JP2777032B2 - 電子部品の製造方法 - Google Patents
電子部品の製造方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品の製造方法に
関し、特にマスクの基板上への整合の仕方に特徴がある
電子部品の製造方法に関する。
関し、特にマスクの基板上への整合の仕方に特徴がある
電子部品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子部品として、例えばチップ抵抗器
は、アルミナ等からなる基板と、基板の両側部に設けた
電極と、両電極に接続して形成した抵抗体と、抵抗体を
被覆するアンダーコート、ミドルコート及びオーバーコ
ートとからなる。このような抵抗器は、一般に次のよう
に製造する。即ち、図8に示すようにアルミナ等からな
る基板50にブレイク用の縦スリット51と横スリット
52を形成する。図8の円で囲んだ部分の拡大図を示す
図9から良く分かるように、最外の縦スリット51aと
横スリット52aはそれぞれ基板50の端縁まで延びて
おり、このスリット51a,52aの外側の外周部分は
不要部分となる。
は、アルミナ等からなる基板と、基板の両側部に設けた
電極と、両電極に接続して形成した抵抗体と、抵抗体を
被覆するアンダーコート、ミドルコート及びオーバーコ
ートとからなる。このような抵抗器は、一般に次のよう
に製造する。即ち、図8に示すようにアルミナ等からな
る基板50にブレイク用の縦スリット51と横スリット
52を形成する。図8の円で囲んだ部分の拡大図を示す
図9から良く分かるように、最外の縦スリット51aと
横スリット52aはそれぞれ基板50の端縁まで延びて
おり、このスリット51a,52aの外側の外周部分は
不要部分となる。
【0003】そして、スリット51a,52a及びスリ
ット51,52によって区画される各電子部品に対応す
る各ユニットに、まず電極を形成する(但し、通常は上
下の3列程度は電子部品を作製しない)。これには、所
定の電極パターンを有するマスクを基板50上に重合さ
せる必要がある。マスクの電極パターンの一例を図10
に示す。ここでは、1つのユニットにおいて、その両側
に位置する一対の電極となるパターン60,61はH字
状を呈する。そして、最外の縦スリット51aに対して
線対象に形成した電極パターン60の不要部分60aが
2本の横スリット52,52間に収まるよう整合させる
のが一般的である。このような整合作業を数箇所で行う
ことで、マスクを基板50上に位置決めする。なお、電
極パターン60,61の各部分60b,61aが1つの
ユニットの電極となる。基板50上にマスクを重合させ
た後は、印刷等によって基板50上にパターン通りの電
極を形成する。
ット51,52によって区画される各電子部品に対応す
る各ユニットに、まず電極を形成する(但し、通常は上
下の3列程度は電子部品を作製しない)。これには、所
定の電極パターンを有するマスクを基板50上に重合さ
せる必要がある。マスクの電極パターンの一例を図10
に示す。ここでは、1つのユニットにおいて、その両側
に位置する一対の電極となるパターン60,61はH字
状を呈する。そして、最外の縦スリット51aに対して
線対象に形成した電極パターン60の不要部分60aが
2本の横スリット52,52間に収まるよう整合させる
のが一般的である。このような整合作業を数箇所で行う
ことで、マスクを基板50上に位置決めする。なお、電
極パターン60,61の各部分60b,61aが1つの
ユニットの電極となる。基板50上にマスクを重合させ
た後は、印刷等によって基板50上にパターン通りの電
極を形成する。
【0004】同様に、抵抗体、アンダーコート、ミドル
コート及びオーバーコートでも、それぞれ所定のパター
ンを有するマスクを基板50上に整合させ、基板50上
に電極、抵抗体、アンダーコート、ミドルコート及びオ
ーバーコートを順に形成していく。
コート及びオーバーコートでも、それぞれ所定のパター
ンを有するマスクを基板50上に整合させ、基板50上
に電極、抵抗体、アンダーコート、ミドルコート及びオ
ーバーコートを順に形成していく。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、基板50上
に電極や抵抗体等の各要素のパターンを持つマスクを重
ねる場合、整合の仕方によって各要素間で相対的な位置
ズレが発生する。つまり、例えば前記電極パターンでみ
た場合、図10において、電極パターン60の不要部分
60aの横線と横スリット52との縦方向間隔hには或
る程度の余裕があるため、整合の仕方によって電極パタ
ーン60が上側又は下側に寄り過ぎることが起こる。こ
れは、電極パターンとはパターンが異なるが、抵抗体の
パターン、アンダーコート、ミドルコート及びオーバー
コートのパターンにも相当する。このため、各パターン
のマスクを基板上に整合させて、一応各要素をユニット
の所定部位に形成したとしても、作製後には各要素が相
対的な位置ズレ(縦方向のズレ)を起こすことになる。
又、同様に、不要部分60aの縦線と縦スリット51a
との横方向間隔iも、各マスクの整合の仕方によって各
要素に相対的な位置ズレ(横方向のズレ)が生ずること
になる。
に電極や抵抗体等の各要素のパターンを持つマスクを重
ねる場合、整合の仕方によって各要素間で相対的な位置
ズレが発生する。つまり、例えば前記電極パターンでみ
た場合、図10において、電極パターン60の不要部分
60aの横線と横スリット52との縦方向間隔hには或
る程度の余裕があるため、整合の仕方によって電極パタ
ーン60が上側又は下側に寄り過ぎることが起こる。こ
れは、電極パターンとはパターンが異なるが、抵抗体の
パターン、アンダーコート、ミドルコート及びオーバー
コートのパターンにも相当する。このため、各パターン
のマスクを基板上に整合させて、一応各要素をユニット
の所定部位に形成したとしても、作製後には各要素が相
対的な位置ズレ(縦方向のズレ)を起こすことになる。
又、同様に、不要部分60aの縦線と縦スリット51a
との横方向間隔iも、各マスクの整合の仕方によって各
要素に相対的な位置ズレ(横方向のズレ)が生ずること
になる。
【0006】このような縦方向及び横方向の位置ズレ
は、特に最初に形成する電極と最後に形成するオーバー
コートとの間で大きくなり易い。例えば、図11に示す
チップ抵抗器では、電極、抵抗体、アンダーコート、ミ
ドルコート及びオーバーコートを順に形成してあるが、
電極70とオーバーコート71の相対ズレが発生し、外
観異常が起きていることを示している。又、相対ズレが
発生すると、後に行うメッキ工程でメッキの付着不良が
起こり易いという問題も生ずる。更に、電極寸法に差が
あると、例えば電子部品を回路基板にリフローハンダ付
けする際にリフロー加熱により電子部品が回路基板から
剥離することがある。
は、特に最初に形成する電極と最後に形成するオーバー
コートとの間で大きくなり易い。例えば、図11に示す
チップ抵抗器では、電極、抵抗体、アンダーコート、ミ
ドルコート及びオーバーコートを順に形成してあるが、
電極70とオーバーコート71の相対ズレが発生し、外
観異常が起きていることを示している。又、相対ズレが
発生すると、後に行うメッキ工程でメッキの付着不良が
起こり易いという問題も生ずる。更に、電極寸法に差が
あると、例えば電子部品を回路基板にリフローハンダ付
けする際にリフロー加熱により電子部品が回路基板から
剥離することがある。
【0007】従って、本発明の目的は、各要素の相対ズ
レに起因する外観不良、メッキ不良及びリフローハンダ
付け時の剥離等を防止する電子部品の製造方法を提供す
ることにある。
レに起因する外観不良、メッキ不良及びリフローハンダ
付け時の剥離等を防止する電子部品の製造方法を提供す
ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の電子部品の製造方法は、縦スリットと横ス
リットを有する基板上に、電子部品の要素のパターンを
持つマスクを整合させ、縦及び横スリットによって仕切
られる各電子部品の1ユニットに電子部品の各要素を順
に作製する電子部品の製造方法において、前記基板の最
外の縦スリットで形成される外周不要部分に対応し且つ
横スリット間に対面する前記マスクの少なくとも2箇所
に、横スリット間の間隔よりも僅かに小さく且つ電子部
品の各要素のパターンの縦方向長さよりも大きい縦方向
長さを持つ整合用パターンを形成し、このマスクを基板
上に整合させる際に、前記整合用パターンが横スリット
間に収まるようにマスクを基板上に位置決めすることを
特徴とする。
に、本発明の電子部品の製造方法は、縦スリットと横ス
リットを有する基板上に、電子部品の要素のパターンを
持つマスクを整合させ、縦及び横スリットによって仕切
られる各電子部品の1ユニットに電子部品の各要素を順
に作製する電子部品の製造方法において、前記基板の最
外の縦スリットで形成される外周不要部分に対応し且つ
横スリット間に対面する前記マスクの少なくとも2箇所
に、横スリット間の間隔よりも僅かに小さく且つ電子部
品の各要素のパターンの縦方向長さよりも大きい縦方向
長さを持つ整合用パターンを形成し、このマスクを基板
上に整合させる際に、前記整合用パターンが横スリット
間に収まるようにマスクを基板上に位置決めすることを
特徴とする。
【0009】
【作用】マスクの整合用パターンの縦方向長さが基板の
横スリット間の間隔よりも若干小さく、且つ電子部品の
各要素のパターンの縦方向長さよりも大きいため、つま
り整合用パターンの縦方向長さと横スリット間の間隔と
の差が小さくなるため、マスクを基板上に整合させた際
に基板に対するマスクの位置ズレ(縦方向のズレ)が小
さくなり、電子部品の各要素間での相対ズレが少なくな
る。特に、基板上に最初に形成する要素と最後に形成す
る要素との間の相対ズレも大幅に少なくなる。この結
果、外観不良やメッキ不良を解決することができる。
横スリット間の間隔よりも若干小さく、且つ電子部品の
各要素のパターンの縦方向長さよりも大きいため、つま
り整合用パターンの縦方向長さと横スリット間の間隔と
の差が小さくなるため、マスクを基板上に整合させた際
に基板に対するマスクの位置ズレ(縦方向のズレ)が小
さくなり、電子部品の各要素間での相対ズレが少なくな
る。特に、基板上に最初に形成する要素と最後に形成す
る要素との間の相対ズレも大幅に少なくなる。この結
果、外観不良やメッキ不良を解決することができる。
【0010】更に、電子部品の要素の作製に使用する全
てのマスクにおいて、整合用パターンと最外の縦スリッ
トとの横方向間隔を等しくすることにより、各要素間で
の横方向の相対ズレも少なくなる。特に基板の相対両側
に作製する電極の寸法差がほぼ皆無になるため、電子部
品を回路基板にリフローハンダ付けする場合にリフロー
加熱による電子部品の剥離を防ぐことができる。
てのマスクにおいて、整合用パターンと最外の縦スリッ
トとの横方向間隔を等しくすることにより、各要素間で
の横方向の相対ズレも少なくなる。特に基板の相対両側
に作製する電極の寸法差がほぼ皆無になるため、電子部
品を回路基板にリフローハンダ付けする場合にリフロー
加熱による電子部品の剥離を防ぐことができる。
【0011】なお、マスクに設ける整合用パターンは、
縦及び横スリットによって形成される基板の外周不要部
分に対応し、且つ基板の横スリット間に対面する少なく
とも2箇所に設ければよい。つまり、整合用パターンが
少なくとも2箇所存在することにより、1箇所のみの場
合よりも整合をより精確に行うことができる。従って、
整合用パターンは3箇所以上に設けても構わないが、以
下の実施例でも述べるようにマスクの4隅(4箇所)に
設けるのが、最少数でより効果的に位置ズレを防ぐのに
好都合である。
縦及び横スリットによって形成される基板の外周不要部
分に対応し、且つ基板の横スリット間に対面する少なく
とも2箇所に設ければよい。つまり、整合用パターンが
少なくとも2箇所存在することにより、1箇所のみの場
合よりも整合をより精確に行うことができる。従って、
整合用パターンは3箇所以上に設けても構わないが、以
下の実施例でも述べるようにマスクの4隅(4箇所)に
設けるのが、最少数でより効果的に位置ズレを防ぐのに
好都合である。
【0012】又、本発明の製造方法は、チップ抵抗器等
のように縦及び横スリットを有する基板を用いて形成す
るあらゆる電子部品に適用でき、従って電子部品の要素
としては、例えばチップ抵抗器では電極、抵抗体、アン
ダーコート、ミドルコート及びオーバーコート等が該当
する。
のように縦及び横スリットを有する基板を用いて形成す
るあらゆる電子部品に適用でき、従って電子部品の要素
としては、例えばチップ抵抗器では電極、抵抗体、アン
ダーコート、ミドルコート及びオーバーコート等が該当
する。
【0013】
【実施例】以下、本発明の電子部品の製造方法を実施例
に基づいて説明する。但し、以下の実施例では、電子部
品としてチップ抵抗器を取り上げる。図1に、電極パタ
ーンを有するマスクを基板上に重合させて印刷した状態
における隅の拡大図を示し、図2に全体図を示す。基板
1には、先述したように縦スリット10と横スリット1
1が形成され、最外の縦スリット10aと横スリット1
1aは基板1の端縁まで延びている。スリット10a,
11aによって形成される外周の4つの部分は不要部分
であり、スリット10a,11a及びスリット10,1
1で仕切られた部分が各電子部品に対応するユニットに
なる。又、上下の3列のユニットには、抵抗器は作製し
ない。
に基づいて説明する。但し、以下の実施例では、電子部
品としてチップ抵抗器を取り上げる。図1に、電極パタ
ーンを有するマスクを基板上に重合させて印刷した状態
における隅の拡大図を示し、図2に全体図を示す。基板
1には、先述したように縦スリット10と横スリット1
1が形成され、最外の縦スリット10aと横スリット1
1aは基板1の端縁まで延びている。スリット10a,
11aによって形成される外周の4つの部分は不要部分
であり、スリット10a,11a及びスリット10,1
1で仕切られた部分が各電子部品に対応するユニットに
なる。又、上下の3列のユニットには、抵抗器は作製し
ない。
【0014】マスク2は、例えばステンレスメッシュ仕
様であり、図1のような電極パターンを有する。最外の
縦スリット10aに沿う電極パターン20は横凸状で、
縦スリット10に沿うそれ以外の電極パターン21はH
字状を呈する。図1から分かるように、電極パターン2
0の縦列において、下から3つ目の電極パターン22の
みは、異なるパターンになっており、この電極パターン
22が整合の際の指標となる。
様であり、図1のような電極パターンを有する。最外の
縦スリット10aに沿う電極パターン20は横凸状で、
縦スリット10に沿うそれ以外の電極パターン21はH
字状を呈する。図1から分かるように、電極パターン2
0の縦列において、下から3つ目の電極パターン22の
みは、異なるパターンになっており、この電極パターン
22が整合の際の指標となる。
【0015】電極パターン22は、電極パターン21と
類似の形状を有するが、図5に拡大して示すように、不
要部分22aの縦方向長さを、横スリット11,11間
の間隔よりも若干小さくすると共に、部分22bの縦方
向長さよりも大きく設定してある。このような電極パタ
ーン22は、マスクの4隅にそれぞれ1個ずつ、合計4
個設けてある(図2参照)。
類似の形状を有するが、図5に拡大して示すように、不
要部分22aの縦方向長さを、横スリット11,11間
の間隔よりも若干小さくすると共に、部分22bの縦方
向長さよりも大きく設定してある。このような電極パタ
ーン22は、マスクの4隅にそれぞれ1個ずつ、合計4
個設けてある(図2参照)。
【0016】基板1に対するマスク2の整合の仕方は、
電極パターン22の不要部分22aが基板1の2本の横
スリット11,11間に収まるようにして行う。ここ
に、図5に示すように、電極パターン22の不要部分2
2aの縦方向長さが部分22bの縦方向長さよりも大き
く、横スリット11,11間の間隔よりも僅かに小さい
ため、不要部分22aの横線と横スリット11との間隔
aは、部分22bの横線と横スリット11との間隔bよ
りも小さくなり、その分だけ整合に際してマスクの位置
ズレが少なくなる。つまり、間隔aが小さいため、マス
ク2が上側又は下側にずれる度合いが小さくなり、マス
ク2の縦方向の位置決めをより精確に行うことができ
る。
電極パターン22の不要部分22aが基板1の2本の横
スリット11,11間に収まるようにして行う。ここ
に、図5に示すように、電極パターン22の不要部分2
2aの縦方向長さが部分22bの縦方向長さよりも大き
く、横スリット11,11間の間隔よりも僅かに小さい
ため、不要部分22aの横線と横スリット11との間隔
aは、部分22bの横線と横スリット11との間隔bよ
りも小さくなり、その分だけ整合に際してマスクの位置
ズレが少なくなる。つまり、間隔aが小さいため、マス
ク2が上側又は下側にずれる度合いが小さくなり、マス
ク2の縦方向の位置決めをより精確に行うことができ
る。
【0017】マスク2を整合させた後は、印刷等によっ
て基板1上にパターン通りの電極を形成する。出来上が
った電極にて、パターン20,21の各部分20bと2
1aとが1つのユニットの一対の電極となる。次に、抵
抗体を作製する際に使用するマスク3を基板1上に重合
させて印刷した状態の部分拡大図を図3に、全体図を図
4に示す。抵抗体パターンは図4に示すように矩形状を
呈し、両電極間に対向する位置に存在する。このマスク
3における整合用パターン32は、前記マスク2の整合
用パターン22の不要部分22aに対応して同じ位置に
形成してあるが、先の電極パターンのように電極に連な
ったものではなく、基板1の外周不要部分に分離独立し
ている。勿論、この整合用パターン32も、マスク3の
4隅に設けてある。
て基板1上にパターン通りの電極を形成する。出来上が
った電極にて、パターン20,21の各部分20bと2
1aとが1つのユニットの一対の電極となる。次に、抵
抗体を作製する際に使用するマスク3を基板1上に重合
させて印刷した状態の部分拡大図を図3に、全体図を図
4に示す。抵抗体パターンは図4に示すように矩形状を
呈し、両電極間に対向する位置に存在する。このマスク
3における整合用パターン32は、前記マスク2の整合
用パターン22の不要部分22aに対応して同じ位置に
形成してあるが、先の電極パターンのように電極に連な
ったものではなく、基板1の外周不要部分に分離独立し
ている。勿論、この整合用パターン32も、マスク3の
4隅に設けてある。
【0018】整合用パターン32の大きさは、前記マス
ク2に形成した整合用パターン22の不要部分22aと
全く同一であり、パターン32の横線と基板1の横スリ
ット11との間隔は前記間隔aに等しい。このマスク3
の基板1に対する整合も、前記と同様に整合用パターン
32が2本の横スリット11,11間に収まるように行
う。この際、パターン32と前記マスク2のパターン2
2の不要部分22aが同一であるから、前記と同様に整
合時にマスク3の縦方向の位置ズレは殆ど生じない。従
って、マスク3の重合後に、印刷等によって抵抗体を形
成すると、抵抗体は両電極上の所定位置にほぼ精確に形
成され、電極と抵抗体の相対ズレは皆無に近くなる。
ク2に形成した整合用パターン22の不要部分22aと
全く同一であり、パターン32の横線と基板1の横スリ
ット11との間隔は前記間隔aに等しい。このマスク3
の基板1に対する整合も、前記と同様に整合用パターン
32が2本の横スリット11,11間に収まるように行
う。この際、パターン32と前記マスク2のパターン2
2の不要部分22aが同一であるから、前記と同様に整
合時にマスク3の縦方向の位置ズレは殆ど生じない。従
って、マスク3の重合後に、印刷等によって抵抗体を形
成すると、抵抗体は両電極上の所定位置にほぼ精確に形
成され、電極と抵抗体の相対ズレは皆無に近くなる。
【0019】次のアンダーコート、ミドルコート、オー
バーコートも同様に行えばよく、これら各要素のパター
ンを持つマスクは特に図には示さないが、電極作製用の
マスク2と抵抗体作製用のマスク3と同じ位置に同じ大
きさの整合用パターンを持ち、このパターンが基板1の
横スリット間に収まるように各コート用のマスクを整合
させる。例えば、図6にオーバーコートのパターン40
を示す。整合用パターン41は、図5に示すマスク2の
整合用パターン22の不要部分22aと全く同じであ
る。ここでは、パターン40,41の横線と横スリット
11との間隔cを前記間隔aと同一に設定(a=c)し
ておくことにより、電極とオーバーコートとの相対ズレ
を一層少なくすることができ、好都合である。
バーコートも同様に行えばよく、これら各要素のパター
ンを持つマスクは特に図には示さないが、電極作製用の
マスク2と抵抗体作製用のマスク3と同じ位置に同じ大
きさの整合用パターンを持ち、このパターンが基板1の
横スリット間に収まるように各コート用のマスクを整合
させる。例えば、図6にオーバーコートのパターン40
を示す。整合用パターン41は、図5に示すマスク2の
整合用パターン22の不要部分22aと全く同じであ
る。ここでは、パターン40,41の横線と横スリット
11との間隔cを前記間隔aと同一に設定(a=c)し
ておくことにより、電極とオーバーコートとの相対ズレ
を一層少なくすることができ、好都合である。
【0020】更に、この実施例では、各要素を作製する
全てのマスクにおいて、整合用パターンと縦スリットと
の横方向間隔を等しくしてある。即ち、電極作製用のマ
スク2においては、図5に示すように整合用パターン2
2の不要部分22aの縦線と縦スリット10aとの間隔
d、同様に他のマスクの整合用パターンと縦スリットと
の間隔(例えば図6に示すオーバーコート作製用のマス
クにおける整合用パターン41と縦スリット10aとの
間隔e)を同一に設定してある。このため、各マスクを
基板1上に整合させる際に上記縦方向間隔だけでなく横
方向間隔にも注意を払うことにより、各マスクの横方向
の位置ズレをも少なくすることができ、各要素間での相
対ズレを一層効果的に抑えることができる。
全てのマスクにおいて、整合用パターンと縦スリットと
の横方向間隔を等しくしてある。即ち、電極作製用のマ
スク2においては、図5に示すように整合用パターン2
2の不要部分22aの縦線と縦スリット10aとの間隔
d、同様に他のマスクの整合用パターンと縦スリットと
の間隔(例えば図6に示すオーバーコート作製用のマス
クにおける整合用パターン41と縦スリット10aとの
間隔e)を同一に設定してある。このため、各マスクを
基板1上に整合させる際に上記縦方向間隔だけでなく横
方向間隔にも注意を払うことにより、各マスクの横方向
の位置ズレをも少なくすることができ、各要素間での相
対ズレを一層効果的に抑えることができる。
【0021】整合後は、印刷等を行うことで、アンダー
コート、ミドルコート及びオーバーコートが順に積層し
た抵抗器が出来上がる。そして、縦横のスリット10,
11からブレイクし、各チップ抵抗器を分割する。図7
において、得られたチップ抵抗器では、特に最初に作製
した電極7と最後に作製したオーバーコート8との相対
ズレは殆ど発生せず、外観異常がほぼ無くなるばかり
か、以後のメッキ工程でメッキ不良も殆ど起こらなくな
る。しかも、両側の電極7の幅f1 ,f2 に寸法差が無
くなるため、例えばリフローハンダ付けによって完成後
の電子部品を回路基板に実装する場合、リフロー加熱に
よる電子部品の回路基板からの剥離が発生しなくなる。
コート、ミドルコート及びオーバーコートが順に積層し
た抵抗器が出来上がる。そして、縦横のスリット10,
11からブレイクし、各チップ抵抗器を分割する。図7
において、得られたチップ抵抗器では、特に最初に作製
した電極7と最後に作製したオーバーコート8との相対
ズレは殆ど発生せず、外観異常がほぼ無くなるばかり
か、以後のメッキ工程でメッキ不良も殆ど起こらなくな
る。しかも、両側の電極7の幅f1 ,f2 に寸法差が無
くなるため、例えばリフローハンダ付けによって完成後
の電子部品を回路基板に実装する場合、リフロー加熱に
よる電子部品の回路基板からの剥離が発生しなくなる。
【0022】
【発明の効果】本発明の電子部品の製造方法は、以上説
明したように構成されるため、下記の効果を有する。 (1)マスクの整合用パターンの縦方向長さと基板の横
スリット間の間隔との差が殆ど無くなるため、基板に対
するマスクの位置ズレ(縦方向のズレ)が少なくなり、
基板上に設ける各要素間の相対ズレ、特に最初に作製し
た要素と最後に作製した要素との相対ズレ(例えばチッ
プ抵抗器では電極とオーバーコートとの相対ズレ)が極
めて少なくなる。 (2)各要素間の相対ズレが皆無に近くなるため、外観
不良やメッキ不良が殆ど発生しない。 (3)整合用パターンと最外の縦スリットとの横方向間
隔を等しくすることで、基板に対するマスクの横方向の
位置ズレをも少なくすることができ、特に基板の相対両
側に在る電極の幅に寸法差が無くなるため、電子部品を
リフローハンダ付けする場合にリフロー加熱による電子
部品の剥離を防ぐことができる。 (4)基板と各要素作製用のマスクとを精確に整合させ
ることができるので、最後の要素(例えばチップ抵抗器
ではオーバーコート)を作製する工程に基板が供された
時に始めて相対ズレが判明するという問題点を解決でき
る。
明したように構成されるため、下記の効果を有する。 (1)マスクの整合用パターンの縦方向長さと基板の横
スリット間の間隔との差が殆ど無くなるため、基板に対
するマスクの位置ズレ(縦方向のズレ)が少なくなり、
基板上に設ける各要素間の相対ズレ、特に最初に作製し
た要素と最後に作製した要素との相対ズレ(例えばチッ
プ抵抗器では電極とオーバーコートとの相対ズレ)が極
めて少なくなる。 (2)各要素間の相対ズレが皆無に近くなるため、外観
不良やメッキ不良が殆ど発生しない。 (3)整合用パターンと最外の縦スリットとの横方向間
隔を等しくすることで、基板に対するマスクの横方向の
位置ズレをも少なくすることができ、特に基板の相対両
側に在る電極の幅に寸法差が無くなるため、電子部品を
リフローハンダ付けする場合にリフロー加熱による電子
部品の剥離を防ぐことができる。 (4)基板と各要素作製用のマスクとを精確に整合させ
ることができるので、最後の要素(例えばチップ抵抗器
ではオーバーコート)を作製する工程に基板が供された
時に始めて相対ズレが判明するという問題点を解決でき
る。
【図1】基板上に電極作製用のマスクを整合させて印刷
した状態の部分拡大図である。
した状態の部分拡大図である。
【図2】基板上に電極作製用のマスクを整合させて印刷
した状態の全体図である。
した状態の全体図である。
【図3】基板上に抵抗体作製用のマスクを整合させて印
刷した状態の部分拡大図である。
刷した状態の部分拡大図である。
【図4】基板上に抵抗体作製用のマスクを整合させて印
刷した状態の全体図である。
刷した状態の全体図である。
【図5】図1に示すマスクの整合用パターンの拡大図で
ある。
ある。
【図6】オーバーコートのパターン及び整合用パターン
を示す拡大図である。
を示す拡大図である。
【図7】本発明の製造方法によって作製したチップ抵抗
器の外観図である。
器の外観図である。
【図8】従来の製造方法において、基板上に抵抗体作製
用のマスクを整合させて印刷した状態の全体図である。
用のマスクを整合させて印刷した状態の全体図である。
【図9】図8の円で囲んだ部分の拡大図である。
【図10】従来のマスクの電極パターンを示す拡大図で
ある。
ある。
【図11】従来の製造方法で作製したチップ抵抗器の外
観図である。
観図である。
1 基板 2 電極作製用マスク 3 抵抗体作製用マスク 10,10a 縦スリット 11,11a 横スリット 20,21 電極パターン 22 整合用電極パターン 20a,22a 電極パターンの不要部分 30,31 抵抗体パターン 32 整合用抵抗体パターン
Claims (2)
- 【請求項1】縦方向に形成したブレイク用スリット(縦
スリット)と横方向に形成したブレイク用スリット(横
スリット)を有する基板上に、電子部品の要素のパター
ンを持つマスクを整合させ、縦及び横スリットによって
仕切られる各電子部品の1ユニットに電子部品の各要素
を順に作製する電子部品の製造方法において、 前記基板の最外の縦スリットで形成される外周不要部分
に対応し且つ横スリット間に対面する前記マスクの少な
くとも2箇所に、横スリット間の間隔よりも僅かに小さ
く且つ電子部品の各要素のパターンの縦方向長さよりも
大きい縦方向長さを持つ整合用パターンを形成し、この
マスクを基板上に整合させる際に、前記整合用パターン
が横スリット間に収まるようにマスクを基板上に位置決
めすることを特徴とする電子部品の製造方法。 - 【請求項2】電子部品の要素の作製に使用する全てのマ
スクにおいて、前記整合用パターンと最外の縦スリット
との横方向間隔を等しくすることを特徴とする請求項1
記載の電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4348714A JP2777032B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4348714A JP2777032B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 電子部品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204013A JPH06204013A (ja) | 1994-07-22 |
| JP2777032B2 true JP2777032B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=18398877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4348714A Expired - Fee Related JP2777032B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2777032B2 (ja) |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP4348714A patent/JP2777032B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06204013A (ja) | 1994-07-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |