JPH0372984A - 洗浄機構の溶剤回収装置 - Google Patents

洗浄機構の溶剤回収装置

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JPH0372984A
JPH0372984A JP2055926A JP5592690A JPH0372984A JP H0372984 A JPH0372984 A JP H0372984A JP 2055926 A JP2055926 A JP 2055926A JP 5592690 A JP5592690 A JP 5592690A JP H0372984 A JPH0372984 A JP H0372984A
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cleaning
cleaned
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gas
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/04Apparatus

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  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は洗浄機構の溶剤回収装置に係るものであって、
機械部品、電子部品、医療用具その他、種々の被洗浄物
の洗浄装置に於いて、溶剤ガスを外部に拡散する事なく
、確実に処理する事を目的としたものである。
従来の技術 従来、洗浄作業の完了した被洗浄物は、洗浄槽から外部
に持ち出された後に、被洗浄物に付着した溶剤を、自然
乾燥または強制乾燥処理することが行われ、溶剤ガスは
大気中に排出されている。
そのため、溶剤がトリクロルエチレン、トリクロロトリ
フルオロエタン等の大気中への拡散が好ましくないもの
である場合には、健康被害、大気汚染等を生じるものと
なる。
また上述のごとき溶剤ガスを処理する処理装置には、溶
剤を吸着し得る吸着物質、冷却凝縮機構等を備えたもの
が存在するが、上述のごとき有害物質を吸着除去するの
に、有害物質を含んだ気体を処理装置に一回だけ通過さ
せ、後は大気中に放出してしまうものであるため、確実
な有害物質除去は困難なものであった。
発明が解決しようとする問題点 本発明は上述のごとき問題点を解決しようとするもので
あって、機械部品、電子部品、医療用具その他種々の被
洗浄物を溶剤により液洗浄または蒸気洗浄した後の、被
洗浄物に付着した溶剤を除去し、外部に有害な物質を拡
散しないように処理しようとするものである。
問題点を解決するための手段 本発明は上述のごとき問題点を解決するため、被洗浄物
を密封した処理室と、溶剤ガスの処理機構とを、気体が
循環流通し得る循環路にて接続して成るものである。
また他の発明は、被洗浄物を載置する洗浄台を、移動機
構に接続して位置移動自在に形成することにより、洗浄
台に載置した被洗浄物を、洗浄槽に接続して設けた処理
室と洗浄槽の間で往復移動可能とし、この処理室と洗浄
槽とを、遮蔽体により遮蔽可能とするとともに被洗浄物
に付着した溶剤を除去するための処理Il!横と処理室
とを、気体が循環流通し得る循環路にて接続して成るも
のである。
また他の発明は、洗浄機構を備えた洗浄槽に、溶剤の供
給および抜き取り手段を介して、溶剤のプールタンクを
接続するとともに溶剤抜き取り後に、洗浄槽内の処理室
に位置した被洗浄物の付着溶剤を処理するための処理機
構を、気体が循環流通し得る循環路にて洗浄槽に接続し
て成るものである。
また処理機構は、溶剤を吸着し得る吸着物質を備えたも
のであっても良い。
また処理機構は、溶剤を凝縮し得る冷却手段を備えたも
のであっても良い。
また遮蔽体は、洗浄台の下面両側に支持軸で開閉自在に
軸支するとともにこの支持軸の外方に係合部を突出し、
この係合部を、洗浄台の移動に伴う被洗浄物の処理室収
納時に、処理室と洗浄槽の連通口外用に係合して、支持
軸を支点に回動し遮蔽体を密閉することにより、処理室
と洗浄槽とを遮蔽するものであっても良い。
また遮蔽体は、外部操作により処理室と洗浄槽との連通
口を開放または遮蔽するものであっても良い。
作  用 本発明は上述のごとく構成したものであるから、機械部
品、電子部品、医療用具その他種々の被洗浄物の洗浄作
業によって被洗浄物に付着した溶剤を除去する場合は、
溶剤付着の被洗浄物を収納した処理室に、溶剤を除去す
るための処理機構を接続して作動する。
また処理機構は、気体が循環流通し得る循環路を介して
処理室に接続して戒るものであるから、処理室内の溶剤
ガスは反復して連続的に処理機構で処理する事が可能と
なり、被洗浄物に付−着した有機溶剤等を確実に除去す
るまで溶剤の除去作業を行うことが出来る。この処理後
に、被洗浄物を処理室から取り出すせば、有害な気体を
大気中に拡散したり、作業者が吸引することも無く、安
全な洗浄作業を可能とする。
また被洗浄物を洗浄台に載置し、洗浄槽に接続して設け
た処理室と洗浄槽の間で移動機構により往復移動可能と
したものに於いては、処理室と洗浄槽とを、遮蔽体によ
り遮蔽可能とするとともに被洗浄物に付着した溶剤を除
去するための処理機構と処理室とを接続し、洗浄の完了
後は被洗浄物を、洗浄槽に接続して設けた処理室に収納
する。
この収納後、または収納と同時に、処理室と洗浄槽とを
遮蔽体により遮蔽し、被洗浄物に付性した溶剤を除去す
るための処理機構を作動するものである。
また、洗浄機構を備えた洗浄槽に、溶剤の供給および抜
き取り手段を介して溶剤のプールタンクを接続したもの
に於いては、プールタンクへの溶剤抜き取り後に、洗浄
槽内の処理室の被洗浄物に付着した溶剤を処理するため
の処理機構を作動し、この処理機構と洗浄槽との間を、
循環路にて気体の循環流通を繰り返せば、洗浄槽内の処
理室の溶剤は処理機構により確実に除去することができ
る。
この溶剤の除去後に洗浄槽内部の被洗浄物を取り出せば
、溶剤ガスの拡散を生じることがないものである。
実施例 以下本・発明の一実施例を第1図、第2図に於いて説明
すれば、(1)は洗浄台で、被洗浄物(2)を上面に載
置するとともにエアシリンダー、オイルシリンダー、チ
ェーン装置等の適宜の移動機構(3)に接続して上下方
向に位置移動自在に形成している。この洗浄台(1)は
、移動機構(3)を作動させることにより、上面に載置
した被洗浄物(2〉を、洗浄槽(4)およびこの洗浄槽
(4)の−1部に設けた処理室(5)との間で、往復移
動可能にするとともにこの処理室(5)と洗浄槽(4〉
とを、遮蔽体(6〉により遮蔽可能としている。
この遮蔽は、一対の平板状の遮蔽体(6)を、洗浄台(
1)の下面両側に支持軸(8)で開閉自在に軸支すると
ともにこの支持軸く8)の外方に、係合部(10)を突
出し、この係合部(10)を、洗浄台〈1)の移動に伴
う被洗浄物く2)の処理室〈5)への収納時に、処理室
(5)と洗浄槽〈4)の連通口(11)外周に係きして
、支持軸(8)を支点に回動し、遮蔽体〈6)を密閉す
ることにより、処理室(5)と洗浄槽(4)とを遮蔽す
るものである。
また遮蔽体(6)は、外部操作により処理室く5)と洗
浄槽(4)との連通口(1]〉を、シャッター等の任意
の方法で開放または遮蔽するものであっても良い。
また洗浄槽(4)と処理室(5)との連通口(11〉は
、特別の固定手段を持たない蓋体(12)を処理室(5
)側に位置することにより、被洗浄物(2〉が洗浄槽(
4)内に位置する時は閉止し、洗浄台(1)の上昇時に
、洗浄台(1〉の上面に突出した支持棒〈13〉によっ
て、第2図に゛示すごとく蓋体(12〉を持ち上げ開放
するものである。
また、上記の処理室(5)には、被洗浄物(2)に付着
した溶剤(14)を除去するための、処理機構(15)
を、気体が循環流通し得る循環路(16〉にて接続して
いる。この処理機構(15)は、溶剤を吸着し得る活性
炭等の吸着物質を備えたものであっても良いし、溶剤を
凝縮し得る冷却手段を備えたものであっても良い。
上述のごとく構成したものに於いて、機械部品、電子部
品、医療用具その他の種々の被洗浄物〈2)を、液洗浄
または蒸気洗浄するには、移動機構〈3)を作動して、
被洗浄物(2)を載置した洗浄台<1)を洗浄槽(4〉
中に下降挿入し、液洗浄または蒸気洗浄若しくはその双
方の洗浄を行う、この液洗浄、蒸気洗浄の完了後は、移
動機111(3)を洗浄白く1)の上昇方向に作動して
、洗浄台(1)に載置した被洗浄物〈2〉を、洗浄槽(
4)の上部に設けた処理室(5)に収納し、洗浄槽〈4
)と処理室(5)とを遮蔽する。
この遮蔽は、洗浄台(1)の上昇に伴い、遮蔽体(6)
の側面に突出した係合部(10)を、連通口(11〉の
洗浄槽(4)側の外周に突出した係き枠(17)に係合
して、支持軸(8)を支点にして、遮蔽体(6)を回動
密閉することにより、処理室(5)と洗浄槽(4)とを
遮蔽するものである。またこの遮蔽は、必ずしも上記方
法による必要はなく、任意の方法を選択することが可能
であり、遮蔽体(6)は、外部操作により処理室(5)
と洗浄槽(4)との連通口(11)を、シャッター等の
任意の方法で開放または遮蔽するものであっても良いし
、被洗浄¥@(2)の処理室(5)への収納を、適宜の
センサーで感知し、シャッター等の遮蔽体(6〉で処理
室(5)と洗浄槽(4)とを遮蔽するもので有っても良
い。
そして処理fin4(1,5)は、気体が循環流通し得
る循環路(16)を介して処理室(5)に接続して成る
ものであるから、処理室(5)内の気体は溶剤が完全に
除去されるまで、反復して連続的に処理機構(15)で
処理する事が可能となり、被洗浄物(2)に付着した有
機溶剤等を確実に除去することが出来る。この処理後に
、被洗浄物(2〉を処理室(5)から取り出せば、有害
な気体を大気中に拡散したり、作業者が吸引することも
無く、安全な洗浄作業を可能とする。
また溶剤(14〉の付着した被洗浄物(2)は、洗浄装
置から外部に出る事なく処理室(5)に収納され、付着
した溶剤(14)の除去処理を行うものであるから、従
来のごとく処理機構(15)への被洗浄物く2〉の移送
手数を要しないばかりでなく、溶剤を拡散したりするこ
とも無いものである。
また他の異なる実施例では、第3図に示すごとく洗浄機
構を備えた洗浄槽(4〉に、溶剤の抜き取り手段である
ドレン(18)を介して溶剤のプールタンク(20)を
接続するとともにこのプールタンク(20)に、溶剤(
14〉の供給手段であるポンプ(21〉を介して洗浄槽
(4)を接続し、洗浄作業の完了後は、洗浄槽(4)内
の溶剤(14)をプールタンクに抜き取った後に、洗浄
槽く4)に残留する溶剤ガスを処理するための処理機構
(15)を作動し、この処理機構(15)と洗浄槽(4
)との間を、循環路(16〉にて気体の循環流通を繰り
返せば、洗浄槽(4)内の被洗浄物に付着した溶剤は、
処理8!横(15)により確実に除去することができる
。この溶剤の除去後に洗浄槽(4)内部の被洗浄物(2
)を取り出せば、必要に応じた修理等を行う場合に。
溶剤ガスの拡散を生じることがないものである。
また上記の実施例に於いては、洗浄機能を有する洗浄装
置に溶剤の処理機構を一体的に形成しているが、他の異
なる実施例では第4図に示すごとく、既存の洗浄装置に
、別個にもうけた溶剤回収RtNを接続して溶剤除去を
行うものとしても良い。
具体的には、洗浄装置(7)の両端に被洗浄物(2)が
出入するための被洗浄物出入口(22)を設け、この一
方の被洗浄物出入口(22〉から他方の被洗浄物出入口
(23)に、被洗浄物(2)が移動する過程で、被洗浄
物(2)の洗浄を完了するよう構成したものにも設置す
ることができる。この装置は、一方の被洗浄物出入口(
22)から、コロコンベアー(24)で導入された被洗
浄物(2〉は、外部に設置された上下動シリンダー(2
5)により洗浄装置(7)内の上昇空間(26〉を上昇
し、上部の移送空間(27)を水平シリンダー(28)
で平面的に移動される移送体(30)に載置される0次
にこの移送体(30)で水平方向に移送された被洗浄物
(2)は、上昇空間(26〉に隣接して設けた液洗浄槽
(31)内に、洗浄用の上下動シリンダー(32)で導
入され、溶剤(14)により、浸漬液洗浄を行うととも
に、液洗浄槽〈3■〉に隣接して設けた蒸気発生槽(3
3)から、導入路(34)を介して洗浄蒸気を供給され
、溶剤(14)の上部で蒸気洗浄を行う、この蒸気洗浄
の完了した被洗浄物(2〉は、蒸気発生槽(33)に隣
接して設けた下降空間(35)の上部まで、移送体く3
0)で水平移送した後、下降用シリンダー(36)で下
降空間(35)を下降し、他方の被洗浄物出入口(23
)から外部に取り出すようにIll或されている。
この洗浄装置!(7)に形成した、被洗浄物出入口(2
2)(23)に接続する溶剤回収機構〈37)は、洗浄
装置く7)の外面にビス止め、爆接等の適宜の方法で取
り付は固定する。この溶剤回収機構(37)の固定は、
洗浄の完了した被洗浄物(2)を取り出すための、被洗
浄物出入口(23)には必ず設置するものであるが、被
洗浄物(2〉を洗浄装置(7)に導入するための、被洗
浄物出入口(22)にも設置するのが望ましい、この、
被洗浄物出入口(22)(23)には処理室〈5)を形
成し、この処理室〈5)には、被洗浄物(2)に付着し
た溶剤(14)を除去するため若しくは被洗浄物出入口
(22)(23)の開閉により、洗浄装置(7)から流
入する溶剤ガスを処理する処理W構〈15)を、気体が
循環流通し得る循環路(16)にて接続するものである
また上記実施例では溶剤ガスの処理機$11<15)と
循環路〈16〉を別位置に形成したが、他の異なる実施
例では、第5図に示すごとく、循環路〈16)の中に処
理W4構(15)を位置し装置を簡略化することが可能
である。
この実施例に於いては、洗浄槽(4)と、この洗浄槽(
4)の上部に接続して設けた処理室(5)とを、遮蔽体
(6)により遮蔽可能とし、この遮蔽は第5図に示すご
とく、処理室(5)と洗浄槽(4)を連通ずる連通口(
11)よりも大きな直径に洗浄台(1〉を形成し、この
洗浄台(1〉を、洗浄台(1)の移動に伴う被洗浄物(
2)の処理室〈5)への収納時に、2点鎖線で示すごと
く、処理室〈5)と洗浄槽(4〉の連通口(11)外周
に押圧係合して、連通口(11)を密閉することにより
、処理室(5)と洗浄槽(4〉とを遮蔽するもので、遮
蔽体く6)と洗浄台(1)とを兼用するものである。
また、洗浄槽(4)と処理室(5)との連通口(11)
は、特別の固定手段を持たない蓋体(12)を処理室く
5)側に位置することにより、被洗浄物(2)が洗浄槽
(4)内に位置する時は、常時、連通口〈11〉を閉止
し、洗浄台〈1)の上昇時に、洗浄台(1)の上面に突
出した支持棒(13)によって、2点鎖線で示すごとく
蓋体(12)を持ち上げ開放するものである。
また、上記の処理室(5)の外周には気体が循環流通し
得る循環路〈16)を設け、この循環路〈16〉内に、
被洗浄物(2)に付着した溶剤を除去するための処理機
構(■5)を位置している。この処理機構(15)は、
溶剤を吸着し得る活性炭等の吸着物質(41)を固定的
またはカセット状に形成し、交換可能としている。
また循環路(16〉には、処理室〈5)と接続する導入
口(42)に、循環路(16)へ強制的に溶剤ガスを導
入するためのファン(43)を設けるとともに導入口(
42)に対向する位置の処理室(5)には、循環路(■
6)の排出口く44)を開口し、溶剤ガスの強制循環を
可能としている。
次に洗浄台(1)が被洗浄物(2)を処理室(5)に収
納すれば、第5図の2点鎖線に示すごとく、連通口(1
1〉の下面外周に洗浄台(1〉の上面が押圧され、連通
口(11)を密閉し、処理室(5)と洗浄槽(4)とを
遮蔽する。この遮蔽後、ファン(43〉を作動すれば、
処理室(5)内の空気は、溶剤ガスとともに強制的に循
環路(16〉に流入し、吸着物質〈41)によって溶剤
ガスを吸着除去することができる。そしてこの吸着除去
は、気体が循環流通し得るW!環路(16)から排出口
(44>、処理室(5)を介して導入口(42)に導入
されるものであるから、処理室(5)内の気体は溶剤ガ
スが完全に除去されるまで、反復して連続的に処理機構
(15)で処理する事が可能となり、被洗浄物(2)に
付着した有機溶剤等を確実に除去することが出来る。こ
の処理後に、被洗浄物〈2)を処理室〈5)から取り出
せば、有害な気体を大気中に拡散したり、作業者が吸引
することも無く、安全な洗浄作業を可能とする。また処
理機構(15)を構成する吸着物質(41)を、カセッ
ト状にすれば吸着物質(41〉の交換を簡易に行うこと
ができ、常に優れた溶剤ガスの吸着効率を得ることがで
きる。
発明の効果 本発明は、上述のごとく構成したものであるから、t!
1械部品、電子部品、医療用具その他種々の被洗浄物を
液洗浄または蒸気洗浄した後の、溶剤付着の被洗浄物を
収納した処理室と、溶剤ガスの処理機構とを、気体が循
環流通し得る循環路にて接続したものであるから、処理
機構を1回通過させただけでは処理を行う事のできない
溶剤ガスも、循環路を介して繰り返し処理機構を通過さ
せることにより、溶剤ガスの確実な処理を可能とするこ
とができる。
また処理機構を1回通過させるだけで溶剤ガスの処理を
行おうとする場合には、処理能力を強化し設備も大型化
し高価なものとしなければ成らないが、溶剤ガスの処理
機構と被洗浄物の洗浄を行う洗浄装置に設けた処理室と
を、気体が循環流通し得る循環路にて接続すれば、処理
機構の溶剤ガスリ処F!能力が低いものであっても、こ
の処理能力の低い処理機構に溶剤ガスを繰り遅し通過さ
せることにより、溶剤ガスの高度の浄化を可能とするこ
とができ、廉価な装置により高度の溶剤ガスの浄化を可
能とする。
また溶剤ガスは、循璋路を介して処理室と処理機構の間
を循環するもので、外部への排気を行わないから排気ダ
クトの形成が不要となり、廉価で場所を取らない設置が
可能となる。また外部への排気を行わないとともに外気
の導入が無いから、空気中に存在する水分の混入が極め
て少なく、処理機構で回収した溶剤の純度を高めること
ができるものである。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示すもので、第1図は洗浄作業
状態を示す断面図、第2図は被洗浄物の溶剤除去の作業
状態を示す断面図、第3図は異なる実施例の断面図、第
4図は洗浄装置の被洗浄物の出入口に洗浄装置とは別個
に設けた処Ff!機構を設置した実施例の断面図、第5
図は循環路内に処理機構を形成した実施例の断面図であ
る。 (1〉・・・・・洗浄台 (2〉・・・・被洗浄物〈3
)・・・・移動機構 (4)・・・・・洗浄槽(5)・
・・・・処理室 (6)・・・・・遮蔽体(7)・・・
・洗浄装置 〈8〉・・・・・支持軸(10)・・・・
・係き部 (11〉・・・・・連通口(14)・・・・
・溶 剤 (15)・・・・処理機構(16〉・・・・
・循環路 (18〉・・・・・トレン(20)・・プー
ルタンク (21〉・・  ・・ポンプ第1図 第  2  図 第 3 図 第 茜

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被洗浄物を密封した処理室と、溶剤ガスの処理機
    構とを、気体が循環流通し得る循環路にて接続した事を
    特徴とする洗浄機構の溶剤回収装置。
  2. (2)被洗浄物を載置する洗浄台を、移動機構に接続し
    て位置移動自在に形成することにより、洗浄台に載置し
    た被洗浄物を、洗浄槽に接続して設けた処理室と洗浄槽
    の間で往復移動可能とし、この処理室と洗浄槽とを、遮
    蔽体により遮蔽可能とするとともに被洗浄物に付着した
    溶剤を除去するための処理機構と処理室とを、気体が循
    環流通し得る循環路にて接続した、事を特徴とする洗浄
    機構の溶剤回収装置。
  3. (3)洗浄機構を備えた洗浄槽に、溶剤の供給および抜
    き取り手段を介して溶剤のプールタンクを接続するとと
    もに溶剤抜き取り後に、洗浄槽内の処理室に位置した被
    洗浄物の付着溶剤を処理するための処理機構を、気体が
    循環流通し得る循環路にて洗浄槽に接続した事を特徴と
    する洗浄機構の溶剤回収装置。
  4. (4)処理機構は、溶剤を吸着し得る吸着物質を備えた
    ものであることを特徴とする請求項1、2、3記載の洗
    浄機構の溶剤回収装置。
  5. (5)処理機構は、溶剤を凝縮し得る冷却手段を備えた
    ものであることを特徴とする請求項1、2、3記載の洗
    浄機構の溶剤回収装置。
  6. (6)遮蔽体は、洗浄台の下面両側に支持軸で開閉自在
    に軸支するとともにこの支持軸の外方に係合部を突出し
    、この係合部を、洗浄台の移動に伴う被洗浄物の処理室
    収納時に、処理室と洗浄槽の連通口外周に係合して、支
    持軸を支点に回動し遮蔽体を密閉することにより、処理
    室と洗浄槽とを遮蔽するものであることを特徴とする請
    求項2記載の洗浄機構の溶剤回収装置。
  7. (7)遮蔽体は、外部操作により処理室と洗浄槽との連
    通口を開放または遮蔽するものであることを特徴とする
    請求項2記載の洗浄機構の溶剤回収装置。
JP2055926A 1989-04-11 1990-03-07 洗浄機構の溶剤回収装置 Granted JPH0372984A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2055926A JPH0372984A (ja) 1989-04-11 1990-03-07 洗浄機構の溶剤回収装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9114089 1989-04-11
JP2055926A JPH0372984A (ja) 1989-04-11 1990-03-07 洗浄機構の溶剤回収装置
JP1-91140 1990-04-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0372984A true JPH0372984A (ja) 1991-03-28
JPH0549357B2 JPH0549357B2 (ja) 1993-07-26

Family

ID=14018221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2055926A Granted JPH0372984A (ja) 1989-04-11 1990-03-07 洗浄機構の溶剤回収装置

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP0392758B1 (ja)
JP (1) JPH0372984A (ja)
CN (1) CN1035804C (ja)
DE (1) DE69020412T2 (ja)
HK (1) HK17196A (ja)

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