JP4356155B2 - 光ファイバの製造方法 - Google Patents
光ファイバの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4356155B2 JP4356155B2 JP28973699A JP28973699A JP4356155B2 JP 4356155 B2 JP4356155 B2 JP 4356155B2 JP 28973699 A JP28973699 A JP 28973699A JP 28973699 A JP28973699 A JP 28973699A JP 4356155 B2 JP4356155 B2 JP 4356155B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- gas
- temperature
- protective tube
- buffer chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims description 179
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 73
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 32
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 7
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 35
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 19
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002419 bulk glass Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000012681 fiber drawing Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
- C03B37/02718—Thermal treatment of the fibre during the drawing process, e.g. cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/029—Furnaces therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/56—Annealing or re-heating the drawn fibre prior to coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/82—Means for sealing the fibre exit or lower end of the furnace
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/82—Means for sealing the fibre exit or lower end of the furnace
- C03B2205/83—Means for sealing the fibre exit or lower end of the furnace using gas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/90—Manipulating the gas flow through the furnace other than by use of upper or lower seals, e.g. by modification of the core tube shape or by using baffles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レイリー散乱強度の低減により、伝送損失が低くされた光ファイバの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
光ファイバの低コスト化等の要請から、太径(例えば70mmφ)の光ファイバ母材から光ファイバを線引きする線引技術も一般的になってきている。このように、太径の光ファイバ母材を線引きする場合には、ネックダウン周辺の空間が大きくなり、この空間を流れるガスの温度分布が不均一となるので、該ガスの流れ乱れが生じ、光ファイバ径の変動が大きくなるため、線引き炉内の雰囲気ガスとして熱伝導率の高いHeガスを用いることがある。
【0003】
また、線引き炉の下の外気の流れの乱れによる光ファイバ径の変動を防ぐため、線引き炉に炉心管延長部(下煙突とも呼称される)を設けて、線引き直後の光ファイバを外気から隔離する技術も知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、線引き炉内の雰囲気ガスとして熱伝導率の高いHeガスを用いた場合においても、レイリー散乱強度の低減により、伝送損失が低くされた光ファイバを製造することが可能な光ファイバの製造方法を提供することを課題としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、レイリー散乱強度の低減により、伝送損失が低くされた光ファイバの製造方法について鋭意研究を行った結果、レイリー散乱強度と線引き後の光ファイバの冷却速度との関係について、以下のような事実を新たに見出した。
【0006】
高温のガラス内では熱エネルギーにより原子は激しく振動しており、低温のガラスに比べて原子配列は乱雑な状態となっている。高温のガラスをゆっくり冷却した場合には、原子の再配列が許される温度範囲では、原子は各温度に対応した乱雑さに配列しながら冷却されるので、ガラス内の原子の乱雑さは構造緩和が進行する最低温度(1200℃程度)に対応した状態となる。しかし、高温のガラスを急激に冷却した場合には、原子配列が各温度に対応した平衡状態に達する前に冷却固定されるために、徐冷した場合に比べて原子配列は乱雑な状態となる。レイリー散乱強度は同一の物質でも原子配列が乱雑な方が大きくなり、通常、線引き後に5000〜30000℃/秒の冷却速度で冷却される光ファイバでは、バルクガラスに比べて原子配列が乱雑で、仮想温度が高い状態になっており、これが原因でレイリー散乱強度が大きくなっていると考えられる。
【0007】
一方、構造緩和に要する時間は温度が低くなるほど長くなるため、例えば1200℃程度ではその温度に数十時間維持しておかないと構造緩和が起こらない。線引き後の光ファイバは、通常0.数秒で約2000℃から400℃程度にまで冷却されるため、線引き工程中の光ファイバが冷却される短時間の間に仮想温度を低くして、1200℃に近づけるためには、1200℃よりも高温の状態で徐冷する必要がある。
【0008】
そこで、本発明者らは線引き後の光ファイバ温度及び冷却速度に着目して、純石英コアファイバの温度が、上述した構造緩和が進行する最低温度(1200℃程度)よりも高温且つ構造緩和が極めて短時間で進行する1700℃以下の1200〜1700℃になっている部分での冷却速度とレイリー散乱率との関係を調査した。その結果、純石英コアファイバの温度が1200〜1700℃となっている部分での冷却速度とレイリー散乱率との間には、図6に示されるような関係が存在していることが確認された。なお、レイリー散乱強度(I)は下記(1)式に示すように波長(λ)の4乗に反比例する性質を有しており、この時の率Aをレイリー散乱率としている。
【0009】
I=A/λ4 …………… (1)
【0010】
これらの結果から、加熱線引きされた光ファイバ、特に光ファイバの温度が1200〜1700℃となっている部分のうちの所定区間での冷却速度を遅くすることにより、光ファイバのレイリー散乱強度を低減して、伝送損失を低くすることができるということが判明した。
【0011】
また、発明者らは、下煙突の長さと伝送損失との関係についても新たに見出した。下煙突の長さを比較的長く設定した場合には、熱伝導率の高いHeガスにより光ファイバが下煙突内で急冷されるため、光ファイバのレイリー散乱強度を低減できず、伝送損失が高くなってしまう。
【0012】
一方、光ファイバの下煙突内におけるHeガスによる急冷を抑制するために下煙突の長さを短く設定した場合には、下煙突から出た光ファイバはHeガスより熱伝導率の低い外気(空気)により徐冷されるために、光ファイバのレイリー散乱強度を低減して、伝送損失が低くなる。しかしながら、この場合には、光ファイバが流れの不安定な外気に触れてしまうために、光ファイバ径の変動が大きくなるという問題を有することになる。
【0013】
ところで、ハーメチックコートファイバの製造方法及び製造装置として、同一出願人による特開平6−48780号公報が存在する。この特開平6−48780号公報に記載されている技術では、線引き炉内をHeガス雰囲気とすると共に、線引き炉下部に設けられた反応管内において原料ガス(炭化水素)を分解し、光ファイバ表面にハーメチックコーティングするもので、線引き炉下部と反応管との間に緩衝室を設け、この緩衝室により、Heガスを外部に排出している。しかしながら、この特開平6−48780号公報には、本発明者が新たに見出した、光ファイバの温度が1200〜1700℃となっている部分のうちの所定区間での冷却速度を遅くすることにより、光ファイバのレイリー散乱強度を低減して、伝送損失を低くすることができる点については、開示、示唆されていない。
【0014】
かかる研究結果を踏まえ、本発明に係る光ファイバの製造方法は、光ファイバ母材を加熱線引きする光ファイバの製造方法であって、Heガスからなる雰囲気にて光ファイバ母材を加熱線引きする線引き炉と、線引き炉との間に所定の間隙を有して設けられると共に、その内部がHeガスより低い熱伝導率を有する所定のガスからなる雰囲気とされた保護管と、を用い、線引き炉と保護管との間の間隙を、Heガス及び所定のガスが混在するガス混在層とし、ガス混在層への線引きされた光ファイバの入線温度を1400〜1800℃の範囲内の温度とする一方、線引き炉にて線引きされた光ファイバを、ガス混在層を介して保護管内に送ることを特徴としている。
【0015】
本発明に係る光ファイバの製造方法では、保護管を線引き炉との間に所定の間隔を有して設け、更に、この保護管と線引き炉との間の間隔を、所定の熱伝導率を有する第1ガス及び所定の熱伝導率を有する第2ガスが混在するガス混在層としているため、線引き炉内においてはHeガスからなる雰囲気が保たれることになり、また、保護管内においては所定のガスからなる雰囲気が保たれることになり、保護管内での光ファイバの冷却速度を遅くすることができる。特に、線引きされた光ファイバのガス混在層への入線温度を、1400〜1800℃の範囲内の温度としているため、光ファイバの温度が1200〜1700℃となっている部分のうちの所定区間での冷却速度が遅くなる。この結果、光ファイバの仮想温度が低くなり、原子配列の乱雑さが低減されることになり、加熱線引きから樹脂被覆までの極めて短い間で、レイリー散乱強度を低減して伝送損失が低くされた光ファイバの製造が可能となる。
【0016】
また、保護管を線引き炉との間にガス混在層が存在しているため、線引き炉内にて発生するダストの保護管内への侵入を抑制することができると共に、線引き炉と保護管との間での外気の流れの乱れの影響が受け難くなり、光ファイバ径の変動の発生、あるいは、光ファイバの曲がりの悪化も抑制することができる。
【0017】
また、ガス混在層を外気と区画するための隔壁を設け、隔壁に、少なくともHeガスを排出するためのガス排出部を形成し、ガス排出部から少なくともHeガスを外気に排出することが好ましい。このように隔壁を設けることで、外気の流れの乱れの影響が更に受け難くなり、光ファイバ径の変動の発生、あるいは、光ファイバの曲がりの悪化をより一層抑制することができる。また、隔壁に形成されたガス排出部から少なくともHeガスを外気に排出することにより、線引き炉内でのHeガス雰囲気と保護管内での所定のガス雰囲気とを効率的に且つ確実に切替えることができる。
【0018】
また、隔壁に、所定のガスを導入するためのガス導入部を形成し、ガス導入部から所定のガスを隔壁内に導入することが好ましい。このように、隔壁に形成されたガス導入部から所定のガスを隔壁内に導入することにより、ガス排出部から積極的にHeガスが排出されることになり、線引き炉内にて発生するダストの保護管への侵入を更に抑制することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付しており、重複する説明は省略する。
【0020】
(第1実施形態)
まず、図1を参照しながら、本発明による光ファイバの製造方法及びこの製造方法に用いられる線引き装置の第1実施形態を説明する。
【0021】
線引き装置1は石英系光ファイバの線引き装置であって、線引き炉11、保護管21及び樹脂硬化部31を有し、これら線引き炉11、保護管21及び樹脂硬化部31は光ファイバ母材2を線引きする方向(図1において、上から下)に、線引き炉11、保護管21、樹脂硬化部31の順で配設されている。母材供給装置(図示せず)に保持された光ファイバ母材2を線引き炉11に供給し、線引き炉11内のヒータ12で光ファイバ母材2の下端を加熱・軟化させ、光ファイバ3を線引きする。線引き炉11の炉心管13には、Heガス供給部14からのHeガス供給通路15が接続されており、線引き炉11の炉心管13内がHeガスからなる雰囲気となるように構成されている。加熱線引きされた光ファイバ3は炉心管13内にて、Heガスにより冷却される。その後、光ファイバ3は、炉心管延長部16を通過する。Heガスの熱伝導率λ(T=300K)は、150mW/(m・K)である。
【0022】
保護管21は、炉心管延長部16との間に所定の間隔L1を有して設けられている。保護管21の線引き炉11側の端部には、線引き炉11内から流れてくるHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストを排出するための複数の排出管22が形成されている。保護管21は外気と通じており、保護管21内が空気からなる雰囲気となるように構成されている。空気の熱伝導率λ(T=300K)は26mW/(m・K)であり、Heガスより低い熱伝導率を有している。なおHeガスより低い熱伝導率を有する所定のガスとして、空気を用いる代わりに、N2あるいはAr等の分子量の比較的大きいガスを用いることが可能である。N2あるいはAr等のガスを用いる場合には、第2ガスの供給源としてのガス供給部を、ガス供給通路を介して保護管21に接続するように構成することになる。また、排出管22は必ずしも形成する必要はない。なお、保護管21は、上述した特開平6−48780号公報に記載されている反応管のようにハーメチックコーティングを行うものではなく、保護管21に対して炭化水素等の原料ガスが供給されるようには構成されていない。また、保護管21内の矢印は、保護管21が光ファイバ3により温められるために発生する上昇流を示している。
【0023】
保護管21内においては、光ファイバ3は空気により冷却される。したがって、保護管21における冷却は、加熱線引きされた光ファイバ3において温度が1200〜1700℃となる部分のうち、光ファイバ3の温度差が50℃以上となる区間、例えば、光ファイバ3の温度が1500〜1700℃となる部分(温度差が200℃となる区間)が、Heガスでの冷却速度(20000〜30000℃/秒程度)よりも遅い冷却速度(4000〜6000℃/秒程度)で冷却することにより行われる。
【0024】
保護管21の設置位置及び光ファイバ母材2の線引き方向(図1において、上下方向)での全長は、上述した光ファイバ3の温度が1200〜1700℃となる部分のうち光ファイバ3の温度差が50℃以上となる区間が、保護管21に位置して冷却されるように、線引き速度を考慮して設定されている。ここで、線引き速度を考慮する必要があるのは、線引き速度が速くなることにより、光ファイバ3の同じ温度となる位置が下方に下がるためである。
【0025】
炉心管延長部16と保護管21との間には、緩衝室41が設けられており、この緩衝室41の光ファイバ3の線引き方向における長さは、図1に示されるように、ほぼL1とされている。なお、炉心管延長部16と緩衝室41との間には若干の間隙が存在しており、炉心管延長部16と緩衝室41とは直結されてはいない。緩衝室41は、第1緩衝室42と第2緩衝室45とで構成されている。緩衝室41(第1緩衝室42及び第2緩衝室45)の内部空間は、線引き炉11(炉心管13)内の雰囲気ガスであるHeガスと、保護管21内の雰囲気ガスである空気とが混在している。ここで、緩衝室41(第1緩衝室42及び第2緩衝室45)は、各請求項におけるガス混在層を構成している。
【0026】
第1緩衝室42は、光ファイバ3が通る内部空間を外気と区画するための隔壁43を有しており、この隔壁43には、線引き炉11内から流れてくるHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストを排出するための複数の排出穴44が形成されている。第2緩衝室45は、光ファイバ3が通る内部空間を外気と区画するための隔壁46を有しており、この隔壁46には、線引き炉11内から流れてくるHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストを排出するための複数の排出管47が形成されている。
【0027】
第1緩衝室42と第2緩衝室45とは、仕切り壁48により仕切られている。仕切り壁48には、光ファイバ3が通る光ファイバ通過穴49が形成されている。光ファイバ通過穴49の内径は4〜5mm程度に設定されており、第1緩衝室42から第2緩衝室45へのHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストの侵入を抑制するようになっている。また、第2緩衝室45と保護管21とは、仕切り壁50により仕切られている。仕切り壁50には、光ファイバ3が通る光ファイバ通過穴51が形成されている。光ファイバ通過穴51は、光ファイバ通過穴49と同様に、内径が4〜5mm程度に設定されており、第2緩衝室45から保護管21へのHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストの侵入を抑制するようになっている。なお、排出管47あるいは排出管22からN2ガス等を供給することにより、積極的に線引き炉11内から流れてくるHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストを排出するように構成してもよい。このとき、排出管22,47は複数設け、N2ガス等を供給する管と、供給されたN2ガス等及び線引き炉11内から流れてくるHeガス等が排出される管とする。ここで、排出穴44、排出管47及び排出管22は、各請求項におけるガス排出部を構成している。
【0028】
炉心管延長部16から出た光ファイバ3は、続いて緩衝室41(第1緩衝室42及び第2緩衝室45)に入り、緩衝室41(第1緩衝室42及び第2緩衝室45)により外気と接触が抑制された状態で、保護管21に入る。光ファイバ3において温度が1200〜1700℃となる部分のうちの光ファイバ3の温度差が50℃以上となる区間が保護管21内にて冷却されるように、光ファイバ3の緩衝室41(第1緩衝室42)への入線温度は、1400〜1800℃の範囲内の温度とされている。なお、光ファイバ3の緩衝室41(第1緩衝室42)への入線温度は、特に、1600〜1800℃の範囲内の温度に設定することが望ましい。このように、入線温度を1600〜1800℃の範囲内の温度とすることにより、比較的温度の高い状態から冷却速度を遅くした冷却が可能となり、レイリー散乱強度を更に低減して伝送損失が一層低くされた光ファイバ3を製造することができる。なお、光ファイバ3の保護管21への入線温度で規定する場合には、この保護管21への入線温度を1500〜1800℃の範囲内の温度に設定することが望ましい。
【0029】
保護管21を出た光ファイバ3は、外径測定器61により外径がオンライン測定され、その測定値が光ファイバを引き取る装置(図示せず)を回転駆動する駆動モータ(図示せず)にフィードバックされて外径が一定となるように制御される。その後、光ファイバ3に、コーティングダイス62によりUV樹脂63を塗布し、樹脂硬化部31のUVランプ32によりUV樹脂63が硬化され、光ファイバ素線4となる。そして、光ファイバ素線4は、ガイドローラ64を経て、ドラムにより巻き取られる。なお、UV樹脂63の代わりに熱硬化樹脂を用い、この熱硬化樹脂を加熱炉により硬化させるように構成してもよい。
【0030】
(第2実施形態)
次に、図2を参照しながら、本発明による光ファイバの製造方法及びこの製造方法に用いられる線引き装置の第2実施形態を説明する。第2実施形態は、緩衝室の構造が第1実施形態と異なっている。
【0031】
線引き装置101においては、炉心管延長部16と保護管21との間に緩衝室141が設けられており、この緩衝室141の光ファイバ3の線引き方向における長さは、図2に示されるように、L3とされている。緩衝室141の内部空間は、線引き炉11(炉心管13)内の雰囲気ガスであるHeガスと、保護管21内の雰囲気ガスである空気とが混在している。ここで、緩衝室141は、各請求項におけるガス混在層を構成している。なお、排出管22は必ずしも設ける必要はない。
【0032】
緩衝室141は、光ファイバ3が通る内部空間を外気と区画するための隔壁142を有しており、この隔壁142には、N2ガスを緩衝室141内に導入するための導入管143が形成されている。このN2ガスは、N2ガス供給部151からN2ガス供給通路152を介して導入管143に送られる。また、隔壁142には、線引き炉11内から流れてくるHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストを排出するための排出管144も形成されている。緩衝室141と保護管21とは、仕切り壁145により仕切られている。この仕切り壁145には、光ファイバ3が通る光ファイバ通過穴146が形成されている。光ファイバ通過穴146は、内径が4〜5mm程度に設定されている。また、緩衝室141内に導入する所定のガスは、N2ガスに限られず、空気等を用いるようにしてもよい。緩衝室141に導入したガスは大部分が排出管144から排出される。なお、N2ガス等を導入するのは、Heガス等が保護管21に流入しないようにするためであり、保護管21をN2ガス等を満たすためではない。
【0033】
次に、図3に基づいて、上述した線引き装置1,101を用いて行った実験の結果について説明する。これらの実験において共通の条件は、以下のとおりである。線引きする光ファイバ母材2として、コア部が純石英ガラスからなり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなり、外径が70mmのものを用い、光ファイバ母材2から外径125μmの光ファイバ3を線引きした。線引き炉の温度は、炉心管内周面(光ファイバ母材2あるいは光ファイバ3の表面と対向する面)の表面温度で2000℃程度とした。
【0034】
実施例1及び実施例2は、上述した第1及び第2実施形態に係る光ファイバの製造方法による実施例であり、比較例1〜比較例4は、上述した第1及び第2実施形態に係る光ファイバの製造方法による実施例との対比のために行った比較例である。
【0035】
(実施例1)
第1実施形態における線引き装置1を用いて、線引き速度を400m/分として光ファイバ3の線引きを行った。保護管21の内周直径を30mmに設定し、全長を1000mmに設定した。緩衝室41の光ファイバ3の線引き方向における長さL1は100mmとし、炉心管延長部16の光ファイバ3の線引き方向における長さL2は50mmとした。なお、緩衝室41に入る直前の光ファイバの温度(入線温度)は、光ファイバの表面温度で1800℃と推定され、保護管21に入る直前の光ファイバの温度(入線温度)は、光ファイバの表面温度で1650℃と推定される。保護管21においては、線引きされた光ファイバ3のうち温度が1650〜1000℃となる部分が、保護管21の全長である1000mmの区間において平均約4300℃/秒の速度にて冷却されたことになる。また、炉心管延長部16内でのHeガス濃度は100%であり、緩衝室41では徐々に低下し(Heガス濃度は0〜100%)、保護管21内では0%(空気の濃度が100%)であった。
【0036】
線引きされた光ファイバの伝送損失(波長1.55μmの光に対する伝送損失)を測定したところ、0.170dB/kmであり、この伝送損失の波長特性を測定したデータから求めたレイリー散乱率は、0.85dBμm4/kmであった。線引きされた光ファイバの外径を測定したところ、125±0.15μmであり、光ファイバ径の変動は±0.15μmであった。また、「曲がり異常率」は0%であった。ここで、「曲がり異常率」とは、光ファイバの異なる箇所にて曲率半径を測定して、所定の曲率半径(本実施例では、4.2m)以上の部分を不良として、測定箇所の数n(本実施例では、n=10)に対する不良が検出された箇所の数の比率を百分率にて表したものである。
【0037】
(実施例2)
第2実施形態における線引き装置101を用いて、線引き速度を400m/分として光ファイバ3の線引きを行った。保護管21の内周直径を30mmに設定し、全長を1000mmに設定した。緩衝室41の光ファイバ3の線引き方向における長さL3は50mmとし、炉心管延長部16の光ファイバ3の線引き方向における長さL2は50mmとした。なお、緩衝室41に入る直前の光ファイバの温度(入線温度)は、光ファイバの表面温度で1800℃と推定され、保護管21に入る直前の光ファイバの温度(入線温度)は、光ファイバの表面温度で1720℃と推定される。保護管21においては、線引きされた光ファイバ3のうち温度が1720〜1050℃となる部分が、保護管21の全長である1000mmの区間において平均約4460℃/秒の速度にて冷却されたことになる。また、炉心管延長部16内でのHeガス濃度は100%であり、保護管21内では0%(空気の濃度が100%)であった。
【0038】
線引きされた光ファイバの伝送損失(波長1.55μmの光に対する伝送損失)を測定したところ、0.170dB/kmであり、この伝送損失の波長特性を測定したデータから求めたレイリー散乱率は、0.85dBμm4/kmであった。線引きされた光ファイバの外径を測定したところ、125±0.15μmであり、光ファイバ径の変動は±0.15μmであった。また、「曲がり異常率」は0%であった。
【0039】
(比較例1)
図4に示されるように、緩衝室41,141を取り外した構成にて光ファイバの線引きを行った。炉心管延長部16と保護管21との間隔L4は50mmとし、炉心管延長部16の光ファイバ3の線引き方向における長さL2は50mmとした。その他の実験条件は、実施例1と同じである。
【0040】
線引きされた光ファイバの伝送損失(波長1.55μmの光に対する伝送損失)を測定したところ、0.172dB/kmであり、この伝送損失の波長特性を測定したデータから求めたレイリー散乱率は、0.86dBμm4/kmであった。線引きされた光ファイバの外径を測定したところ、125±0.4μmであり、光ファイバ径の変動は±0.4μmであった。また、「曲がり異常率」は20%であった。
【0041】
(比較例2)
図5に示されるように、保護管21を取り外した構成にて光ファイバの線引きを行った。炉心管延長部16の光ファイバ3の線引き方向における長さL5は0.5mmとした。その他の実験条件は、実施例1と同じである。
【0042】
線引きされた光ファイバの伝送損失(波長1.55μmの光に対する伝送損失)を測定したところ、0.175dB/kmであり、この伝送損失の波長特性を測定したデータから求めたレイリー散乱率は、0.87dBμm4/kmであった。線引きされた光ファイバの外径を測定したところ、125±0.15μmであり、光ファイバ径の変動は±0.15μmであった。また、「曲がり異常率」は0%であった。
【0043】
(比較例3)
保護管21がない構成にて光ファイバの線引きを行った。炉心管延長部16の光ファイバ3の線引き方向における長さL2は50mmとした。その他の実験条件は、実施例1と同じである。
【0044】
線引きされた光ファイバの伝送損失(波長1.55μmの光に対する伝送損失)を測定したところ、0.170dB/kmであり、この伝送損失の波長特性を測定したデータから求めたレイリー散乱率は、0.85dBμm4/kmであった。線引きされた光ファイバの外径を測定したところ、125±1μmであり、光ファイバ径の変動は±1μmであった。また、「曲がり異常率」は30%であった。
【0045】
(比較例4)
実施例1の実験条件のうち線引き速度の設定のみを変更して光ファイバの線引きを行った。線引き速度は、100m/分に設定した。なお、緩衝室41に入る直前の光ファイバの温度(入線温度)は、光ファイバの表面温度で1300℃と推定され、保護管21に入る直前の光ファイバの温度(入線温度)は、光ファイバの表面温度で1000℃と推定される。
【0046】
線引きされた光ファイバの伝送損失(波長1.55μmの光に対する伝送損失)を測定したところ、0.175dB/kmであり、この伝送損失の波長特性を測定したデータから求めたレイリー散乱率は、0.87dBμm4/kmであった。線引きされた光ファイバの外径を測定したところ、125±0.15μmであり、光ファイバ径の変動は±0.15μmであった。また、「曲がり異常率」は0%であった。
【0047】
以上のように、実施例1及び実施例2においては、レイリー散乱率が0.85dBμm4/km、波長1.55μmの光に対する伝送損失が0.170dB/kmとなり、炉心管延長部16の長さを長くした比較例2のレイリー散乱率が0.87dBμm4/km、波長1.55μmの光に対する伝送損失が0.175dB/kmと比べて、レイリー散乱率を低減して、伝送損失を低減することができた。
【0048】
また、実施例1及び実施例2においては、光ファイバ径の変動が±0.15μm、「曲がり異常率」が0%となり、緩衝室41を取り外して線引き炉11と保護管21との間に間隔L4を有した状態で線引きを行った比較例1の光ファイバ径の変動が±0.4μm、「曲がり異常率」が20%、及び、保護管21を取り外した比較例1の光ファイバ径の変動が±1μm、「曲がり異常率」が30%と比べて、光ファイバ径の変動の発生、及び、光ファイバの曲がりの悪化を抑制することができた。
【0049】
また、比較例4においては、レイリー散乱率が0.85dBμm4/km、波長1.55μmの光に対する伝送損失が0.175dB/kmとなり、線引き速度を400m/分とした実施例1よりも伝送損失が高くなっている。これは、比較例4では線引き速度が100m/分と遅いため、光ファイバ3がHeガスにより炉心管延長部16を出るまでに急冷されたためと考える。
【0050】
このように、上述した実験結果からも明らかなように、本実施形態に係る光ファイバの製造方法においては、保護管21を炉心管延長部16との間に所定の間隔を有して設け、更に、この保護管21と線引き炉11との間の間隔を、Heガス及び空気が混在するガス混在層(緩衝室41,141)としているため、線引き炉11内においてはHeガスからなる雰囲気が保たれ、緩衝室41,141内ではHeガスと空気が混在し、また、保護管21内においては空気からなる雰囲気が保たれることになり、保護管21内での光ファイバの冷却速度を遅くすることができる。特に、線引きされた光ファイバ3のガス混在層への入線温度を、1400〜1800℃の範囲内の温度としているため、光ファイバ3の温度が1200〜1700℃となっている部分のうちの所定区間での冷却速度が遅くなる。この結果、光ファイバ3の構造緩和が短時間の内に進行し、原子配列の乱雑さが低減されることになり、加熱線引きから樹脂被覆までの極めて短い間で、レイリー散乱強度を低減して伝送損失が低くされた光ファイバ3の製造が可能となる。なお、より一層レイリー散乱強度を低減して伝送損失が低くするためには、線引きされた光ファイバ3のガス混在層への入線温度を、1600〜1800℃の範囲内に設定することが好ましい。
【0051】
また、保護管21と線引き炉11との間にガス混在層が存在しているため、線引き炉11内にて発生するダストの保護管21内への侵入を抑制することができると共に、線引き炉11と保護管21との間での外気の流れの乱れの影響が受け難くなり、光ファイバ径の変動の発生、あるいは、光ファイバ3の曲がりの悪化も抑制することができる。
【0052】
また、緩衝室41(第1緩衝室42及び第2緩衝室45)は、複数の排出穴44が形成された隔壁43、及び、複数の排出管47が形成された隔壁46とを有しているので、外気の流れの乱れの影響をより確実に抑え、光ファイバ径の変動の発生、あるいは、光ファイバ3の曲がりの悪化をより一層抑制することができる。
【0053】
また、隔壁43に形成された排出穴44、隔壁46に形成された排出管47及び保護管21に形成された排出管22からHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストを外気に排出することにより、線引き炉11内でのHeガスからなる雰囲気と保護管21内での空気からなる雰囲気とを効率的に且つ確実に切替えることができる。
【0054】
また、緩衝室141を外気と区画するための隔壁142に、N2ガス供給部151からN2ガス供給通路152を介して送られるN2ガスを導入するための導入管143を形成し、この導入管143から緩衝室141内にN2ガスを導入することにより、同じく隔壁142に形成された排出管144から線引き炉11内から流れてくるHeガス及び線引き炉11内にて発生するダストが積極的に排出されることになり、線引き炉11内にて発生するダストの保護管21への侵入を更に抑制することができる。
【0055】
なお、第1実施形態においては、線引き装置1における緩衝室41を第1緩衝室42及び第2緩衝室45にて構成しているが、これに限られることなく、3室以上の緩衝室を設けるように構成してもよい。
【0056】
また、第1及び第2実施形態において、炉心管延長部16と保護管21との間にガス混在層がある限り、緩衝室41,141自体を、必ずしも設ける必要はない。この場合には、線引き炉11(炉心管延長部16)と保護管21とを近接して設ける、たとえば線引き炉11(炉心管延長部16)と保護管21との間隔L1を10mm程度とすることにより、線引き炉11と保護管21との間の空間が、線引き炉11(炉心管13)内の雰囲気ガスとなるHeガス及び保護管21内の雰囲気ガスとなる所定のガス(空気又はN2ガス等)が混在したガス混在層とされて、実質的に外気から区画された状態となり、緩衝室41,141を設けた場合と同様の作用効果を奏することになる。但し、緩衝室41,141内の圧力を外気圧よりも高くして、外気の流れの乱れを受け難くすることを確実に行うことができるという点で、緩衝室41,141を設けた構成を採用する方が好ましい。
【0057】
また、本発明は、上述した実施例において用いた、コア部が純石英ガラスからなり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる光ファイバ母材以外に、たとえばコア部にGeが添加されたGe添加光ファイバ母材の線引きに対しても適用することができる。
【0058】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したとおり、本発明によれば、線引き炉内の雰囲気ガスとして熱伝導率の高いHeガスを用いた場合においても、レイリー散乱強度の低減により、伝送損失が低くされた光ファイバを製造することが可能な光ファイバの製造方法を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光ファイバの製造方法の第1実施形態を示す概略説明図である。
【図2】本発明による光ファイバの製造方法の第2実施形態を示す概略説明図である。
【図3】本発明による光ファイバの製造方法による実施例と比較例を示す図表である。
【図4】比較例による光ファイバの製造方法を示す概略説明図である。
【図5】比較例による光ファイバの製造方法を示す概略説明図である。
【図6】レイリー散乱率と光ファイバの冷却速度との関係を示す図表である。
【符号の説明】
1,101…線引き装置、2…光ファイバ母材、3…光ファイバ、4…光ファイバ素線、11…線引き炉、12…ヒータ、13…炉心管、14…Heガス供給部、15…Heガス供給通路、16…炉心管延長部、21…保護管、22…排出管、41,141…緩衝室、42…第1緩衝室、43,46,142…隔壁、44…排出穴、45…第2緩衝室、47,144…排出管、48,50,145…仕切り壁、49,51,146…光ファイバ通過穴、141…緩衝室、143…導入管、151…N2ガス供給部、152…N2ガス供給通路。
Claims (2)
- 光ファイバ母材を加熱線引きする光ファイバの製造方法であって、
Heガスからなる雰囲気にて前記光ファイバ母材を加熱線引きする線引き炉と、前記線引き炉との間に所定の間隙を有して設けられると共に、その内部が前記Heガスより低い熱伝導率を有する所定のガスからなる雰囲気とされた保護管と、を用い、
前記線引き炉と前記保護管との間の前記間隙を、前記Heガス及び前記所定のガスが混在するガス混在層とし、
前記ガス混在層への前記線引きされた光ファイバの入線温度を1400〜1800℃の範囲内の温度とする一方、前記線引き炉にて前記線引きされた光ファイバを、前記ガス混在層を介して前記保護管内に送り、
前記ガス混在層を外気と区画するための隔壁を設け、
前記隔壁に、少なくとも前記Heガスを排出するためのガス排出部を形成し、
前記ガス排出部から少なくとも前記Heガスを外気に排出することを特徴とする光ファイバの製造方法。 - 前記隔壁に、前記所定のガスを導入するためのガス導入部を形成し、
前記ガス導入部から前記所定のガスを前記隔壁内に導入することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28973699A JP4356155B2 (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 光ファイバの製造方法 |
US10/089,719 US6928840B1 (en) | 1999-10-12 | 2000-10-11 | Optical fiber producing method |
PCT/JP2000/007053 WO2001027045A1 (fr) | 1999-10-12 | 2000-10-11 | Procede de production de fibres optiques |
EP00966412.9A EP1243567B1 (en) | 1999-10-12 | 2000-10-11 | Optical fiber producing method |
CN00806691.4A CN1220644C (zh) | 1999-10-12 | 2000-10-11 | 光纤的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28973699A JP4356155B2 (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 光ファイバの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001114526A JP2001114526A (ja) | 2001-04-24 |
JP4356155B2 true JP4356155B2 (ja) | 2009-11-04 |
Family
ID=17747100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28973699A Expired - Lifetime JP4356155B2 (ja) | 1999-10-12 | 1999-10-12 | 光ファイバの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6928840B1 (ja) |
EP (1) | EP1243567B1 (ja) |
JP (1) | JP4356155B2 (ja) |
CN (1) | CN1220644C (ja) |
WO (1) | WO2001027045A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013105579A1 (ja) | 2012-01-10 | 2013-07-18 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法および製造装置並びに光ファイバ |
WO2014092110A1 (ja) | 2012-12-12 | 2014-06-19 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ製造方法および光ファイバ |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU773667B2 (en) * | 1999-05-27 | 2004-06-03 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Production device and method for optical fiber |
JP2003114347A (ja) | 2001-07-30 | 2003-04-18 | Furukawa Electric Co Ltd:The | シングルモード光ファイバ、その製造方法および製造装置 |
US6789400B2 (en) | 2001-11-30 | 2004-09-14 | The Boc Group, Inc. | Cap assembly and optical fiber cooling process |
US20030200772A1 (en) * | 2002-04-30 | 2003-10-30 | Foster John D. | Methods and apparatus for forming optical fiber |
US7565820B2 (en) | 2002-04-30 | 2009-07-28 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for forming heat treated optical fiber |
KR100545814B1 (ko) * | 2002-08-31 | 2006-01-24 | 엘에스전선 주식회사 | 광섬유 인선 용해로 및 이를 이용한 광섬유 인선방법 |
US20040194513A1 (en) * | 2003-04-04 | 2004-10-07 | Giacobbe Frederick W | Fiber coolant system including improved gas seals |
WO2005049516A1 (ja) * | 2003-11-18 | 2005-06-02 | Fujikura Ltd. | 光ファイバ裸線の線引方法、光ファイバ素線の製造方法、光ファイバ素線 |
US8074474B2 (en) | 2007-11-29 | 2011-12-13 | Corning Incorporated | Fiber air turn for low attenuation fiber |
JP5386148B2 (ja) * | 2008-11-05 | 2014-01-15 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ素線の製造方法と製造装置 |
US8573008B2 (en) * | 2010-05-27 | 2013-11-05 | Corning Incorporated | Method for producing optical fiber at reduced pressure |
US9309143B2 (en) | 2013-08-08 | 2016-04-12 | Corning Incorporated | Methods of making optical fiber with reduced hydrogen sensitivity |
US10479720B2 (en) | 2013-08-08 | 2019-11-19 | Corning Incorporated | Methods of making optical fiber with reduced hydrogen sensitivity that include fiber redirection |
US10322963B2 (en) | 2014-12-02 | 2019-06-18 | Corning Incorporated | Low attenuation optical fiber |
US10221089B2 (en) | 2015-09-10 | 2019-03-05 | Corning Incorporated | Optical fiber with low fictive temperature |
CN115872614A (zh) * | 2015-10-30 | 2023-03-31 | 康宁股份有限公司 | 制造光纤的方法和光纤 |
JP6340390B2 (ja) | 2016-08-30 | 2018-06-06 | 株式会社フジクラ | 光ファイバの製造方法 |
NL2025663B1 (en) * | 2020-04-24 | 2021-11-02 | Corning Inc | Particle exhaust apparatus for optical fiber draw furnace |
CN115515909A (zh) | 2020-05-08 | 2022-12-23 | 康宁股份有限公司 | 具有卤素掺杂纤芯的光纤的缓慢冷却 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8203843A (nl) * | 1982-10-04 | 1984-05-01 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het trekken van een optische vezel uit een vaste voorvorm die in hoofdzaak uit sio2 en gedoteerd sio2 bestaat. |
JPS6046954A (ja) | 1983-08-26 | 1985-03-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバ線引き装置 |
JPS62246837A (ja) | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用線引き炉 |
EP0321182A3 (en) * | 1987-12-14 | 1990-08-29 | AT&T Corp. | Methods of and apparatus for making optical fiber having relatively low absorption loss and product produced thereby |
JP2787983B2 (ja) * | 1988-04-25 | 1998-08-20 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ線引き炉及び線引き方法 |
JP2655909B2 (ja) | 1989-03-15 | 1997-09-24 | 日本電信電話株式会社 | フッ化物光ファイバ用線引き炉 |
JP2793874B2 (ja) | 1990-02-15 | 1998-09-03 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバのハーメチックコート装置 |
JPH0459631A (ja) * | 1990-06-27 | 1992-02-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバの線引方法 |
US5059229A (en) * | 1990-09-24 | 1991-10-22 | Corning Incorporated | Method for producing optical fiber in a hydrogen atmosphere to prevent attenuation |
JPH05105472A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光フアイバの線引き装置 |
JP3489630B2 (ja) | 1992-03-05 | 2004-01-26 | 住友電気工業株式会社 | ハーメチックコートファイバの製造方法及び装置 |
US5284499A (en) * | 1992-05-01 | 1994-02-08 | Corning Incorporated | Method and apparatus for drawing optical fibers |
JP3275429B2 (ja) * | 1993-03-17 | 2002-04-15 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
DE4339077C2 (de) * | 1993-11-16 | 1997-03-06 | Rheydt Kabelwerk Ag | Verfahren zum Ziehen einer optischen Faser und Vorrichtung zu dessen Durchführung |
DE59602017D1 (de) * | 1996-12-17 | 1999-07-01 | Cit Alcatel | Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen einer optischen Faser aus einer Vorform |
DE19727574A1 (de) * | 1997-06-28 | 1999-01-07 | Alsthom Cge Alcatel | Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Beschichtungsdicke einer optischen Faser |
JPH11116264A (ja) * | 1997-10-15 | 1999-04-27 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバの線引方法及び線引装置 |
JP2000128566A (ja) | 1998-10-29 | 2000-05-09 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバの製造方法および製造装置 |
JP2000335935A (ja) * | 1999-05-27 | 2000-12-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバの製造装置及び製造方法 |
JP4482954B2 (ja) * | 1999-05-27 | 2010-06-16 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
JP4482955B2 (ja) * | 1999-05-27 | 2010-06-16 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
EP1243568B1 (en) | 1999-05-27 | 2013-03-06 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Production method for optical fiber |
AU773667B2 (en) * | 1999-05-27 | 2004-06-03 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Production device and method for optical fiber |
-
1999
- 1999-10-12 JP JP28973699A patent/JP4356155B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-10-11 EP EP00966412.9A patent/EP1243567B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-11 WO PCT/JP2000/007053 patent/WO2001027045A1/ja active Application Filing
- 2000-10-11 CN CN00806691.4A patent/CN1220644C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-11 US US10/089,719 patent/US6928840B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013105579A1 (ja) | 2012-01-10 | 2013-07-18 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法および製造装置並びに光ファイバ |
US9475722B2 (en) | 2012-01-10 | 2016-10-25 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber producing method and apparatus and optical fiber |
WO2014092110A1 (ja) | 2012-12-12 | 2014-06-19 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ製造方法および光ファイバ |
US9527765B2 (en) | 2012-12-12 | 2016-12-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber manufacturing method and optical fiber |
US9932265B2 (en) | 2012-12-12 | 2018-04-03 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of making an optical fiber containing an alkali metal in the core |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1348432A (zh) | 2002-05-08 |
WO2001027045A1 (fr) | 2001-04-19 |
JP2001114526A (ja) | 2001-04-24 |
CN1220644C (zh) | 2005-09-28 |
EP1243567B1 (en) | 2013-12-11 |
EP1243567A4 (en) | 2005-03-09 |
US6928840B1 (en) | 2005-08-16 |
EP1243567A1 (en) | 2002-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4356155B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
JP4990429B2 (ja) | 線引き中の光ファイバーの冷却方法 | |
WO2000073223A1 (fr) | Dispositif et procede de production pour fibre optique | |
JP5595925B2 (ja) | 低減衰ファイバーのためのファイバー・エアターン | |
JP4244925B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
US20060101861A1 (en) | Optical fiber making apparatus and method | |
EP3368489B1 (en) | Methods of making an optical fiber | |
EP3187470B1 (en) | Method for manufacturing optical fibers | |
JP2007197273A (ja) | 光ファイバ素線及びその製造方法 | |
CN102010123A (zh) | 一种光纤的热处理方法及装置 | |
JP4482954B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
JPH01239035A (ja) | 光ファイバの製造方法およびその装置 | |
CN107108327B (zh) | 光纤的制造方法 | |
JP4482955B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
US10927033B2 (en) | Optical fiber production method | |
US11008245B2 (en) | Optical fiber production method | |
JP2003335545A (ja) | 光ファイバの線引き方法および線引き装置 | |
JP4356154B2 (ja) | 光ファイバの製造方法及び製造装置 | |
US20020078715A1 (en) | Methods and apparatus for drawing optical fiber | |
JP2000335935A (ja) | 光ファイバの製造装置及び製造方法 | |
JP2004338972A (ja) | 光ファイバの製造方法及び製造装置 | |
JP4389409B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090714 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090727 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4356155 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130814 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |