JP2787680B2 - 磁気記録媒体の製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、非磁性支持体と、この支持体上に設けられ
た磁性層とからなる基本構造を有する磁気記録媒体の製
法に関するものである。 ［発明の技術的背景］ 一般にオーディオ用、ビデオ用あるいはコンピュータ
用等の磁気記録媒体として、強磁性粉末が結合剤中に分
散されている磁性層を非磁性支持体上に設けた磁気記録
媒体が用いられている。 このような磁気記録媒体は、樹脂成分などの結合剤成
分と強磁性粉末などの粒状成分とを溶剤に分散させた磁
性塗料を、非磁性支持体上に塗布して塗布層を形成し、
この塗布層に磁場配向処理、乾燥処理および平面平滑化
処理などの処理を施したのち、所望の形状に裁断するこ
とにより製造されている。 一般に、このようにして製造された磁性層の表面は、
粒状成分が磁性層に強固に固定され、非常に平滑である
と考えられているが、本発明者の検討によれば、磁性層
表面には固定不充分な強磁性粉末などの粒状成分が存在
することが判明した。このような固定不充分な粒状成分
は、走行中に脱離して磁気ヘッドに付着して磁気ヘッド
目詰まりの原因となることがあり、さらに例えばビデオ
テープなどにおいてはドロップアウトの発生原因となる
ことがある。そして、こうした強磁性粉末の脱離により
磁性層表面近傍にある強磁性粉末の量が減少するので、
走行を繰り返すことにより電磁変換特性が低下（出力低
下）するとの問題もある。 本発明者は、こうしたドロップアウト、目詰まりおよ
び出力低下の発生を軽減する方法として磁性層の表面を
研削する方法について発明をし、この発明については既
に出願済である（特開昭62−172532号）。 すなわち、この発明は、表面平滑化された磁性層の表
面をダイヤモンドホイールあるいは固定式のサファイア
ブレードなどの高硬度の研削具を用いて研削することに
より、脱離し易い状態にある粒状成分あるいは磁性層表
面の付着物などを除去し、磁性層表面からの脱離物の量
を低減するものである。 このような背景から本発明者は、磁性層表面からの脱
離物の量を低減させる方法についてさらに検討した結
果、磁気記録媒体の磁性層の研削を行なう以外にも有効
な方法があることを見い出した。それは、磁気記録媒体
の磁性層を研磨テープにより研磨処理を行なう方法で、
この方法によりさらにドロップアウトおよび目詰まり発
生の少ない、そして走行耐久性の良好な磁気記録媒体を
製造することができることが分かった。 ［発明の目的］ 本発明は、良好な走行耐久性を有する磁気記録媒体を
製造する方法を提供することを目的とする。 さらに詳しくは、本発明は、ドロップアウトおよび目
詰まりの発生が少ない新規な磁気記録媒体の製造する方
法を提供することを目的とする。 ［発明の要旨］ 本発明は、非磁性支持体上に塗設された、強磁性粉末
がポリイソシアネート化合物を含む結合剤に分散されて
なる磁性層を有する磁気記録テープの該磁性層を表面平
滑化処理したのち硬化させ、次いで、Ｖ字先端を有する
パッドのその先端で移動する研磨テープを押えて該磁性
層の表面に接触させることにより、該磁性層の表面を研
磨処理して未反応のポリイソシアネート化合物を除去す
ることを特徴とする磁気記録媒体の製法にある。 本発明はまた、非磁性支持体上に塗設された、強磁性
粉末がポリイソシアネート化合物を含む結合剤に分散さ
れてなる磁性層を有する磁気記録テープの該磁性層を表
面平滑化処理したのち硬化させ、次いで、Ｖ次先端を有
するパッドのその先端で移動する研磨テープを押えて該
磁性層の表面に接触させることにより、該磁性層の表面
を研磨処理して未反応のポリイソシアネート化合物を除
去し、次いで固定ブレードまたは回転ブレードによって
研削処理を行ない、更に該磁性層を不織布で拭き取り処
理を行なうことを特徴とする磁気記録媒体の製法にもあ
る。 ［発明の効果］ 本発明の研磨テープを用いた研磨処理を行なうことに
より、磁性層表面から脱離しやすい状態の強磁性粉末な
どの粒状成分の数が少なくなるので、走行中にこれらの
粒状成分の脱離による磁気ヘッド目詰まりおよびドロッ
プアウトの少ない磁気記録媒体を製造することができ
る。 さらに、磁性層表面から脱離する強磁性粉末の個数が
少なくなるので、繰り返し走行させても、強磁性粉末の
脱落が少なく、従って、走行初期の再生出力と繰り返し
走行後の再生出力の差が少ない優れた磁気記録媒体を製
造することができる。 また、磁性層形成成分に使用した硬化剤（ポリイソシ
アネート化合物）のうち、磁性層表面に残存する未反応
硬化剤の大部分が除去されるので、磁気記録媒体の製造
後に粉塵などが磁性層に付着することがない。従って、
こうした付着物に起因するドロップアウトの発生の少な
い磁気記録媒体を製造することができる。さらに、磁気
ヘッドが未反応硬化体などで汚染されることが少ないの
で、磁気ヘッドの粉塵の付着などによる磁気ヘッド目詰
まりの発生が少ない磁気記録媒体を製造することができ
る。 ［発明の詳細な記述］ 磁気記録媒体は、通常、非磁性支持体上に磁性塗料を
塗設し、磁場配向処理、硬化処理、次いで表面平滑化処
理などを行なったのち、所望の形状に裁断することによ
り製造される。 磁気記録媒体は、非磁性支持体と、この支持体上に設
けられた磁性層とからなる。磁性層は、強磁性粉末など
の粒状成分と、この粒状成分が分散している結合剤とか
らなる。結合剤は、樹脂成分と硬化剤とにより構成され
ている。 磁性層の塗設は、通常の方法に従って行なうことがで
きる。たとえば、樹脂成分、硬化剤としてのポリイソシ
アネート化合物、および強磁性粉末、並びに所望により
配合される研磨材などの磁性層形成成分を溶剤と共に混
練分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料を非磁性支
持体上に塗布する方法を利用することができる。 非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート
（PET）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル
類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリ塩化ビニル、オリ塩化ビニリデン等のビ
ニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ポリイミドなどの合成樹脂からなるフィルム
もしくはシート；アルミニウム、銅等の非磁性金属箔；
ステンレス箔などの金属箔；紙、セラミックシート等か
ら選ばれる。 樹脂成分は、通常磁性塗料の樹脂成分として使用され
ている樹脂から選ばれる。樹脂成分の例としては塩化ビ
ニル系共重合体（例、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合
体、塩化ビニル・酢酸ビニル・アクリル酸共重合体、塩
化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アク
リロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合
体、−SO₃Naまたは−SO₂Naなどの極性基およびエポキシ
基が導入された塩化ビニル系共重合体）、ニトロセルロ
ース樹脂などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリ
ビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エ
ポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン系樹脂
（例、ポリエステルポリウレタン樹脂、−SO₃Naまたは
−SO₂Naなどの極性基が導入されたポリウレタン系樹
脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂）を挙げること
ができる。 また、ポリイソシアネート化合物の例としては、通常
ポリウレタン系樹脂等の硬化剤成分として使用されてい
るもののなかから選択される。ポリイソシアネート化合
物の例としては、トリレンジイソシアネートとトリメチ
ロールプロパン１モルとの反応生成物（例、デスモジュ
ールＬ−75（バイエル社製））、キシリレンジイソシア
ネートあるいはヘキサメチレンジイソシアネートなどの
ジイソシアネート３モルとトリメチロールプロパン１モ
ルとの反応生成物、ヘキサメチレンジイソシアネート３
モルのビューレット付加化合物、トリレンジイソシアネ
ート５モルのイソシアヌレート化合物、トリレンジイソ
シアネート３モルとヘキサメチレンジイソシアネート２
モルのイソシアヌレート付加化合物、イソホロンジイソ
シアネートおよびジフェニルメタンジイソシアネートの
ポリマーを挙げることができる。 また、電子線照射による硬化処理を行なう場合には、
反応性二重結合を有する化合物（例、ウレタンアクリレ
ート）を使用することができる。 本発明においては、樹脂成分として塩化ビニル系共重
合体のような硬度の高い樹脂とポリウレタン系樹脂のよ
うな柔軟性を有する樹脂とを組合わせて使用することが
好ましい。 塩化ビニル系共重合体のような硬度の高い樹脂とポリ
ウレタン系樹脂のような柔軟性を有する樹脂とを組合わ
せて使用する場合、前者と後者との配合重量比は通常は
9:1〜5:5の範囲内（好ましくは9:1〜6:4）とする。そし
て、通常、上記樹脂成分と硬化剤との重量比は、9:1〜
5:5（好ましくは9:1〜6:4）の範囲内に設定される。 一般に、強磁性粉末として、共磁性金属微粉末のよう
な硬度の低いものを使用する場合には、γ−Fe₂O₃など
の硬度の高いものを用いる場合よりも多量の結合剤を使
用する。そして、この場合、通常は、ポリウレタン系樹
脂のように柔軟性を有する樹脂の使用量を増加させる。 こうしたポリウレタン系樹脂の使用量の増加によって
結合剤が軟化する傾向があるので、通常は、ポリイソシ
アネート化合物を増量して結合剤の硬度を維持する方法
が利用されている。 樹脂成分として、ポリウレタン系樹脂を使用する場
合、ポリウレタン系樹脂とポリイソシアネート化合物と
の配合重量比は、通常1:0.8〜1:2（好ましくは1:1〜1:
1.5）の範囲内に設定される。このようにすることによ
り、硬度の低い強磁性金属微粉末を使用した場合にも、
ポリウレタン系樹脂を使用することに伴なう結合剤の軟
化を有効に防止することができるようになる。 樹脂成分と硬化剤との合計の重量は、強磁性粉末100
重量部に対して、通常10〜100重量部（好ましくは、15
〜40重量部）の範囲内にある。 本発明で用いる強磁性粉末の例としては、γ−Fe₂O₃
のような金属酸化物系の強磁性粉末、コバルト等の他の
成分を含有するγ−Fe₂O₃のような異種金属・金属酸化
物系の強磁性粉末、および鉄、コバルトあるいはニッケ
ルなどの強磁性金属を含む強磁性金属微粉末を挙げるこ
とができる。 特に本発明は、強磁性金属微粉末を用いた磁気記録媒
体の製法として利用すると有利である。すなわち、強磁
性金属微粉末の使用に供なって硬化剤を多量に使用した
場合であっても、磁性層あるいは磁気ヘッドへの付着物
の量を低減することができるので、ドロップアウトおよ
び磁気ヘッド目詰まりの少ない磁気記録媒体を製造する
ことができる。 強磁性金属微粉末を使用する場合には、鉄、コバルト
あるいはニッケルを含む強磁性金属微粉末であって、そ
の比表面積が42m²/g以上（特に好ましくは45m²/g）の強
磁性金属微粉末であることが好ましい。 この強磁性金属微粉末の例としては、強磁性金属微粉
末中の金属分が75重量％以上であり、そして金属分の80
重量％以上が少なくとも一種類の強磁性金属あるいは合
金（例、Fe、Co、Ni、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Co−Ni
−Fe）であり、該金属分の20重量％以下の範囲内で他の
成分（例、Al、Si、Ｓ、Sc、Ti、Ｖ、Cr、Mn、Cu、Zn、
Ｙ、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Ｂ、Ba、Ta、Ｗ、Re、A
u、Hg、Pb、Ｐ、La、Ce、Pr、Nd、Te、Bi）を含むこと
のある合金を挙げることができる。また、上記強磁性金
属分が少量の水、水酸化物または酸化物を含むものなど
であってもよい。 これらの強磁性粉末の製法は既に公知であり、本発明
で用いる強磁性粉末についても公知の方法に従って製造
することができる。 強磁性粉末の形状に特に制限はないが、通常は針状、
粒状、サイコロ状、米粒状および板状のものなどが使用
される。特に針状の強磁性粉末を使用することが好まし
い。 上記の樹脂成分、硬化剤および強磁性粉末を、通常磁
性塗料の調製の際に使用されている溶剤（例、メチルエ
チルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、酢酸エチ
ル）と共に混練分散して磁性塗料とする。混練分散は通
常の方法に従って行なうことができる。 なお、磁性塗料中は、上記成分以外に、研磨材（例、
α−Al₂O₃、Cr₂O₃）、帯電防止剤（例、カーボンブラッ
ク）、潤滑剤（例、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコー
ンオイル）、分散剤など通常使用されている添加剤ある
いは充填材（剤）を含むものであってもよいことは勿論
である。特に潤滑剤として、炭素数が10〜22の飽和脂肪
酸を用いた場合、後述の回転ブレード体を用いて研削を
行なうことにより飽和脂肪酸が磁性層表面に層状に配向
する傾向があり、このように配向した脂肪酸膜は強度が
高く、さらに潤滑性も良好であるので、磁気記録媒体の
走行性が向上するとの利点がある。 このようにして調製した磁性塗料を非磁性支持体上に
塗布する。塗布の方法は、リバースロールを用いる方法
などの通常の塗布方法を利用して行なうことができる。 磁性塗料の塗布層は、得られた磁気記録媒体の磁性層
の厚さが通常0.5〜10μｍの範囲内となるように塗布さ
れる。 非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート
（PET）、ポリエチレンナフタレートのポリエステル
類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビ
ニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ポリイミドなどの合成樹脂からなるフィルム
もしくはシート；アルミニウム、銅等の非磁性金属箔；
ステンレス箔などの金属箔；紙、セラミックシート等か
ら選ばれる。 また、非磁性支持体は、一般には厚さが３〜50μｍ
（好ましくは５〜30μｍ）のものが使用される。 本発明で用いる非磁性支持体の磁性塗料が塗布されて
いない面にバック層（バッキング層）が設けられていて
もよい。通常、バック層は、非磁性支持体の磁性塗料が
塗布されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒状
成分と結合剤とが有機溶剤に分散してなるバック層形成
塗料を塗布して設けられた層である。 なお、非磁性支持体の磁性塗料およびバック層形成塗
料の塗設面に接着剤層が付設されていてもよい。 通常、塗布された磁性塗料の塗布層は、磁性塗料の塗
布層中に含まれる強磁性粉末を配向させる処理、すなわ
ち磁場配向処理を施した後、乾燥される。 このようにして乾燥された後、塗布層に表面平滑化処
理を施す。表面平滑化処理には、たとえばスーパーカレ
ンダロールなどが利用される。表面平滑化処理を行なう
ことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が
消滅し、磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するの
で、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができ
る。 本発明の製法においては、こうして表面平滑化処理さ
れた磁性層の表面、または磁性層の表面およびバックの
表面を研磨テープにより研磨処理を行なう。特に、研磨
テープにより研磨処理された表面を回転ブレード体等で
研削した後、不織布による拭き取りを行なう方が好まし
い。但し、研磨処理後、研削処理および拭き取り処理を
行なう順序は、上記の順序に限定するものではない。 前記の表面平滑化処理された段階では、磁性層に含ま
れる硬化剤のうち、通常90重量％以上が未反応の状態で
磁性層に含有されているので、硬化処理を行なって、少
なくとも硬化剤の50重量％（特に好ましくは80重量％以
上）を反応させたのちに、その次の処理を行なう。 硬化処理には、加熱硬化処理と電子線照射硬化処理と
があり、本発明においては、いずれの方法であっても利
用することができる。 この硬化処理により表面平滑化処理された磁性層に含
有される未反応の硬化剤が、たとえば塩化ビニル系共重
合体およびポリウレタン系樹脂のような樹脂成分と三次
元網状の架橋構造を形成するように反応する。 加熱処理の工程自体は既に公知であり、本発明におい
てもこれらの方法に準じて加熱処理を行なうことができ
る。 たとえば、加熱処理は、加熱時間を通常40℃以上（好
ましくは50〜80℃の範囲内）、加熱時間を通常20時間以
上（好ましくは24時間〜７日間）に設定して行なわれ
る。また、電子線照射による硬化処理の工程自体も既に
公知であり、本発明においてもこれらの方法に準じて加
熱処理を行なうことができる。 このようにして硬化処理された積層体を次に所望の形
状に裁断する。 裁断はスリッターなどの通常の裁断機などを使用して
通常の条件で行なうことができる。 このように硬化処理され、裁断された積層体の磁性層
の表面、または磁性層の表面とバック層の表面は、研磨
テープのベルトをゆっくり回転させることによって研磨
処理される。その際、ベルトの周速度を磁気記録媒体の
テープの巻き取り方向と逆方向に１〜3cm/分の早さとし
て研磨処理を行なう。 第１図は、本発明に従う研磨処理、研削処理および拭
き取り処理工程の一例を示す概略図である。 第１図に示すように、送り出しロール１よりテープが
送り出され、研磨テープ２で研磨され、固定ブレード３
で研削され、そして不織布４で拭き取られ、さらに巻き
取りロール５で巻き取られて処理は完了する。10は送り
ロールでテープの送りを円滑にしている。 研磨テープ２は、回転ロール８によってテープの送り
と１〜3cm/分の早さで移動し、Ｖ字先端を有するパッド
６の先端によって研磨テープ２はおさえられ、磁性層表
面と接触し研磨処理を行なう。 第１図において、研磨テープによる研磨箇所は２つ以
上あっても良い。また磁性層の表面だけでなくバック層
表面も研磨する場合は反対側にも同様の研磨テープによ
る研磨箇所を備え付ける。 研削処理用の固定ブレード３は、使用しなくても良い
し、固定ブレードの代わりに回転ブレードを使用するこ
ともできる。また固定ブレードと回転ブレードの両方を
使用しても良い。 さらに磁性層の表面だけでなくバック層表面も研削処
理を行う場合は反対側にも固定ブレードおよび／または
回転ブレードを備え付ける。 不織布４は、回転ロール９によって、テープの送りと
反対方向に0.5〜10cm/分の早さで移動し、パッド７によ
って不織布４は押さえられ、磁性層表面と接触し、拭き
取り処理を行なう。 また、不織布による拭き取り箇所は２つ以上あっても
良いし、磁性層の表面だけでなくバック層表面も拭き取
り処理を行なう場合は、反対側にも同様の不織布による
拭き取り箇所を備え付ける。 本発明で研磨処理に使用される研磨テープは、研磨材
の硬度が、モース硬度で５〜９の範囲内にあるもので、
たとえば、α−Al₂O₃、SiO₂、Cr₂O₃、α−Fe₂O₃、ダイ
アモンド、ZnO₂、およびTiO₂の群より選ばれる少なくと
も一種の研磨材を含んでいる。 本発明に使用される研磨テープは、たとえば以下のよ
うに製造される。上記研磨材が結合剤、添加剤等を含む
バインダーに分散され、支持体に塗布され、ついで乾燥
後所定の大きさに裁断される。結合剤としては、熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、および反応型樹脂が単独又は混
合して用いられる。研磨材と結合剤との混合割合は、研
磨材100重量部に対して結合剤が10〜200重量部の範囲で
使用される。支持体の素材としては、ポリエチレンテレ
フタレート（PET）等のポリエステル類、ポリプロピレ
ン等のポリオレフィン類、セルロース誘導体、ビニル系
樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドなどの合成樹脂か
らなるフィルムもしくはシート；アルミニウム、銅等の
非磁性金属箔；ステンレス箔などの金属箔；紙、セラミ
ックシート等からから選ばれる。 また、本発明に使用する研磨テープの表面粗さ（中心
線平均粗さ）Raは、0.07〜0.9μｍの範囲内にあること
が好ましい。研磨テープの表面粗さ（中心線平均粗さ）
Raの測定条件は以下の通りである。 中心線平均粗さ測定機サフコム400B,403B,404Bシステ
ムを使用して、カットオフ値:0.8mm、稼働速度:0.3mm、
針圧:0.07g、針径２μＲレンジ:20K/0.5の条件で測定す
る。 上記の性能を有する研磨テープであれば、特に研磨テ
ープを限定するものではなく、市販の研磨テープを使用
することもできる。 上記のような研磨テープを用いた研磨処理により、磁
性層の表面から突出している強磁性粉末あるいは研磨材
のような粒状成分、さらには磁性層の表面に存在する未
反応の硬化剤、表面の付着物（例えば、磁気記録媒体の
製造の際に表面に付着した空気中の粉塵）などは、磁性
層表面近傍（一般には、0.01〜５μｍの高さ）の結合剤
と共に削り取られ、磁性層表面が平滑化される。 そして、バック層も研磨処理した場合は、バック層を
研磨することにより、非磁性粉末などの粒状成分の脱離
が少なくなるので、例えば、テープ状に裁断した磁気記
録媒体を巻いた状態で使用しても、バック層の表面から
脱離した粒状成分が磁性層の表面に付着してドロップア
ウトあるいは目詰まりの原因となることが少なくなる。 拭き取り処理に使用する材料の例としては、ポリウレ
タンなどの結合成分を実質的に含むことなくポリエステ
ル繊維が結束されてなる繊維の束が緻密に絡み合った一
層構造のスエード調不織布（例、エクセーヌ（商品
名）、東レ（株）製；クラリーノ（商品名）、クラレ
（株）製）およびポリエステル繊維などをポリウレタン
などの結合成分で結合してなる不織布（例、バイリーン
（商品名）、日本バイリーン（株）製）等を挙げること
ができる。 この拭き取り処理によって、磁性層および／またはバ
ック層の付着物および有機物質の除去が完全に行なわれ
ることになり、ドロップアウトあるいは目詰まりが低下
する。 前記の不織布の拭き取り処理を行なう前に、研削処理
を行なった方がより好ましい。研削処理方法について
は、特願昭61−13184に記載されている。すなわち使用
する研削具の例としては、固定ブレード、ダイヤモンド
ホイールおよび回転ブレードを挙げることができる。 ここで、固定ブレードとは、研削対象の磁性層もしく
はバック層の表面に接触する部分が高硬度の物質からな
るブレードである。ブレードは、通常は、サファイヤ、
アルミナ、サーメット、ジルコニア（酸化ジルコニウ
ム）、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ダイヤモンドおよび超
硬合金などの素材で形成されている。 また、ダイヤモンドホイールとは、周囲にダイヤモン
ドを焼結した回転する円筒状の研削具をいう。 さらに、回転ブレード体とは、回転体と、この回転体
の回転軸に沿ってこの回転体の外周部に備えられた少な
くとも一枚のブレードとからなる研削具である。 上記のような処理により、研磨テープを用いた研磨処
理の効果をさらに高めることができる。 なお、以上は表面平滑化処理が施された積層体を裁断
した後、磁性層の表面、または磁性層およびバック層の
表面を研磨テープによって研磨処理を行う方法を主に記
載したが、本発明は、この順序に限定されるものではな
く、たとえば、裁断しながら研磨処理する方法、あるい
は裁断する前に研磨処理する方法などを利用することが
できる。 さらに、硬化処理を行なわなくとも徐々に硬化反応が
進行するので、表面平滑化処理後、特に硬化処理を行な
うことなく磁性層の表面、または磁性層およびバック層
の表面を研磨テープによる研磨処理を行なうことも可能
である。 次に、本発明に実施例および比較例を示す。なお、実
施例および比較例中の「部」との表示は、「重量部」を
示すものである。 ［実施例１］ 下記の磁性塗料組成物をボールミルで均一になるまで
混練分散して磁性塗料を調製した。 得られた磁性塗料の粘度を調整した後、磁性層の厚さ
が3.0μｍになるように、厚さ10μｍのポリエチレンテ
レフタレート支持体の表面にリバースロールを用いて塗
布した。 磁性塗料組成 強磁性金属微粉末 100部 （組成:Fe96wt％、Ni4wt％ 比表面積:45m₂/g） 塩化ビニル酢酸ビニル・無水マレイン酸共重合体 14部 （400×110A、日本ゼオン（株）製） ポリウレタン系樹脂 12部 （ニッポランＮ−2304、日本ポリウレタン（株）製） ポリイソシアネート化合物 12部 （デスモジュールＬ−75、バイエル社製） α−アルミナ 10部 ステアリン酸 ５部 ステアリン酸ブチル ６部 カーボンブラック １部 メチルエチルケトン 325部 別に下記のバック層形成塗料組成物をボールミルで均
一になるまで混練分散してバック層形成塗料を調製し
た。 得られたバック層形成塗料の粘度を調整した後、上記
の磁性塗料が塗布された支持体の裏面にバック層の厚さ
が0.7μｍになるように、リバースロールを用いて塗布
した。 バック層形成塗料組成 カーボンブラック 35部 （平均粒子径:0.5μｍ） α−アルミナ 1.8部 （平均粒子径:0.15μｍ、最大粒子径:0.3μｍ） ニトロセルロース 20部 ポリウレタン系樹脂 10部 （ニッポランＮ−2304、日本ポリウレタン（株）製） ポリイソシアネート化合物 10部 （コロネートＬ、日本ポリウレタン（株）製） メチルエチルケトン 600部 磁性塗料およびバック層塗料が塗布された非磁性支持
体を、磁性塗料が未乾燥の状態で3000ガウスの磁石で磁
場配向処理を行ない、さらに乾燥後、スーパーカレンダ
ー処理を行ない、非磁性支持体と磁性層およびバック層
とからなる積層体を調製した。 この積層体を60℃で24時間加熱処理を行ない、磁性層
中に含有されるポリイソシアネート化合物を硬化させた
後、8mmにスリットし、表面粗さRaが0.07μｍの研磨テ
ープ（Ｋ−10000［研磨材Cr₂O₃］：富士写真フイルム
（株）製）で以下のように研磨処理を行なった後、スエ
ード調不織布を用いて拭き取り処理を施して８ミリビデ
オ用テープを製造した。 研磨処理条件 第１図に示すように、研磨テープ２は、回転ロール８
によってテープの送りと反対方向に1.5cm/分の早さで移
動し、上部からパッド６によって押さえられることによ
りテープの磁性層表面と接触し研磨処理が行なわれる。 ［実施例２］ 実施例１において、表面粗さRaが0.07μｍの研磨テー
プ（Ｋ−10000［研磨材Cr₂O₃］：富士写真フイルム
（株）製）で研磨処理を行なった後、下記の方法により
磁性層表面をサファイヤブレードで研削処理した以外
は、実施例１と同様にして８ミリビデオ用テープを製造
した。 サファイヤブレード処理 先端の角度が60度のサファイヤブレード（幅:5mm、長
さ35mm、京セラ（株）製）と磁性層とを接触角度80度、
張力50g/8mmにて接触させて研削した。なお、磁性層と
サファイヤブレードとの接触はサファイヤブレード４枚
を一組として１回行なった。 ［実施例３］ 実施例１において、表面粗さRaが0.07μｍの研磨テー
プ（Ｋ−10000［研磨材Cr₂O₃］：富士写真フイルム
（株）製）で研磨処理を行なった後、下記の方法により
磁性層表面をダイヤモンドホイールで研削処理した以外
は、実施例１と同様にして８ミリビデオ用テープを製造
した。 ダイヤモンドホイール処理 鉄製の芯材の周囲に1.5mmの厚さにダイヤモンドを焼
結させたダイヤモンドホイール（直径25mm、幅25.6mm、
粒度2000番、オリエントダイヤ（株）製）を2000回転／
分で磁性層の走行方向と逆方向に回転させて、テープを
接触角度80度、張力50g/8mmにて接触させて硬化層の表
面を研削した。なお、磁性層とダイヤモンドホイールと
の接触は２回行なった。 ［実施例４］ 実施例１において、表面粗さRaが0.07μｍの研磨テー
プ（Ｋ−10000［研磨材Cr₂O₃］：富士写真フイルム
（株）製）で研磨処理を行なった後、下記の方法により
磁性層表面を回転ブレード体で研削処理した以外は、実
施例１と同様にして８ミリビデオ用テープを製造した。 回転ブレード体を用いた研削 円筒状の金属（長さ:35mm、直径:20mm、空洞の直径:1
2mm）の周囲に、長さ35mm、断面形状が一辺5mmの正三角
形の三角柱の形状を有するサファイヤブレードを一本備
えてなる回転ブレード体（ブレードの設置角θ:65度）
を用意した。 この回転ブレード体を1000回転／分で磁性層の走行方
向と逆方向に回転させて、積層体に張力50g/8mmの張力
を付与し、積層体の磁性層と回転ブレードとを接触角度
120度にて接触させて磁性層の表面を研削した。 ［実施例５］ 実施例１において、表面粗さRaが0.07μｍの研磨テー
プ（Ｋ−10000［研磨材Cr₂O₃］：富士写真フイルム
（株）製）で研磨処理を行なった後、上記の方法により
磁性層表面を回転ブレード体およびサファイヤブレード
で研削処理した以外は、実施例１と同様にして８ミリビ
デオ用テープを製造した。 ［実施例６］ 実施例１において、表面粗さRaが0.07μｍの研磨テー
プ（Ｋ−10000［研磨材Cr₂O₃］：富士写真フイルム
（株）製）の代わりに表面粗さRaが0.07μｍの研磨テー
プ（Ａ−2000［α−Al₂O₃］：富士写真フイルム（株）
製）で研磨処理を行なった後、上記の方法により磁性層
表面をサファイヤブレードで研削処理した以外は、実施
例１と同様にして８ミリビデオ用テープを製造した。 ［比較例１］ 実施例１において、研磨テープによる研磨処理および
スエード調不織布を用いての拭き取り処理を行なわなか
った以外、実施例１と同様にして８ミリビデオ用テープ
を製造した。 評価方法 出力低下：得られた８ミリビデオ用テープを使って、
５℃、30％RHの雰囲気内において、VTRで60分長の記録
をし、再生を10回繰り返し行ない、記録時の出力に対し
て最初の１回目の再生出力を0dBとしたときの10回目の
再生出力を測定した。 目詰まり：出力低下と同じ方法でテープを走行させ瞬
間目詰まり、完全目詰まりの評価をした。目詰まりの評
価基準（AA:瞬間目詰まり０〜3,BB:瞬間目詰まり４〜1
0、CC:瞬間目詰まり多数） ドロップアウト：得られた８ミリビデオ用テープを使
ってVTR10分長の記録をし、再生時の15μｓ、−18dBに
おけるドロップアウトの１分間の発生個数を測定した。 なお、以下に示す実施例および比較例において、ドロ
ップアウトの個数、瞬間目詰まり及び出力低下は上記の
方法により測定したものである。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明に従う研磨処理、研削処理および拭き取
り処理工程の一例の概略図である。 1:送り出しロール、2:研磨テープ、3:固定ブレード、4:
不織布、5:巻き取りロール、6:パッド（研磨テープ
用）、7:パッド（不織布用）、8:回転ロール（研磨テー
プ用）、9:回転ロール（不織布用）、10:送りロール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 圭介 小田原市扇町２丁目12番１号 富士写真 フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−135179（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−243940（ＪＰ，Ａ) 発明協会公開技報 83−7524

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 １．非磁性支持体上に塗設された、強磁性粉末がポリイ
   ソシアネート化合物を含む結合剤に分散されてなる磁性
   層を有する磁気記録テープの該磁性層を表面平滑化処理
   したのち硬化させ、次いで、Ｖ字先端を有するパッドの
   その先端で移動する研磨テープを押えて該磁性層の表面
   に接触させることにより、該磁性層の表面を研磨処理し
   て未反応のポリイソシアネート化合物を除去することを
   特徴とする磁気記録媒体の製法。 ２．該研磨テープに含まれる研磨材の硬度が、モース硬
   度で５以上である特許請求の範囲第１項記載の磁気記録
   媒体の製法。 ３．該研磨テープの表面粗さ（中心線平均粗さ）Raが0.
   07〜0.9μｍの範囲にある特許請求の範囲第１項記載の
   磁気記録媒体の製法。 ４．該研磨テープに含まれる研磨材が、α−Al₂O₃、SiO
   ₂、Cr₂O₃、α−Fe₂O₃、ダイヤモンド、ZnO₂およびTiO₂
   の群より選ばれる少なくとも一種の研磨材である特許請
   求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製法。 ５．非磁性支持体上に塗設された、強磁性粉末がポリイ
   ソシアネート化合物を含む結合剤に分散されてなる磁性
   層を有する磁気記録テープの該磁性層を表面平滑化処理
   したのち硬化させ、次いで、Ｖ次先端を有するパッドの
   その先端で移動する研磨テープを押えて該磁性層の表面
   に接触させることにより、該磁性層の表面を研磨処理し
   て未反応のポリイソシアネート化合物を除去し、次いで
   固定ブレードまたは回転ブレードによって研削処理を行
   ない、更に該磁性層を不織布で拭き取り処理を行なうこ
   とを特徴とする磁気記録媒体の製法。