JP2787983B2 - 光ファイバ線引き炉及び線引き方法 - Google Patents
光ファイバ線引き炉及び線引き方法Info
- Publication number
- JP2787983B2 JP2787983B2 JP63100066A JP10006688A JP2787983B2 JP 2787983 B2 JP2787983 B2 JP 2787983B2 JP 63100066 A JP63100066 A JP 63100066A JP 10006688 A JP10006688 A JP 10006688A JP 2787983 B2 JP2787983 B2 JP 2787983B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- drawing furnace
- furnace
- drawn
- shutter
- Prior art date
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/029—Furnaces therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/90—Manipulating the gas flow through the furnace other than by use of upper or lower seals, e.g. by modification of the core tube shape or by using baffles
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は光ファイバ線引き炉及び線引き方法に関し、
線引きされた光ファイバの外径の変動を低減させて線引
き後コーティングされた光ファイバの引張強度を向上さ
せるようにしたものである。
線引きされた光ファイバの外径の変動を低減させて線引
き後コーティングされた光ファイバの引張強度を向上さ
せるようにしたものである。
＜従来の技術＞ 光ファイバは一般に、棒状の光ファイバ用ガラス母材
を炉中で加熱軟化させて延伸することにより線引きされ
る。この光ファイバの製造に用いられる線引き炉は、通
常、上部開口部より光ファイバ用ガラス母材を挿入し、
光ファイバを下方へ引き出す構成であり、炉内には不活
性ガスを満たすようになっており、その下部開口部には
不活性ガス雰囲気の保持のためのシャッタが配設されて
いる。
を炉中で加熱軟化させて延伸することにより線引きされ
る。この光ファイバの製造に用いられる線引き炉は、通
常、上部開口部より光ファイバ用ガラス母材を挿入し、
光ファイバを下方へ引き出す構成であり、炉内には不活
性ガスを満たすようになっており、その下部開口部には
不活性ガス雰囲気の保持のためのシャッタが配設されて
いる。
このような従来の光ファイバ線引き炉の一例を第３図
に示す。同図に示すように、炉本体１内にはヒータ２及
び炉芯管３が設けられており、炉本１の上部開口部1aよ
り光ファイバ用ガラス母材10を挿入し、線引きされた光
ファイバ11を下部開口部1bより引き出すようになってい
る。ここで、炉芯管３内は不活性ガス12で満されるよう
になっているので、下部開口部1bには、その中央部に光
ファイバ11の出口4aを有するシャッタ４が設けられてい
る。
に示す。同図に示すように、炉本体１内にはヒータ２及
び炉芯管３が設けられており、炉本１の上部開口部1aよ
り光ファイバ用ガラス母材10を挿入し、線引きされた光
ファイバ11を下部開口部1bより引き出すようになってい
る。ここで、炉芯管３内は不活性ガス12で満されるよう
になっているので、下部開口部1bには、その中央部に光
ファイバ11の出口4aを有するシャッタ４が設けられてい
る。
ところで、炉芯管３内は約2000℃の高温であって、炉
芯管３にはカーボンが用いられているため、炉芯管３の
内周面近傍で光ファイバ用ガラス母材10の中のSiと炉芯
管３のＣとが反応してSiCが生成される。また、不活性
ガスとして窒素を用いた場合にはSi3N4なども生成され
る。
芯管３にはカーボンが用いられているため、炉芯管３の
内周面近傍で光ファイバ用ガラス母材10の中のSiと炉芯
管３のＣとが反応してSiCが生成される。また、不活性
ガスとして窒素を用いた場合にはSi3N4なども生成され
る。
このように生成したSiCやSi3N4などは微粒子となって
浮遊することになるが、炉上部から流されて比較的高速
の乱流となる不活性ガスとともにシャッタ４の出口4aか
ら外部へ流れ出すようになる。したがって、SiCやSi3N4
などの微粒子がシャッタ４の出口4aを通る際の光ファイ
バ11に付着し、ファイバに傷をつけてファイバ強度を低
下させるという問題が発生していた。
浮遊することになるが、炉上部から流されて比較的高速
の乱流となる不活性ガスとともにシャッタ４の出口4aか
ら外部へ流れ出すようになる。したがって、SiCやSi3N4
などの微粒子がシャッタ４の出口4aを通る際の光ファイ
バ11に付着し、ファイバに傷をつけてファイバ強度を低
下させるという問題が発生していた。
そこで、このような問題を解決するものとして上述し
たシャッタ４の周縁部に、不活性ガスを排出するための
開口部を形成した光ファイバ線引き炉を先に出願した。
たシャッタ４の周縁部に、不活性ガスを排出するための
開口部を形成した光ファイバ線引き炉を先に出願した。
＜発明が解決しようとする課題＞ しかしながら、前述した線引き炉において、線引き速
度を速くするか又は母材を大型化、特に太径化すると、
当該線引き炉から出た光ファイバはまだ冷えきらずに柔
かい状態のままであるので、外気中あるいは当該線引き
炉から排出されたダストが付着すると著しい強度低下を
起こしてしまい、又、線引き炉外の不均一な乱れた空気
の流れの中で冷却されて外径が大幅に変動してしまうと
いう問題がある。線引き炉から排出されたダストは、線
引き炉の出口付近に横向きにクリーンエアーを流すこと
によって遮断するのは困難であり、この場合には逆に外
径の乱れが助長されてしまう。又、上述したようにシャ
ッタ４の周縁部に形成した開口部からダストを排出する
ようにしても、炉外で光ファイバへの付着は防止されな
い。さらに、シャッタ４自体を開けて線引きすると、線
径変動がさらに悪化してしまう傾向にある。
度を速くするか又は母材を大型化、特に太径化すると、
当該線引き炉から出た光ファイバはまだ冷えきらずに柔
かい状態のままであるので、外気中あるいは当該線引き
炉から排出されたダストが付着すると著しい強度低下を
起こしてしまい、又、線引き炉外の不均一な乱れた空気
の流れの中で冷却されて外径が大幅に変動してしまうと
いう問題がある。線引き炉から排出されたダストは、線
引き炉の出口付近に横向きにクリーンエアーを流すこと
によって遮断するのは困難であり、この場合には逆に外
径の乱れが助長されてしまう。又、上述したようにシャ
ッタ４の周縁部に形成した開口部からダストを排出する
ようにしても、炉外で光ファイバへの付着は防止されな
い。さらに、シャッタ４自体を開けて線引きすると、線
径変動がさらに悪化してしまう傾向にある。
本発明は、このような事情に鑑み、線引きされた光フ
ァイバへのダストの付着及び外径の変動を低減させて強
度低下を防止する光ファイバ線引き炉を提供することを
目的とする。
ァイバへのダストの付着及び外径の変動を低減させて強
度低下を防止する光ファイバ線引き炉を提供することを
目的とする。
＜課題を解決するための手段＞ 前記目的を達成する本発明にかかる光ファイバ線引き
炉は、棒状の光ファイバ用ガラス母材を不活性ガスある
いは空気雰囲気中で熱軟化させつつ延伸して光ファイバ
に線引きする炉であって、該線引き炉の上部より上記不
活性ガスあるいは空気を流入させる手段を有するととも
に、線引きされた光ファイバの温度が少なくとも軟化点
以下となる位置まで当該線引き炉内を上から下に向かっ
て流れる均一且つクリーンな雰囲気ガス流を保持する中
間に該雰囲気ガス流を阻害する障壁の無い隔壁を上記線
引き炉の下端に一体に設けたことを特徴とする。
炉は、棒状の光ファイバ用ガラス母材を不活性ガスある
いは空気雰囲気中で熱軟化させつつ延伸して光ファイバ
に線引きする炉であって、該線引き炉の上部より上記不
活性ガスあるいは空気を流入させる手段を有するととも
に、線引きされた光ファイバの温度が少なくとも軟化点
以下となる位置まで当該線引き炉内を上から下に向かっ
て流れる均一且つクリーンな雰囲気ガス流を保持する中
間に該雰囲気ガス流を阻害する障壁の無い隔壁を上記線
引き炉の下端に一体に設けたことを特徴とする。
一方の本発明にかかる光ファイバ線引き方法は、棒状
の光ファイバ用ガラス母材を不活性ガスあるいは空気雰
囲気中の線引炉に挿入し、その下端を加熱軟化させつつ
延伸して光ファイバに線引きする線引き方法であって、
該線引炉内で線引きされた光ファイバの温度が少なくと
も軟化点以下となる位置まで均一且つクリーンな炉内を
上から下に向かって流れる雰囲気ガス流の中に上記母材
及び光ファイバを保持しつつ線引きすることを特徴とす
る。
の光ファイバ用ガラス母材を不活性ガスあるいは空気雰
囲気中の線引炉に挿入し、その下端を加熱軟化させつつ
延伸して光ファイバに線引きする線引き方法であって、
該線引炉内で線引きされた光ファイバの温度が少なくと
も軟化点以下となる位置まで均一且つクリーンな炉内を
上から下に向かって流れる雰囲気ガス流の中に上記母材
及び光ファイバを保持しつつ線引きすることを特徴とす
る。
＜作用＞ 線引きされた光ファイバは隔壁に保持され、上から下
に向かって流れる均一且つクリーンな雰囲気ガス流内を
通過する間に軟化点以下まで冷却される。
に向かって流れる均一且つクリーンな雰囲気ガス流内を
通過する間に軟化点以下まで冷却される。
＜実 施 例＞ 以下、本発明を図示の実施例により詳細に説明する。
尚、従来技術と同一部材には同一符号を付し、重複する
説明は省略する。
尚、従来技術と同一部材には同一符号を付し、重複する
説明は省略する。
第１図には第１の実施例にかかる光ファイバ線引き炉
の断面を示す。同図に示すように、本実施例では、炉本
体１の下端部には下部開口部1bに連通し且つ炉芯管３と
ほぼ同内径の円筒状の隔壁５が延設されており、隔壁５
の下端部にはシャッタ40が設けられている。このシャッ
タ40は、その中央部に光ファイバ11を引き出すための出
口40aを有するとともに、その外縁部に出口40aを中心と
して同心円上に８個の孔40bが等間隔に設けられてい
る。このシャッタ40は図中左右に２つに分割されてお
り、第１図中左右方向へ開閉自在となっている。尚、1a
は炉本体１の上部開口部、２はヒータ、10は光ファイバ
用ガラス母材である。
の断面を示す。同図に示すように、本実施例では、炉本
体１の下端部には下部開口部1bに連通し且つ炉芯管３と
ほぼ同内径の円筒状の隔壁５が延設されており、隔壁５
の下端部にはシャッタ40が設けられている。このシャッ
タ40は、その中央部に光ファイバ11を引き出すための出
口40aを有するとともに、その外縁部に出口40aを中心と
して同心円上に８個の孔40bが等間隔に設けられてい
る。このシャッタ40は図中左右に２つに分割されてお
り、第１図中左右方向へ開閉自在となっている。尚、1a
は炉本体１の上部開口部、２はヒータ、10は光ファイバ
用ガラス母材である。
そして、上記のように構成された線引き炉により、炉
本体１の上部から不活性ガス又は空気（以下不活性ガス
という）12を流入させながら光ファイバを線引きする
と、不活性ガス12はほぼ光ファイバ11の軸方向にそって
下方に流れて均一な流れを形成し、この流れを保ったま
ま炉本体１の下部開口部1bから隔壁５内に流れ込み該隔
壁５内にてクリーンで且つ均一な下向きの雰囲気ガス流
を形成し、乱流を形成することなく出口40a及び孔40bか
ら排出される。このような雰囲気ガス流内で線引きされ
た光ファイバ11は軟化点以下に冷却されてシャッタ40の
出口40aから外部へ出る。
本体１の上部から不活性ガス又は空気（以下不活性ガス
という）12を流入させながら光ファイバを線引きする
と、不活性ガス12はほぼ光ファイバ11の軸方向にそって
下方に流れて均一な流れを形成し、この流れを保ったま
ま炉本体１の下部開口部1bから隔壁５内に流れ込み該隔
壁５内にてクリーンで且つ均一な下向きの雰囲気ガス流
を形成し、乱流を形成することなく出口40a及び孔40bか
ら排出される。このような雰囲気ガス流内で線引きされ
た光ファイバ11は軟化点以下に冷却されてシャッタ40の
出口40aから外部へ出る。
隔壁５は光ファイバ11がシャッタ40から出るときに軟
化点以下に冷却されている長さを有していることが必要
である。この長さは、光ファイバ母材10の径、線引き速
度、あるいは雰囲気ガス流の種類，量によっても異な
り、適宜決定すればよいが、一般に150〜500mm以上とす
るのが好ましい。また、上記実施例ではシャッタ40の外
縁部に孔40bを形成して雰囲気ガス流の排出を行い、炉
内のダストがファイバに接触するのを防止している。し
かし、該孔40bは本発明に必須のものではなく、例えば
第２図のように無くても構わない。
化点以下に冷却されている長さを有していることが必要
である。この長さは、光ファイバ母材10の径、線引き速
度、あるいは雰囲気ガス流の種類，量によっても異な
り、適宜決定すればよいが、一般に150〜500mm以上とす
るのが好ましい。また、上記実施例ではシャッタ40の外
縁部に孔40bを形成して雰囲気ガス流の排出を行い、炉
内のダストがファイバに接触するのを防止している。し
かし、該孔40bは本発明に必須のものではなく、例えば
第２図のように無くても構わない。
冷却効率を高めるために、隔壁５の外周に水冷ジャケ
ット等を設けて冷却するようにしてもよい。また、隔壁
５の内壁には光ファイバ母材10及び炉芯管３の蒸発物ま
たはこれらの反応生成物が小さなダストとして層状に堆
積することがあるが、この堆積物ははがれ落ちて再び光
ファイバ11に付着するのを防止するためには清掃が必要
である。この清掃を容易にするために、隔壁５を二重構
造として内壁を着脱自在とし、交換可能としてもよい。
ット等を設けて冷却するようにしてもよい。また、隔壁
５の内壁には光ファイバ母材10及び炉芯管３の蒸発物ま
たはこれらの反応生成物が小さなダストとして層状に堆
積することがあるが、この堆積物ははがれ落ちて再び光
ファイバ11に付着するのを防止するためには清掃が必要
である。この清掃を容易にするために、隔壁５を二重構
造として内壁を着脱自在とし、交換可能としてもよい。
さらに、隔壁５の内壁を帯電させて雰囲気ガス流中の
ダストを補集するようにすると、隔壁５内の雰囲気ガス
流に多少の乱れが生じても、ダストが光ファイバ11に付
着することがない。この実施例を第２図に示す。同図に
示すように、隔壁５の内周に２重に円筒状の電極5a,5b
を配設して図示しない起電力源を接続し、外側の電極5a
に正、内側の電極5bに負の帯電をしている。尚、本実施
例では第３図と同様のシャッタ４としている。
ダストを補集するようにすると、隔壁５内の雰囲気ガス
流に多少の乱れが生じても、ダストが光ファイバ11に付
着することがない。この実施例を第２図に示す。同図に
示すように、隔壁５の内周に２重に円筒状の電極5a,5b
を配設して図示しない起電力源を接続し、外側の電極5a
に正、内側の電極5bに負の帯電をしている。尚、本実施
例では第３図と同様のシャッタ４としている。
このように電極5a,5bを設けることにより、隔壁５内
の雰囲気ガス流中の正電荷のダストが電極5bに補集され
る。また、電極5bを着脱自在とすると補集されたダスト
の清掃が容易となり、さらに好ましい。
の雰囲気ガス流中の正電荷のダストが電極5bに補集され
る。また、電極5bを着脱自在とすると補集されたダスト
の清掃が容易となり、さらに好ましい。
以上説明した各実施例において、光ファイバ11は当該
線引き炉内を上から下に向かって流れる均一且つクリー
ンな雰囲気ガス流中で軟化点以下の温度まで冷却される
ので、外径変動が防止され、また、ダストの付着がなく
なるので引張強度は全長に亘って非常に強くなる。
線引き炉内を上から下に向かって流れる均一且つクリー
ンな雰囲気ガス流中で軟化点以下の温度まで冷却される
ので、外径変動が防止され、また、ダストの付着がなく
なるので引張強度は全長に亘って非常に強くなる。
以下、第１の実施例の線引き炉（第１図参照）を用い
た試験例を示す。
た試験例を示す。
直径50mmの光ファイバ母材10を線速300m/minで線引き
した場合、隔壁５の長さを300mmとするとシャッタ40の
位置でのファイバ温度が1200℃であり、線引きされた光
ファイバ11の2kgの張力での破断確率は40kmに１回であ
った。同じ条件で隔壁５を500mmとするとシャッタ40の
位置でのファイバ温度は1000℃であり、2kgの張力での
破断確率は50kmに１回であった。
した場合、隔壁５の長さを300mmとするとシャッタ40の
位置でのファイバ温度が1200℃であり、線引きされた光
ファイバ11の2kgの張力での破断確率は40kmに１回であ
った。同じ条件で隔壁５を500mmとするとシャッタ40の
位置でのファイバ温度は1000℃であり、2kgの張力での
破断確率は50kmに１回であった。
一方、比較のために隔壁５がない状態で線引きしたと
ころ、ファイバ温度は1600℃であり、破断確率は10kmに
１回であった。尚、500mmの隔壁５を有する場合には、
破断した光ファイバ11の断面にはダストと思われる付着
物は見られなかったが、隔壁５がない場合には、破断し
たファイバ断面のほとんどに付着物あるいはダストによ
ってつけられたと思われる傷が見られた。
ころ、ファイバ温度は1600℃であり、破断確率は10kmに
１回であった。尚、500mmの隔壁５を有する場合には、
破断した光ファイバ11の断面にはダストと思われる付着
物は見られなかったが、隔壁５がない場合には、破断し
たファイバ断面のほとんどに付着物あるいはダストによ
ってつけられたと思われる傷が見られた。
＜発明の効果＞ 以上説明したように、本発明の光ファイバ線引き炉及
び線引き方法によれば、線引きされた光ファイバは均一
且つクリーンな雰囲気ガス流の中で軟化点以下まで冷却
されて最終的な寸法が決定されるため、外径変動が小さ
く且つ引張強度の大きい光ファイバを製造することがで
き、特に線引き速度が大い場合あるいは太径の光ファイ
バ母材を用いる場合に有用である。
び線引き方法によれば、線引きされた光ファイバは均一
且つクリーンな雰囲気ガス流の中で軟化点以下まで冷却
されて最終的な寸法が決定されるため、外径変動が小さ
く且つ引張強度の大きい光ファイバを製造することがで
き、特に線引き速度が大い場合あるいは太径の光ファイ
バ母材を用いる場合に有用である。
第１図は本発明の第１の実施例にかかる光ファイバ線引
き炉を示す断面図、第２図は第２の実施例にかかる光フ
ァイバ線引き炉を示す断面図、第３図は従来技術にかか
る光ファイバ線引き炉を示す断面図である。 図面中、 １は炉本体、 ３は炉芯管、 4,40はシャッタ、 ５は隔壁、 10は光ファイバ用ガラス母材 11は光ファイバである。
き炉を示す断面図、第２図は第２の実施例にかかる光フ
ァイバ線引き炉を示す断面図、第３図は従来技術にかか
る光ファイバ線引き炉を示す断面図である。 図面中、 １は炉本体、 ３は炉芯管、 4,40はシャッタ、 ５は隔壁、 10は光ファイバ用ガラス母材 11は光ファイバである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−246837（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−196739（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−239035（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−191536（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−51633（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−186430（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−132534（ＪＰ，Ａ) 米国特許5284499（ＵＳ，Ａ)
Claims (7)
- 【請求項１】棒状の光ファイバ用ガラス母材を不活性ガ
スあるいは空気雰囲気中で熱軟化させつつ延伸して光フ
ァイバに線引きする炉であって、該線引き炉の上部のみ
に該不活性ガス、あるいは、空気を線引き炉内に流入さ
せる手段を有するとともに、線引きされた光ファイバの
温度が、線引き炉内で、少なくとも軟化点以下となる位
置まで、当該線引き炉内を、上から下に向かって流れる
均一且つクリーンな雰囲気ガス流を、全く乱すことなく
保持するために、 中間に該雰囲気ガス流を阻害する障壁の無い隔壁を、上
記線引き炉下端に一体に、線引きされた光ファイバの温
度が、線引き炉内で、少なくとも軟化点以下となるの
に、充分な長さに設け、且つ該隔壁の下端部には、中央
部に光ファイバの出ロを有するとともに外気の巻き込み
を防止するシャッタを設けたことを特徴とする光ファイ
バ線引き炉。 - 【請求項２】請求項１に記載の光ファイバ線引き炉にお
いて、シャッタが開閉自在である光ファイバ線引炉。 - 【請求項３】請求項１または請求項２に記載の光ファイ
バ線引き炉において、隔壁は光ファイバ母材が挿入され
て延伸されている炉心管と同径の円筒である光ファイバ
線引き炉。 - 【請求項４】請求項１〜３の何れかに記載の光ファイバ
線引き炉において、隔壁が水冷されている光ファイバ線
引き炉。 - 【請求項５】請求項１〜４の何れかに記載の光ファイバ
線引き炉において、隔壁の内壁が着脱自在で交換可能で
ある光ファイバ線引き炉。 - 【請求項６】請求項１〜５の何れかに記載の光ファイバ
線引き炉において、隔壁の内壁が帯電されている光ファ
イバ線引き炉。 - 【請求項７】棒状の光ファイバ用ガラス母材を不活性ガ
スあるいは空気雰囲気中の線引き炉に挿入し、その下端
を加熱熱軟化させつつ延伸して光ファイバに線引きする
線引き方法であって、該線引き炉の下端には、中間に該
雰囲気ガス流を阻害する障壁の無い隔壁が、上記線引き
炉下端に一体に、線引きされた光ファイバの温度が、線
引き炉内で、少なくとも軟化点以下となるのに、充分な
長さに、設けられており、且つ該隔壁の下端部には、中
央部に光ファイバの出ロを有するとともに外気の巻き込
みを防止するシャッタが設けられており、これにより、
当該線引き炉の上部より流入された、不活性ガスあるい
は空気が、線引きされた光ファイバの温度が、線引き炉
内で、少なくとも軟化点以下となる位置まで、当該線引
き炉内を、上から下に向かって流れる均一且つクリーン
な雰囲気ガス流として、全く乱すことなく保持され、こ
うして保持された該雰囲気ガス流の中に、上記母材およ
び光ファイバを保持しつつ線引きすることを特徴とする
光ファイバ線引き方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63100066A JP2787983B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 光ファイバ線引き炉及び線引き方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63100066A JP2787983B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 光ファイバ線引き炉及び線引き方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01275443A JPH01275443A (ja) | 1989-11-06 |
| JP2787983B2 true JP2787983B2 (ja) | 1998-08-20 |
Family
ID=14264094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63100066A Expired - Lifetime JP2787983B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 光ファイバ線引き炉及び線引き方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2787983B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4339077C2 (de) * | 1993-11-16 | 1997-03-06 | Rheydt Kabelwerk Ag | Verfahren zum Ziehen einer optischen Faser und Vorrichtung zu dessen Durchführung |
| FR2766480B1 (fr) * | 1997-07-24 | 1999-09-24 | Alsthom Cge Alcatel | Diffuseur haut de gaz dans un dispositif de fibrage d'une preforme de fibre optique |
| JP4356155B2 (ja) * | 1999-10-12 | 2009-11-04 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
| JP5348191B2 (ja) * | 2011-07-08 | 2013-11-20 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの線引装置および線引方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5284499A (en) | 1992-05-01 | 1994-02-08 | Corning Incorporated | Method and apparatus for drawing optical fibers |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57196739A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Drawing furnace for optical fiber |
| JPS62246837A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用線引き炉 |
-
1988
- 1988-04-25 JP JP63100066A patent/JP2787983B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5284499A (en) | 1992-05-01 | 1994-02-08 | Corning Incorporated | Method and apparatus for drawing optical fibers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01275443A (ja) | 1989-11-06 |
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