JP2772681B2 - 高周波加熱調理装置 - Google Patents
高周波加熱調理装置Info
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- JP2772681B2 JP2772681B2 JP1214298A JP21429889A JP2772681B2 JP 2772681 B2 JP2772681 B2 JP 2772681B2 JP 1214298 A JP1214298 A JP 1214298A JP 21429889 A JP21429889 A JP 21429889A JP 2772681 B2 JP2772681 B2 JP 2772681B2
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- cooking
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、加熱調理室内にこもる臭気に対する対策を
施した高周波加熱調理装置に関する。
施した高周波加熱調理装置に関する。
（従来の技術） 一般に、高周波加熱調理装置は、加熱調理室内に収容
した食品を、マグネトロンで発生した高周波により加熱
するようになっている。
した食品を、マグネトロンで発生した高周波により加熱
するようになっている。
（発明が解決しようとする課題） 加熱調理時には、食品から臭い成分を含んだ蒸気等の
気体が発生し、それが加熱調理室の内壁面に付着して残
臭として長期間残る。このため、加熱調理室の扉を開放
したときに、残臭が使用者に不快感を与えてしまう。し
かも、後で調理する食品に、前に調理した食品の残臭が
移ってしまい、食品の風味も損なってしまう。
気体が発生し、それが加熱調理室の内壁面に付着して残
臭として長期間残る。このため、加熱調理室の扉を開放
したときに、残臭が使用者に不快感を与えてしまう。し
かも、後で調理する食品に、前に調理した食品の残臭が
移ってしまい、食品の風味も損なってしまう。
また、従来より、自動調理を行うために、加熱調理室
内に収容した食品から発生する蒸気等の気体を検出する
気体センサを設け、この気体センサの検出結果に基づい
て加熱時間を制御するようにしたものがあるが、食品か
ら発生する気体と共に、加熱調理室の内壁面から発生す
る残臭をも気体センサで検出することになるため、検出
精度が低下して調理の仕上り具合が悪くなってしまうと
いう問題がある。
内に収容した食品から発生する蒸気等の気体を検出する
気体センサを設け、この気体センサの検出結果に基づい
て加熱時間を制御するようにしたものがあるが、食品か
ら発生する気体と共に、加熱調理室の内壁面から発生す
る残臭をも気体センサで検出することになるため、検出
精度が低下して調理の仕上り具合が悪くなってしまうと
いう問題がある。
本発明はこの様な事情を考慮してなされたもので、従
ってその目的は、加熱調理室内の残臭に起因する問題を
解消できる高周波加熱調理装置を提供するにある。
ってその目的は、加熱調理室内の残臭に起因する問題を
解消できる高周波加熱調理装置を提供するにある。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 本発明の高周波加熱調理装置は、加熱調理室内で食品
を高周波加熱するようにしたものにおいて、前記加熱調
理室の扉に内部視認用の窓部を設けると共に、前記加熱
調理室の内壁面のうち前記扉以外の複数壁面に臭気成分
を吸着する脱臭塗料を塗布し、且つ、前記加熱調理室内
に収容した食品から発生する蒸気等の気体を検出する気
体センサを設け、この気体センサの検出結果に基づいて
加熱時間を制御するようにした構成に特徴を有する。
を高周波加熱するようにしたものにおいて、前記加熱調
理室の扉に内部視認用の窓部を設けると共に、前記加熱
調理室の内壁面のうち前記扉以外の複数壁面に臭気成分
を吸着する脱臭塗料を塗布し、且つ、前記加熱調理室内
に収容した食品から発生する蒸気等の気体を検出する気
体センサを設け、この気体センサの検出結果に基づいて
加熱時間を制御するようにした構成に特徴を有する。
（作用） 加熱調理室の内壁面に塗布された脱臭塗料によって残
臭成分が吸着分解される。これにより、加熱調理室内の
残臭が取り除かれて、残臭による使用者の不快感が解消
されると共に、食品への移臭による風味低下が防止さ
れ、更には、気体センサにより自動調理を行う場合で
も、気体センサが残臭を検出せずに食品から発生した気
体のみを検出するようになるので、検出精度が向上して
調理の仕上り具合が良くなる。
臭成分が吸着分解される。これにより、加熱調理室内の
残臭が取り除かれて、残臭による使用者の不快感が解消
されると共に、食品への移臭による風味低下が防止さ
れ、更には、気体センサにより自動調理を行う場合で
も、気体センサが残臭を検出せずに食品から発生した気
体のみを検出するようになるので、検出精度が向上して
調理の仕上り具合が良くなる。
（実施例） 以下、本発明の一実施例を第１図乃至第５図に基づい
て説明する。１は高周波加熱調理装置の外箱で、その内
部に配設した内箱２内を加熱調理室３としている。そし
て、加熱調理室３の前面は扉４によって開閉され、ま
た、外箱１の前面右側部に設けた操作パネル５には、ス
タートキー等の各種操作キー６が設けられている。更
に、加熱調理室３の底部には回転皿７が設けられ、この
回転皿７がモータ８（第２図参照）により回転駆動され
る。尚、前記扉４には加熱調理室３の内部を視認するた
めの窓部が設けられている。一方、加熱調理室３の上部
には、導波管９を介してマグネトロン10が設けられてい
る。そして、マグネトロン10を冷却するための冷却ファ
ン11が設けられ、その冷却風が加熱調理室３の右側面部
の送風孔12から加熱調理室３内に供給され、加熱調理室
３の左側面部の排気孔13から排気ダクト14を通して排気
されるようになっている。
て説明する。１は高周波加熱調理装置の外箱で、その内
部に配設した内箱２内を加熱調理室３としている。そし
て、加熱調理室３の前面は扉４によって開閉され、ま
た、外箱１の前面右側部に設けた操作パネル５には、ス
タートキー等の各種操作キー６が設けられている。更
に、加熱調理室３の底部には回転皿７が設けられ、この
回転皿７がモータ８（第２図参照）により回転駆動され
る。尚、前記扉４には加熱調理室３の内部を視認するた
めの窓部が設けられている。一方、加熱調理室３の上部
には、導波管９を介してマグネトロン10が設けられてい
る。そして、マグネトロン10を冷却するための冷却ファ
ン11が設けられ、その冷却風が加熱調理室３の右側面部
の送風孔12から加熱調理室３内に供給され、加熱調理室
３の左側面部の排気孔13から排気ダクト14を通して排気
されるようになっている。
一方、操作キー６からの操作信号は制御回路15に入力
され、この制御回路15によりリレー駆動コイル16を通断
電してリレー接点17をオン・オフすることにより、マグ
ネトロン10の動作を制御する。この場合、排気ダクト14
内に気体センサ18が設けられ、この気体センサ18の出力
信号が制御回路15に入力される。自動調理を行う場合に
は、この気体センサ18の出力に基づいて次のように制御
される。即ち、第４図は調理中の気体センサ18の出力電
圧の経時的変化を示したもので、調理開始（スタートキ
ーの押圧）からt1秒（約10〜16秒）は、冷却ファン11の
みを運転して加熱調理３内を換気し、加熱調理室３内の
残留ガスを排出するリフレッシュ運転を実行する。この
とき、加熱調理室３内のガス濃度低下に伴って気体セン
サ18の出力電圧が上昇する。そして、リフレッシュ運転
後、マグネトロン10を動作させて高周波を発生し、加熱
調理室３内の食品を加熱する。この加熱開始後、暫くの
間は、食品から蒸気等の気体が発生せず、冷却ファン11
の換気効果により気体センサ18の出力電圧が上昇し続け
るが、やがて加熱の進行と共に食品から蒸気等の気体が
発生して加熱調理室３内の気体濃度が上昇するようにな
ると、気体センサ18の出力電圧が低下し始める。このと
き、気体センサ18の出力電圧の最大値Vmaxを制御回路15
のマイクロコンピュータが記憶する。この後、気体セン
サ18の出力電圧が最大値Vmaxから所定値αだけ低下した
時点t2を検出し、それまでの加熱時間Ｔ＝t1−t2を求め
る。そして、この加熱時間Ｔに定数βを掛け合わせて追
い加熱時間βＴを算出し、時刻t2から時間βＴだけ経過
した時点t3で調理を終了する。
され、この制御回路15によりリレー駆動コイル16を通断
電してリレー接点17をオン・オフすることにより、マグ
ネトロン10の動作を制御する。この場合、排気ダクト14
内に気体センサ18が設けられ、この気体センサ18の出力
信号が制御回路15に入力される。自動調理を行う場合に
は、この気体センサ18の出力に基づいて次のように制御
される。即ち、第４図は調理中の気体センサ18の出力電
圧の経時的変化を示したもので、調理開始（スタートキ
ーの押圧）からt1秒（約10〜16秒）は、冷却ファン11の
みを運転して加熱調理３内を換気し、加熱調理室３内の
残留ガスを排出するリフレッシュ運転を実行する。この
とき、加熱調理室３内のガス濃度低下に伴って気体セン
サ18の出力電圧が上昇する。そして、リフレッシュ運転
後、マグネトロン10を動作させて高周波を発生し、加熱
調理室３内の食品を加熱する。この加熱開始後、暫くの
間は、食品から蒸気等の気体が発生せず、冷却ファン11
の換気効果により気体センサ18の出力電圧が上昇し続け
るが、やがて加熱の進行と共に食品から蒸気等の気体が
発生して加熱調理室３内の気体濃度が上昇するようにな
ると、気体センサ18の出力電圧が低下し始める。このと
き、気体センサ18の出力電圧の最大値Vmaxを制御回路15
のマイクロコンピュータが記憶する。この後、気体セン
サ18の出力電圧が最大値Vmaxから所定値αだけ低下した
時点t2を検出し、それまでの加熱時間Ｔ＝t1−t2を求め
る。そして、この加熱時間Ｔに定数βを掛け合わせて追
い加熱時間βＴを算出し、時刻t2から時間βＴだけ経過
した時点t3で調理を終了する。
而して、本実施例では、加熱調理室３の扉４を除く内
壁面（内箱２の内面）のうち複数壁面この場合左右両側
面及び背面に脱臭塗料19が塗布されている。脱臭塗料19
としては、臭い成分を中和分解する酵素，酵素補助剤等
を含んだ水系エマルジョンタイプのもの（例えば川上塗
料株式会社製の商品名「さわやかＡ」）を使用するのが
好ましい。酵素により臭い成分が絶えず分解されるの
で、脱臭効果を長期的に持続させることができ、しか
も、酵素の主成分は天然素材より抽出したものを使用で
きるので、人畜に全く無害であるという利点がある。ま
た、上記水系エマルジョンタイプの脱臭塗料19の塗膜
は、一般のアクリルエマルジョン塗膜と比較して多孔質
となり、その多孔質層に臭気が吸着され易くなってい
る。この実施例では、脱臭塗料19の塗布面積を拡大する
ために、第３図に示すように加熱調理室３の内壁面が波
形に形成されている。
壁面（内箱２の内面）のうち複数壁面この場合左右両側
面及び背面に脱臭塗料19が塗布されている。脱臭塗料19
としては、臭い成分を中和分解する酵素，酵素補助剤等
を含んだ水系エマルジョンタイプのもの（例えば川上塗
料株式会社製の商品名「さわやかＡ」）を使用するのが
好ましい。酵素により臭い成分が絶えず分解されるの
で、脱臭効果を長期的に持続させることができ、しか
も、酵素の主成分は天然素材より抽出したものを使用で
きるので、人畜に全く無害であるという利点がある。ま
た、上記水系エマルジョンタイプの脱臭塗料19の塗膜
は、一般のアクリルエマルジョン塗膜と比較して多孔質
となり、その多孔質層に臭気が吸着され易くなってい
る。この実施例では、脱臭塗料19の塗布面積を拡大する
ために、第３図に示すように加熱調理室３の内壁面が波
形に形成されている。
斯かる構成とすれば、加熱調理室３内の臭気が脱臭塗
料19の塗膜多孔質層に吸着され、酵素により臭い成分を
分解して脱臭するほか、補助剤の働きにより脱臭作用が
一層促進されることになる。このため、第５図に示すよ
うに、従来に比し、加熱調理室３内の臭気濃度が速やか
に低下するようになり、加熱調理室３内の残臭が取り除
かれて、残臭による使用者の不快感が解消されると共
に、食品への移臭による風味低下が防止される。しか
も、使用者が拭き掃除等により残臭成分を取り除く必要
がないので、掃除の煩わしさから解放される。また、脱
臭塗料19は、常温下で酵素の働きにより脱臭効果を得る
ことができるので、例えば脱臭装置として酸化触媒を用
いた場合とは異なり、ヒータ等の別部品を必要とせず、
構成が極めて簡単で低コスト化が可能である。
料19の塗膜多孔質層に吸着され、酵素により臭い成分を
分解して脱臭するほか、補助剤の働きにより脱臭作用が
一層促進されることになる。このため、第５図に示すよ
うに、従来に比し、加熱調理室３内の臭気濃度が速やか
に低下するようになり、加熱調理室３内の残臭が取り除
かれて、残臭による使用者の不快感が解消されると共
に、食品への移臭による風味低下が防止される。しか
も、使用者が拭き掃除等により残臭成分を取り除く必要
がないので、掃除の煩わしさから解放される。また、脱
臭塗料19は、常温下で酵素の働きにより脱臭効果を得る
ことができるので、例えば脱臭装置として酸化触媒を用
いた場合とは異なり、ヒータ等の別部品を必要とせず、
構成が極めて簡単で低コスト化が可能である。
ところで、気体センサ18の出力電圧に基づいて自動調
理する場合、従来構造のものでは、食品から発生する気
体と共に、加熱調理室の内壁面から発生する残臭をも気
体センサで検出することになるため（残臭の分だけ気体
濃度が高くなるため）第４図に二点鎖線で示すように気
体センサの出力電圧が全体的に低下して、正常な検出状
態を得られず、追い加熱時間βＴが不適切になって調理
の仕上り具合が悪くなってしまうという問題があった。
この点、本実施例では、加熱調理室３の内壁面に脱臭塗
料19が塗布されているので、残臭成分が脱臭塗料19の塗
膜層によって吸着・分解され、加熱調理室３内の残臭気
体濃度が大幅に低下する。このため、食品から出る気体
のみを気体センサ18によって検出することができて、気
体の検出精度が大幅に向上し、追い加熱時間βＴが適切
になって調理の仕上り具合が良くなる。
理する場合、従来構造のものでは、食品から発生する気
体と共に、加熱調理室の内壁面から発生する残臭をも気
体センサで検出することになるため（残臭の分だけ気体
濃度が高くなるため）第４図に二点鎖線で示すように気
体センサの出力電圧が全体的に低下して、正常な検出状
態を得られず、追い加熱時間βＴが不適切になって調理
の仕上り具合が悪くなってしまうという問題があった。
この点、本実施例では、加熱調理室３の内壁面に脱臭塗
料19が塗布されているので、残臭成分が脱臭塗料19の塗
膜層によって吸着・分解され、加熱調理室３内の残臭気
体濃度が大幅に低下する。このため、食品から出る気体
のみを気体センサ18によって検出することができて、気
体の検出精度が大幅に向上し、追い加熱時間βＴが適切
になって調理の仕上り具合が良くなる。
また、上記実施例では、脱臭塗料19の塗布面積を拡大
するために、内箱２の側面と背面を波形に形成したの
で、内箱２を薄板で構成しても十分に剛性を確保でき、
材料コストの低減と軽量化が可能となる。
するために、内箱２の側面と背面を波形に形成したの
で、内箱２を薄板で構成しても十分に剛性を確保でき、
材料コストの低減と軽量化が可能となる。
尚、内箱２の形状は、第６図に示すように角張った波
形に形成しても良い。但し、従来と同様の平板で形成し
た内箱の内面に脱臭塗料を塗布する構成としても、本発
明の所期の目的は達成できる。
形に形成しても良い。但し、従来と同様の平板で形成し
た内箱の内面に脱臭塗料を塗布する構成としても、本発
明の所期の目的は達成できる。
また、加熱調理室３の内壁面のうち脱臭塗料19を塗布
する部分は、第７図に示すように上下両面と背面、或は
第８図に示すように左右両面と上面、或は第９図に示す
ように左右両面と下面、或は第10図に示すように上下左
右の４面であっても良く、勿論、扉４を除く全面であっ
ても良い。
する部分は、第７図に示すように上下両面と背面、或は
第８図に示すように左右両面と上面、或は第９図に示す
ように左右両面と下面、或は第10図に示すように上下左
右の４面であっても良く、勿論、扉４を除く全面であっ
ても良い。
［発明の効果］ 本発明は以上の説明から明らかなように、加熱調理室
の扉に内部視認用の窓部を設けると共に、前記加熱調理
室の内壁面のうち前記扉以外の複数壁面に臭気成分を吸
着する脱臭塗料を塗布したので、脱臭塗料の塗膜層によ
る残臭成分の吸着分解により、加熱調理室内の残臭が取
り除かれて、残臭による使用者の不快感を解消できると
共に、食品への移臭による風味低下を防止できる。
の扉に内部視認用の窓部を設けると共に、前記加熱調理
室の内壁面のうち前記扉以外の複数壁面に臭気成分を吸
着する脱臭塗料を塗布したので、脱臭塗料の塗膜層によ
る残臭成分の吸着分解により、加熱調理室内の残臭が取
り除かれて、残臭による使用者の不快感を解消できると
共に、食品への移臭による風味低下を防止できる。
しかも、食品から発生する蒸気等の気体を検出する気
体センサの出力に基づいて自動調理する際に、気体セン
サが残臭を検出せずに食品から発生した気体のみを検出
することができるので、検出精度が向上して調理の仕上
り具合を良くすることができる。
体センサの出力に基づいて自動調理する際に、気体セン
サが残臭を検出せずに食品から発生した気体のみを検出
することができるので、検出精度が向上して調理の仕上
り具合を良くすることができる。
第１図乃至第５図は本発明の一実施例を示したもので、
第１図は全体の外観斜視図、第２図は電気的構成を示す
図、第３図は内箱の横断面図、第４図は気体センサの出
力電圧の経時的変化を示す図、第５図は臭気濃度の経時
的変化図である。そして、第６図は内箱の他の実施例を
示す第３図相当図、第７図乃至第10図はそれぞれ異なる
実施例における脱臭塗料の塗布部分を示す斜視図であ
る。 図面中、２は内箱、３は加熱調理室、10はマグネトロ
ン、15は制御回路、18は気体センサ、19は脱臭塗料であ
る。
第１図は全体の外観斜視図、第２図は電気的構成を示す
図、第３図は内箱の横断面図、第４図は気体センサの出
力電圧の経時的変化を示す図、第５図は臭気濃度の経時
的変化図である。そして、第６図は内箱の他の実施例を
示す第３図相当図、第７図乃至第10図はそれぞれ異なる
実施例における脱臭塗料の塗布部分を示す斜視図であ
る。 図面中、２は内箱、３は加熱調理室、10はマグネトロ
ン、15は制御回路、18は気体センサ、19は脱臭塗料であ
る。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−170188（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−299085（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−38830（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−92278（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−76803（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−3548（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−60295（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) F24C 7/02 F24C 14/00 C09D 5/00
Claims (1)
- 【請求項１】加熱調理室内で食品を高周波加熱するよう
にしたものにおいて、前記加熱調理室の扉に内部視認用
の窓部を設けると共に、前記加熱調理室の内壁面のうち
前記扉以外の複数壁面に臭気成分を吸着する脱臭塗料を
塗布し、且つ、前記加熱調理室内に収容した食品から発
生する蒸気等の気体を検出する気体センサを設け、この
気体センサの検出結果に基づいて加熱時間を制御するよ
うにしたことを特徴とする高周波加熱調理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1214298A JP2772681B2 (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 高周波加熱調理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1214298A JP2772681B2 (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 高周波加熱調理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0379919A JPH0379919A (ja) | 1991-04-04 |
| JP2772681B2 true JP2772681B2 (ja) | 1998-07-02 |
Family
ID=16653418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1214298A Expired - Lifetime JP2772681B2 (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 高周波加熱調理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2772681B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990004292A (ko) * | 1997-06-27 | 1999-01-15 | 윤종용 | 항균 전자렌지 |
| KR20040027009A (ko) * | 2002-09-27 | 2004-04-01 | 삼성전자주식회사 | 전자레인지 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60170188A (ja) * | 1984-02-14 | 1985-09-03 | 松下電器産業株式会社 | 高周波加熱装置 |
| JPS623548U (ja) * | 1985-06-24 | 1987-01-10 | ||
| JPS6376803U (ja) * | 1986-11-08 | 1988-05-21 |
-
1989
- 1989-08-21 JP JP1214298A patent/JP2772681B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0379919A (ja) | 1991-04-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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