカリール、または
アルカリーレン基であり、R5はHまたは炭素数約1〜
約10のアルキル、アリール、またはアルカリール基で
ある)を有する。好ましいアミドペルオキシ酸は、下記
一般式: (式中、R1は炭素数約6〜約12のアルキル基であり
、R2は炭素数約1〜約6のアルキルである) を有するものである。
R1およびR2は炭素数約1〜約14のアルキル、アル
キレン、アリール、アリーレン、アルカリール、または
アルカリーレン基であり、R5はHまたは炭素数約1〜
約10のアルキル、アリール、またはアルカリール基で
ある)を有する。好ましいアミドペルオキシ酸は、下記
一般式: (式中、R1は炭素数約6〜約12のアルキル基であり
、R2は炭素数約1〜約6のアルキルである) を有するものである。
本発明で最も好ましいアミドペルオキシ酸は、ペルオキ
シコハク酸のモノノニルアミド( rNAPSAJ )
およびベルオキシアジビン酸のモノノニルアミド( r
NAPA.AJ )てある。
シコハク酸のモノノニルアミド( rNAPSAJ )
およびベルオキシアジビン酸のモノノニルアミド( r
NAPA.AJ )てある。
米国特許第4,686,063号明細書の例■は、NA
PSAの合成の説明(第8欄第40行〜第9欄第5行)
およびNAPAAの合成の説明(第9欄第15行〜第9
欄第65行)を含む。
PSAの合成の説明(第8欄第40行〜第9欄第5行)
およびNAPAAの合成の説明(第9欄第15行〜第9
欄第65行)を含む。
アミドペルオキシ酸合成の終わりに、反応混合物は、水
で急冷し、濾過し、水洗して若干の過剰の硫酸(または
ベルオキシ酸の原料である他の強酸)を除去し、再度濾
過する。
で急冷し、濾過し、水洗して若干の過剰の硫酸(または
ベルオキシ酸の原料である他の強酸)を除去し、再度濾
過する。
このようにして得られたアミドペルオキシ酸湿潤ケーク
は、pH約3.5〜6、好ましくは約4〜5においてホ
スフェート緩衝液と接触させる。
は、pH約3.5〜6、好ましくは約4〜5においてホ
スフェート緩衝液と接触させる。
アミドペルオキシ酸湿潤ケークのpHが余りに高く上昇
するならば、アミドペルオキシ酸は溶解されるが、pH
が余りに低いならば、アミドペルオキシ酸は、不安定で
あることが見出された。理論によって限定されるもので
はないが、アミドペルオキシ酸を安定化するためには、
ペルオキシ酸の原料である硫酸(または他の強酸)から
残る強酸性度は、ペルオキシ酸である弱酸を同時に破壊
せずに中和しなければならないと推7lt+jされる。
するならば、アミドペルオキシ酸は溶解されるが、pH
が余りに低いならば、アミドペルオキシ酸は、不安定で
あることが見出された。理論によって限定されるもので
はないが、アミドペルオキシ酸を安定化するためには、
ペルオキシ酸の原料である硫酸(または他の強酸)から
残る強酸性度は、ペルオキシ酸である弱酸を同時に破壊
せずに中和しなければならないと推7lt+jされる。
緩衝液は、この目的を達成する。ホスフェート緩衝液洗
浄(しかし、アセテート洗浄または水洗ではない)は、
アミドペルオキシ酸を安定化することか確認された。同
じpHへの水洗は、ホスフェート緩衝液洗浄と同じ効果
を達成しないので、ホスフ工一トの若干は、ホスフェー
ト緩衝液との接触後に湿潤ケークに残り、このことも貯
蔵安定性を助長ずると理論化される。このことは、ホス
フェート緩衝液で洗浄した後に水洗することがホスフエ
− 1−緩衝液洗浄1i独よりも低い安定性をHするベ
ルオキシ酸を生ずるという事実によって史に支持される
。
浄(しかし、アセテート洗浄または水洗ではない)は、
アミドペルオキシ酸を安定化することか確認された。同
じpHへの水洗は、ホスフェート緩衝液洗浄と同じ効果
を達成しないので、ホスフ工一トの若干は、ホスフェー
ト緩衝液との接触後に湿潤ケークに残り、このことも貯
蔵安定性を助長ずると理論化される。このことは、ホス
フェート緩衝液で洗浄した後に水洗することがホスフエ
− 1−緩衝液洗浄1i独よりも低い安定性をHするベ
ルオキシ酸を生ずるという事実によって史に支持される
。
ホスフェート緩衝液は、好ましくは、約0.01M(モ
ル/Ω)〜約1Mのlf%度範囲内のオルトホスフェー
トまたはビロホスフェートである。オルトホスフェート
の0. 10M溶液が、最も好ましい。これらは、H
3PO4 (リン酸)、NaH2PO4(一塩基性リン
酸ナトリウム)、N a 2 H P O 4(二塩基
性リン酸ナトリウム)、およびNa3PO4(三塩基性
リン酸ナトリウム)からなる群から選ぶことができ、そ
れゆえ、最終溶液はpH約3.5〜6、好ましくは約4
〜5を有する。カリウム塩などの他の塩は、使用できる
。
ル/Ω)〜約1Mのlf%度範囲内のオルトホスフェー
トまたはビロホスフェートである。オルトホスフェート
の0. 10M溶液が、最も好ましい。これらは、H
3PO4 (リン酸)、NaH2PO4(一塩基性リン
酸ナトリウム)、N a 2 H P O 4(二塩基
性リン酸ナトリウム)、およびNa3PO4(三塩基性
リン酸ナトリウム)からなる群から選ぶことができ、そ
れゆえ、最終溶液はpH約3.5〜6、好ましくは約4
〜5を有する。カリウム塩などの他の塩は、使用できる
。
ホスフェート緩衝液組成物の例は、D. D.ベリンお
よびボイド・デンプシーによるバッファーズ・フォー・
ベーハー・エンド・メタル・イオン・コントロールCB
ufrcrs for ptl and Metal
IonControl) (チャップマン・エンド・ホ
ール、1974)に見出すことができる。
よびボイド・デンプシーによるバッファーズ・フォー・
ベーハー・エンド・メタル・イオン・コントロールCB
ufrcrs for ptl and Metal
IonControl) (チャップマン・エンド・ホ
ール、1974)に見出すことができる。
アミドペルオキシ酸をホスフェート緩衝液と接触できる
数種の方法がある。好ましくは、アミドペルオキシ酸湿
潤ケークは、それを覆うのに十分なホスフェート緩衝液
に入れ、その組み合わせ物を湿潤ケークとの完全な接触
を保証するのに十分な時間ゆっくりと攪拌する。例えば
、ホスフェート緩衝液400ml (0.IOMSpH
=4.75)中の湿潤ケーク20.Ogの場合に約1時
間は、適量の時間である。次いで、吸引濾過は、好まし
くは適用して溶液を除去する。次いで、湿潤ケークは、
一晩中風乾できる。より強い濃度のより少ないホスフェ
ート緩衝液が使用できると考えられる。0,1Mホスフ
エ−ト緩衝液は、例えば0.5M溶液よりも大きい容量
を与え且つ湿潤ケークとの混合時に完全な接触および容
品な攪拌を与えるので、好ましい。
数種の方法がある。好ましくは、アミドペルオキシ酸湿
潤ケークは、それを覆うのに十分なホスフェート緩衝液
に入れ、その組み合わせ物を湿潤ケークとの完全な接触
を保証するのに十分な時間ゆっくりと攪拌する。例えば
、ホスフェート緩衝液400ml (0.IOMSpH
=4.75)中の湿潤ケーク20.Ogの場合に約1時
間は、適量の時間である。次いで、吸引濾過は、好まし
くは適用して溶液を除去する。次いで、湿潤ケークは、
一晩中風乾できる。より強い濃度のより少ないホスフェ
ート緩衝液が使用できると考えられる。0,1Mホスフ
エ−ト緩衝液は、例えば0.5M溶液よりも大きい容量
を与え且つ湿潤ケークとの混合時に完全な接触および容
品な攪拌を与えるので、好ましい。
湿潤ケークを緩衝液と接触させる別の好ましい方法は、
緩衝液を湿潤ケーク上に注ぎ、次いで、真空濾過を適用
する方法である。プラントにおいては、濾過された湿潤
ケークは、最終洗剤組成物または漂白剤に配合する前に
、最終乾燥用流動床に入れることができる。
緩衝液を湿潤ケーク上に注ぎ、次いで、真空濾過を適用
する方法である。プラントにおいては、濾過された湿潤
ケークは、最終洗剤組成物または漂白剤に配合する前に
、最終乾燥用流動床に入れることができる。
ホスフェート緩衝液洗浄は、アミドペルオキシ酸が分解
する前に行うべきである。製品は、もはや有効な漂白剤
ではない程わずかにしかアミドペルオキシ酸が残ってい
ない時に分解している。アミドペルオキシ酸の活性は、
有効酸素によって測定できる。一般に、AvOが高けれ
ば高い程、ペルオキシ酸は、より良く漂白するであろう
。
する前に行うべきである。製品は、もはや有効な漂白剤
ではない程わずかにしかアミドペルオキシ酸が残ってい
ない時に分解している。アミドペルオキシ酸の活性は、
有効酸素によって測定できる。一般に、AvOが高けれ
ば高い程、ペルオキシ酸は、より良く漂白するであろう
。
貯蔵安定化または発熱制御用の他の薬剤は、最終製品へ
の配合前にアミドペルオキシ酸に添加できる。ホウ酸、
米国特許第4,686,063号明細書に開示の発熱制
御剤は、NAPSA:ホウ酸の比率約2;1の好ましい
NAPSA (ホスフ二一ト緩衝液中で洗浄されている
)と混合することが好ましい。また、ホスフェート緩衝
液洗浄NAPSAは、適量のジピコリン酸およびピロリ
ン酸四ナトリウム、キレート化安定化系(上記背景セク
ション参照)と混合することが好ましい。
の配合前にアミドペルオキシ酸に添加できる。ホウ酸、
米国特許第4,686,063号明細書に開示の発熱制
御剤は、NAPSA:ホウ酸の比率約2;1の好ましい
NAPSA (ホスフ二一ト緩衝液中で洗浄されている
)と混合することが好ましい。また、ホスフェート緩衝
液洗浄NAPSAは、適量のジピコリン酸およびピロリ
ン酸四ナトリウム、キレート化安定化系(上記背景セク
ション参照)と混合することが好ましい。
この混合物は、粒状物に成形し、乾燥し、別個に使用す
るか粒状洗剤組成物の一部分として使用することが好ま
しい。
るか粒状洗剤組成物の一部分として使用することが好ま
しい。
粒状物は、ホスフェート!!衝液洗浄アミドペルオキシ
酸約1%〜約50%、好ましくはNAPSAまt: g
;i N A P A A約10%〜約3 0 9.S
.発熱制御剤約0. 5%〜約25%、好ましくは
ホウ酸約5%〜約15%;C 線状アルキルベンゼ
ンスルホネートまたは014〜15アルキノはルフェー
ト0〜約10%、好ましくはc1、〜13線状アルキル
ベンゼンスルホネート約2%〜約796:サルフエート
約20%〜約70%、好ましくは約40%〜約60%;
およびキレート化剤0〜約20%、好ましくはビロリン
酸四ナトリウム約0.02%〜約0.10%およびジピ
コリン酸約0.05%〜約06 20%からなることが
できる。
酸約1%〜約50%、好ましくはNAPSAまt: g
;i N A P A A約10%〜約3 0 9.S
.発熱制御剤約0. 5%〜約25%、好ましくは
ホウ酸約5%〜約15%;C 線状アルキルベンゼ
ンスルホネートまたは014〜15アルキノはルフェー
ト0〜約10%、好ましくはc1、〜13線状アルキル
ベンゼンスルホネート約2%〜約796:サルフエート
約20%〜約70%、好ましくは約40%〜約60%;
およびキレート化剤0〜約20%、好ましくはビロリン
酸四ナトリウム約0.02%〜約0.10%およびジピ
コリン酸約0.05%〜約06 20%からなることが
できる。
キレート化剤は、場合によって、湿潤ケークとの接触前
にホスフェート緩衝液に配合できる。理論によって限定
されるものではないが、このようにキレート化剤を加え
ることは、キレート化剤を湿nケーク全体にわたってよ
り一様に分布することによって有効性を改善するであろ
う。
にホスフェート緩衝液に配合できる。理論によって限定
されるものではないが、このようにキレート化剤を加え
ることは、キレート化剤を湿nケーク全体にわたってよ
り一様に分布することによって有効性を改善するであろ
う。
本発明で使用するのに好適なキレート化剤の例は、エチ
レンジアミンテトラアセテート(EDTA) 、ジエチ
レントリアミンベンタアセテート(DTPA)などのカ
ルボキシレート;酸性ピロリン酸ナトリウム(SAPP
) 、ビロリン酸四ナトリウム(TSPP) 、}リボ
リリン酸ナトリウム(S T P P)などのポリホス
フェート;ホスホネート、例えば、エチルヒドロキシジ
ホスホネート(DequesL■2010)および商品
名デキュエスト■で販売されている他の金属イオン封鎖
剤;および上記のものの組み合わせである。本発明で使
用する他の金属イオン封鎖剤は、ジビコリン酸、ピコリ
ン酸、および8−ヒドロキシキノリン、およびそれらの
組み合わせである。
レンジアミンテトラアセテート(EDTA) 、ジエチ
レントリアミンベンタアセテート(DTPA)などのカ
ルボキシレート;酸性ピロリン酸ナトリウム(SAPP
) 、ビロリン酸四ナトリウム(TSPP) 、}リボ
リリン酸ナトリウム(S T P P)などのポリホス
フェート;ホスホネート、例えば、エチルヒドロキシジ
ホスホネート(DequesL■2010)および商品
名デキュエスト■で販売されている他の金属イオン封鎖
剤;および上記のものの組み合わせである。本発明で使
用する他の金属イオン封鎖剤は、ジビコリン酸、ピコリ
ン酸、および8−ヒドロキシキノリン、およびそれらの
組み合わせである。
ホスフェート緩衝液中で洗浄されたアミドペルオキシ酸
は、洗剤組成物中で、または別個の漂白剤として使用す
ることが好ましい。ホスフェート緩衝液洗浄アミドペル
オキシ酸は、粒状洗剤組成物に配合することがより好ま
しい。アミドペルオキシ酸は、NAPSAまたはNAP
AAであり且つ粒状物に成形し(ホスフェート緩衝液洗
浄、乾燥後)、次いで、粒状物は粒状洗剤組成物に配合
することが最も好ましい。
は、洗剤組成物中で、または別個の漂白剤として使用す
ることが好ましい。ホスフェート緩衝液洗浄アミドペル
オキシ酸は、粒状洗剤組成物に配合することがより好ま
しい。アミドペルオキシ酸は、NAPSAまたはNAP
AAであり且つ粒状物に成形し(ホスフェート緩衝液洗
浄、乾燥後)、次いで、粒状物は粒状洗剤組成物に配合
することが最も好ましい。
このような洗剤組成物は、アミドペルオキシ酸約0.5
%〜約30%、好ましくは約1%〜約10%;洗剤界面
活性剤約1%〜約4096、好ましくは約2%〜約30
%;および洗浄性ビルグー約5%〜約80%、好ましく
は約10%〜約6゜0%を含む。これらの洗剤組成物は
、米国特二′1゜第3.936,537号明細書に記載
の成分のいずれか、またはすべてを包含できる。このよ
うな成分としては、色斑点取り剤(color spe
ckle)、泡立て増進剤、抑泡剤、曇り防止剤および
/または耐食剤、〆9れ沈殿防止剤、汚れ放出剤、染事
,l、充填剤、光学増白剤、殺菌剤、アルカリ性源、ヒ
ドロトローブ、酸化防止剤、酵素、酵素安定剤、香料な
どが挙げられる。
%〜約30%、好ましくは約1%〜約10%;洗剤界面
活性剤約1%〜約4096、好ましくは約2%〜約30
%;および洗浄性ビルグー約5%〜約80%、好ましく
は約10%〜約6゜0%を含む。これらの洗剤組成物は
、米国特二′1゜第3.936,537号明細書に記載
の成分のいずれか、またはすべてを包含できる。このよ
うな成分としては、色斑点取り剤(color spe
ckle)、泡立て増進剤、抑泡剤、曇り防止剤および
/または耐食剤、〆9れ沈殿防止剤、汚れ放出剤、染事
,l、充填剤、光学増白剤、殺菌剤、アルカリ性源、ヒ
ドロトローブ、酸化防止剤、酵素、酵素安定剤、香料な
どが挙げられる。
適当な成分は、米国特許第4,68ら,063号明細書
第4欄第4行〜第8欄第33行および米国特許第4,6
34,551号明細書第7欄第3行〜第11欄第33行
に記載されている。
第4欄第4行〜第8欄第33行および米国特許第4,6
34,551号明細書第7欄第3行〜第11欄第33行
に記載されている。
ホスフエ h緩衝液中で洗浄され、濾過され、ホウ酸お
よびキレート化剤と共に造拉され11つ粒状洗剤組成物
に配合されたNAPSAは、ホスフ工−1・緩衝液中で
洗浄されていないコントロールと比較して製品中で長時
間にわたってff意により多い有効酸素を何する(例■
参照)。このことは、ホスフェート緩衝液での洗浄が洗
剤組成物中てのアミドペルオキシ酸貯蔵安定性をH意に
改良することを示す。
よびキレート化剤と共に造拉され11つ粒状洗剤組成物
に配合されたNAPSAは、ホスフ工−1・緩衝液中で
洗浄されていないコントロールと比較して製品中で長時
間にわたってff意により多い有効酸素を何する(例■
参照)。このことは、ホスフェート緩衝液での洗浄が洗
剤組成物中てのアミドペルオキシ酸貯蔵安定性をH意に
改良することを示す。
下記例は、本発明のパラメーターおよび相成物を例示す
るために与える。すべての%、部および比率は、特に断
らない限り、重ffi基準である。
るために与える。すべての%、部および比率は、特に断
らない限り、重ffi基準である。
例I
水56,7%、H効酸素2.12%(ベルオキシ酸34
.496に対応)および残部(未反応出発物質、9.1
%)からなるNAPSA (ペルオキシコハク酸のモノ
ノニルアミド)湿潤ケークの調製したでの試料が、得ら
れた。この湿潤ケークは、NASA (コハク酸のモノ
ノニルアミド)と硫酸と過酸化水素との粗反応生成物で
あり、その後、この粗反応生成物を水への添加によって
急冷した後、濾過し、蒸留水で洗浄し、最終吸引濾過を
95って湿潤ケークを回収した。湿潤ケークの1000
重量容ffi(w/v)スラリ−(蒸留水1 0 0
ml It−1の湿潤ケーク固形分10g)は、pH3
.15を有していた。次いで、湿潤ケークの一部分をド
記処理に付した。ホスフェート緩衝液は、NaH2PO
4、Na2HPO4、 Na3PO4の0.10〜1(モル/ρ)溶液を混合し
て所望のpHを達成することにより調製した。
.496に対応)および残部(未反応出発物質、9.1
%)からなるNAPSA (ペルオキシコハク酸のモノ
ノニルアミド)湿潤ケークの調製したでの試料が、得ら
れた。この湿潤ケークは、NASA (コハク酸のモノ
ノニルアミド)と硫酸と過酸化水素との粗反応生成物で
あり、その後、この粗反応生成物を水への添加によって
急冷した後、濾過し、蒸留水で洗浄し、最終吸引濾過を
95って湿潤ケークを回収した。湿潤ケークの1000
重量容ffi(w/v)スラリ−(蒸留水1 0 0
ml It−1の湿潤ケーク固形分10g)は、pH3
.15を有していた。次いで、湿潤ケークの一部分をド
記処理に付した。ホスフェート緩衝液は、NaH2PO
4、Na2HPO4、 Na3PO4の0.10〜1(モル/ρ)溶液を混合し
て所望のpHを達成することにより調製した。
試栢#1 湿潤ケーク20。Ogを室温で一晩中風乾し
た。乾燥時、試料pH(蒸留水中の10%w / vス
ラリーとして)は、2.96であった。
た。乾燥時、試料pH(蒸留水中の10%w / vス
ラリーとして)は、2.96であった。
試料#2 湿潤ケーク1.5.0gを蒸留水1.0gで
洗浄し、次いで、室温で一晩中風乾した。乾燥時、試料
pHは、4.60てあー〕た。
洗浄し、次いで、室温で一晩中風乾した。乾燥時、試料
pHは、4.60てあー〕た。
試料#3 湿潤ケーク20.Ogをホスフェート緩衝液
(0. IOM,pH−4. 40)1.Ωで洗
浄した後、蒸留水1,QΩで洗浄し、次いで、室温で一
晩中風乾した。乾燥時、試料pHは、4.59であった
。
(0. IOM,pH−4. 40)1.Ωで洗
浄した後、蒸留水1,QΩで洗浄し、次いで、室温で一
晩中風乾した。乾燥時、試料pHは、4.59であった
。
試料#4 湿潤ケーク15.Ogをホスフェート緩衝液
(0. 1.0MS pH−4. 50)1.
(1Ωで洗浄し、次いで、室温で一晩中風乾した。乾
燥時、試料pHは、4,4つであった。
(0. 1.0MS pH−4. 50)1.
(1Ωで洗浄し、次いで、室温で一晩中風乾した。乾
燥時、試料pHは、4,4つであった。
試料#5 湿潤ケーク20。Ogをホスフェート緩衝液
(0. 10M,pH−4.75)400mlに入れ
、1時間攪拌した後、吸引濾過によって回収し、一晩中
風乾した。乾燥時、試料pHは、4.76であった。
(0. 10M,pH−4.75)400mlに入れ
、1時間攪拌した後、吸引濾過によって回収し、一晩中
風乾した。乾燥時、試料pHは、4.76であった。
NAPSA試料を貯蔵安定性試験のために80丁(26
. 7℃) 、100’F (37. 8゜C)、およ
び120゜F (48. 9℃)で開放容器に入れた
。
. 7℃) 、100’F (37. 8゜C)、およ
び120゜F (48. 9℃)で開放容器に入れた
。
安定性をチオ硫酸ナトリウムでのヨウ素滴定によって監
視した。結果を時間の関数として残るベルオキシ酸有効
酸素(A v O)率によって以下に7j″Xす。
視した。結果を時間の関数として残るベルオキシ酸有効
酸素(A v O)率によって以下に7j″Xす。
1 なし
つ
水
3 ホスフェー
ト緩衝液、
次いで、水
4 ホスフエー
ト緩衝液
5 ホスフエー
ト緩衝液ソ
ーキング
80下(26.7℃)
100゜F (37. 8゜C)
120’F (48.9℃)
80丁(26.7℃)
100’F (37.8℃)
120下(48.9℃)
80丁(26、7℃)
100下(37.8℃)
120’F (48.9℃)
80゜F’(26.7℃)
100下(37.8℃)
120’F (48.9°C)
80丁(26.7℃)
100下(37.8℃)
120丁(48.9℃)
ペルオキシ酸のホスフェート緩衝液安定化は、湿潤ケー
クpHを上げる結果としてのみ生じない。
クpHを上げる結果としてのみ生じない。
湿潤ケークを水で同様のpHに洗浄することは、ホスフ
ェート緩衝液洗浄処理を使用した時よりも120丁(約
48.9℃)で12週間後に低い安定性を生じた(試料
#2vs試料#4)。安定性に対ナるホスフェート緩衝
液の有益な効果の一部分は、洗浄後にベルオキシ酸湿潤
ケークに残る残留量の緩衝液に明らかに由来する。緩衝
液洗浄した後水洗することは、緩衝液単独で洗浄された
べルオキシ酸よりも低い安定性を有するペルオキシ酸を
生じた(試料#3vs試料#4)。
ェート緩衝液洗浄処理を使用した時よりも120丁(約
48.9℃)で12週間後に低い安定性を生じた(試料
#2vs試料#4)。安定性に対ナるホスフェート緩衝
液の有益な効果の一部分は、洗浄後にベルオキシ酸湿潤
ケークに残る残留量の緩衝液に明らかに由来する。緩衝
液洗浄した後水洗することは、緩衝液単独で洗浄された
べルオキシ酸よりも低い安定性を有するペルオキシ酸を
生じた(試料#3vs試料#4)。
例■
本例は、ホスフエー緩衝液中で洗浄され、濾過され、造
粒され且つ粒状洗剤組成物に配合されたアミドペルオキ
シ酸の改良貯蔵安定性を示す。
粒され且つ粒状洗剤組成物に配合されたアミドペルオキ
シ酸の改良貯蔵安定性を示す。
造粒NAPSAの試料#1は、下記成分を一緒にするこ
とによって調製した: 乾燥NAPSA湿潤ケーク(例lに記載)80.OOg ホウ酸31.31g CI3線状アルキルベンゼンスルホネートペースト25
.05g ジビコリンMO.30g ピロリン酸四ナトリウム0.15g 硫酸ナトリウム123.58g 水45.00g すべての成分を十分に混合した。次いで、粒状物は、混
合物を#18タイラーメッシュプラスチック製篩を通過
させた後、室温で一晩中風乾することによって調製した
。乾燥時、このようにして調製された粒状物は、pH4
.21を有していた(蒸留水中の10%重量容量スラリ
ーとして71pI定した)。
とによって調製した: 乾燥NAPSA湿潤ケーク(例lに記載)80.OOg ホウ酸31.31g CI3線状アルキルベンゼンスルホネートペースト25
.05g ジビコリンMO.30g ピロリン酸四ナトリウム0.15g 硫酸ナトリウム123.58g 水45.00g すべての成分を十分に混合した。次いで、粒状物は、混
合物を#18タイラーメッシュプラスチック製篩を通過
させた後、室温で一晩中風乾することによって調製した
。乾燥時、このようにして調製された粒状物は、pH4
.21を有していた(蒸留水中の10%重量容量スラリ
ーとして71pI定した)。
造粒NAPSA(7)試料#2は、NAPSA湿潤ケー
クを先ずホスフェート緩衝液処理に付す以外は、同一の
割合の同じ成分のすべてを一緒にすることによって調製
した。湿潤ケーク50.Ogをホスフェート緩衝液(0
.IOM,pH−4.75)1.OjJに加え、次いで
、1時間攪拌した後、NAPSA湿潤ケークを吸引濾過
によって回収した。次いで、造粒を試料#1の場合と同
様に実施した。試料#2は、乾燥後に、pH4.23を
有していた。
クを先ずホスフェート緩衝液処理に付す以外は、同一の
割合の同じ成分のすべてを一緒にすることによって調製
した。湿潤ケーク50.Ogをホスフェート緩衝液(0
.IOM,pH−4.75)1.OjJに加え、次いで
、1時間攪拌した後、NAPSA湿潤ケークを吸引濾過
によって回収した。次いで、造粒を試料#1の場合と同
様に実施した。試料#2は、乾燥後に、pH4.23を
有していた。
造粒ペルオキシ酸試料の一部分(16%)をホスフェー
ト洗剤粒状物(84%)と一緒にし、貯蔵安定性試験の
ために80丁(26.7℃)、100丁(37.8℃)
、および120丁(48.9℃)で開放容器に入れた。
ト洗剤粒状物(84%)と一緒にし、貯蔵安定性試験の
ために80丁(26.7℃)、100丁(37.8℃)
、および120丁(48.9℃)で開放容器に入れた。
噴霧乾燥ホスフェート洗剤粒状物の組成は、次の通りで
あった: 重量% C11〜13線状アルキルベンゼンスルホネート
11ピロリン酸ナトリ
ウムおよび酸性ビロリン酸ナトリウム
9ケイ酸ナトリウム(比率2. 0)
4硫酸ナトリウム、水分、雑成分
28合計 100
★アルコールおよびモノエトキシ化アルコールを除去。
あった: 重量% C11〜13線状アルキルベンゼンスルホネート
11ピロリン酸ナトリ
ウムおよび酸性ビロリン酸ナトリウム
9ケイ酸ナトリウム(比率2. 0)
4硫酸ナトリウム、水分、雑成分
28合計 100
★アルコールおよびモノエトキシ化アルコールを除去。
結果を、時間の関数として残るペルオキシ酸角゜効酸素
(A v O)率によって以下に示す。
(A v O)率によって以下に示す。
試料# 洗浄
1 なし
2 ホスフェー
ト緩衝液
温度
80下(26.
100丁(37.
120下(48.
80丁(26.
100丁(37.
120丁(48,
7℃)
8℃)
9℃)
7℃)
8°C)
9℃)
このように、緩衝液処理は、ジピコリン酸、ビロリン酸
四ナトリウムなどの他の安定剤と併用する時にさえ製品
中ベルオキシ酸安定性を増大できる。
四ナトリウムなどの他の安定剤と併用する時にさえ製品
中ベルオキシ酸安定性を増大できる。
例■
ペルオキシアジピン酸のモノノニルアミド(NAPAA
)を含有する湿潤ケークを下記方法で調製する。6−ノ
ニルアミノ−6−オキソカブロン酸のメチルエステルの
重!50.0gをメタンスルホン酸100mlに溶解し
、得られた溶液を水浴中で冷却する。攪拌しながら、7
0%H202 42.4gを、反応混合物の温度が20
℃よりも高い温度に上がらないような速度で滴下する。
)を含有する湿潤ケークを下記方法で調製する。6−ノ
ニルアミノ−6−オキソカブロン酸のメチルエステルの
重!50.0gをメタンスルホン酸100mlに溶解し
、得られた溶液を水浴中で冷却する。攪拌しながら、7
0%H202 42.4gを、反応混合物の温度が20
℃よりも高い温度に上がらないような速度で滴下する。
H202の添加完了後、水浴を取り外し、反応混合物を
フリーザー中で冷却し、次いで、氷上に注ぐ。固体反応
生成物を濾過した後、水洗し、最終吸引濾過を行うこと
によって湿潤ケークとして回収する。湿潤ケークを湿潤
ケーク50g/溶液1.0gの比率でビロホスフェート
緩衝安定液への添加によって安定化する。ピロホスフェ
ード溶液は、0.IOM,pH−5.00である[1g
当たりNa2H2P207 21.10g+Na P
O 1.38g+デキュエスト■2010 (
0.1.0g))。その後、ビロホスフ.−−ト溶液を
15分〜1時間攪拌し、吸引濾過によって回収する。次
いで、安定化されたべルオキシ酸湿潤ケークは、乾燥ま
たは造粒できる。
フリーザー中で冷却し、次いで、氷上に注ぐ。固体反応
生成物を濾過した後、水洗し、最終吸引濾過を行うこと
によって湿潤ケークとして回収する。湿潤ケークを湿潤
ケーク50g/溶液1.0gの比率でビロホスフェート
緩衝安定液への添加によって安定化する。ピロホスフェ
ード溶液は、0.IOM,pH−5.00である[1g
当たりNa2H2P207 21.10g+Na P
O 1.38g+デキュエスト■2010 (
0.1.0g))。その後、ビロホスフ.−−ト溶液を
15分〜1時間攪拌し、吸引濾過によって回収する。次
いで、安定化されたべルオキシ酸湿潤ケークは、乾燥ま
たは造粒できる。
例■
上記例Iに記載のように調製されたNAPSA湿潤ケー
ク50.Ogをホスフエ−ト緩衝液(0.10M% p
H−4.50)1gへの添加によって安定化し、1時間
攪拌し、次いで、吸引濾過によって回収する。NAPS
Aは、安定化された湿潤ケークを下記粒状物成分と一緒
にすることによって造粒する。
ク50.Ogをホスフエ−ト緩衝液(0.10M% p
H−4.50)1gへの添加によって安定化し、1時間
攪拌し、次いで、吸引濾過によって回収する。NAPS
Aは、安定化された湿潤ケークを下記粒状物成分と一緒
にすることによって造粒する。
重量%
NAPSA (固形分) 24.00
NASA (湿潤ケークからの固形分) 4.00
ホウ酸 12.5001
3線状アルキルベンゼンスルホネート (ペースト)
5.00ジビコリン酸
0.l2ビロリン酸四ナ
トリウム 0.06硫酸ナトリウム
54.32粒状物を#18タイラー
メッシュプラスチック製篩を通過することによって調製
し、一晩中風乾する。
NASA (湿潤ケークからの固形分) 4.00
ホウ酸 12.5001
3線状アルキルベンゼンスルホネート (ペースト)
5.00ジビコリン酸
0.l2ビロリン酸四ナ
トリウム 0.06硫酸ナトリウム
54.32粒状物を#18タイラー
メッシュプラスチック製篩を通過することによって調製
し、一晩中風乾する。
次いで、NAPSA粒状物を噴霧乾燥粒状洗剤組成物と
混合して下記組成を有する完成漂白剤洗剤組成物を与え
る。
混合して下記組成を有する完成漂白剤洗剤組成物を与え
る。
重量06
CI1〜13線状アルキルベンゼンスルホネート 8
.0C14〜15アルキノけルフエート8.0C12〜
l3アルキルエトキシレート(8.5)★ 0.2
トリポリリン酸ナトリウム 39.
4炭酸ナトリウム 12
.3ケイ酸ナトリウム(比率1.6)
5GNAPSA粒状物
18.0硫酸ナトリウム、水分、雑成分
8.5★アルコールおよびモノエトキシ化アルコール
を除去。
.0C14〜15アルキノけルフエート8.0C12〜
l3アルキルエトキシレート(8.5)★ 0.2
トリポリリン酸ナトリウム 39.
4炭酸ナトリウム 12
.3ケイ酸ナトリウム(比率1.6)
5GNAPSA粒状物
18.0硫酸ナトリウム、水分、雑成分
8.5★アルコールおよびモノエトキシ化アルコール
を除去。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、アミドペルオキシ酸をホスフェート緩衝液と接触さ
せ、その際上記ホスフェート緩衝液および緩衝化アミド
ペルオキシ酸はpH3.5〜6、好ましくは4〜5を有
し、且つ上記ホスフェート緩衝液は好ましくは0.01
M〜1Mの濃度範囲内のオルトホスフェートまたはピロ
ホスフェードまたはそれらの組み合わせからなることを
特徴とするアミドペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法。 2、上記アミドペルオキシ酸をアミドペルオキシ酸との
完全な接触を保証するのに十分な時間上記ホスフェート
緩衝液と接触させた後、濾過して過剰の緩衝液を除去し
、アミドペルオキシ酸を最終製品に配合する、請求項1
に記載のアミドペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法。 3、上記ホスフェート緩衝液が、カルボキシレート、ポ
リホスフェート、ホスホネート、およびそれらの混合物
からなる群から選ばれるキレート化剤を更に含む、請求
項1または2に記載のアミドペルオキシ酸の貯蔵安定性
の改良法。 4、上記ホスフェート緩衝液は、H_3PO_4、Na
H_2PO_4、Na_2HPO_4、Na_3PO_
4、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる
0.1M混合物であり、それゆえ、最終溶液はpH3.
5〜6を有する、請求項1、2または3に記載のアミド
ペルオキシ酸の貯蔵安定性の改良法。 5、アミドペルオキシ酸が、ペルオキシコハク酸または
ペルオキシアジピン酸のモノノニルアミドである、請求
項1、2、3または4に記載のアミドペルオキシ酸の貯
蔵安定性の改良法。 6、上記のペルオキシコハク酸のモノノニルアミドをそ
れを覆うのに十分なホスフェート緩衝液に入れ、完全な
接触を保証するのに十分な時間攪拌し、次いで、濾過す
る、請求項5に記載のアミドペルオキシ酸の貯蔵安定性
の改良法。 7、ホスフェート緩衝液洗浄ペルオキシコハク酸のモノ
ノニルアミドを1以上のキレート化剤および発熱制御剤
と混合する、請求項6に記載のアミドペルオキシ酸の貯
蔵安定性の改良法。 8、請求項1、2、3、4、5、6または7に記載の方
法に従って安定化されたアミドペルオキシ酸0.5%〜
30%、好ましくは1%〜10%;洗剤界面活性剤1%
〜40%、好ましくは2%〜30%;および好ましくは
洗浄性ビルダー5%〜80%、好ましくは10%〜60
%を含むことを特徴とする洗剤組成物。 9、上記アミドペルオキシ酸1%〜50%、発熱制御剤
0.5%〜25%、C_1_1_〜_1_3線状アルキ
ルベンゼンスルホネートまたはC_1_4_〜_1_5
アルキルサルフェート0〜10%、サルフェート20%
〜70%、およびキレート化剤0〜20%を含む粒状物
を更に含む、請求項8に記載の粒状洗剤組成物。 10、ペルオキシコハク酸のモノノニルアミドまたはペ
ルオキシアジピン酸のモノノニルアミド10%〜30%
、ホウ酸5%〜15%、 C_1_1_〜_1_3線状アルキルベンゼンスルホン
酸2%〜7%、サルフェート40%〜60%、ピロホス
ホン酸四ナトリウム0.02%〜0.10%、およびジ
ピコリン酸0.05%〜0.20%を含む粒状物を更に
含む、請求項9に記載の粒状洗剤組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/213,413 US4909953A (en) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | Phosphate buffer wash for improved amidoperoxyacid storage stability |
US213413 | 1994-03-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02131464A true JPH02131464A (ja) | 1990-05-21 |
JP2820437B2 JP2820437B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=22795032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1169705A Expired - Lifetime JP2820437B2 (ja) | 1988-06-30 | 1989-06-30 | 改良されたアミドペルオキシ酸貯蔵安定性のためのホスフェート緩衝液洗浄 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4909953A (ja) |
EP (1) | EP0349220B1 (ja) |
JP (1) | JP2820437B2 (ja) |
AR (1) | AR244801A1 (ja) |
AT (1) | ATE138973T1 (ja) |
AU (1) | AU624157B2 (ja) |
BR (1) | BR8903237A (ja) |
CA (1) | CA1339508C (ja) |
DE (1) | DE68926592D1 (ja) |
DK (1) | DK325789A (ja) |
FI (1) | FI893195A (ja) |
MX (1) | MX167246B (ja) |
NZ (1) | NZ229768A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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