JP2757662B2 - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JP2757662B2 JP2757662B2 JP4072753A JP7275392A JP2757662B2 JP 2757662 B2 JP2757662 B2 JP 2757662B2 JP 4072753 A JP4072753 A JP 4072753A JP 7275392 A JP7275392 A JP 7275392A JP 2757662 B2 JP2757662 B2 JP 2757662B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- compound
- vinyl
- visible light
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、可視光（４００〜８０
０ｎｍ）で重合する複合系感光組成物に関するものであ
る。さらに詳しくは可視光照射により、オニウム塩化合
物と可視光増感色素により生成するカチオン重合開始源
とラジカル開始源により、それぞれカチオン重合性不飽
和化合物はカチオン重合し、重合性不飽和ビニル化合物
はラジカル重合する２種の異なる重合反応が同時に、あ
るいは後加熱などの処理により重合が起こり、重合物あ
るいは架橋生成物を与える可視光増感性色素を含むこと
を特徴とする可視光感光性組成物に関する。
０ｎｍ）で重合する複合系感光組成物に関するものであ
る。さらに詳しくは可視光照射により、オニウム塩化合
物と可視光増感色素により生成するカチオン重合開始源
とラジカル開始源により、それぞれカチオン重合性不飽
和化合物はカチオン重合し、重合性不飽和ビニル化合物
はラジカル重合する２種の異なる重合反応が同時に、あ
るいは後加熱などの処理により重合が起こり、重合物あ
るいは架橋生成物を与える可視光増感性色素を含むこと
を特徴とする可視光感光性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】カチオン重合性不飽和ビニル化合物（ビ
ニルエーテル化合物など）は、基材に対して接着性が良
くなるなどのために、他のビニルモノマーと共重合させ
接着剤として用られている。一般的には、ルイス酸系触
媒を用いて加熱重合法にて合成されている。
ニルエーテル化合物など）は、基材に対して接着性が良
くなるなどのために、他のビニルモノマーと共重合させ
接着剤として用られている。一般的には、ルイス酸系触
媒を用いて加熱重合法にて合成されている。
【０００３】またアクリル系ビニルモノマー類は、光増
感剤の存在下で紫外線重合あるいは紫外線硬化すること
は、既によく知られている。これは紫外線（ＵＶ）硬化
インキなどに広く利用されている。これらＵＶ硬化性あ
るいは重合性モノマーは、重合あるいは架橋時に非常に
大きく収縮し、基材からの剥がれを生じる。またビニル
エーテル化合物は、オニウム塩化合物の存在下で紫外線
硬化あるいは重合することはP-E SUNDELL,S.JONSSON,an
d A.HULT:J.Polym.Scie.Polym.Chem.Ed.,29,1525(1991)
に報告されている。これは紫外線（４００ｎｍ以下の波
長）を用いたジビニルエーテルの紫外線カチオン重合反
応に関するものである。
感剤の存在下で紫外線重合あるいは紫外線硬化すること
は、既によく知られている。これは紫外線（ＵＶ）硬化
インキなどに広く利用されている。これらＵＶ硬化性あ
るいは重合性モノマーは、重合あるいは架橋時に非常に
大きく収縮し、基材からの剥がれを生じる。またビニル
エーテル化合物は、オニウム塩化合物の存在下で紫外線
硬化あるいは重合することはP-E SUNDELL,S.JONSSON,an
d A.HULT:J.Polym.Scie.Polym.Chem.Ed.,29,1525(1991)
に報告されている。これは紫外線（４００ｎｍ以下の波
長）を用いたジビニルエーテルの紫外線カチオン重合反
応に関するものである。
【０００４】またジフェニルヨードニウム塩と適当な色
素により可視光にて光増感分解されラジカル発生源とな
ることは英国特許２０２．０２９Ａ公報に報告されてい
る。この系は樹脂、光ラジカル重合性モノマー、色素、
オニウム塩化合物と溶剤にて構成されている。
素により可視光にて光増感分解されラジカル発生源とな
ることは英国特許２０２．０２９Ａ公報に報告されてい
る。この系は樹脂、光ラジカル重合性モノマー、色素、
オニウム塩化合物と溶剤にて構成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明、このような従
来の光開始剤組成物や光感光性組成物が有する欠点を克
服し、４００〜８００ｎｍの可視光の光に感応し、重合
反応や光架橋反応を起こし基材やフィルムによく接着す
る、あるいは硬化特性に優れた高感度な可視光重合性あ
るいは可視光硬化性組成物を提供することを目的として
なされた物である。
来の光開始剤組成物や光感光性組成物が有する欠点を克
服し、４００〜８００ｎｍの可視光の光に感応し、重合
反応や光架橋反応を起こし基材やフィルムによく接着す
る、あるいは硬化特性に優れた高感度な可視光重合性あ
るいは可視光硬化性組成物を提供することを目的として
なされた物である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、以上の諸点
を考慮し、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、本
発明に至った。
を考慮し、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、本
発明に至った。
【０００７】すなわち、第一の発明は、カチオン重合性
不飽和ビニル化合物（Ａ）、ラジカル重合性不飽和ビニ
ル化合物（Ｂ）、オニウム塩化合物（Ｃ）、及びポルフ
ィリン、フタロシアニン又はジ（エチルアミノ）ケトク
マリンから選ばれる可視光増感剤（Ｄ）からなる４００
〜８００ｎｍの可視光により光重合することを特徴とす
る感光性組成物である。
不飽和ビニル化合物（Ａ）、ラジカル重合性不飽和ビニ
ル化合物（Ｂ）、オニウム塩化合物（Ｃ）、及びポルフ
ィリン、フタロシアニン又はジ（エチルアミノ）ケトク
マリンから選ばれる可視光増感剤（Ｄ）からなる４００
〜８００ｎｍの可視光により光重合することを特徴とす
る感光性組成物である。
【０００８】第二の発明は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）およびハイドロキシパーオキサイド生成化合物
（Ｅ）とからなる請求項１記載の感光性組成物である。
以下に詳細に説明する。
（Ｄ）およびハイドロキシパーオキサイド生成化合物
（Ｅ）とからなる請求項１記載の感光性組成物である。
以下に詳細に説明する。
【０００９】オニウム塩化合物（Ｃ）の光分解で生成し
たルイス酸により、カチオン重合性不飽和ビニル化合物
（Ａ）が、カチオン重合反応を引き起こし重合あるい
は、架橋反応が起こる。
たルイス酸により、カチオン重合性不飽和ビニル化合物
（Ａ）が、カチオン重合反応を引き起こし重合あるい
は、架橋反応が起こる。
【００１０】また可視光増感色素（Ｄ）とオニウム塩化
合物（Ｃ）の光照射で生成するラジカルによるビニルモ
ノマーのラジカル重合反応、あるいは可視光増感色素
（Ｄ）とオニウム塩化合物（Ｃ）とアリル化合物（ハイ
ドロキシパーオキサイド化合物を生成する化合物）の光
照射で生成した受容体であるハイドロキシパーオキサイ
ドの加熱処理により、ビニルモノマーのラジカル重合反
応が起こり重合あるいは架橋が起こるものである。これ
は２種の異なる重合反応が同時あるいは同じ反応の場で
起こることであり、新しいハイブリッドタイプ（複合
型）の可視光感光性組成物である。
合物（Ｃ）の光照射で生成するラジカルによるビニルモ
ノマーのラジカル重合反応、あるいは可視光増感色素
（Ｄ）とオニウム塩化合物（Ｃ）とアリル化合物（ハイ
ドロキシパーオキサイド化合物を生成する化合物）の光
照射で生成した受容体であるハイドロキシパーオキサイ
ドの加熱処理により、ビニルモノマーのラジカル重合反
応が起こり重合あるいは架橋が起こるものである。これ
は２種の異なる重合反応が同時あるいは同じ反応の場で
起こることであり、新しいハイブリッドタイプ（複合
型）の可視光感光性組成物である。
【００１１】カチオン重合性不飽和ビニル化合物（Ａ）
には、特に制限はなく、例えばエチレングリコールジビ
ニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテ
ル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールモノビ
ニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、グリセ
ロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパンジ
ビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエ
ーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、
ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテト
ラビニルエーテル、アリルビニルエーテル、４−ビニル
エーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテル、
フェニルビニルエーテル、などのアリールビニルエーテ
ル類やｔ−ブチルビニルエーテルなどのアルキルビニル
エーテル類でビニルエーテル基を有する化合物、あるい
は水酸基をビニルエーテル変性したモノマーやポリマー
類、その他スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベ
ンゼン、ポリブタジエンなどのジエン系ポリマー類、ビ
ニルカルバゾールなどのカチオン重合性能を有するモノ
マーあるいはポリマー類で単独あるいは数種類混合して
用いても差し支えない。
には、特に制限はなく、例えばエチレングリコールジビ
ニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテ
ル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールモノビ
ニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、グリセ
ロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパンジ
ビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエ
ーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、
ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテト
ラビニルエーテル、アリルビニルエーテル、４−ビニル
エーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテル、
フェニルビニルエーテル、などのアリールビニルエーテ
ル類やｔ−ブチルビニルエーテルなどのアルキルビニル
エーテル類でビニルエーテル基を有する化合物、あるい
は水酸基をビニルエーテル変性したモノマーやポリマー
類、その他スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベ
ンゼン、ポリブタジエンなどのジエン系ポリマー類、ビ
ニルカルバゾールなどのカチオン重合性能を有するモノ
マーあるいはポリマー類で単独あるいは数種類混合して
用いても差し支えない。
【００１２】重合性不飽和ビニル化合物（Ｂ）として
は、とくに制限はなく例えば、分子中にエチレン性不飽
和結合を１個以上有するプレポリマーおよび（または）
モノマーが使用される。プレポリマーの例としては、ポ
リエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオ
ールアクリレート、メラミンアクリレート、ポリエステ
ルメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、ウレ
タンメタアクリレート、ポリエーテルメタアクリレー
ト、ポリオールメタアクリレート、メラミンメタアクリ
レート、不飽和ポリエステル樹脂、ポリブタジエン樹
脂、ポリペンテネマー樹脂等である。また、モノマーの
例としては、エチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールモノアクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールモノアクリレ
ート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタアクリレート、エチ
レングリコールモノメタアクリレート、プロピレングリ
コールジメタアクリレート、プロピレングリコールモノ
メタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリ
レート、ジエチレングリコールモノメタアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、その他のビニルモノマー類、例えばスチ
レン、シクロヘキセン、ジビニルベンゼン、α−メチル
スチレン、ｎ−ヘキセン、アクリロニトリル、Ｎ−ビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル、ブタジエン類、その他ジエ
ン系ポリマー類、ポリブタジエン、ポリペンテネマー、
不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリ
ウレタン等の化合物などであり、単独あるいは混合して
用いても差し支えない。
は、とくに制限はなく例えば、分子中にエチレン性不飽
和結合を１個以上有するプレポリマーおよび（または）
モノマーが使用される。プレポリマーの例としては、ポ
リエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオ
ールアクリレート、メラミンアクリレート、ポリエステ
ルメタアクリレート、エポキシメタアクリレート、ウレ
タンメタアクリレート、ポリエーテルメタアクリレー
ト、ポリオールメタアクリレート、メラミンメタアクリ
レート、不飽和ポリエステル樹脂、ポリブタジエン樹
脂、ポリペンテネマー樹脂等である。また、モノマーの
例としては、エチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールモノアクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールモノアクリレ
ート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタアクリレート、エチ
レングリコールモノメタアクリレート、プロピレングリ
コールジメタアクリレート、プロピレングリコールモノ
メタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリ
レート、ジエチレングリコールモノメタアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、その他のビニルモノマー類、例えばスチ
レン、シクロヘキセン、ジビニルベンゼン、α−メチル
スチレン、ｎ−ヘキセン、アクリロニトリル、Ｎ−ビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル、ブタジエン類、その他ジエ
ン系ポリマー類、ポリブタジエン、ポリペンテネマー、
不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリ
ウレタン等の化合物などであり、単独あるいは混合して
用いても差し支えない。
【００１３】オニウム塩化合物（Ｃ）としては、一般に
ルイス酸のオニウム塩を挙げることが出来る。ルイス酸
のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨウドニウム塩、ルイス
酸のスルホニウム塩が用いられる。これらの化合物の一
例として四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六
フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アン
チモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のト
リ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アン
チモンのトリ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、ア
セチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジル
シリルエーテル混合体、フェニルチオピリリウム塩、六
フッ化リンアレン−鉄錯体、でありこれに限定されるこ
とはなく光反応にてルイス酸とラジカルを生成する化合
物であれば用いることが出来る。
ルイス酸のオニウム塩を挙げることが出来る。ルイス酸
のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨウドニウム塩、ルイス
酸のスルホニウム塩が用いられる。これらの化合物の一
例として四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六
フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アン
チモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のト
リ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アン
チモンのトリ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、ア
セチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジル
シリルエーテル混合体、フェニルチオピリリウム塩、六
フッ化リンアレン−鉄錯体、でありこれに限定されるこ
とはなく光反応にてルイス酸とラジカルを生成する化合
物であれば用いることが出来る。
【００１４】可視光増感色素（Ｄ）としては、４００〜
８００ｎｍの波長の光を照射する事により光増感する、
ポルフィリン、フタロシアニン又はジ（エチル）アミノ
ケトクマリンを使用することができる。
８００ｎｍの波長の光を照射する事により光増感する、
ポルフィリン、フタロシアニン又はジ（エチル）アミノ
ケトクマリンを使用することができる。
【００１５】ハイドロキシパーオキサイド生成化合物
（Ｅ）としては、アリル基がモノマー内あるいはポリマ
ー中に含まれた化合物であればよい。例えば、ビスフェ
ノール−Ａ−ジアリルエステル、シクロヘキサンジオー
ルジアリルエステル、アリルベンゾエート、ビスフェノ
ール−Ｆ−ジアリレート、などの他にポリビニルアルコ
ール変性、ポリアクリル酸変性、ポリメタアクリル酸変
性などのホモポリマーやコポリマーのアリル変性ポリマ
ーを用いることも出来る。
（Ｅ）としては、アリル基がモノマー内あるいはポリマ
ー中に含まれた化合物であればよい。例えば、ビスフェ
ノール−Ａ−ジアリルエステル、シクロヘキサンジオー
ルジアリルエステル、アリルベンゾエート、ビスフェノ
ール−Ｆ−ジアリレート、などの他にポリビニルアルコ
ール変性、ポリアクリル酸変性、ポリメタアクリル酸変
性などのホモポリマーやコポリマーのアリル変性ポリマ
ーを用いることも出来る。
【００１６】本発明の感光性組成物には、必要に応じて
通常の染料、顔料、添加剤、樹脂化合物、禁止剤等や適
当な希釈溶剤を加えても差し支えない。
通常の染料、顔料、添加剤、樹脂化合物、禁止剤等や適
当な希釈溶剤を加えても差し支えない。
【００１７】本発明の感光性組成物の各添加量に関して
は、光重合するに適した重量部であればよく、その量に
関しては特に限定するものでない。また本発明に関して
必要に応じて用いる希釈溶剤としては、可視光感光性組
成物を溶解あるいは分散する溶剤であれば使用すること
が出来る。
は、光重合するに適した重量部であればよく、その量に
関しては特に限定するものでない。また本発明に関して
必要に応じて用いる希釈溶剤としては、可視光感光性組
成物を溶解あるいは分散する溶剤であれば使用すること
が出来る。
【００１８】本発明に必要に応じて用いる樹脂化合物と
しては、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリビニルアルコール、ポリビニルクロライド、ポ
リ酢酸ビニル、ナイロン樹脂、ポリエステル樹脂、その
他ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリビニル系ポ
リマー類など溶剤、または水可溶または溶剤あるいは水
分散可能な樹脂なら用いることが出来る。
しては、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリビニルアルコール、ポリビニルクロライド、ポ
リ酢酸ビニル、ナイロン樹脂、ポリエステル樹脂、その
他ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリビニル系ポ
リマー類など溶剤、または水可溶または溶剤あるいは水
分散可能な樹脂なら用いることが出来る。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこの例に限定されるものでない。な
お、例中「部」とは重量部を示す。
するが、本発明はこの例に限定されるものでない。な
お、例中「部」とは重量部を示す。
【００２０】実施例１ ジエチレングリコールジビニルエーテル １５部 トリメチロールプロパントリアクリレート ２５部 トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェイト ５部 ジ（ジエチルアミノ）ケトクマリン（色素） ５部 ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール １０部 ジオキサン ４００部 上記組成からなる感光液を５０×５０×２ｍｍのガラス
板上に、感光液乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように４
ＭＩＬアプリケーターを用いて塗布し、乾燥後、ポリビ
ニルアルコールにて表面処理を行い酸素保護層を形成さ
せた後、感光板を作成した。アルゴンレーザーで４８８
ｎｍの波長を用いて直径１ｍｍのスポットで露光量３０
０ｍＪ／ｃｍ2 で光照射し、ジオキサンで現像した結
果、不溶部が得られた。
板上に、感光液乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように４
ＭＩＬアプリケーターを用いて塗布し、乾燥後、ポリビ
ニルアルコールにて表面処理を行い酸素保護層を形成さ
せた後、感光板を作成した。アルゴンレーザーで４８８
ｎｍの波長を用いて直径１ｍｍのスポットで露光量３０
０ｍＪ／ｃｍ2 で光照射し、ジオキサンで現像した結
果、不溶部が得られた。
【００２１】実施例２ ポリ−メチルメタアクリレート （東京化成工業（株）社製） ５０部 イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ アクリレート （商品名アロニックスＭ−３１５、東亜合成化学社製） ４０部 ジエチレングリコールジビニルエーテル ２０部 メソージフェニルテトラベンゾポルフィリン亜鉛（色素） ４部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ジオキサン ４００部 実施例１と同様にガラス板上に１０μｍの膜厚になるよ
うに塗布乾燥後、Ｈｅ−Ｎｅレーザーを用いて６３３ｎ
ｍの波長の光を照射して露光量１１０ｍＪ／ｃｍ2 で光
硬化した。光硬化物は、ジオキサン、トルエン、エタノ
ールに不溶であった。現像前に６０℃のオーブン中で３
０分間後硬化するとより強度な塗膜が得られた。この場
合はビニルエーテル基のカチオン重合とアクリルモノマ
ーのラジカル反応が同時に反応の系内で起こったものと
推測できる。
うに塗布乾燥後、Ｈｅ−Ｎｅレーザーを用いて６３３ｎ
ｍの波長の光を照射して露光量１１０ｍＪ／ｃｍ2 で光
硬化した。光硬化物は、ジオキサン、トルエン、エタノ
ールに不溶であった。現像前に６０℃のオーブン中で３
０分間後硬化するとより強度な塗膜が得られた。この場
合はビニルエーテル基のカチオン重合とアクリルモノマ
ーのラジカル反応が同時に反応の系内で起こったものと
推測できる。
【００２２】実施例３ ジエチレングリコールジビニルエーテル ２０部 フェニルビニルエーテル １０部 エチレングリコールジアクリレート ２０部 アロニックスＭ−３１５ ４０部 テトラフェニルテトラベンゾポルフィリン （色素） ５部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 上記組成物を高速撹拌機で撹拌・混合して感光性組成物
を得た。得られた乾燥膜をビニルアルコールで酸素保護
膜を形成した後、この組成物を実施例２と同様にＨｅ−
Ｎｅレーザー光を１３０ｍＪ／ｃｍ2 の露光量でライン
照射した結果、１ｍｍ幅のラインを描く事が出来、綺麗
なパターンが得られた。露光後６０℃の熱処理を行った
後、現像を行なう事により強固なラインパターン像を得
ることが出来た。
を得た。得られた乾燥膜をビニルアルコールで酸素保護
膜を形成した後、この組成物を実施例２と同様にＨｅ−
Ｎｅレーザー光を１３０ｍＪ／ｃｍ2 の露光量でライン
照射した結果、１ｍｍ幅のラインを描く事が出来、綺麗
なパターンが得られた。露光後６０℃の熱処理を行った
後、現像を行なう事により強固なラインパターン像を得
ることが出来た。
【００２３】実施例４ ジエチレングリコールジビニルエーテル １０部 ジビニルベンゼン ５部 アロニックスＭ−３１５ ３０部 メソージフェニルテトラベンゾポルフィリン亜鉛 （色素） ４部 ジフェニルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ビスフェノール−Ａ−ジアリレート １０部 ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール ２０部 ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ） １６部 ジオキサン ４００部 上記感光性組成物を厚さ２ｍｍの硬質ガラス板上にスピ
ーナで乾燥後の膜厚１μｍになるように塗布した。Ｈｅ
−Ｎｅレーザーにて６３３ｎｍの波長の光を１５５ｍＪ
／ｃｍ2 の露光量で照射しパターン像を描いた後、８０
℃で３０分間熱処理後ジオキサン溶液で現像処理し、パ
ターン像を得る事が出来た。この方法は潜像形成型感光
方法といわれる。これはポルフィリンとジフェニルヨウ
ドニウム塩とアリレート化合物の光照射でアリレートが
ハイドロキシパーオキサイドを生成し、このハイドロキ
シパーオキサイドが加熱処理でビニル化合物がラジカル
重合反応を引き起こすことで架橋反応が起こる。この場
合はカチオン重合反応とラジカル重合が同時に起こるこ
とが推察できるが反応メカニズムは明確でない。
ーナで乾燥後の膜厚１μｍになるように塗布した。Ｈｅ
−Ｎｅレーザーにて６３３ｎｍの波長の光を１５５ｍＪ
／ｃｍ2 の露光量で照射しパターン像を描いた後、８０
℃で３０分間熱処理後ジオキサン溶液で現像処理し、パ
ターン像を得る事が出来た。この方法は潜像形成型感光
方法といわれる。これはポルフィリンとジフェニルヨウ
ドニウム塩とアリレート化合物の光照射でアリレートが
ハイドロキシパーオキサイドを生成し、このハイドロキ
シパーオキサイドが加熱処理でビニル化合物がラジカル
重合反応を引き起こすことで架橋反応が起こる。この場
合はカチオン重合反応とラジカル重合が同時に起こるこ
とが推察できるが反応メカニズムは明確でない。
【００２４】実施例５ ジエチレングリコールジビニルエーテル ３０部 アロニックスＭ−３１５ ３０部 ジ（ジエチルアミノ）ケトクマリン（色素） ５部 ジフェニルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ポリメチルメタアクリレート １５部 トルエン １１５部 上記感光性組成物をアルミ板の上に乾燥膜厚がスピーナ
で５μｍになるように塗布し、ポリビニルアルコールに
て表面コートして乾燥後、４８８ｎｍの波長のＡｒレー
ザーで露光量１５０ｍＪ／ｃｍ2 で１ｃｍ×１ｃｍの面
積に光照射後、現像処理後、得られたパターン像を６０
℃で１時間熱処理するとジエチレングリコールジビニル
エーテルが後硬化することにより膜に屈折差が生じ干渉
縞が得られた。この場合はラジカル重合反応がまず生じ
後にカチオン開環反応が起こるものと推察されるが反応
メカニズムは明確でない。以上本発明は、カチオン重合
反応とラジカル重合反応が共存するハイブリッド（複
合）タイプの新しい可視光感光性組成物であり可視光
（４００〜８００ｎｍの波長領域）で硬化や重合反応が
起こる。
で５μｍになるように塗布し、ポリビニルアルコールに
て表面コートして乾燥後、４８８ｎｍの波長のＡｒレー
ザーで露光量１５０ｍＪ／ｃｍ2 で１ｃｍ×１ｃｍの面
積に光照射後、現像処理後、得られたパターン像を６０
℃で１時間熱処理するとジエチレングリコールジビニル
エーテルが後硬化することにより膜に屈折差が生じ干渉
縞が得られた。この場合はラジカル重合反応がまず生じ
後にカチオン開環反応が起こるものと推察されるが反応
メカニズムは明確でない。以上本発明は、カチオン重合
反応とラジカル重合反応が共存するハイブリッド（複
合）タイプの新しい可視光感光性組成物であり可視光
（４００〜８００ｎｍの波長領域）で硬化や重合反応が
起こる。
【００２５】実施例６ ジエチレングリコールジビニルエーテル １５部 アロニクックスＭ−３１５ ３０部 フタロシアニンテトラスルホン酸のナトリウム塩 ５部 ジフェニルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ポリビニルピロリドン １０部 ポリビニルアルコール １０部 エタノール １２５部 蒸留水 １００部 上記感光性組成物をよく高速撹拌機にて分散溶解させ、
スピーナにてアルミニウム基材上に乾燥後膜厚１０μｍ
になるように塗布した。Ｈｅ−Ｎｅレーザーの６３３ｎ
ｍの波長の光を２１０ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照射した
結果、エタノール、蒸留水にも不溶化した。
スピーナにてアルミニウム基材上に乾燥後膜厚１０μｍ
になるように塗布した。Ｈｅ−Ｎｅレーザーの６３３ｎ
ｍの波長の光を２１０ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照射した
結果、エタノール、蒸留水にも不溶化した。
【００２６】比較例１ 実施例１のジ（ジエチルアミノ）ケトクマリン色素を含
まない組成物を、実施例１同じ条件にてアルゴンレーザ
ー照射した後、ジオキサンにて現像した結果すべて溶解
してしまった。
まない組成物を、実施例１同じ条件にてアルゴンレーザ
ー照射した後、ジオキサンにて現像した結果すべて溶解
してしまった。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、従来４００ｎｍ以下の
波長の紫外線照射装置でパターン像を描いていたので装
置が大きく利用範囲は限定されていたが、本発明の感光
性組成物は、４００〜８００ｎｍの可視光波長に感応す
る感光組成物であり、ビニルエーテルモノマー等のカチ
オン重合反応とビニルモノマーのラジカル重合反応が同
時あるいは同じ系中で起こるハイブリッドタイプの新し
い高感光性組成物である。このため、半導体レーザーな
どを用いることが出来、装置の小型化が可能であり、か
つ高感度で高回折効率を有するホログラム記録材料やダ
イレクト刷版など光高感度化を必要とする感光材料とし
ても利用可能であり銀塩材料の代替え品として提供され
る。またラジカル反応とカチオン重合性モノマー類のカ
チオン重合反応をうまくコントロールすることにより反
応速度の違いを利用し接着剤や粘接着剤への応用や、エ
ンボス加工の分野にも提供される。
波長の紫外線照射装置でパターン像を描いていたので装
置が大きく利用範囲は限定されていたが、本発明の感光
性組成物は、４００〜８００ｎｍの可視光波長に感応す
る感光組成物であり、ビニルエーテルモノマー等のカチ
オン重合反応とビニルモノマーのラジカル重合反応が同
時あるいは同じ系中で起こるハイブリッドタイプの新し
い高感光性組成物である。このため、半導体レーザーな
どを用いることが出来、装置の小型化が可能であり、か
つ高感度で高回折効率を有するホログラム記録材料やダ
イレクト刷版など光高感度化を必要とする感光材料とし
ても利用可能であり銀塩材料の代替え品として提供され
る。またラジカル反応とカチオン重合性モノマー類のカ
チオン重合反応をうまくコントロールすることにより反
応速度の違いを利用し接着剤や粘接着剤への応用や、エ
ンボス加工の分野にも提供される。
Claims (2)
- 【請求項１】 カチオン重合性不飽和ビニル化合物
（Ａ）、ラジカル重合性不飽和ビニル化合物（Ｂ）、オ
ニウム塩化合物（Ｃ）、及びポルフィリン、フタロシア
ニン又はジ（エチルアミノ）ケトクマリンから選ばれる
可視光増感色素剤（Ｄ）からなる４００〜８００ｎｍの
可視光により光重合することを特徴とする感光性組成
物。 - 【請求項２】 （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）および
ハイドロキシパーオキサイド生成化合物（Ｅ）とからな
る請求項１記載の感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4072753A JP2757662B2 (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4072753A JP2757662B2 (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05230121A JPH05230121A (ja) | 1993-09-07 |
| JP2757662B2 true JP2757662B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=13498432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4072753A Expired - Lifetime JP2757662B2 (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2757662B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09221651A (ja) * | 1996-02-16 | 1997-08-26 | Asahi Denka Kogyo Kk | エネルギー線反応性接着剤組成物 |
| US8163443B2 (en) * | 2006-03-09 | 2012-04-24 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for volume phase hologram recording and optical information recording medium using the same |
| CN103319994B (zh) * | 2013-05-14 | 2015-06-24 | 武汉华工图像技术开发有限公司 | 一种拼版复制全息图案的uv固化涂料及其使用方法 |
| CN105745273B (zh) * | 2013-09-05 | 2019-05-07 | 株式会社大赛璐 | 树脂组合物及其固化物 |
| JP2019094367A (ja) * | 2017-11-17 | 2019-06-20 | 丸善石油化学株式会社 | オニウム塩を用いたビニルエーテルポリマーの製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61500974A (ja) * | 1983-10-28 | 1986-05-15 | ロクタイト．コ−ポレ−シヨン | ２つの硬化タイプのプレポリマ−を含む光硬化性組成物 |
-
1992
- 1992-02-21 JP JP4072753A patent/JP2757662B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05230121A (ja) | 1993-09-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0509512B1 (en) | Photosensitive composition for volume hologram recording | |
| JP2677457B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP5486141B2 (ja) | 光開始反応 | |
| US6127445A (en) | Substituted benzoylferrocene anionic photoinitiators | |
| JP2757662B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JP2006003388A (ja) | 体積位相型ホログラム記録用感光性組成物、ホログラム記録媒体とその製法、およびホログラム記録法 | |
| JP3221117B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH04181944A (ja) | 可視光感光性組成物 | |
| JPH04113362A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP2002293816A (ja) | 重合性組成物 | |
| JPH07261643A (ja) | ホログラム記録用材料およびホログラム記録用媒体 | |
| JPH06298911A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH01201652A (ja) | 感光性平版印刷版原版 | |
| JPH06298912A (ja) | 可視光感光性組成物 | |
| JPH08272284A (ja) | ホログラム用感光材料、ホログラム用記録媒体およびそれを用いたホログラムの製造方法 | |
| JP4190158B2 (ja) | 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 | |
| JPH06295150A (ja) | ホログラム記録用組成物、ホログラム記録用媒体およびそれを用いたホログラムの製造方法 | |
| JP2000109509A (ja) | 可視光重合性組成物 | |
| JPH06175565A (ja) | ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法 | |
| JPH0736354A (ja) | ホログラム記録用感光材料 | |
| JPH0229681B2 (ja) | Hikarijugoseisoseibutsu | |
| JPH06195013A (ja) | ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法 | |
| JPH04116584A (ja) | ホログラム記録用組成物及び記録方法 | |
| JP3923164B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| Ito et al. | Novel photopolymer system for holograms |