JP2817533B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
- Publication number
- JP2817533B2 JP2817533B2 JP4239487A JP23948792A JP2817533B2 JP 2817533 B2 JP2817533 B2 JP 2817533B2 JP 4239487 A JP4239487 A JP 4239487A JP 23948792 A JP23948792 A JP 23948792A JP 2817533 B2 JP2817533 B2 JP 2817533B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data
- memory cell
- pads
- integrated circuit
- semiconductor integrated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 50
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 22
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 101150111246 BIO3-BIO1 gene Proteins 0.000 description 9
- 101100111573 Arabidopsis thaliana BIOF gene Proteins 0.000 description 6
- 101100381760 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) BIO4 gene Proteins 0.000 description 6
- 101100165358 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) BIO5 gene Proteins 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 101100489713 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) GND1 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100489717 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) GND2 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 101100165384 Arabidopsis thaliana BIO2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101150012842 BIO2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100493963 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) BIO3 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Dram (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Microcomputers (AREA)
Description
し、特に複数ビットのデータを並列に入力/出力する手
段を備えた半導体集積回路装置に関する。
Dual in−line Package(以下、D
IP),Small Out−line Packag
e(以下、SOP),Small Out−line
J−lead以下、SOJ),Quad Flat P
ackage(以下、QFP),Pin Grid A
rrayなど多くの種類があるが一般には、DIP,S
OP,SOJなどのように、互いに相対る一対の辺に端
子列を備えたタイプ(以下、DIPと総称)のパッケー
ジが使用される。
導体集積回路装置(以下、IC)に入力/出力されるデ
ータやアドレス信号は通常、複数ビット(例えば、4,
8,16ビット等)のビットパラレル信号である。一
方、DIP型のパッケージのICでは、これらビットパ
ラレル信号の入力/出力のための端子は、制御信号源お
よび電源との接続のためにも必要であるので、上記一対
の辺の一方の端子列だけでは収容できない。そこで、こ
れらビットパラレル信号のための端子を上記一対の辺の
両方の端子列で構成するのが一般的である。
チップ上には、上記一対の辺にそれぞれ対応する二つの
辺に沿って、上記端子列の端子の各々の近傍にパッドが
形成され、それらパッドは対応する端子にボンディング
線によってそれぞれ接続される。
合は、そのチップ表面には、上記複数の端子およびパッ
ドを通して入力/出力される上記ビットパラレル信号に
応答して指定アドレスでのデータの読出し/書込みを行
うメモリセルアレイ部と、この指定アドレスへのビット
パラレルのデータの授受を行う選択・データ転送制御部
とが形成される。
セッサである場合は、上記複数の端子およびパッドを通
して入力/出力されるビットパラレルのデータそのも
の、そのデータ処理の中間結果および最終結果を一時保
持するデータ保持部と、このデータ保持部からのデータ
に対して所定の処理を施して上記データ保持部に戻すデ
ータ処理部とを含むデータ処理回路と、データの種類や
処理内容に応答して上記複数のパッド、データ保持部お
よび処理部の間のデータの転送制御を行う選択・データ
転送制御部とがチップ表面に形成される。
回路は、機能ごとにブロックにまとめて配置・形成する
のが有利であるので、上記メモリセルアレイ部、データ
処理回路および選択・データ転送制御部などは、とくに
必要がない限り、半導体チップ上で分割することなくそ
れぞれ一つのブロックとして配置され形成される。
に沿って複数のパッドが形成され、一対のパッド列の間
の領域に、メモリセルアレイ部および選択・データ転送
制御部がそれぞれ形成される。
対のパッド列の間の領域に、データ処理回路と、選択・
データ転送制御部とが上記一対の辺に沿って配置・形成
される。
制御部を形成する領域上には、上記一対のパッド列と上
記指定アドレスとの間、同パット列とデータ保持部との
間、およびこれらデータ保持部とデータ処理部との間の
データ転送をビットパラレルに行うためのデータバスが
形成され、このデータバスは上記一対のパッド列のパッ
ドにそれぞれ接続される。
された選択・データ転送制御部およびデータバスは、こ
のチップの上記二つのパッド列の一方に必然的に偏るの
で、一方のパッド列の複数のパッドと上記データバスと
の間の配線が、他方のパッド列の複数のパッドと上記デ
ータバスとの間の配線よりも短くなる。
集積回路装置(IC)では、半導体チップ上に配置・形
成された選択・データ転送制御部およびデータバスが、
このチップの上記二つのパッド列の一方に必然的に偏る
ので、一方のパッド列の複数のパッドと上記データバス
との間の配線が、他方のパッド列の複数のパッドと上記
データバスとの間の配線よりも短くなり、したがって、
これら配線の抵抗および配線容量によっていずれか一方
のデータの伝達時間が長くなる。ビットパラレル信号の
伝達時間はその信号を構成する複数のパラレルビットの
うちの伝達に最も長い時間を要するビットの伝達時間で
定まるので、この半導体集積回路装置の全体としてのデ
ータ転送時間は長くなり動作速度が遅くなるという問題
点があった。
ルに入力/出力されるデータの半導体チップ内における
伝達時間を短縮した半導体集積回路装置を提供すること
にある。
装置は、実質的に方形の半導体基板の互いに相対する一
対の辺の各々の近傍に所定の間隔でそれぞれ形成された
複数個のボンディングパッドから成る第1および第2の
ボンディングパッド列と、前記半導体基板の表面の前記
第1および第2のボンディングパッド列の間の対応ボン
ディングパッド列寄りの領域にそれぞれ形成された第1
および第2の内部回路と、これら第1および第2の内部
回路にそれぞれ対応接続され各々対応ボンディングパッ
ド列にそれぞれ平行に配置形成された第1および第2の
データバスと、これら第1および第2のデータバスとの
対応ボンディングパッド列の複数のボンディングパッド
との間を等しい長さで接続する個別接続手段とを含む半
導体チップと、前記複数個のボンディングパッドにそれ
ぞれ接続された複数個の外部接続端子から成り前記第1
および第2のボンディングパッド列の各々とそれぞれ実
質的に平行に配置され外部利用装置との間で並列複数ビ
ットのディジタル信号の授受を行う第1および第2の外
部接続端子列を含み前記半導体チップを気密的に固定収
容するハウジング手段とを有している。
説明する。
き平面図である。
ラレルにデータの授受を行う複数のデータ入出力端子I
O1〜IO4,電源端子Vcc1および接地端子GND
1を第1の辺(左辺)に、データ入出力端子IO5〜I
O8,電源端子Vcc2および接地端子GND2を上記
第1の辺と相対向する第2の辺(右辺)にそれぞれ配列
したパッケージ1と、半導体基板20上の左辺側および
右辺側に線対称的に配置・形成された内部回路領域21
a/21b,データバス22a/22b,データ入出力
パッドPIO1〜PIO4/PIO5〜PIO8,デー
タバッファ回路BIO1〜BIO4/BIO5〜BIO
8および配線23を含みパッケージ1内に収納された半
導体チップ2と、データ入出力端子IO1〜IO8とデ
ータ入出力パッドPIO1〜IO08、電源端子Vcc
1/Vcc2と電源用パッドPP1/PP2、接地端子
GND1/GND2と接地用パッドPG1/PG2とを
それぞれ対応接続するボンディング線3とを備える。
メモリ装置を構成するこの半導体チップ2は、半導体基
板20の左辺および右辺と平行な中心線20Aの左側で
上記中心線20Aの隣接領域にメモリセルアレイ部21
1aとその外側領域に列選択・データ転送回路212a
とを含む上記内部回路領域21aと、左辺に最も近接し
た領域の上記データ入出力端子IO1〜IO4,電源端
子Vcc1および接地端子GND1にそれぞれ対応しか
つ近接した位置に形成されたデータ入出力パッドPIO
1〜PIO4,電源用パッドPP1および接地用パッド
PG1と、列選択・データ転送回路212aの左辺側外
縁とデータ入出力パッドPIO1〜PIO4との間の領
域に形成されたデータバッファ回路BIO1〜BIO4
と、列選択・データ転送回路212aの左辺側外縁に沿
って形成されデータバッファ回路BIO1〜BIO4お
よび列選択・データ転送回路212a間のデータをビッ
トパラレルに伝達するデータバス22aと、データバッ
ファ回路BIO1〜BIO4とデータ入出力パッドPI
O1〜PIO4およびデータバス22aとの間に形成さ
れこれらを対応ビットごとに接続する配線23とを備え
る。なお、電源用パッドPP1および接地用パッドGN
D1とメモリセルアレイ部211a,列選択・データ転
送回路212aおよびデータバッファ回路BIO1〜B
IO4との間にも配線23が形成されているが、これら
配線はFIG.1には示されていない。また、上記中心
線20Aの右側には、この中心線20Aについて対称
に、メモリセルアレイ部211bおよび列選択・データ
転送回路212aを含む内部回路領域21bと、データ
入出力パッドPIO5〜PIO8,電源用パッドPP2
および接地用パッドPG2と、データバッファ回路BI
O5〜BIO8と、データバス22bと、配線23とを
備える。
辺のデータ入出力端子IO1〜IO4/IO5〜IO8
にビットパラレルに供給されたデータは、これら端子に
近接して形成されたデータ入出力パッドPIO1〜PI
O4/PIO5〜PIO8およびデータバッファ回路B
IO1〜BIO4/BIO5〜BIO8を通して左辺側
および右辺側のデータバス22a/22bにそれぞれ伝
達される。列選択・データ転送回路212a/212b
は、列アドレス信号(図1には表示されていない)に応
答して選択したメモリセルアレイ部211a/211b
の列に、データバス22a/22bに伝達されたデータ
を転送する。メモリセルアレイ部211a/211b
は、上記列の行アドレス信号(図1には表示されていな
い)に応答して選択した行のメモリセルに転送された上
記データを書込む。列アドレス信号および行アドレス信
号により選択されたメモリセルの記憶データの読出し
は、上述の逆の経路で行われる。
り、データ入出力端子およびデータ入出力パッドをパッ
ケージおよび半導体チップの左辺および右辺にそれぞれ
分割して配置・形成しているのに対し、その内部回路
は、同一機能のものを一つのブロックにまとめて配置・
形成している。すなわち、上述の図1と対応する従来の
半導体集積回路装置では、半導体チップ上には、メモリ
セルアレイ部および列選択・データ転送回路がそれぞれ
一つ、これに伴うデータバスも一つ形成されているだけ
である。このような場合、列選択・データ転送回路およ
びこの回路に付随するデータバスは半導体チップの左辺
側または右辺側に偏らざるを得ない。したがって、左辺
および右辺に形成されたデータ入出力パッドとデータバ
スとの間の配線の長さが均一でなくなり、したがってそ
れぞれの配線により伝達されるデータの伝達時間に差が
生ずる。上述のとおり、ビットパラレル信号の伝達時間
は構成ビットのうち伝達に最長の時間を要するビットの
伝達時間によって定まるので、上述の従来の半導体集積
回路装置の内部におけるデータ伝達時間は必然的に長く
なる。
置は、上記左辺および右辺に形成されたデータ入出力パ
ッドPIO1〜PIO4/PIO5〜PIO8のそれぞ
れに対し、列選択・データ転送回路212a/212b
およびデータバス22a/22bを近接配置しているの
で、これらパッドとデータバスとの間の距離が均一かつ
短かくなり、上記のデータ伝達時間が短縮される。
き平面図である。
aは、半導体基板20の左辺および右辺のデータ入出力
パッド列PIO1〜PIO4およびPIO5〜PIO8
の各々を互いに隣接する2つの短列に分け(図2の実施
例では、データ入出力パッド対PIO1・PIO2/P
IO3・PIO4/PIO5・PIO6/PIO7・P
IO8の4つの短列)、これら短列の各々にメモリセル
アレイ部および列選択・データ転送回路を含む内部回路
領域並びにデータバスを対応させて配置(21c,22
c/21d,22d/21e,22e/21f,22
f)すると共に、データ入出力バッファ回路BIO1〜
BIO8も同様に上記短列にそれぞれ対応させて配置
(BIO1・BIO2/BIO3・BIO4/BIO5
・BIO6/BIO7・BIO8)する。構成要素を上
述のとおり配置することにより、この実施例はデータ入
出力パッドの上記短列対応のビットパラレルコードワー
ド単位でデータの書込み/読出しを行う。
22c〜22fも第1の実施例よりも短くなっているの
で、データの伝達時間はさらに短縮される。
ータ入出力パッド,データバスおよび内部回路領域等の
配置が、中心線について左右対称となっているが、これ
らパッドおよび回路等の配置は必ずしも左右対称とする
必要はない。例えば、制御信号源および電源の接続位置
や周辺回路との位置関係を考慮して、上記パッドおよび
回路等を最適に配置する。
発明の技術的思想はマイクロプロセッサにもそのまま適
用できる。その場合は、上述の内部回路21a/21b
/21c/21d対応の内部回路は、データバス経由の
データの一時記憶のためのデータ保持部と、それらデー
タに対して所定の処理を施し上記データバスに出力する
データ処理部と、これらデータ保持部およびデータ処理
部と複数のデータ入出力パッドとの間のデータ転送を上
記データバスを通して選択的に行う選択・データ転送制
御部とを含む。
ップを、半導体基板上の互いに相対する第1および第2
の辺に沿って形成されこれら2辺と対応のパッケージの
2辺の複数の端子にそれぞれ対応接続された複数のパッ
ドから成る第1および第2のパッド列と、上記第1およ
び第2のパッド列間の対応パッド列寄りにそれぞれ形成
され伝達されたデータに所定の処理を施す第1および第
2の内部回路と、これら内部回路とそれぞれ接続され対
応内部回路に対するデータの伝達をビットパラレルに行
う第1および第2のデータバスと、これらデータバスと
上記複数のパッドとを接続する配線とを含む構成とした
ので、 各々のパッドと対応データバスとの間の配線長
を均一かつ短かくできるので、データの伝達時間を短縮
することができる効果がある。
ある。
ある。
Claims (5)
- 【請求項1】 実質的に方形の半導体基板の互いに相対
する一対の辺の各々の近傍に所定の間隔でそれぞれ形成
された複数個のボンディングパッドから成る第1および
第2のボンディングパッド列と、前記半導体基板の表面
の前記第1および第2のボンディングパッド列の間の対
応ボンディングパッド列寄りの領域にそれぞれ形成され
た第1および第2の内部回路と、これら第1および第2
の内部回路にそれぞれ対応接続され各々対応ボンディン
グパッド列にそれぞれ平行に配置形成された第1および
第2のデータバスと、これら第1および第2のデータバ
スとの対応ボンディングパッド列の複数のボンディング
パッドとの間を等しい長さで接続する個別接続手段とを
含む半導体チップと、前記複数個のボンディングパッド
にそれぞれ接続された複数個の外部接続端子から成り前
記第1および第2のボンディングパッド列の各々とそれ
ぞれ実質的に平行に配置され外部利用装置との間で並列
複数ビットのディジタル信号の授受を行う第1および第
2の外部接続端子列を含み前記半導体チップを気密的に
固定収容するハウジング手段とを有することを特徴とす
る半導体集積回路装置。 - 【請求項2】 前記第1および第2のボンディングパッ
ド列の複数のボンディングパッドをそれぞれ少なくとも
2つの短列にかつ同一短列内では互いに隣接するように
分け、これら短列の各々に前記内部回路およびデータバ
スをそれぞれに対応させて配置しこれら短列ごとに前記
ディジタル信号の授受を行う請求項1記載の半導体集積
回路装置。 - 【請求項3】 前記内部回路が、複数のメモリセル列を
備えこれらメモリセル列ごとにデータの書込み/読出し
を行うメモリセルアレイ部と、前記半導体基板上の第1
および第2のデータバスの各々にそれぞれ近接して形成
され前記複数のメモリセル列のうちの所定のメモリセル
列を選択してこの選択されたメモリセル列と前記データ
バスとの間のデータ転送制御を行う列選択・データ転送
回路とを含む請求項1記載の半導体集積回路装置。 - 【請求項4】 前記内部回路が、前記データバスを通し
て伝達されたデータを一時記憶し前記データバスに出力
するデータ保持部と、前記データバスを通して伝達され
たデータに対して所定の処理を施し前記データバスに出
力するデータ処理部と、前記データ保持部,データ処理
部および複数のパッドの三者間のデータ転送を前記デー
タバスを通して選択的に行う選択・転送制御部とを含む
請求項1記載の半導体集積回路装置。 - 【請求項5】 前記第1および第2のボンディングパッ
ド列の複数のボンディングパッドのうちの予め定められ
たものと対応データバスとの間に前記個別接続手段によ
り接続された複数のデータ入出力バッファ回路が設けら
れた請求項1記載の半導体集積回路装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24869591 | 1991-09-27 | ||
JP3-248695 | 1991-09-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05243492A JPH05243492A (ja) | 1993-09-21 |
JP2817533B2 true JP2817533B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=17181963
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4239487A Expired - Fee Related JP2817533B2 (ja) | 1991-09-27 | 1992-09-08 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5463560A (ja) |
JP (1) | JP2817533B2 (ja) |
KR (1) | KR960002999B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0836192A1 (en) | 1993-10-29 | 1998-04-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multi-scene recording medium and method and apparatus for reproducing data therefrom |
US5767583A (en) * | 1995-05-01 | 1998-06-16 | Hyundai Electronics Industries, Inc. | Semiconductor chip I/O and power pin arrangement |
JP3565991B2 (ja) * | 1996-06-26 | 2004-09-15 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路および半導体集積回路の製造方法 |
US6417695B1 (en) | 2001-03-15 | 2002-07-09 | Micron Technology, Inc. | Antifuse reroute of dies |
JP5079342B2 (ja) | 2007-01-22 | 2012-11-21 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | マルチプロセッサ装置 |
JP6420680B2 (ja) * | 2015-02-03 | 2018-11-07 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4459496A (en) * | 1980-04-04 | 1984-07-10 | Matsushita Electric Industrial Company, Limited | Semiconductor integrated circuit having stacked integrated injection logic circuits |
JPS61227289A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-09 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH0346192A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | Hitachi Ltd | 半導体装置及び半導体メモリ装置 |
-
1992
- 1992-09-08 JP JP4239487A patent/JP2817533B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-26 KR KR1019920017597A patent/KR960002999B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-09-28 US US07/952,690 patent/US5463560A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR930006893A (ko) | 1993-04-22 |
KR960002999B1 (ko) | 1996-03-02 |
JPH05243492A (ja) | 1993-09-21 |
US5463560A (en) | 1995-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7286386B2 (en) | Semiconductor device | |
US20020140091A1 (en) | Dual die memory | |
EP0257437A2 (en) | Master slice type integrated circuit | |
US6847576B2 (en) | Layout structures of data input/output pads and peripheral circuits of integrated circuit memory devices | |
US11594522B2 (en) | Semiconductor devices with duplicated die bond pads and associated device packages and methods of manufacture | |
US6856164B2 (en) | Semiconductor integrated circuit having on-chip termination | |
JP2817533B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
US7005748B2 (en) | Flip chip interface circuit of a semiconductor memory device | |
US7294936B2 (en) | Semiconductor device | |
US7268579B2 (en) | Semiconductor integrated circuit having on-chip termination | |
US6831356B2 (en) | Memory macro and semiconductor integrated circuit | |
US6147924A (en) | Arrangement of data input/output circuits for use in a semiconductor memory device | |
JPH11330351A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6140053A (ja) | 半導体装置 | |
KR930010103B1 (ko) | 웨이퍼 스캐일(scale) 집적회로 장치 | |
JPH0714002B2 (ja) | チップへの信号供給方法 | |
JP2871608B2 (ja) | 半導体記憶装置及びその製造方法 | |
JPH03225697A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPH0263151A (ja) | 半導体集積回路用パッケージ | |
JP2005025864A (ja) | 半導体メモリ装置 | |
JPH09120977A (ja) | 改善されたパッド配置を有する半導体装置 | |
JPS62179735A (ja) | 電子回路チツプ | |
JPH0673365B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH0263149A (ja) | 半導体集積回路用パッケージ | |
KR980011404A (ko) | 반도체 메모리 장치의 패드 배치방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980721 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070821 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090821 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090821 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821 Year of fee payment: 12 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821 Year of fee payment: 12 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110821 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110821 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821 Year of fee payment: 14 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |