CN1035804C - 清洗机构的溶剂回收装置 - Google Patents
清洗机构的溶剂回收装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1035804C CN1035804C CN 90102020 CN90102020A CN1035804C CN 1035804 C CN1035804 C CN 1035804C CN 90102020 CN90102020 CN 90102020 CN 90102020 A CN90102020 A CN 90102020A CN 1035804 C CN1035804 C CN 1035804C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- solvent
- cleaned
- treatment chamber
- rinse bath
- make
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/04—Apparatus
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
本发明涉及除了对机械部件、电气部件和医疗用具以及其它各种被清洗物进行清洗外还使附着在被清洗物上的溶剂不向大气中排放而进行回收的装置,通过设置使洗净后被清洗物位于其间的密闭空间,且用通过循环回路预先与其连接的溶剂气体处理机构使附着在被清洗物上的溶剂进行循环且不向大气中扩散,而后使从密闭空间向处理机构导入,在此反复进行吸附、冷凝等处理和回收,能防止大气污染和人体健康受害于未然。
Description
本发明涉及清洗机构的溶剂回收装置,也就是有关对机械部件、电气部件、医疗用具以及其它各种被清洗件能不使溶剂气体向外部扩散,可靠地进行清洗、回收处理的清洗装置。
以往是在把经过了清洗作业后的被清洗件从清洗槽取出以后,对附着在被清洗件上的溶剂进行自然干燥或强制干燥处理,则让溶剂气体扩散在大气中。因此,如果该溶剂为含有三氯乙烯、三氯三氟乙醇等不宜向大气中扩散的物质时,则会产生危害健康和对大气污染等问题。
此外,在对如上所述溶剂气体进行处理的处理装置中,已存在包含能吸附溶剂的吸附物质、冷凝机构等的装置,但都属于为吸附除去上述有害物质,却仅能让包含有害物质的气体通过该处理机构一次的装置,其后仍将其排放在大气中去,因而要可靠地除去有害物质很困难。
本发明就是为解决上述问题而形成的,其目的在于提供能进行如下处理的装置,即用溶剂对机械部件、电气部件、医疗用具以及其它各种被清洗件进行液体清洗或蒸汽清洗后,能除去附着在被清洗件上的溶剂,不使有害物质向外部扩散的清洗机构的溶剂回收装置。
根据本发明的清洗机构的溶剂回收装置,用于对附着在被清洗件上溶剂的回收处理,包括供载放被清洗件、且使与移动机构相连、可自由移动的清洗台,具备清洗机构的清洗槽,将被清洗件密封起来,与所述清洗槽相连设置,用对附着在被清洗件上溶剂进行去除处理的处理室,进行溶剂气体回收处理的处理机构,通过使所述清洗台移动,从而使被清洗件能在处理室与清洗槽间往复移动,用遮蔽体使此处理室与清洗槽相互遮蔽,同时,用气体循环回路连接所述处理室与处理机构,能使溶剂气体在处理室与处理机构间循环流动。
此外,根据本发明的清洗机的溶剂回收装置,用于对附着在被清洗件上溶剂的回收处理,包括具备清洗机构、且将被清洗件密封起来的清洗槽,用于清洗用溶剂存储的存储罐,为进行溶剂气体回收处理的处理机构,用溶剂供给、抽取机构连接上述清洗槽与溶剂存储罐,同时,用气体循环回路连接上述清洗槽与处理机构,构成能使溶剂气体在作为处理室的清洗槽与处理机构间循环流动。
以下通过参照附图对发明进行详细说明,便可对上述目的、效果和用途有进一步了解。
附图是表示本发明实施例,图1是表示第一实施例在清洗作业状态时的剖面图,图2是表示被清洗件在被除去溶剂作业状态时的剖面图,图3是表示本发明第二实施例的剖面图,图4是表示第三实施例,是在清洗装置的被清洗件的出、入口上设置了另外的处理机构,图5是在循环回路上形成处理机构的第四实施例的剖面图。
下面对实施例进行说明,在各实施例中,同一或共同的部分用相同的符号表示。
图1、图2表示本发明第一实施例,1为清洗台,且构成将被清洗件2载放在它上面,同时可与空气缸、油缸、链条装置等适当的移动机构3相连接,使其能沿上下方向自由移动。该清洗台1,通过使移动机构3动作,能使载放在它上面的被清洗件2在清洗槽4和设置在此清洗槽4上部的处理室5之间作往复移动,与此同时,还有可能用遮蔽体6将此处理室5与清洗槽4相互遮蔽。
此遮蔽按如下方式形成,就是用支承轴8把一对平板状遮蔽体6能自由开闭地旋转支承在清洗台1下面两侧的同时,在支承轴8的外方突出形成一结合部10,使此接合部10在伴随清洗台1向上方移动、被清洗件被收入处理室5时与处理室5和清洗槽4的连通口11的外周相接合,通过使遮蔽体6绕支承轴8的支点旋转、使遮蔽体6密闭,从而使处理室5和清洗槽4得到遮蔽。
此外,遮蔽体6也可以通过外部操作,用门等方式将处理室5和清洗槽4的连通口11进行打开或遮蔽。
此外,此清洗槽4和处理室5的连通口11,通过使不带特别固定手段的盖子12位于处理室5的一侧,当被清洗件2位于清洗槽4内时呈关闭状态,当清洗台1上升时,用突出形成在清洗台1上面的支持棒13如图2所示那样把盖子12举起而呈打开状态。
此外,用气体循环流通回路16使处理机构15和为除去附着在被清洗件2上的溶剂的上述处理室5相连接。此处理机构15可以是具备能吸附溶剂的活性炭等的吸附物质的机构,也可以是具备能使溶剂冷凝的冷却机构。
在如上所述构成的装置中,在对机械部件、电气部件医疗用具以及其他各种被清洗件2进行液体清洗或蒸气清洗场合,当使移动机构3动作而使载放着被清洗件2的清洗台1下降插入清洗槽4中时,进行液体清洗或蒸汽清洗或同时进行双方的清洗。在此液体清洗、蒸汽清洗结束后,使动作机构3沿清洗台1上升方向动作,从而使载放在清洗台1上的被清洗件2被收容在设置在清洗槽4上部的处理室5内,使清洗槽4和处理室5互相遮蔽。
此遮蔽就是伴随清洗台1上升,使突出形成在遮蔽体6侧面上的接合部10和突出形成在连通口11的清洗槽4一侧的外周上的接合框17相接合,通过将支承轴8作为支点、使遮蔽体6回转关闭而使处理室5和清洗槽4进行相互遮蔽。此外,此遮蔽不一定需要采取上述方法,而可以选择其它方式,遮蔽体6也可以是用门等手段,通过外部操作使处理室5和清洗槽4的连通口11进行遮蔽的部件,通过外部操作使处理室5和清洗槽4的连通口11进行遮蔽的部件,用适当的传感器检测出被清洗件2已被放入处理室5,用门等遮蔽体6使处理室5和清洗槽4相互遮蔽。
而且,由于是通过气体可以循环流通的循环回路16将处理机构15和处理室5相连接,所以处理室5内的气体通反复连续地在处理机构15内被进行处理,直到溶剂气体完全被除去为止,能将附着在被清洗件2上的有机溶剂等可靠地除去,在此处理后,若将被清洗件2从处理室5取出,不存在有害气体向大气中扩散,以及被操作者吸入体内的问题,从而有可能进行安全清洗作业。
此外,由于不是将附着了溶剂14的被清洗件2从清洗装置移动到外部而被放置在处理室5内,进行附着溶剂14的去除处理,因此,不仅省去如以往那样要向处理机构15移送被清洗件的步骤,也不会使溶剂扩散。
此外,在另一与上述方式不同的第二实施例中,如图3所示,通过作为溶剂抽取手段的排放机构18使溶剂存贮罐20和具备清洗机构的清洗槽4相连接的同时,通过作为溶剂14的供给手段的泵21使清洗槽4和此存贮罐20相连接,将清洗槽4构成与处理室兼用型。在清洗作业完成后,使清洗槽4内的溶剂14向存贮罐移动并在全部抽取完后,使为进行处理残留在清洗槽4内的溶剂气体的处理机构15动作,利用循环回路16使气体在此处理机构15和清洗槽4间反复进行循环流动。就能将清洗槽4作为“处理室”应用,能用处理机构15可靠除去附着在清洗槽4内的被清洗件上的溶剂。在除去此溶液后,若将清洗槽4内部的被清洗件2取出,进行必要的修理等场合,也不会发生溶剂气体的扩散。
此外,在上述实施例中,是构成将处理机构和具有清洗功能的清洗装置形成一体,而在又一形式不同的第三实施例中,如图4所示,也可以是在以往的清洗装置上连接另设的溶剂回收机构进行溶剂的去除。具体地说,其结构也可以是在清洗装置7的两端(图4的左右两侧)分别设置被清洗件2进出用的被清洗件的出入口22、23,可构成在被清洗件从上述一侧被清洗件出入口22移动到另一侧的被清洗件出入口23的过程中,完成被清洗件2的清洗。将此装置构成把用滚式输送机25从一侧的被清洗件出入口22导入的被清洗件2载放在传送体30上,通过设置在外部的上下动作汽缸25使该传送体沿清洗装置7内的上升空间26内上升,用水平动作汽缸28使其在上部传递空间27内进行水平移动。接着用清洗用上下动作汽缸32把用此传送体30沿水平方向传送的被清洗件2导入邻靠上升空间26而设置的液体清洗槽31内,从而在用溶剂14进行侵渍液清洗的同时,通过通路34从邻靠液体清洗槽31设置的蒸汽发生槽33供给清洗蒸汽,同样在液体清洗槽31内的溶剂14的上部空间内进行蒸汽清洗。把已进行过该蒸汽清洗的被清洗件2用传送体30水平传送至邻靠蒸汽发生槽33设置的下降空间35上部为止后,再用下降用汽缸36沿下降空间35下降,从另一被清洗件出入口23将被清洗件件取出至外部。
把和在此清洗装置7上形成的被清洗件出入口22,23相连接的溶剂回收机构37用固定螺丝、焊接等适当方式安装固定在清洗装置7的外面。需把此溶剂回收机构37固定安装在用于取出清洗过后的被清洗件2的出入口23上,然而也希望将其设置在把被清洗件导入清洗装置用的被清洗件出入口22上。在此被清洗件出入口22,23上形成处理室5,用使气体循环流通的循环回路16把为除去附着在被清洗件2上的溶剂14,或者为通过打开或关闭被清洗件出入口22,23对从清洗装置7流入的溶剂气体进行处理的处理机构15和此处理室5连接起来。
此外,在上述第一、第二、第三实施例中,是将溶剂气体的处理机构15和循环回路16分别形成在不同的位置,而在另一与上述形式不同的第四实施例中,如图5所示,有可能简化成使处理机构15位于循环回路16中。
在此第四实施例中,有可能构成用遮蔽体6将清洗槽4和与此清洗槽4的上部相连接设置的处理室5遮蔽,此遮蔽如图5所示,把清洗台1的尺寸构成比处理室5和清洗槽4连通的连通口11的直径还大,当使伴随清洗台1移动的被清洗件2向处理室5进入时,如该图中的双点划线所示,通过使此清洗台1和处理室5与清洗槽4的连通口11的外周形成按压接合使连通口11密闭,从而将处理室5和清洗槽4遮蔽,因此遮蔽体6和清洗台1可兼用。
此外,将清洗槽4和处理室5的连通口11构成通过使不具有特别固定手段的盖体12位于处理室5的一侧,当被清洗件2位于清洗槽4内时,连通口11经常呈关闭状态,当清洗台1上升时,如该图中的双点划线所示,用突出形成在清洗台1上面的支承棒13将盖体12举起而呈开启状态。
此外,在上述处理室5的外周设置能使气体循环流通的循环回路16,使用于除去附着在被清洗件2上的溶剂的处理机构15位于此循环回路16内。将此处理机构15构成把能吸附溶剂的活性炭等的吸附物质41形成便于更换的固定形状或盒状使之可以调换。
此外,在循环回路16上,在与处理室5相连接的导入口42上设置为把溶剂气体向循环回路16强制引入的风扇43,与此同时,还在处理室5的和引入口42面对面的位置上开设循环回路16的排出口44,从而使溶剂气体的强制循环成为可能。
接着,此清洗台1若将被清洗件2放入处理室5内,则如图5中的双点划线所示,清洗台1的上面被按压在连通口11的下面外周,使连通口11密闭,处理室5和清洗槽4相遮蔽。在此遮蔽之后,若开动风扇43,则处理室5内的空气和溶剂气体一起被强制送入循环回路16内,靠吸附物质41能将溶剂气体吸附除去。并且,由于气体是从循环回路16通过排出口44、处理室5被导入引入口42,所以处理室5内的气体可以反复连续地由处理机构15进行处理,直到其中的溶剂气体完全被除去为止,从而能使附着在被清洗件2上的有机溶剂等有效地被除去。在此处理后,只要把被清洗件2从处理室5取出,就不会产生有害气体向大气扩散,以及使作业者吸入有害气体等,而有可能进行安全的清洗作业。此外,若将构成处理机构15的吸附物质41作成盒状,就能简单进行吸附物质41的更换,因此能经常保持优良的对溶剂气体的吸附效率。
本发明由于如上所述构成,且由于用气体循环回路连接容纳了对机械部件、电气部件医疗用具以及其它各种被清洗件进行液体清洗或蒸汽清洗后附着了溶剂的被清洗件的处理室和溶剂气体处理机构,故对于那些因仅能使其一次通过处理机构因而无法进行处理的溶剂气体,也能通过循环回路使其反复通过处理机构,而使溶剂气体得到可靠地处理,即反复连续进行处理。这样就可能在进行溶剂去除和回收处理之后,取出被清洗件,可防止溶剂气体扩散。
此外,在仅使其一次通过处理机构进行溶剂气体的处理场合,就必须强化处理能力,从而使设备大型化,价格提高,然而若用气体循环流通回路把溶剂气体处理机构和设置在为进行被清洗件清洗的清洗装置上的处理室连接起来,即使处理溶剂气体的处理机构的处理能力低,但通过使溶剂气体反复通过此处理能力低的处理机构,也有可能达到溶剂气体的高度净化,即也有可能用廉价的装置实现溶剂气体的高度净化。
此外,由于使溶剂气体通过循环回路在处理室和处理机构间进行循环,由于不需要进行向外部排气,因而不需要形成排气管道,从而使不多占场所的廉价设置成为可能。此外,还因不进行向外部排气的同时,也无外气引入,故使空气中存在的水分的混入极少,从而能提高用处理机构进行回收的溶剂的纯度。
Claims (5)
1.清洗机构的溶剂回收装置,用于对附着在被清洗件上溶剂的回收处理,包括供载放被清洗件、且使与移动机构相连,从而可自由移动的清洗台,具备清洗机构的清洗槽,将被清洗件密封起来、且与所述清洗槽相连设置、用于对附着在被清洗件上溶剂进行去除处理的处理室,进行溶剂气体回收处理的处理机构,通过使清洗台移动,使被清洗件能在处理室与清洗槽间往復移动,用遮蔽体使此处理室与清洗槽相互遮蔽,其特征在于用气体循环回路连接所述处理室与处理机构,构成能使溶剂气体在处理室与处理机构间循环流动。
2.清洗机构的溶剂回收装置,用于对附着在被清洗件上溶剂的回收处理,包括具备清洗机构、将被清洗件密封起来的清洗槽,用于清洗用溶剂存储的存储罐,为进行溶剂气体回收处理的处理机构,用溶剂供给、抽取机构连接上述清洗槽与溶剂存储罐,其特征在于用气体循环回路连接上述清洗槽与处理机构,构成能使溶剂气体在作为处理室的清洗槽与处理机构间循环流动。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于用支承轴将上述遮蔽体能自由开、闭地回转支承在清洗台下面的两侧的同时,在此支承轴的外侧伸出设置接合部,使此接合部在伴随清洗台移动的被清洗件被收入处理室时和处理室与清洗槽的连通口的外周相接合,通过使支承轴绕支点回转,用遮蔽体使连通口密闭,从而使处理室和清洗槽间得以遮蔽。
4.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于上述处理机构具有能吸附溶剂的吸附物质。
5.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于上述处理机构具有能使溶剂冷凝的冷却机构。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP91140/89 | 1989-04-11 | ||
JP9114089 | 1989-04-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1055491A CN1055491A (zh) | 1991-10-23 |
CN1035804C true CN1035804C (zh) | 1997-09-10 |
Family
ID=14018221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 90102020 Expired - Fee Related CN1035804C (zh) | 1989-04-11 | 1990-04-07 | 清洗机构的溶剂回收装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0392758B1 (zh) |
JP (1) | JPH0372984A (zh) |
CN (1) | CN1035804C (zh) |
DE (1) | DE69020412T2 (zh) |
HK (1) | HK17196A (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2670405B1 (fr) * | 1990-12-18 | 1995-06-30 | Annemasse Ultrasons | Installation de nettoyage par solvant a consommation reduite et a recyclage, et procede de nettoyage correspondant. |
AU639160B2 (en) * | 1991-09-23 | 1993-07-15 | Wooltech Limited | Animal fibre processing |
IT1260831B (it) * | 1992-07-17 | 1996-04-22 | Procedimento di sgrassatura di pezzi meccanici ed impianto per effettuare il procedimento | |
JPH0634782U (ja) * | 1992-10-14 | 1994-05-10 | 木村化工機株式会社 | 洗浄装置 |
CN105607487A (zh) * | 2016-03-11 | 2016-05-25 | 湖北新阳特种纤维股份有限公司 | 溶剂回收成本排放控制装置及方法 |
JP6351195B1 (ja) * | 2017-10-30 | 2018-07-04 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE8004031U1 (de) * | 1980-02-15 | 1980-05-22 | Veld, Gerhardus Lambertus In Het, Losser (Niederlande) | Behaelter fuer loesungsmittel |
US4264299A (en) * | 1980-03-12 | 1981-04-28 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Process and apparatus for controlling losses in volatile working fluid systems |
EP0235744A1 (en) * | 1986-02-28 | 1987-09-09 | Japan Field Company, Ltd. | Apparatus for vapour cleaning |
NL8700037A (nl) * | 1987-01-09 | 1988-08-01 | Nl Middenstandsbank N V Zrb Ju | Nieuw dampontvettingsproces. |
-
1990
- 1990-03-07 JP JP2055926A patent/JPH0372984A/ja active Granted
- 1990-04-06 EP EP19900303739 patent/EP0392758B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-06 DE DE1990620412 patent/DE69020412T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-07 CN CN 90102020 patent/CN1035804C/zh not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-02-01 HK HK17196A patent/HK17196A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0392758B1 (en) | 1995-06-28 |
EP0392758A1 (en) | 1990-10-17 |
DE69020412T2 (de) | 1996-01-04 |
JPH0372984A (ja) | 1991-03-28 |
DE69020412D1 (de) | 1995-08-03 |
HK17196A (en) | 1996-02-09 |
CN1055491A (zh) | 1991-10-23 |
JPH0549357B2 (zh) | 1993-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4865061A (en) | Decontamination apparatus for chemically and/or radioactively contaminated tools and equipment | |
US4983223A (en) | Apparatus and method for reducing solvent vapor losses | |
US5180438A (en) | Cleaning and drying system | |
CN1035804C (zh) | 清洗机构的溶剂回收装置 | |
GB2113719A (en) | Solvent recovery and regeneration in washing operation | |
EP0289982B1 (de) | Einrichtung zum Trocknen von Gegenständen in Reinigungsanlagen | |
CN219512116U (zh) | 一种试剂盒外观视觉检测及ng标记设备 | |
JP2018202346A (ja) | フィルタプレスシステム | |
CN215236276U (zh) | 电机壳清洗机 | |
US5311891A (en) | Solvent recovering system for a cleaning machine | |
JP2000237703A (ja) | 真空洗浄乾燥方法及び装置 | |
CN2481113Y (zh) | 电路板焊锡机 | |
CN207371950U (zh) | 一种全密闭真空溶剂清洗机 | |
JPH0655114A (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 | |
CN114042715A (zh) | 油桶的全自动清洗装置的清洗方法 | |
JP4167720B2 (ja) | 溶剤洗浄機 | |
JPH0596254A (ja) | 超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄槽 | |
CN215085222U (zh) | 一种废液处理机构 | |
CN215260818U (zh) | 一种电机壳清洗机的真空干燥装置 | |
CN115446011B (zh) | 一种玻璃模具清洗装置 | |
KR100381903B1 (ko) | 섬유상 활성탄 재생장치 및 그 재생방법 | |
CN221244530U (zh) | 一种垃圾渗滤液处理残渣干燥装置 | |
JP2002370071A (ja) | 洗浄装置 | |
CN215543331U (zh) | 一种电机壳清洗机的吹气装置 | |
JPH01200170A (ja) | 冷却ユニット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C15 | Extension of patent right duration from 15 to 20 years for appl. with date before 31.12.1992 and still valid on 11.12.2001 (patent law change 1993) | ||
OR01 | Other related matters | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |