JP2814569B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JP2814569B2 JP2814569B2 JP1146853A JP14685389A JP2814569B2 JP 2814569 B2 JP2814569 B2 JP 2814569B2 JP 1146853 A JP1146853 A JP 1146853A JP 14685389 A JP14685389 A JP 14685389A JP 2814569 B2 JP2814569 B2 JP 2814569B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は洗浄装置に関し、特に洗浄装置内の溶剤ガス
の拡散に伴うオゾン層の破壊、地下水汚染等の環境汚染
を防止し、ランニングコストの低減及び回収再生溶剤の
品質の向上を図ることのできる洗浄装置に関する。
の拡散に伴うオゾン層の破壊、地下水汚染等の環境汚染
を防止し、ランニングコストの低減及び回収再生溶剤の
品質の向上を図ることのできる洗浄装置に関する。
［背景技術］ 従来、この種の洗浄装置としては第７図及び第８図に
示ものがある。
示ものがある。
第７図（ａ）及び（ｂ）は密閉構造形であり、第８図
（ａ）及び（ｂ）は密閉構造且排気形式のものである。
（ａ）及び（ｂ）は密閉構造且排気形式のものである。
前者の洗浄装置（ａ）は搬送手段（図示せず）により
搬送路20上に搬送されてくる洗浄物を収納して洗浄し、
洗浄後は他工程に移送するものである。この洗浄装置は
装置最下部に設けられた溶剤室21と、この溶剤室21の上
部に設けられた溶剤ベーパー室22と、前記溶剤室21と並
列配置された蒸気発生槽23と、この溶剤ベーパー室22の
上部に位置するチャンバー24と、このチャンバー24の出
入口を開閉をする出入口シャッター25とで構成され、夫
々の若しくは槽は連通されている。
搬送路20上に搬送されてくる洗浄物を収納して洗浄し、
洗浄後は他工程に移送するものである。この洗浄装置は
装置最下部に設けられた溶剤室21と、この溶剤室21の上
部に設けられた溶剤ベーパー室22と、前記溶剤室21と並
列配置された蒸気発生槽23と、この溶剤ベーパー室22の
上部に位置するチャンバー24と、このチャンバー24の出
入口を開閉をする出入口シャッター25とで構成され、夫
々の若しくは槽は連通されている。
前記溶剤室21内には液中冷却コイル26が周囲に配設さ
れ、この液中冷却コイル26により溶剤室21内の溶剤27を
冷却して洗浄物を浸漬洗浄する。溶剤ベーパー室22に隣
接する蒸気発生槽23内には溶剤27が満たされており、こ
の溶剤27は蒸気発生槽23に配設されたヒータ23aにより
加熱されて高濃度溶剤ガス（ベーパー）22aを発生す
る。このベーパー22aは溶剤ベーパー室22上部周壁に配
設されたベーパー冷却コイル28により冷却されて凝縮回
収される。このベーパー冷却コイル28の管内には、水又
は冷媒ガスにより冷却するものであるが、この冷却コイ
ルがONのときはベーパー22aがチャンバー24内に漏れな
いようにベーパー22aを凝縮回収するものである。ま
た、搬送路20上に載置された洗浄物収納籠29（以下、洗
浄籠と称する。）は出入口シャッター25により装置内部
とを移動できるが、この洗浄籠29はチェーン等よりなる
駆動手段（図示せず）により装置内部を移動して洗浄さ
れる。
れ、この液中冷却コイル26により溶剤室21内の溶剤27を
冷却して洗浄物を浸漬洗浄する。溶剤ベーパー室22に隣
接する蒸気発生槽23内には溶剤27が満たされており、こ
の溶剤27は蒸気発生槽23に配設されたヒータ23aにより
加熱されて高濃度溶剤ガス（ベーパー）22aを発生す
る。このベーパー22aは溶剤ベーパー室22上部周壁に配
設されたベーパー冷却コイル28により冷却されて凝縮回
収される。このベーパー冷却コイル28の管内には、水又
は冷媒ガスにより冷却するものであるが、この冷却コイ
ルがONのときはベーパー22aがチャンバー24内に漏れな
いようにベーパー22aを凝縮回収するものである。ま
た、搬送路20上に載置された洗浄物収納籠29（以下、洗
浄籠と称する。）は出入口シャッター25により装置内部
とを移動できるが、この洗浄籠29はチェーン等よりなる
駆動手段（図示せず）により装置内部を移動して洗浄さ
れる。
また、洗浄（ｂ）は、装置（ａ）と略同一の構成であ
るが、溶剤ベーパー室22と蒸気発生槽23との境界に回動
軸30を支点として矢印方向に回動する扉31と、溶剤ベー
パー室22と、チャンバー24との間に設けられた上昇板32
を有する点で相違する。この上昇板32は、ベーパー22a
の上昇を防ぐためのものであり、洗浄籠29が出入口シャ
ッター25から搬入若しくは搬出される時に図示せぬ移動
機構により図中仮想線で示す間を昇降するように構成さ
れている。溶剤ベーパー室22で洗浄物の蒸気洗浄若しく
は乾燥工程中等は、上昇板32は仮想線の位置にあり密閉
状態とされている。このとき扉31は蒸気洗浄中は開いて
おり、乾燥工程中は図示のごとく閉じてベーパーが溶剤
ベーパー室22へ流れ込むのを防ぐように構成されてい
る。
るが、溶剤ベーパー室22と蒸気発生槽23との境界に回動
軸30を支点として矢印方向に回動する扉31と、溶剤ベー
パー室22と、チャンバー24との間に設けられた上昇板32
を有する点で相違する。この上昇板32は、ベーパー22a
の上昇を防ぐためのものであり、洗浄籠29が出入口シャ
ッター25から搬入若しくは搬出される時に図示せぬ移動
機構により図中仮想線で示す間を昇降するように構成さ
れている。溶剤ベーパー室22で洗浄物の蒸気洗浄若しく
は乾燥工程中等は、上昇板32は仮想線の位置にあり密閉
状態とされている。このとき扉31は蒸気洗浄中は開いて
おり、乾燥工程中は図示のごとく閉じてベーパーが溶剤
ベーパー室22へ流れ込むのを防ぐように構成されてい
る。
次に、後者の洗浄装置（ａ）は、第７図（ａ）のもの
と略同一構成であり、チャンバー24に排気口33を設け、
この排気口よりベーパー22aを排気して図示せぬ回収器
に送出するものである。また、装置（ｂ）は、搬送路20
の下部に排気ダクト34を設け、このダクト34より排気し
て回収器側に送出するものである。
と略同一構成であり、チャンバー24に排気口33を設け、
この排気口よりベーパー22aを排気して図示せぬ回収器
に送出するものである。また、装置（ｂ）は、搬送路20
の下部に排気ダクト34を設け、このダクト34より排気し
て回収器側に送出するものである。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、従来の洗浄装置では以下のような欠点
がある。
がある。
第１に、ベーパー化された溶剤を冷却コイルのみによ
って完全に回収することはできない。例えば、フロン
（Ｒ−113）では−30℃の時、公知の飽和表を用いると
密度（蒸気）として0.26586Kg/m3存在するが、第10図で
示すようにベーパー化された溶剤を−30℃に冷却しても
溶剤濃度が薄いので回収効率は０である。しかも、冷却
コイルによる冷却温度は−５〜０℃程度までしか通常冷
却できないので、回収効率は更に悪化する。
って完全に回収することはできない。例えば、フロン
（Ｒ−113）では−30℃の時、公知の飽和表を用いると
密度（蒸気）として0.26586Kg/m3存在するが、第10図で
示すようにベーパー化された溶剤を−30℃に冷却しても
溶剤濃度が薄いので回収効率は０である。しかも、冷却
コイルによる冷却温度は−５〜０℃程度までしか通常冷
却できないので、回収効率は更に悪化する。
第２に、洗浄装置から洗浄物を搬送する時は可動シャ
ッタにより開閉を行なうため、溶剤ガスの漏れが生ず
る。しかし、この可動シャッターが全閉状態であっても
構造的に完全な密閉状態ではないため、気体状の溶剤ガ
スがシールされている隙間等から漏れる恐れがある。更
に、この可動シャッタは洗浄物の搬送を行なうチェーン
等の構造物の可動部からの漏れが生ずる欠点がある。
ッタにより開閉を行なうため、溶剤ガスの漏れが生ず
る。しかし、この可動シャッターが全閉状態であっても
構造的に完全な密閉状態ではないため、気体状の溶剤ガ
スがシールされている隙間等から漏れる恐れがある。更
に、この可動シャッタは洗浄物の搬送を行なうチェーン
等の構造物の可動部からの漏れが生ずる欠点がある。
以上のような従来装置の欠点について第７図及び第８
図の装置について夫々述べる。
図の装置について夫々述べる。
第７図（ａ）及び（ｂ）の装置は出入口シャッタ及び
ベーパラインに囲まれた空間に高濃度溶剤ガスが存在す
るが、このガスは冷却コイルでは充分回収することがで
きない。したがって、出入口シャッターを開けた際に多
量のガスが装置系外に漏れ出す欠点がある。また、可動
シャッターのシール搬送構造物等の可動部からのガス漏
れも起る欠点がある。
ベーパラインに囲まれた空間に高濃度溶剤ガスが存在す
るが、このガスは冷却コイルでは充分回収することがで
きない。したがって、出入口シャッターを開けた際に多
量のガスが装置系外に漏れ出す欠点がある。また、可動
シャッターのシール搬送構造物等の可動部からのガス漏
れも起る欠点がある。
更に、第７図（ｂ）の装置では槽内シャッターを上下
に移動させて装置内部の密着性を向上させているが、こ
のシャッターの上下動及び気流の乱れによる高濃度ガス
の扇り出し及び洗浄物の搬送に伴なう気流の乱れ等によ
り、槽内のシャッターと出入口シャッターに囲まれる空
間に存在する高濃度溶剤ガスは出入口シャッターを開け
た時に多量に系外に漏れ出す。第９図は高濃度溶剤ガス
が多量に存在している状態を示している。
に移動させて装置内部の密着性を向上させているが、こ
のシャッターの上下動及び気流の乱れによる高濃度ガス
の扇り出し及び洗浄物の搬送に伴なう気流の乱れ等によ
り、槽内のシャッターと出入口シャッターに囲まれる空
間に存在する高濃度溶剤ガスは出入口シャッターを開け
た時に多量に系外に漏れ出す。第９図は高濃度溶剤ガス
が多量に存在している状態を示している。
次に、第８図（ａ）の装置では排気風量を多くしない
と出入口シャッターからの高濃度溶剤ガスの流出が生じ
る。逆に、排気風量を多くすると洗浄装置内のガスの消
耗が多くなるためガスの回収器も大型のものが必要とな
る。しかも、装置系外より多量の空気を吸入するため他
工程からの異種ガスの影響が大きくなり回収再生溶剤の
品質の低下を招く欠点がある。
と出入口シャッターからの高濃度溶剤ガスの流出が生じ
る。逆に、排気風量を多くすると洗浄装置内のガスの消
耗が多くなるためガスの回収器も大型のものが必要とな
る。しかも、装置系外より多量の空気を吸入するため他
工程からの異種ガスの影響が大きくなり回収再生溶剤の
品質の低下を招く欠点がある。
また、第８図（ｂ）の装置は上記（ａ）の装置と同じ
形式のものであるが、この装置では出入口シャッタ部か
ら漏れ出てきた溶剤ガスの他にシステム系外からの異種
ガスの影響が大きくなり回収再生溶剤の品質の低下を招
く。しかも、排気ガスの回収器も大容量で且低ガス濃度
処理可能なものが必要となり大型化する欠点がある。
形式のものであるが、この装置では出入口シャッタ部か
ら漏れ出てきた溶剤ガスの他にシステム系外からの異種
ガスの影響が大きくなり回収再生溶剤の品質の低下を招
く。しかも、排気ガスの回収器も大容量で且低ガス濃度
処理可能なものが必要となり大型化する欠点がある。
そこで、本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされた
もので、洗浄装置内の溶剤ガスの拡散に伴なうオゾン層
の破壊、地下水汚染等の環境汚染を防止し、ランニング
コストの低減及び回収再生溶剤の品質の向上を装置の小
型化と併せて図ることのできる洗浄装置を提供すること
を目的とするものである。
もので、洗浄装置内の溶剤ガスの拡散に伴なうオゾン層
の破壊、地下水汚染等の環境汚染を防止し、ランニング
コストの低減及び回収再生溶剤の品質の向上を装置の小
型化と併せて図ることのできる洗浄装置を提供すること
を目的とするものである。
［課題を解決するための手段］ 本発明の洗浄装置は、冷却槽からなる溶剤室と、 該溶剤室と並列して一体に設けられ加熱によって高濃
度溶剤ガスを発生させる蒸気発生槽と、 前記溶剤室の上部に位置し前記蒸気発生槽で発生され
た高濃度溶剤ガスにより洗浄物を蒸気洗浄後冷却乾燥し
て該高濃度溶剤ガスを凝縮回収する冷却手段を備えた溶
剤ベーパー室と、 該溶剤ベーパー室の上部に設けられ外部との開閉をす
る出入口シャッター及び排気口を有するチャンバーとを
備えてなる洗浄装置であって、 前記チャンバーと溶剤ベーパー室との境界に装置本体
と一体で略水平方向に突出して形成されたシャッターボ
ックスと、 該シャッターボックス内を移動可能に構成され前記チ
ャンバーの出入口シャッターが閉じている状態で前記チ
ャンバー８と溶剤ベーパー室との間で前記洗浄物の移動
が行われる際に開かれ、洗浄が行われるときに閉じて密
閉状態とする槽内シャッターと、 前記槽内シャッターを駆動する駆動手段とを備え、 前記洗浄物は、前記槽内シャッターにより密閉状態と
されているとき前記溶剤室内で浸漬洗浄された後、前記
蒸気発生槽内で発生された高濃度溶剤ガスにより蒸気洗
浄が行われた後前記冷却手段により冷却乾燥するととも
に該高濃度溶剤ガスを凝縮回収するように構成したもの
である。
度溶剤ガスを発生させる蒸気発生槽と、 前記溶剤室の上部に位置し前記蒸気発生槽で発生され
た高濃度溶剤ガスにより洗浄物を蒸気洗浄後冷却乾燥し
て該高濃度溶剤ガスを凝縮回収する冷却手段を備えた溶
剤ベーパー室と、 該溶剤ベーパー室の上部に設けられ外部との開閉をす
る出入口シャッター及び排気口を有するチャンバーとを
備えてなる洗浄装置であって、 前記チャンバーと溶剤ベーパー室との境界に装置本体
と一体で略水平方向に突出して形成されたシャッターボ
ックスと、 該シャッターボックス内を移動可能に構成され前記チ
ャンバーの出入口シャッターが閉じている状態で前記チ
ャンバー８と溶剤ベーパー室との間で前記洗浄物の移動
が行われる際に開かれ、洗浄が行われるときに閉じて密
閉状態とする槽内シャッターと、 前記槽内シャッターを駆動する駆動手段とを備え、 前記洗浄物は、前記槽内シャッターにより密閉状態と
されているとき前記溶剤室内で浸漬洗浄された後、前記
蒸気発生槽内で発生された高濃度溶剤ガスにより蒸気洗
浄が行われた後前記冷却手段により冷却乾燥するととも
に該高濃度溶剤ガスを凝縮回収するように構成したもの
である。
［実施例］ 次に本発明について第１図を用いて詳細に説明する。
第１図において、洗浄装置は搬送手段（図示せず）に
より搬送路１上に搬送されてくる洗浄物を収納して洗浄
し、洗浄後は他工程に移送するものであって、装置内部
は密閉構造で構成されている。この洗浄装置は装置最下
部に設けられた溶剤室２と、この溶剤室２の上部に設け
られた溶剤ベーパー室３と、前記溶剤室２と並列に配置
された蒸気発生槽４と、この溶剤ベーパー室３の上部に
設けられたチャンバー５と、このチャンバー５と溶剤ベ
ーパー室３とを区切る槽内シャッタ６及び装置系外との
開閉をする出入口シャッター７とで構成されている。
より搬送路１上に搬送されてくる洗浄物を収納して洗浄
し、洗浄後は他工程に移送するものであって、装置内部
は密閉構造で構成されている。この洗浄装置は装置最下
部に設けられた溶剤室２と、この溶剤室２の上部に設け
られた溶剤ベーパー室３と、前記溶剤室２と並列に配置
された蒸気発生槽４と、この溶剤ベーパー室３の上部に
設けられたチャンバー５と、このチャンバー５と溶剤ベ
ーパー室３とを区切る槽内シャッタ６及び装置系外との
開閉をする出入口シャッター７とで構成されている。
前記溶剤室２内には液中冷却コイル８が周囲に配設さ
れており、この液中冷却コイル８により溶剤室２内に満
たされている溶剤９を冷却して洗浄物を浸漬洗浄する。
溶剤ベーパー室３に隣接する蒸気発生槽４内には溶剤９
が満たされており、この溶剤９は蒸気発生槽４に配設さ
れたヒータ4aにより加熱されて高濃度溶剤ガス（ベーパ
ー）3aとなる。このベーパー3aは溶剤ベーパー室３の上
部周壁に配設されたベーパー冷却コイル10により冷却さ
れて凝縮回収される。この溶剤ベーパー室３内は槽内シ
ャッタ６によりチャンバー５を区切られているが、この
槽内シャッター６は装置系外、すなわち連通された溶剤
ベーパー室３及びチャンバー５と直交する方向に突出し
て一体に形成されたシャッタボックス11内をシリンダー
等の図示せぬ駆動手段により往動する。このシリンダー
の作動によるシャッタの開閉動作により溶剤ベーパー室
３内が密閉状態となるように構成されている。また、チ
ャンバー５には溶剤ベーパー室３から漏れて上昇してく
るガスを排気する排気口12が設けられており、この排気
口12より排気されたガスは図示せぬ回収器13により回収
される。また、搬送路１上に載置された洗浄物収納籠14
（以下、洗浄籠と称する。）は出入口シャッター７によ
り装置内部とを移動できるが、この洗浄籠14はチェーン
等よりなる駆動手段（図示せず）により装置内部を移動
して洗浄される。
れており、この液中冷却コイル８により溶剤室２内に満
たされている溶剤９を冷却して洗浄物を浸漬洗浄する。
溶剤ベーパー室３に隣接する蒸気発生槽４内には溶剤９
が満たされており、この溶剤９は蒸気発生槽４に配設さ
れたヒータ4aにより加熱されて高濃度溶剤ガス（ベーパ
ー）3aとなる。このベーパー3aは溶剤ベーパー室３の上
部周壁に配設されたベーパー冷却コイル10により冷却さ
れて凝縮回収される。この溶剤ベーパー室３内は槽内シ
ャッタ６によりチャンバー５を区切られているが、この
槽内シャッター６は装置系外、すなわち連通された溶剤
ベーパー室３及びチャンバー５と直交する方向に突出し
て一体に形成されたシャッタボックス11内をシリンダー
等の図示せぬ駆動手段により往動する。このシリンダー
の作動によるシャッタの開閉動作により溶剤ベーパー室
３内が密閉状態となるように構成されている。また、チ
ャンバー５には溶剤ベーパー室３から漏れて上昇してく
るガスを排気する排気口12が設けられており、この排気
口12より排気されたガスは図示せぬ回収器13により回収
される。また、搬送路１上に載置された洗浄物収納籠14
（以下、洗浄籠と称する。）は出入口シャッター７によ
り装置内部とを移動できるが、この洗浄籠14はチェーン
等よりなる駆動手段（図示せず）により装置内部を移動
して洗浄される。
上記構成よりなる本発明の動作について第２図を用い
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
まず、搬送路１上に載置された洗浄籠14は、第１図の
に位置する。第２図に示す流れにしたがって出入口シ
ャッター７が開くと、洗浄籠14は装置内の駆動手段によ
り位置まで移動する。この移動後出入口シャッター７
が閉じ、槽内シャッター６が開いて洗浄籠14は溶剤室２
まで下降移動して位置に達する。その後、槽内シャッ
ター６が閉じて装置内部が密閉されると共にこの溶剤室
２内で洗浄籠14は所定時間浸漬洗浄された後、溶剤ベー
パー室３内の位置まで引き上げられ溶剤ベーパー3aに
よりガス状の雰囲気化で蒸気洗浄される。更に、洗浄籠
14はの位置まで上昇して乾燥処理されるとともに、ベ
ーパー冷却コイル10によりガス状のベーパーは凝縮回収
されている。この洗浄工程が終了すると槽内シャッター
６は再び開き、洗浄籠14はチャンバー５内のの位置ま
で引き上げられる。ここで、槽内シャッター６が閉じる
と同時に出入口シャッター７が開いて洗浄籠14はの位
置に搬送され再び出入口シャッター７が閉じる。
に位置する。第２図に示す流れにしたがって出入口シ
ャッター７が開くと、洗浄籠14は装置内の駆動手段によ
り位置まで移動する。この移動後出入口シャッター７
が閉じ、槽内シャッター６が開いて洗浄籠14は溶剤室２
まで下降移動して位置に達する。その後、槽内シャッ
ター６が閉じて装置内部が密閉されると共にこの溶剤室
２内で洗浄籠14は所定時間浸漬洗浄された後、溶剤ベー
パー室３内の位置まで引き上げられ溶剤ベーパー3aに
よりガス状の雰囲気化で蒸気洗浄される。更に、洗浄籠
14はの位置まで上昇して乾燥処理されるとともに、ベ
ーパー冷却コイル10によりガス状のベーパーは凝縮回収
されている。この洗浄工程が終了すると槽内シャッター
６は再び開き、洗浄籠14はチャンバー５内のの位置ま
で引き上げられる。ここで、槽内シャッター６が閉じる
と同時に出入口シャッター７が開いて洗浄籠14はの位
置に搬送され再び出入口シャッター７が閉じる。
以上の工程を繰り返すことによって、洗浄籠14内の洗
浄物は洗浄される。
浄物は洗浄される。
なお、上記工程におけるシャッター６及び７の開閉動
作中におけるチャンバー５内へのベーパーの漏れは第２
図に示すようにタイミング的にいずれか一方のシャッタ
ーが閉じた状態になっており、密閉室内は負圧になって
いるので排気口12から回収器13に効率よく確実に回収さ
れる。
作中におけるチャンバー５内へのベーパーの漏れは第２
図に示すようにタイミング的にいずれか一方のシャッタ
ーが閉じた状態になっており、密閉室内は負圧になって
いるので排気口12から回収器13に効率よく確実に回収さ
れる。
また、第３図は上記構成よりなる装置を用いて排気中
のフロンガス濃度の測定結果を示したものであり、第４
図は出入口シャッター７の近傍におけるフロンガス濃度
の測定結果を示したものである。これは第７図（ｂ）の
従来装置を用いて測定した第９図の測定結果と比較でき
る。ここで、第３図、第４図及び第９図の測定は濃度測
定器としてメタンガス校正を行なっているので実フロン
ガス濃度との相関関係を第５図に示した。
のフロンガス濃度の測定結果を示したものであり、第４
図は出入口シャッター７の近傍におけるフロンガス濃度
の測定結果を示したものである。これは第７図（ｂ）の
従来装置を用いて測定した第９図の測定結果と比較でき
る。ここで、第３図、第４図及び第９図の測定は濃度測
定器としてメタンガス校正を行なっているので実フロン
ガス濃度との相関関係を第５図に示した。
次に、本明の他の実施例を第６図に示す。
第６図のものは、第４図の測定結果では瞬間的に、ピ
ークレベルで1000PPM（第５図より実フロンガス濃度と
して430PPMとなる。）のガス漏れが認められる。したが
って、第６図に示すようにチャンバー５に更に隣接して
もう一つのチャンバーの並設することによりガス漏れを
生ずることなく確実に回収することができる。
ークレベルで1000PPM（第５図より実フロンガス濃度と
して430PPMとなる。）のガス漏れが認められる。したが
って、第６図に示すようにチャンバー５に更に隣接して
もう一つのチャンバーの並設することによりガス漏れを
生ずることなく確実に回収することができる。
なお、本実施例ではフロンガスの場合を説明したが、
フロンガス以外の洗浄ガスにも適用し得ることは言うま
でもない。
フロンガス以外の洗浄ガスにも適用し得ることは言うま
でもない。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、 溶剤ガスの拡散を防止することのできるので、オゾン
層の破壊、大気汚染、地下水汚染等の環境汚染を招くこ
とがないので人体に悪影響を及ぼすことがない。また、
装置全体の構成も簡略化できるのでコストの低減され優
れた効果を発揮できる。
層の破壊、大気汚染、地下水汚染等の環境汚染を招くこ
とがないので人体に悪影響を及ぼすことがない。また、
装置全体の構成も簡略化できるのでコストの低減され優
れた効果を発揮できる。
また、溶剤が異種ガスによる影響を受けずに確実に回
収できるので品質も向上させることができる。したがっ
て、溶剤に要するコストを低減できると共に、従来のよ
うな溶剤精製装置が不要となる。仮に、このような装置
を設ける場合でも簡素化、小型化を図ることができる。
収できるので品質も向上させることができる。したがっ
て、溶剤に要するコストを低減できると共に、従来のよ
うな溶剤精製装置が不要となる。仮に、このような装置
を設ける場合でも簡素化、小型化を図ることができる。
本発明によれば溶剤回収装置の小型化を図ることがで
きるので、これに要するコストを低減できる効果もあ
る。
きるので、これに要するコストを低減できる効果もあ
る。
更に、本発明によれば、槽内シャッターが、上下に配
されたチャンバーと溶剤ベーパー室との境界に略水平に
開閉するように設けられている。かかる構成により、該
槽内シャッターの存在が装置内の密閉空間の容積には何
等影響を及ぼさず、密閉空間の容積が小さく抑えられ、
装置の小型化が図り易くなっている。
されたチャンバーと溶剤ベーパー室との境界に略水平に
開閉するように設けられている。かかる構成により、該
槽内シャッターの存在が装置内の密閉空間の容積には何
等影響を及ぼさず、密閉空間の容積が小さく抑えられ、
装置の小型化が図り易くなっている。
第１図は本発明の洗浄装置の構成を示す図、第２図は第
１図の洗浄装置を用いて洗浄する工程の流れを説明する
図、第３図及び第４図は本発明の洗浄装置の測定図、第
５図は第３図及び第４図の測定結果と実フロン濃度との
相関を示す図、第６図は本発明の他の実施例、第７図
（ａ）及び（ｂ）は密閉構造形式の従来例、第８図
（ａ）及び（ｂ）は密閉構造且排気形式の従来例、第９
図は第７図（ｂ）の従来装置の測定結果を示す図、第10
図はフロン−113の論理回収効率と溶剤濃度との関係を
示す図である。 １……搬送路、２……溶剤室、３……溶剤ベーパー室、
４……蒸気発生槽、５……チャンバー、６……槽内シャ
ッター、７……出入口シャッター、８……液中冷却コイ
ル、９……溶剤、10……ベーパー冷却コイル、11……シ
ャッターボックス、12……排気口、13……回収器、14…
…洗浄物収納籠、20……搬送路、21……溶剤室、22……
溶剤ベーパー室、23……蒸気発生槽、24……チャンバ
ー、25……出入口シャッター、26……液中冷却コイル、
27……溶剤、28……ベーパー冷却コイル、29……洗浄物
収納籠、30……回動軸、31……扉、32……上昇板、33…
…排気口、34……排気ダクト。
１図の洗浄装置を用いて洗浄する工程の流れを説明する
図、第３図及び第４図は本発明の洗浄装置の測定図、第
５図は第３図及び第４図の測定結果と実フロン濃度との
相関を示す図、第６図は本発明の他の実施例、第７図
（ａ）及び（ｂ）は密閉構造形式の従来例、第８図
（ａ）及び（ｂ）は密閉構造且排気形式の従来例、第９
図は第７図（ｂ）の従来装置の測定結果を示す図、第10
図はフロン−113の論理回収効率と溶剤濃度との関係を
示す図である。 １……搬送路、２……溶剤室、３……溶剤ベーパー室、
４……蒸気発生槽、５……チャンバー、６……槽内シャ
ッター、７……出入口シャッター、８……液中冷却コイ
ル、９……溶剤、10……ベーパー冷却コイル、11……シ
ャッターボックス、12……排気口、13……回収器、14…
…洗浄物収納籠、20……搬送路、21……溶剤室、22……
溶剤ベーパー室、23……蒸気発生槽、24……チャンバ
ー、25……出入口シャッター、26……液中冷却コイル、
27……溶剤、28……ベーパー冷却コイル、29……洗浄物
収納籠、30……回動軸、31……扉、32……上昇板、33…
…排気口、34……排気ダクト。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−186978（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−73090（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−25087（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−39485（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭59−110003（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭59−9228（ＪＰ，Ｂ２) 実公 昭52−24575（ＪＰ，Ｙ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B08B 3/08 C23G 5/04
Claims (1)
- 【請求項１】冷却槽からなる溶剤室と、 該溶剤室と並列して一体に設けられ加熱によって高濃度
溶剤ガスを発生させる蒸気発生槽と、 前記溶剤室の上部に位置し前記蒸気発生槽で発生された
高濃度溶剤ガスにより洗浄物を蒸気洗浄後冷却乾燥して
該高濃度溶剤ガスを凝縮回収する冷却手段を備えた溶剤
ベーパー室と、 該溶剤ベーパー室の上部に設けられ外部との開閉をする
出入口シャッター及び排気口を有するチャンバーとを備
えてなる洗浄装置であって、 前記チャンバーと溶剤ベーパー室との境界に装置本体と
一体で略水平方向に突出して形成されたシャッターボッ
クスと、 該シャッターボックス内を移動可能に構成され前記チャ
ンバーの出入口シャッターが閉じている状態で前記チャ
ンバーと溶剤ベーパーとの間で前記洗浄物の移動が行わ
れる際に開かれ、洗浄が行われるときに閉じて密閉状態
とする槽内シャッターと、 前記槽内シャッターを駆動する駆動手段とを備え、 前記洗浄物は、前記槽内シャッターにより密閉状態とさ
れているとき前記溶剤室内で浸漬洗浄された後、前記蒸
気発生槽内で発生された高濃度溶剤ガスにより蒸気洗浄
が行われた後前記冷却手段により冷却乾燥するとともに
該高濃度溶剤ガスを凝縮回収するようにしたこと を特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1146853A JP2814569B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1146853A JP2814569B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0312276A JPH0312276A (ja) | 1991-01-21 |
| JP2814569B2 true JP2814569B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=15417030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1146853A Expired - Fee Related JP2814569B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2814569B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017170424A (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-28 | 株式会社クリンビー | ワーク洗浄装置およびワーク洗浄方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JPH0754179A (ja) * | 1993-08-06 | 1995-02-28 | Kimura Chem Plants Co Ltd | 洗浄乾燥装置 |
| JP5676033B1 (ja) * | 2014-04-15 | 2015-02-25 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄方法 |
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| JPS62186978A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-15 | トヨタ自動車株式会社 | 有機溶剤洗浄装置 |
| JPH0225087U (ja) * | 1988-08-02 | 1990-02-19 |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP1146853A patent/JP2814569B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017170424A (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-28 | 株式会社クリンビー | ワーク洗浄装置およびワーク洗浄方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0312276A (ja) | 1991-01-21 |
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