JP2002293816A - 重合性組成物 - Google Patents
重合性組成物Info
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- JP2002293816A JP2002293816A JP2001098756A JP2001098756A JP2002293816A JP 2002293816 A JP2002293816 A JP 2002293816A JP 2001098756 A JP2001098756 A JP 2001098756A JP 2001098756 A JP2001098756 A JP 2001098756A JP 2002293816 A JP2002293816 A JP 2002293816A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】増感剤を必要とせず、優れた光感受性を有し、
重合開始剤とラジカル重合性化合物からなる重合性組成
物を提供する。 【解決手段】一般式（１）で表される重合開始剤（Ａ）
とラジカル重合性化合物（Ｂ）とを含んでなる重合性組
成物。 一般式（１） 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に
水素原子、アルキル基、またはアリール基を表す。
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロ
キシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシル
オキシ基、アシル基、またはアミノ基を表す。Ｚ-は任
意のアニオンを表す。）
重合開始剤とラジカル重合性化合物からなる重合性組成
物を提供する。 【解決手段】一般式（１）で表される重合開始剤（Ａ）
とラジカル重合性化合物（Ｂ）とを含んでなる重合性組
成物。 一般式（１） 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に
水素原子、アルキル基、またはアリール基を表す。
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロ
キシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシル
オキシ基、アシル基、またはアミノ基を表す。Ｚ-は任
意のアニオンを表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は重合性組成物に関す
る。さらに詳しくは、エネルギー線、特に紫外線から可
視光領域の光照射によりフリーラジカルを発生し、ラジ
カル重合性化合物を短時間に硬化させ、例えば、成型樹
脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジ
ン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カ
ラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、ドライフ
ィルムレジスト、プリント基板用レジスト、半導体用フ
ォトレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、
ホログラム材料、オーバーコート材、接着剤、粘着剤、
離型剤、光記録媒体、各種デバイス等の分野において良
好な物性を持った重合物や硬化物を得るための重合性組
成物に関する。
る。さらに詳しくは、エネルギー線、特に紫外線から可
視光領域の光照射によりフリーラジカルを発生し、ラジ
カル重合性化合物を短時間に硬化させ、例えば、成型樹
脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジ
ン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カ
ラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、ドライフ
ィルムレジスト、プリント基板用レジスト、半導体用フ
ォトレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、
ホログラム材料、オーバーコート材、接着剤、粘着剤、
離型剤、光記録媒体、各種デバイス等の分野において良
好な物性を持った重合物や硬化物を得るための重合性組
成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】光の照射によって、アクリレート等の重
合を引き起こす光重合開始剤は広い分野で用いられてお
り、市販の光重合開始剤については、フォトポリマー懇
話会編、「感光材料リストブック」、５５〜７２頁、１
９９６年（ぶんしん出版）などにまとめられている。近
年、これら市販の光重合開始剤を上回る高い感度を持っ
た光重合開始剤の研究が活発に行われており、その一つ
に分子内に光を吸収する部位とフリーラジカルを発生す
る部位とを併せ持つ光重合開始剤が提案されている。こ
れは、上記二つの部位を同一分子内に同居させること
で、これら二つの部位間の光誘起電子移動反応あるいは
光エネルギー移動反応が起こりやすくなり、その結果フ
リーラジカルの発生効率が高まるという考えに基づいて
いる。例えば、光を吸収する部位として色素カチオン
と、フリーラジカルを発生するボレートアニオンとから
なる光重合開始剤として以下の公知文献があげられる。
米国特許第４７７２５３０号公報。Journal of America
n Chemical Society誌、第１１０巻、２３２６〜２３２
８頁（１９８８年、米国化学会発行）。また、光を吸収
する部位としてベンゾフェノン構造やクマリン構造、ナ
フタレン構造を持ったアンモニウムカチオンと、ボレー
トアニオンとからなる光重合開始剤として以下の公知文
献があげられる。ＰＣＴ特許ＷＯ９７／１６４０６号公
報。Journal of American Chemical Society誌、第１１
７巻、１１３６９〜１１３７０頁（１９９５年、米国化
学会発行）。Macromolecules誌、第２９巻、８０４７〜
８０５２頁（１９９６年、米国化学会発行）。Macromol
ecules誌、第３１巻、９５１〜９５４頁（１９９８年、
米国化学会発行）。Macromolecules誌、第３２巻、３２
８〜３３０頁（１９９９年、米国化学会発行）。Journa
l of Organic Chemistry誌、第６４巻、４５８〜４６３
頁（１９９９年、米国化学会発行）。高い感度を持った
光重合開始剤の他の例として、分子内にフリーラジカル
を発生する部位を二つ以上設けるという提案がある。こ
の例としては以下の公知文献に記載されているスルホニ
ウムボレート錯体があげられ、ミヒラーズケトン、チオ
キサントン、ケトクマリン等の増感剤と併用することで
光照射によってスルホニウムカチオン、ボレートアニオ
ン双方からフリーラジカルが発生することによって高い
感度を示すといわれている。特開平５−２１３８６１号
公報。特開平５−２５５３４７号公報。特開平５−２５
５４２１号公報。特開平６−１５７６２３号公報。Jour
nal of Chemical Society, Chemical Communication
誌、６７５〜６７６頁（１９９７年、英国化学会発
行）。Macromolecules誌、第３１巻、６０２２〜６０２
９頁（１９９８年、米国化学会発行）。Journal of Pho
toscience誌、第５巻、６３〜６７頁（１９９８年、韓
国光化学会発行）。Macromolecules誌、第３２巻、６５
４５〜６５５１頁（１９９９年、米国化学会発行）。Jo
urnal of Photopolymer Science and Technology誌、第
１２巻、１１５〜１２０頁（１９９９年、フォトポリマ
ー懇話会発行）。これらの重合開始剤を含む重合性組成
物は、成型樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯
科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹
脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルター用レジス
ト、ドライフィルムレジスト、プリント基板用レジス
ト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニク
ス用レジスト、ホログラム材料、オーバーコート材、接
着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、各種デバイス等の
分野において使用されている。これらの光硬化技術を応
用した分野においては様々な光源や照射波長が用いられ
ているが、紫外線から比較的短波長の可視光領域の照射
波長としては水銀ランプの３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよ
び４３６ｎｍ等が最も良く用いられている。色素カチオ
ンとボレートアニオンからなる重合開始剤は本来、可視
光領域に感度を持たせる目的で設計されたものであるた
め、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍといった紫外
線から比較的短波長の可視光領域の照射波長に吸収を有
していても十分な感度を得ることはできなかった。ま
た、開始剤自体が着色しているため重合性組成物の大き
な着色を避けることはできず、ＣＦレジスト用途には使
用できない等、用途が限定されていた。また、分子内に
ベンゾフェノン構造やクマリン構造、ナフタレン構造、
ナフチル基、ベンゾチエニル基あるいはベンゾフリル基
を導入したアンモニウムボレートは、増感剤を併用しな
くても３６５ｎｍ付近に吸収を有するため重合開始剤と
して機能しうる。しかし、近年、コストダウンや生産性
の向上の観点から、より短時間でより少ない光照射量で
硬化し得る高感度な重合性組成物が求められている中に
あっては、高価なボレート構造を導入していている割に
は感度として不十分であった。従来公知のスルホニウム
イオン型重合開始剤は３６５ｎｍより長波長の領域に吸
収を有さないため、多くの増感剤の中から最適な増感剤
を見出して組成比を決定した上で、併用して使用しなけ
ればならないという煩雑さがあった。
合を引き起こす光重合開始剤は広い分野で用いられてお
り、市販の光重合開始剤については、フォトポリマー懇
話会編、「感光材料リストブック」、５５〜７２頁、１
９９６年（ぶんしん出版）などにまとめられている。近
年、これら市販の光重合開始剤を上回る高い感度を持っ
た光重合開始剤の研究が活発に行われており、その一つ
に分子内に光を吸収する部位とフリーラジカルを発生す
る部位とを併せ持つ光重合開始剤が提案されている。こ
れは、上記二つの部位を同一分子内に同居させること
で、これら二つの部位間の光誘起電子移動反応あるいは
光エネルギー移動反応が起こりやすくなり、その結果フ
リーラジカルの発生効率が高まるという考えに基づいて
いる。例えば、光を吸収する部位として色素カチオン
と、フリーラジカルを発生するボレートアニオンとから
なる光重合開始剤として以下の公知文献があげられる。
米国特許第４７７２５３０号公報。Journal of America
n Chemical Society誌、第１１０巻、２３２６〜２３２
８頁（１９８８年、米国化学会発行）。また、光を吸収
する部位としてベンゾフェノン構造やクマリン構造、ナ
フタレン構造を持ったアンモニウムカチオンと、ボレー
トアニオンとからなる光重合開始剤として以下の公知文
献があげられる。ＰＣＴ特許ＷＯ９７／１６４０６号公
報。Journal of American Chemical Society誌、第１１
７巻、１１３６９〜１１３７０頁（１９９５年、米国化
学会発行）。Macromolecules誌、第２９巻、８０４７〜
８０５２頁（１９９６年、米国化学会発行）。Macromol
ecules誌、第３１巻、９５１〜９５４頁（１９９８年、
米国化学会発行）。Macromolecules誌、第３２巻、３２
８〜３３０頁（１９９９年、米国化学会発行）。Journa
l of Organic Chemistry誌、第６４巻、４５８〜４６３
頁（１９９９年、米国化学会発行）。高い感度を持った
光重合開始剤の他の例として、分子内にフリーラジカル
を発生する部位を二つ以上設けるという提案がある。こ
の例としては以下の公知文献に記載されているスルホニ
ウムボレート錯体があげられ、ミヒラーズケトン、チオ
キサントン、ケトクマリン等の増感剤と併用することで
光照射によってスルホニウムカチオン、ボレートアニオ
ン双方からフリーラジカルが発生することによって高い
感度を示すといわれている。特開平５−２１３８６１号
公報。特開平５−２５５３４７号公報。特開平５−２５
５４２１号公報。特開平６−１５７６２３号公報。Jour
nal of Chemical Society, Chemical Communication
誌、６７５〜６７６頁（１９９７年、英国化学会発
行）。Macromolecules誌、第３１巻、６０２２〜６０２
９頁（１９９８年、米国化学会発行）。Journal of Pho
toscience誌、第５巻、６３〜６７頁（１９９８年、韓
国光化学会発行）。Macromolecules誌、第３２巻、６５
４５〜６５５１頁（１９９９年、米国化学会発行）。Jo
urnal of Photopolymer Science and Technology誌、第
１２巻、１１５〜１２０頁（１９９９年、フォトポリマ
ー懇話会発行）。これらの重合開始剤を含む重合性組成
物は、成型樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯
科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹
脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルター用レジス
ト、ドライフィルムレジスト、プリント基板用レジス
ト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニク
ス用レジスト、ホログラム材料、オーバーコート材、接
着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、各種デバイス等の
分野において使用されている。これらの光硬化技術を応
用した分野においては様々な光源や照射波長が用いられ
ているが、紫外線から比較的短波長の可視光領域の照射
波長としては水銀ランプの３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよ
び４３６ｎｍ等が最も良く用いられている。色素カチオ
ンとボレートアニオンからなる重合開始剤は本来、可視
光領域に感度を持たせる目的で設計されたものであるた
め、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍといった紫外
線から比較的短波長の可視光領域の照射波長に吸収を有
していても十分な感度を得ることはできなかった。ま
た、開始剤自体が着色しているため重合性組成物の大き
な着色を避けることはできず、ＣＦレジスト用途には使
用できない等、用途が限定されていた。また、分子内に
ベンゾフェノン構造やクマリン構造、ナフタレン構造、
ナフチル基、ベンゾチエニル基あるいはベンゾフリル基
を導入したアンモニウムボレートは、増感剤を併用しな
くても３６５ｎｍ付近に吸収を有するため重合開始剤と
して機能しうる。しかし、近年、コストダウンや生産性
の向上の観点から、より短時間でより少ない光照射量で
硬化し得る高感度な重合性組成物が求められている中に
あっては、高価なボレート構造を導入していている割に
は感度として不十分であった。従来公知のスルホニウム
イオン型重合開始剤は３６５ｎｍより長波長の領域に吸
収を有さないため、多くの増感剤の中から最適な増感剤
を見出して組成比を決定した上で、併用して使用しなけ
ればならないという煩雑さがあった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、増感剤を必
要とせず、優れた光感受性を有し、重合開始剤とラジカ
ル重合性化合物からなる重合性組成物を提供することを
目的とする。
要とせず、優れた光感受性を有し、重合開始剤とラジカ
ル重合性化合物からなる重合性組成物を提供することを
目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の問題
点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明に
至った。
点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明に
至った。
【０００５】すなわち本発明は、下記一般式（１）で表
される重合開始剤（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）
とを含んでなる重合性組成物である。 一般式（１）
される重合開始剤（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）
とを含んでなる重合性組成物である。 一般式（１）
【０００６】
【化２】
【０００７】（ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、そ
れぞれ独立に水素原子、アルキル基、またはアリール基
置換基を表す。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、それ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリ
ール基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アリールオ
キシ基、アシルオキシ基、アシル基、またはアミノ基を
表す。Ｚ-は任意のアニオンを表す。）
れぞれ独立に水素原子、アルキル基、またはアリール基
置換基を表す。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、それ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリ
ール基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アリールオ
キシ基、アシルオキシ基、アシル基、またはアミノ基を
表す。Ｚ-は任意のアニオンを表す。）
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、詳細にわたって本発明を説
明する。
明する。
【０００９】まず初めに、本発明の重合開始剤（Ａ）に
ついて説明する。本発明の重合開始剤（Ａ）は、クマリ
ン骨格をスルホニウム構造に導入していることが特徴と
して挙げられる。クマリン骨格はそれ自身が紫外線から
可視光領域に好適な吸収を有するため、重合開始剤
（Ａ）のスルホニウム構造は該波長領域の光照射に対し
て増感機能を有するラジカル発生部位として機能する。
特に３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍといった水銀
ランプからの照射光に対して好適な吸収を有しているた
め、効率的なラジカル発生機能を発現することが可能で
ある。また、本発明においてはクマリン骨格にスルホニ
ウム構造を導入していることにより、クマリンの還元電
位が上昇している。このため、重合性組成物中に存在す
るカウンターアニオンや添加剤が電子供与性を有する場
合には、効率的な電子移動によるスルホニウムカチオン
の分解を経てフリーラジカルを発生し、さらに高感度な
重合開始剤として機能する特徴を有している。一般式
（１）の構造について詳細に説明する。一般式（１）中
の置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4について説明する。一
般式（１）中の置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は水素原
子、アルキル基、アリール基から選ばれる置換基を表
す。
ついて説明する。本発明の重合開始剤（Ａ）は、クマリ
ン骨格をスルホニウム構造に導入していることが特徴と
して挙げられる。クマリン骨格はそれ自身が紫外線から
可視光領域に好適な吸収を有するため、重合開始剤
（Ａ）のスルホニウム構造は該波長領域の光照射に対し
て増感機能を有するラジカル発生部位として機能する。
特に３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍといった水銀
ランプからの照射光に対して好適な吸収を有しているた
め、効率的なラジカル発生機能を発現することが可能で
ある。また、本発明においてはクマリン骨格にスルホニ
ウム構造を導入していることにより、クマリンの還元電
位が上昇している。このため、重合性組成物中に存在す
るカウンターアニオンや添加剤が電子供与性を有する場
合には、効率的な電子移動によるスルホニウムカチオン
の分解を経てフリーラジカルを発生し、さらに高感度な
重合開始剤として機能する特徴を有している。一般式
（１）の構造について詳細に説明する。一般式（１）中
の置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4について説明する。一
般式（１）中の置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は水素原
子、アルキル基、アリール基から選ばれる置換基を表
す。
【００１０】また、一般式（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、
Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシル
基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、ア
ミノ基から選ばれる置換基を表す。これらの置換基を適
当に選択することにより、重合開始剤（Ａ）の吸収波
長、溶解度を調整することが可能である。本発明におけ
るアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状あるいは環状
のアルキル基を用いることができる。このようなアルキ
ル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、デシル基、シクロヘキシル基等をあげること
ができるが、これらに限定されるものではない。本発明
におけるアリール基の例としては、フェニル基、ｏ−ト
リル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリ
ル基、２，５−キシリル基、１−ナフチル基、２−ナフ
チル基等をあげることができるが、これらに限定される
ものではない。これらのアルキル基やアリール基は、さ
らに他の置換基で置換されていても良く、例えばクロロ
メチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、シ
アノメチル基、２−ヒドロキシエチル基、アリル基、ベ
ンジル基、フェナシル基等の置換アルキル基や、ｏ−ク
ロロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−シアノ
フェニル基等の置換アリール基も、本発明のアルキル基
やアリール基の範疇に含まれる。この中で、置換基Ｒ1
およびＲ2の好ましいアルキル基やアリール基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、フェニル基、ｏ−トリル
基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２−ヒドロキシエチ
ル基、アリル基、ベンジル基、フェナシル基をあげるこ
とができる。また、一般式（１）中の置換基Ｒ1とＲ2に
おける置換基は互いに該置換基の一部分で共有結合し、
環構造を形成していてもよい。一般式（１）中の置換基
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるハロゲン原子と
しては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
をあげることができる。一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ
7、Ｒ8およびＲ9におけるアルコキシル基の例として
は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブ
トキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基等をあ
げることができるが、これらに限定されるものではな
い。一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9に
おけるアリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、
１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、９−ア
ンスリルオキシ基等が挙げられるがこれらに限定される
ものではない。一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8お
よびＲ9におけるアシルオキシ基の例としては、アセト
キシ基、エタノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基等があげられるがこれらに限定され
るものではない。一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8
およびＲ9におけるアシル基の例としては、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル
基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基等
があげられるがこれらに限定されるものではない。一般
式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるア
ミノ基は、アルキルまたはアリール基で置換されていて
もよい。このような置換されたアミノ基の例としては、
Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−イソプ
ロピルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−トリルア
ミノ基に代表されるＮ−アルキルアミノ基またはＮ−ア
リールアミノ基が挙げられる。また、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロ
ピルアミノ基、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ
−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニル
アミノ基等の２つの置換基を有するアミノ基も本発明に
おける一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9
におけるアミノ基の範疇に含まれる。また、一般式
（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9にＮ，
Ｎ−ジアルキルアミノ基を使用する場合、それらは互い
に該アルキル基の一部分で共有結合し、環構造を形成し
ていてもよい。また、環構造を形成する場合、その環を
形成する原子として酸素、硫黄、窒素原子等のヘテロ原
子を用いることも可能である。このこのようなアミノ基
の例としてはモルフォリノ基を挙げることができるが、
これに限定されるものではない。一般式（１）中の置換
基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は同一である必要はな
く、上記した置換基を任意に組み合わせて用いることが
できる。また、複数の置換基が一部分で結合して環構造
を形成していてもよい。置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およ
びＲ9の組み合わせを適当に選択すれば、可視領域にほ
とんど吸収を有さない重合開始剤（Ａ）を得ることが可
能である。この場合、重合開始剤（Ａ）は着色をほとん
ど有さないため、本発明の重合性組成物をカラーフィル
ターに代表される色味が厳密に管理されている用途にも
好適に用いることができる。このような置換基Ｒ5、
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9の組み合わせとしては、Ｒ5、
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9いずれも水素原子の場合、Ｒ8
以外が水素原子でＲ8がメトキシ基の場合、Ｒ7、Ｒ8以
外が水素原子でＲ7、Ｒ8ともにメトキシ基の場合等が考
えられるが、これらに限定されるものではない。次に、
一般式（１）におけるアニオンＺ-について説明する。
一般式（１）中のアニオンＺ-としては、Ｃｌ-、Ｂ
ｒ-、ＨＳＯ3 -、ＮＯ3 -、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3 -等
の求核性アニオンがあげられる。また、ｐ−トルエンス
ルホン酸やｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸に代表され
るアルキルベンゼンスルホン酸イオンもアニオンとして
使用することが可能である。さらに、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、
ＳｂＦ6 -、ＣｌＯ4 -、ＣＦ3ＳＯ3 -、ＣＦ3（ＣＦ2）3Ｓ
Ｏ3 -等の非求核性アニオンもアニオンＺ-として用いる
ことができる。また、アルキル基またはアリール基で置
換されたボレートアニオンも本発明のアニオンＺ-の範
疇に含まれる。本発明の重合性組成物が親油性の場合に
は、上述の非求核性アニオンを持った重合開始剤（Ａ）
を用いることが好ましいが、特にこれらのアニオンに限
定されることはない。さらに、一般式（１）のアニオン
Ｚ-が下記一般式（２）で表されるボレートアニオンの
場合、上述のスルホニウムカチオン部位のみならずボレ
ートアニオンも分解してフリーラジカルを発生するた
め、より一層の高い感度を示す。一般式（２）
Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシル
基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、ア
ミノ基から選ばれる置換基を表す。これらの置換基を適
当に選択することにより、重合開始剤（Ａ）の吸収波
長、溶解度を調整することが可能である。本発明におけ
るアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状あるいは環状
のアルキル基を用いることができる。このようなアルキ
ル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、デシル基、シクロヘキシル基等をあげること
ができるが、これらに限定されるものではない。本発明
におけるアリール基の例としては、フェニル基、ｏ−ト
リル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリ
ル基、２，５−キシリル基、１−ナフチル基、２−ナフ
チル基等をあげることができるが、これらに限定される
ものではない。これらのアルキル基やアリール基は、さ
らに他の置換基で置換されていても良く、例えばクロロ
メチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、シ
アノメチル基、２−ヒドロキシエチル基、アリル基、ベ
ンジル基、フェナシル基等の置換アルキル基や、ｏ−ク
ロロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−シアノ
フェニル基等の置換アリール基も、本発明のアルキル基
やアリール基の範疇に含まれる。この中で、置換基Ｒ1
およびＲ2の好ましいアルキル基やアリール基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、フェニル基、ｏ−トリル
基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２−ヒドロキシエチ
ル基、アリル基、ベンジル基、フェナシル基をあげるこ
とができる。また、一般式（１）中の置換基Ｒ1とＲ2に
おける置換基は互いに該置換基の一部分で共有結合し、
環構造を形成していてもよい。一般式（１）中の置換基
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるハロゲン原子と
しては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
をあげることができる。一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ
7、Ｒ8およびＲ9におけるアルコキシル基の例として
は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブ
トキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基等をあ
げることができるが、これらに限定されるものではな
い。一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9に
おけるアリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、
１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、９−ア
ンスリルオキシ基等が挙げられるがこれらに限定される
ものではない。一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8お
よびＲ9におけるアシルオキシ基の例としては、アセト
キシ基、エタノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基等があげられるがこれらに限定され
るものではない。一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8
およびＲ9におけるアシル基の例としては、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル
基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基等
があげられるがこれらに限定されるものではない。一般
式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9におけるア
ミノ基は、アルキルまたはアリール基で置換されていて
もよい。このような置換されたアミノ基の例としては、
Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−イソプ
ロピルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−トリルア
ミノ基に代表されるＮ−アルキルアミノ基またはＮ−ア
リールアミノ基が挙げられる。また、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロ
ピルアミノ基、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ
−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニル
アミノ基等の２つの置換基を有するアミノ基も本発明に
おける一般式（１）中のＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9
におけるアミノ基の範疇に含まれる。また、一般式
（１）中の置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9にＮ，
Ｎ−ジアルキルアミノ基を使用する場合、それらは互い
に該アルキル基の一部分で共有結合し、環構造を形成し
ていてもよい。また、環構造を形成する場合、その環を
形成する原子として酸素、硫黄、窒素原子等のヘテロ原
子を用いることも可能である。このこのようなアミノ基
の例としてはモルフォリノ基を挙げることができるが、
これに限定されるものではない。一般式（１）中の置換
基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は同一である必要はな
く、上記した置換基を任意に組み合わせて用いることが
できる。また、複数の置換基が一部分で結合して環構造
を形成していてもよい。置換基Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およ
びＲ9の組み合わせを適当に選択すれば、可視領域にほ
とんど吸収を有さない重合開始剤（Ａ）を得ることが可
能である。この場合、重合開始剤（Ａ）は着色をほとん
ど有さないため、本発明の重合性組成物をカラーフィル
ターに代表される色味が厳密に管理されている用途にも
好適に用いることができる。このような置換基Ｒ5、
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9の組み合わせとしては、Ｒ5、
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9いずれも水素原子の場合、Ｒ8
以外が水素原子でＲ8がメトキシ基の場合、Ｒ7、Ｒ8以
外が水素原子でＲ7、Ｒ8ともにメトキシ基の場合等が考
えられるが、これらに限定されるものではない。次に、
一般式（１）におけるアニオンＺ-について説明する。
一般式（１）中のアニオンＺ-としては、Ｃｌ-、Ｂ
ｒ-、ＨＳＯ3 -、ＮＯ3 -、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3 -等
の求核性アニオンがあげられる。また、ｐ−トルエンス
ルホン酸やｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸に代表され
るアルキルベンゼンスルホン酸イオンもアニオンとして
使用することが可能である。さらに、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、
ＳｂＦ6 -、ＣｌＯ4 -、ＣＦ3ＳＯ3 -、ＣＦ3（ＣＦ2）3Ｓ
Ｏ3 -等の非求核性アニオンもアニオンＺ-として用いる
ことができる。また、アルキル基またはアリール基で置
換されたボレートアニオンも本発明のアニオンＺ-の範
疇に含まれる。本発明の重合性組成物が親油性の場合に
は、上述の非求核性アニオンを持った重合開始剤（Ａ）
を用いることが好ましいが、特にこれらのアニオンに限
定されることはない。さらに、一般式（１）のアニオン
Ｚ-が下記一般式（２）で表されるボレートアニオンの
場合、上述のスルホニウムカチオン部位のみならずボレ
ートアニオンも分解してフリーラジカルを発生するた
め、より一層の高い感度を示す。一般式（２）
【００１１】
【化３】
【００１２】（ただし、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3は炭素数
６〜１０の置換基を有していても良いアリール基を、Ｒ
10は炭素数６〜１０の置換基を有しても良いアリール基
または、炭素数１〜８の一級アルキル基を表す。） 一般式（２）におけるＡｒ1、Ａｒ2およびＡｒ3で表さ
れる炭素数６〜１０の置換基を有しても良いアリール基
としては、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、
ｐ−トリル基、２，３−キシリル基、２，５−キシリル
基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基に
加え、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル
基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基等
の置換アリール基があげられる。この内好ましいものと
しては、フェニル基、ｏ−トリル基、ｐ−トリル基、ｍ
−フルオロフェニル基があげられる。一般式（２）にお
ける置換基Ｒ10で表される炭素数６〜１０の置換基を有
しても良いアリール基としては、上述の置換基Ａｒ1、
Ａｒ2およびＡｒ3で表される炭素数６〜１０の置換基を
有しても良いアリール基と同じものをあげることができ
るが、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3とＲ10とは必ずしも同じも
のでなくても構わない。また置換基Ｒ10における炭素数
１〜８の一級アルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基等をあげることができる。一般式（２）の置換基
の組み合わせとしては、Ｒ10が炭素数１〜８の一級アル
キル基の場合の方が、炭素数６〜１０の置換基を有して
も良いアリール基の場合よりも感度的に優れているため
好ましい。本発明に用いられる重合開始剤（Ａ）を光分
解してラジカルを発生させるために用いられる光源は特
に限定されず、重合開始剤（Ａ）が吸収を有する波長領
域の光を照射可能な光源であればいかなるものも使用可
能である。特に好ましい波長領域としては、クマリン骨
格を有するスルホニウムイオンが好適な吸収を有する２
５０ｎｍ〜５００ｎｍが挙げられ、さらに好ましくは３
５０〜４５０ｎｍの波長領域を挙げることができる。水
銀ランプは３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍといっ
た波長を照射することが可能であるため、本発明の重合
開始剤を分解してラジカルを発生させる光源として特に
優れている。以上述べた本発明の重合開始剤（Ａ）とし
て特に好ましい具体例としては、下記の化合物（１）〜
化合物（６）をあげることができる（ただし、Ｅｔはエ
チル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す）。
６〜１０の置換基を有していても良いアリール基を、Ｒ
10は炭素数６〜１０の置換基を有しても良いアリール基
または、炭素数１〜８の一級アルキル基を表す。） 一般式（２）におけるＡｒ1、Ａｒ2およびＡｒ3で表さ
れる炭素数６〜１０の置換基を有しても良いアリール基
としては、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、
ｐ−トリル基、２，３−キシリル基、２，５−キシリル
基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基に
加え、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル
基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基等
の置換アリール基があげられる。この内好ましいものと
しては、フェニル基、ｏ−トリル基、ｐ−トリル基、ｍ
−フルオロフェニル基があげられる。一般式（２）にお
ける置換基Ｒ10で表される炭素数６〜１０の置換基を有
しても良いアリール基としては、上述の置換基Ａｒ1、
Ａｒ2およびＡｒ3で表される炭素数６〜１０の置換基を
有しても良いアリール基と同じものをあげることができ
るが、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3とＲ10とは必ずしも同じも
のでなくても構わない。また置換基Ｒ10における炭素数
１〜８の一級アルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基等をあげることができる。一般式（２）の置換基
の組み合わせとしては、Ｒ10が炭素数１〜８の一級アル
キル基の場合の方が、炭素数６〜１０の置換基を有して
も良いアリール基の場合よりも感度的に優れているため
好ましい。本発明に用いられる重合開始剤（Ａ）を光分
解してラジカルを発生させるために用いられる光源は特
に限定されず、重合開始剤（Ａ）が吸収を有する波長領
域の光を照射可能な光源であればいかなるものも使用可
能である。特に好ましい波長領域としては、クマリン骨
格を有するスルホニウムイオンが好適な吸収を有する２
５０ｎｍ〜５００ｎｍが挙げられ、さらに好ましくは３
５０〜４５０ｎｍの波長領域を挙げることができる。水
銀ランプは３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍといっ
た波長を照射することが可能であるため、本発明の重合
開始剤を分解してラジカルを発生させる光源として特に
優れている。以上述べた本発明の重合開始剤（Ａ）とし
て特に好ましい具体例としては、下記の化合物（１）〜
化合物（６）をあげることができる（ただし、Ｅｔはエ
チル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す）。
【００１３】化合物（１）
【００１４】
【化４】
【００１５】化合物（２）
【００１６】
【化５】
【００１７】化合物（３）
【００１８】
【化６】
【００１９】化合物（４）
【００２０】
【化７】
【００２１】化合物（５）
【００２２】
【化８】
【００２３】化合物（６）
【００２４】
【化９】
【００２５】つぎに、本発明に用いるラジカル重合性化
合物（Ｂ）について説明する。本発明におけるラジカル
重合性化合物（Ｂ）とは、分子中にラジカル重合可能な
骨格を少なくとも一つ以上を有する化合物を意味する。
また、これらは、いずれも常温、常圧で液体ないし固体
のモノマー、オリゴマーないしポリマーの化学形態を持
つものである。このようなラジカル重合性化合物（Ｂ）
の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽
和カルボン酸およびそれらの塩、エステル、ウレタン、
酸アミドや酸無水物があげられ、さらには、アクリロニ
トリル、スチレン誘導体、種々の不飽和ポリエステル、
不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウ
レタン等があげられるが、本発明はこれらに限定される
ものではない。以下に、本発明におけるラジカル重合性
化合物（Ｂ）の具体例をあげる。 アクリレート類の例： 単官能アルキルアクリレート類の例：メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソ
プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソアミ
ルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘ
キシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルア
クリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリ
レート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシク
ロペンテニルオキシエチルアクリレート、ベンジルアク
リレート。 単官能含ヒドロキシアクリレート類の例：２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルアクリレ
ート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシプロピルア
クリレート、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒド
ロキシプロピルフタレート。 単官能含ハロゲンアクリレート類の例：２，２，２−ト
リフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テト
ラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ−ヘキサフルオ
ロイソプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オク
タフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，
２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、２，６
−ジブロモ−４−ブチルフェニルアクリレート、２，
４，６−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
２，４，６−トリブロモフェノール３ＥＯ付加アクリレ
ート。 単官能含エーテル基アクリレート類の例：２−メトキシ
エチルアクリレート、１，３−ブチレングリコールメチ
ルエーテルアクリレート、ブトキシエチルアクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メ
トキシポリエチレングリコール＃４００アクリレート、
メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキ
シトリプロピレングリコールアクリレート、メトキシポ
リプロピレングリコールアクリレート、エトキシジエチ
レングリコールアクリレート、２−エチルヘキシルカル
ビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジ
エチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチ
レングリコールアクリレート、クレジルポリエチレング
リコールアクリレート、ｐ−ノニルフェノキシエチルア
クリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチレングリコ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート。 単官能含カルボキシルアクリレート類の例：β−カルボ
キシエチルアクリレート、こはく酸モノアクリロイルオ
キシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクト
ンモノアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルハ
イドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピ
ルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプ
ロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アク
リロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタ
レート。 その他の単官能アクリレート類の例：Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリレート、モルホリノエチルアクリレート、
トリメチルシロキシエチルアクリレート、ジフェニル−
２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、２−アク
リロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラ
クトン変性−２−アクリロイルオキシエチルアシッドホ
スフェート。 二官能アクリレート類の例：１，４−ブタンジオールジ
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコール＃２００ジ
アクリレート、ポリエチレングリコール＃３００ジアク
リレート、ポリエチレングリコール＃４００ジアクリレ
ート、ポリエチレングリコール＃６００ジアクリレー
ト、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレング
リコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール＃
４００ジアクリレート、ポリプロピレングリコール＃７
００ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエス
テルジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチ
ルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールビス（２−ヒドロキ
シ−３−アクリロイルオキシプロピル）エーテル、１，
９−ノナンジオールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ートモノステアレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レートモノベンゾエート、ビスフェノールＡジアクリレ
ート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ
変性ビスフェノールＡジアクリレート、水素化ビスフェ
ノールＡジアクリレート、ＥＯ変性水素化ビスフェノー
ルＡジアクリレート、ＰＯ変性水素化ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ビスフェノールＦジアクリレート、Ｅ
Ｏ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ＰＯ変性ビス
フェノールＦジアクリレート、ＥＯ変性テトラブロモビ
スフェノールＡジアクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジア
クリレート。 三官能アクリレート類の例：グリセリンＰＯ変性トリア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレー
ト、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレー
ト、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、イソシ
アヌル酸ＥＯ変性ε−カプロラクトン変性トリアクリレ
ート、１，３，５−トリアクリロイルヘキサヒドロ−ｓ
−トリアジン、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリアクリレートトリプロ
ピオネート。 四官能以上のアクリレート類の例：ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、オリゴエステルテトラアクリレート、
トリス（アクリロイルオキシ）ホスフェート。 メタクリレート類の例： 単官能アルキルメタクリレート類の例：メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、イソアミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、デシルメタクリレート、ラウリルメタクリ
レート、ステアリルメタクリレート、イソボルニルメタ
クリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロ
ペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシ
エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート。 単官能含ヒドロキシメタクリレート類の例：２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルメ
タクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシ
プロピルメタクリレート、２−メタクリロイルオキシエ
チル−２−ヒドロキシプロピルフタレート。 単官能含ハロゲンメタクリレート類の例：２，２，２−
トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−
テトラフルオロプロピルメタクリレート、１Ｈ−ヘキサ
フルオロイソプロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５
Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート、１Ｈ，１
Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
ート、２，６−ジブロモ−４−ブチルフェニルメタクリ
レート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチルメタ
クリレート、２，４，６−トリブロモフェノール３ＥＯ
付加メタクリレート。 単官能含エーテル基メタクリレート類の例：２−メトキ
シエチルメタクリレート、１，３−ブチレングリコール
メチルエーテルメタクリレート、ブトキシエチルメタク
リレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレ
ート、メトキシポリエチレングリコール＃４００メタク
リレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレ
ート、メトキシトリプロピレングリコールメタクリレー
ト、メトキシポリプロピレングリコールメタクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールメタクリレート、２
−エチルヘキシルカルビトールメタクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルメタクリレート、フェノキシエチルメ
タクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタク
リレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリ
レート、クレジルポリエチレングリコールメタクリレー
ト、ｐ−ノニルフェノキシエチルメタクリレート、ｐ−
ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート。 単官能含カルボキシルメタクリレート類の例：β−カル
ボキシエチルメタクリレート、こはく酸モノメタクリロ
イルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロ
ラクトンモノメタクリレート、２−メタクリロイルオキ
シエチルハイドロゲンフタレート、２−メタクリロイル
オキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−メタクリ
ロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレ
ート、２−メタクリロイルオキシプロピルテトラヒドロ
ハイドロゲンフタレート。 その他の単官能メタクリレート類の例：Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノプロピルメタクリレート、モルホリノエチルメタクリ
レート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、ジ
フェニル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェー
ト、２−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェ
ート、カプロラクトン変性−２−メタクリロイルオキシ
エチルアシッドホスフェート。 二官能メタクリレート類の例：１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ル＃２００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール
＃３００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール＃
４００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール＃６
００ジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタ
クリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレー
ト、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポ
リプロピレングリコール＃４００ジメタクリレート、ポ
リプロピレングリコール＃７００ジメタクリレート、ネ
オペンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチル
グリコールＰＯ変性ジメタクリレート、ヒドロキシピバ
リン酸ネオペンチルグリコールエステルジメタクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエス
テルのカプロラクトン付加物ジメタクリレート、１，６
−ヘキサンジオールビス（２−ヒドロキシ−３−メタク
リロイルオキシプロピル）エーテル、１，９−ノナンジ
オールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモ
ノステアレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
トモノベンゾエート、ビスフェノールＡジメタクリレー
ト、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、ＰＯ
変性ビスフェノールＡジメタクリレート、水素化ビスフ
ェノールＡジメタクリレート、ＥＯ変性水素化ビスフェ
ノールＡジメタクリレート、ＰＯ変性水素化ビスフェノ
ールＡジメタクリレート、ビスフェノールＦジメタクリ
レート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジメタクリレート、
ＰＯ変性ビスフェノールＦジメタクリレート、ＥＯ変性
テトラブロモビスフェノールＡジメタクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジメタクリレート、イソシア
ヌル酸ＥＯ変性ジメタクリレート。 三官能メタクリレート類の例：グリセリンＰＯ変性トリ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリメタクリ
レート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリメタクリ
レート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリメタクリレート、
イソシアヌル酸ＥＯ変性ε−カプロラクトン変性トリメ
タクリレート、１，３，５−トリメタクリロイルヘキサ
ヒドロ−ｓ−トリアジン、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレ
ートトリプロピオネート。 四官能以上のメタクリレート類の例：ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタメタクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリ
スリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールメ
タンテトラメタクリレート、オリゴエステルテトラメタ
クリレート、トリス（メタクリロイルオキシ）ホスフェ
ート。 アリレート類の例：アリルグリシジルエーテル、ジアリ
ルフタレート、トリアリルトリメリテート、イソシアヌ
ル酸トリアリレート。 酸アミド類の例：アクリルアミド、Ｎ−メチロールアク
リルアミド、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミ
ド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、アクリロイルモ
ルホリン、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリ
ルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルア
ミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、メタクリロ
イルモルホリン。 スチレン類の例：スチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、
ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｐ−メチル
スチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシス
チレン、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルスチレン、ｐ−ｔ
−ブトキシカルボニルオキシスチレン、２，４−ジフェ
ニル−４−メチル−１−ペンテン。 他のビニル化合物の例：酢酸ビニル、モノクロロ酢酸ビ
ニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、酪酸ビニル、
ラウリン酸ビニル、アジピン酸ジビニル、メタクリル酸
ビニル、クロトン酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニ
ル、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン
等。上記のラジカル重合性化合物（Ｂ）は、以下に示す
メーカーの市販品として、容易に入手することができ
る。例えば、共栄社油脂化学工業（株）社製の「ライト
アクリレート」、「ライトエステル」、「エポキシエス
テル」、「ウレタンアクリレート」および「高機能性オ
リゴマー」シリーズ、新中村化学（株）社製の「ＮＫエ
ステル」および「ＮＫオリゴ」シリーズ、日立化成工業
（株）社製の「ファンクリル」シリーズ、東亞合成化学
（株）社製の「アロニックスＭ」シリーズ、大八化学工
業（株）社製の「機能性モノマー」シリーズ、大阪有機
化学工業（株）社製の「特殊アクリルモノマー」シリー
ズ、三菱レイヨン（株）社製の「アクリエステル」およ
び「ダイヤビームオリゴマー」シリーズ、日本化薬
（株）社製の「カヤラッド」および「カヤマー」シリー
ズ、（株）日本触媒社製の「アクリル酸／メタクリル酸
エステルモノマー」シリーズ、日本合成化学工業（株）
社製の「ＮＩＣＨＩＧＯ−ＵＶ紫光ウレタンアクリレー
トオリゴマー」シリーズ、信越酢酸ビニル（株）社製の
「カルボン酸ビニルエステルモノマー」シリーズ、
（株）興人社製の「機能性モノマー」シリーズ等があげ
られる。また以下に示す環状化合物もラジカル重合性化
合物（Ｂ）としてあげられる。 三員環化合物の例：ジャーナル・オブ・ポリマー・サイ
エンス・ポリマー・ケミストリー・エディション（J.Po
lym.Sci.Polym.Chem.Ed.）、第１７巻、３１６９頁（１
９７９年）記載のビニルシクロプロパン類、マクロモレ
キュラー・ケミー・ラピッド・コミュニケーション（Ma
kromol.Chem.Rapid Commun.）、第５巻、６３頁（１９
８４年）記載の１−フェニル−２−ビニルシクロプロパ
ン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリ
マー・ケミストリー・エディション（J.Polym.Sci.Poly
m.Chem.Ed.）、第２３巻、１９３１頁（１９８５年）お
よびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマ
ー・レター・エディション（J.Polym.Sci.Polym.Lett.E
d.）、第２１巻、４３３１頁（１９８３年）記載の２−
フェニル−３−ビニルオキシラン類、日本化学会第５０
春期年会講演予稿集、１５６４頁（１９８５年）記載の
２，３−ジビニルオキシラン類。 環状ケテンアセタール類の例：ジャーナル・オブ・ポリ
マー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディシ
ョン（J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.）、第２０巻、３０
２１頁（１９８２年）およびジャーナル・オブ・ポリマ
ー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション（J.
Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.）、第２１巻、３７３頁（１
９８３年）記載の２−メチレン−１，３−ジオキセパ
ン、ポリマー・プレプレプリント（Polym.Preprint
s）、第３４巻、１５２頁（１９８５年）記載のジオキ
ソラン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・
ポリマー・レター・エディション（J.Polym.Sci.Polym.
Lett.Ed.）、第２０巻、３６１頁（１９８２年）、マク
ロモレキュラー・ケミー（Makromol.Chem.）、第１８３
巻、１９１３頁（１９８２年）およびマクロモレキュラ
ー・ケミー（Makromol.Chem.）、第１８６巻、１５４３
頁（１９８５年）記載の２−メチレン−４−フェニル−
１，３−ジオキセパン、マクロモレキュルズ（Macromol
ecules）、第１５巻、１７１１頁（１９８２年）記載の
４，７−ジメチル−２−メチレン−１，３−ジオキセパ
ン、ポリマー・プレプレプリント（Polym.Preprint
s）、第３４巻、１５４頁（１９８５年）記載の５，６
−ベンゾ−２−メチレン−１，３−ジオセパン。さら
に、ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、以下に示す文献に
記載のものもあげることができる。例えば、山下晋三ら
編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、大成社）
や加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料
編）」、（１９８５年、高分子刊行会）、ラドテック研
究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９
頁、（１９８９年、シーエムシー）、赤松清編、「新・
感光性樹脂の実際技術」、（１９８７年、シーエムシ
ー）、遠藤剛編、「熱硬化性高分子の精密化」、（１９
８６年、シーエムシー）、滝山榮一郎著、「ポリエステ
ル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞
社）があげられる。さらに本発明の重合性組成物は、下
記に示すカルボキシル基含有ポリマー（Ｃ）を添加して
用いることができる。ここでカルボキシル基含有ポリマ
ー（Ｃ）とは、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸
エステル［以下、（メタ）アクリル酸エステルと略記す
る］とアクリル酸との共重合体、（メタ）アクリル酸エ
ステルと（メタ）アクリル酸とこれらと共重合し得るビ
ニルモノマーとの共重合体が挙げられる。これらの共重
合体は単独であるいは２種以上混合しても差し支えな
い。ここで（メタ）アクリル酸エステルとしては、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレ
ート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニル
アクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメ
タクリレート、イソボルニルメタクリレート等が挙げら
れる。また、（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）ア
クリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとして
は、テトラヒドリフルフリルアクリレート、ジメチルア
ミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、
２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，
２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、テ
トラヒドリフルフリルメタクリレート、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、アク
リルアミド、スチレン等が挙げられる。本発明のラジカ
ル重合性化合物（Ｂ）は、ただ一種のみ用いても、所望
とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合
したものを用いても構わない。また本発明の重合開始剤
（Ａ）は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に
対して０．０１から２０重量部の範囲で用いるのが好ま
しく、さらに、０．１から１０重量部の範囲で用いるの
がより好ましい。またカルボキシル基含有ポリマー
（Ｃ）は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に
対して２０から５００重量部の範囲で用いるのが好まし
く、さらに５０から１５０重量部の範囲で用いるのがよ
り好ましい。重合開始剤（Ａ）は複数種を組み合わせて
使用することも可能である。本発明の重合性組成物は、
有機高分子重合体等のバインダーと混合し、ガラス板や
アルミニウム板、その他の金属板、ポリエチレンテレフ
タレートやポリエチレン等のポリマーフィルムに塗布し
て使用することが可能である。本発明の重合性組成物と
混合して使用可能なバインダーとしては、ポリアクリレ
ート類、ポリ−α−アルキルアクリレート類、ポリアミ
ド類、ポリビニルアセタール類、ポリホルムアルデヒド
類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスチレ
ン類、ポリビニルエステル類等の重合体、共重合体があ
げられ、さらに具体的には、ポリメタクリレート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポ
リビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルアセテート、ノボラック樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂そ
の他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、
（シーエムシー、１９８７年）や「１０１８８の化学商
品」、６５７〜７６７頁（化学工業日報社、１９８８
年）記載の業界公知の有機高分子重合体があげられる。
本発明の重合性組成物は、粘度調整をはじめとする塗工
適正の向上等を目的として、必要に応じて溶媒を添加し
て使用することも可能である。本発明の重合性組成物に
添加して使用することのできる溶媒は特に限定されず、
本発明の重合性組成物と均一に混合することのできる溶
媒であればいかなるものも使用可能である。例えば、ア
ルコール系、ケトン系、エステル系、芳香族系、炭化水
素系、ハロゲン化炭化水素系等の公知の溶媒等があげら
れるが、これらに限定されるものではない。また、本発
明の重合性組成物は他の増感剤を用いなくとも十分な感
度を有しているが、さらに感度向上や硬化後の膜特性を
向上させる目的で、増感剤や他の光重合開始剤と併用す
ることが可能である。本発明の重合性組成物と混合して
併用可能な増感剤や他の光重合開始剤としては、ベンゾ
フェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−ト
リメチルベンゾフェノン、４，４’−ジメチルベンゾフ
ェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベン
ゾフェノン類、クマリン１、クマリン３３８、クマリン
１０２等のクマリン類、３，３’−カルボニルビス（７
−ジエチルアミノクマリン）等のケトクマリン類、さら
にチバスペシャリテーケミカルズ光重合開始剤総合カタ
ログ（１９９７年発行）記載のイルガキュアー６５１、
イルガキュアー１８４、ダロキュアー１１７３、イルガ
キュアー５００、イルガキュアー１０００、イルガキュ
アー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー
３６９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１４
９、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５
０、イルガキュアー８１９、イルガキュアー７８４、イ
ルガキュアー２６１があげられる。また、特公昭５９−
１２８１号公報、特公昭６１−９６２１号公報ならびに
特開昭６０−６０１０４号公報記載のトリアジン誘導
体、米国特許第２８４８３２８号、特公昭３６−２２０
６２号公報、特公昭３７−１３１０９号公報、特公昭３
８−１８０１５号公報ならびに特公昭４５−９６１０号
公報記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３
９１６２号公報、特開昭５９−１４０２０３号公報なら
びにMacromolecules誌、第１０巻、第１３０７頁（１９
７７年、米国化学会発行）記載のヨードニウム化合物を
はじめとする各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２
２０５号公報記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０
号公報、ヨーロッパ特許第１０９８５１号、ヨーロッパ
特許第１２６７１２号、Journalof Imaging Science
誌、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）記載の金属ア
レン錯体、特開昭６１−１５１１９７号公報記載のチタ
ノセン類、特開昭５５−１２７５５０号公報ならびに特
開昭６０−２０２４３７号公報記載の２，４，５−トリ
アリールイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−ク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
−１，１’−ビイミダゾール、特開昭５９−１０７３４
４号公報記載の有機ハロゲン化合物等も併用可能な光重
合開始剤としてあげることができる。また、本発明の重
合性組成物は保存時の重合を防止する目的で熱重合防止
剤を添加することが可能である。本発明の重合性組成物
に添加可能な熱重合防止剤の具体例としては、ｐ−メト
キシフェノール、ハイドロキノン、アルキル置換ハイド
ロキノン、カテコール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、
フェノチアジン等をあげることができ、これらの熱重合
防止剤は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に
対して０．００１から５重量部の範囲で添加されるのが
好ましい。また、本発明の重合性組成物はさらに重合を
促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド等に
代表される重合促進剤や連鎖移動触媒を添加することが
可能である。本発明の重合性組成物に添加可能な重合促
進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、Ｎ−フ
ェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリン等のアミン類、米国特許第４４１４３１２
号や特開昭６４−１３１４４号公報記載のチオール類、
特開平２−２９１５６１号公報記載のジスルフィド類、
英国特許第３５５８３２２号や特開昭６４−１７０４８
号公報記載のチオン類、特開平２−２９１５６０号公報
記載のＯ−アシルチオヒドロキサメートやＮ−アルコキ
シピリジンチオン類があげられる。本発明の重合性組成
物はさらに目的に応じて、染料や有機顔料、無機顔料、
ホスフィンやホスホネート、ホスファイト等の酸素除去
剤、還元剤、カブリ防止剤、退色防止剤、ハレーション
防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、着色剤、可塑剤、難
燃剤、酸化防止剤、色素前駆体、紫外線吸収剤、防カビ
剤、帯電防止剤、磁性体、希釈を目的とした有機溶剤等
と混合して使用しても良い。故に、バインダーその他と
ともに基板上に塗布してインキ、刷版材料、フォトレジ
スト、電子写真、ダイレクト刷版材料、ホログラム材料
等の感光材料やマイクロカプセル等の各種記録媒体、さ
らには接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止剤および各種塗
料に応用することが可能である。
合物（Ｂ）について説明する。本発明におけるラジカル
重合性化合物（Ｂ）とは、分子中にラジカル重合可能な
骨格を少なくとも一つ以上を有する化合物を意味する。
また、これらは、いずれも常温、常圧で液体ないし固体
のモノマー、オリゴマーないしポリマーの化学形態を持
つものである。このようなラジカル重合性化合物（Ｂ）
の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽
和カルボン酸およびそれらの塩、エステル、ウレタン、
酸アミドや酸無水物があげられ、さらには、アクリロニ
トリル、スチレン誘導体、種々の不飽和ポリエステル、
不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウ
レタン等があげられるが、本発明はこれらに限定される
ものではない。以下に、本発明におけるラジカル重合性
化合物（Ｂ）の具体例をあげる。 アクリレート類の例： 単官能アルキルアクリレート類の例：メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソ
プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソアミ
ルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘ
キシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルア
クリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリ
レート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシク
ロペンテニルオキシエチルアクリレート、ベンジルアク
リレート。 単官能含ヒドロキシアクリレート類の例：２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルアクリレ
ート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシプロピルア
クリレート、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒド
ロキシプロピルフタレート。 単官能含ハロゲンアクリレート類の例：２，２，２−ト
リフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テト
ラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ−ヘキサフルオ
ロイソプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オク
タフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，
２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、２，６
−ジブロモ−４−ブチルフェニルアクリレート、２，
４，６−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
２，４，６−トリブロモフェノール３ＥＯ付加アクリレ
ート。 単官能含エーテル基アクリレート類の例：２−メトキシ
エチルアクリレート、１，３−ブチレングリコールメチ
ルエーテルアクリレート、ブトキシエチルアクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メ
トキシポリエチレングリコール＃４００アクリレート、
メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキ
シトリプロピレングリコールアクリレート、メトキシポ
リプロピレングリコールアクリレート、エトキシジエチ
レングリコールアクリレート、２−エチルヘキシルカル
ビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジ
エチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチ
レングリコールアクリレート、クレジルポリエチレング
リコールアクリレート、ｐ−ノニルフェノキシエチルア
クリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチレングリコ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート。 単官能含カルボキシルアクリレート類の例：β−カルボ
キシエチルアクリレート、こはく酸モノアクリロイルオ
キシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクト
ンモノアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルハ
イドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピ
ルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプ
ロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アク
リロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタ
レート。 その他の単官能アクリレート類の例：Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリレート、モルホリノエチルアクリレート、
トリメチルシロキシエチルアクリレート、ジフェニル−
２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、２−アク
リロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラ
クトン変性−２−アクリロイルオキシエチルアシッドホ
スフェート。 二官能アクリレート類の例：１，４−ブタンジオールジ
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコール＃２００ジ
アクリレート、ポリエチレングリコール＃３００ジアク
リレート、ポリエチレングリコール＃４００ジアクリレ
ート、ポリエチレングリコール＃６００ジアクリレー
ト、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレング
リコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール＃
４００ジアクリレート、ポリプロピレングリコール＃７
００ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエス
テルジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチ
ルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールビス（２−ヒドロキ
シ−３−アクリロイルオキシプロピル）エーテル、１，
９−ノナンジオールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ートモノステアレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レートモノベンゾエート、ビスフェノールＡジアクリレ
ート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ
変性ビスフェノールＡジアクリレート、水素化ビスフェ
ノールＡジアクリレート、ＥＯ変性水素化ビスフェノー
ルＡジアクリレート、ＰＯ変性水素化ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ビスフェノールＦジアクリレート、Ｅ
Ｏ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ＰＯ変性ビス
フェノールＦジアクリレート、ＥＯ変性テトラブロモビ
スフェノールＡジアクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジア
クリレート。 三官能アクリレート類の例：グリセリンＰＯ変性トリア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレー
ト、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレー
ト、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、イソシ
アヌル酸ＥＯ変性ε−カプロラクトン変性トリアクリレ
ート、１，３，５−トリアクリロイルヘキサヒドロ−ｓ
−トリアジン、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリアクリレートトリプロ
ピオネート。 四官能以上のアクリレート類の例：ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、オリゴエステルテトラアクリレート、
トリス（アクリロイルオキシ）ホスフェート。 メタクリレート類の例： 単官能アルキルメタクリレート類の例：メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、イソアミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、デシルメタクリレート、ラウリルメタクリ
レート、ステアリルメタクリレート、イソボルニルメタ
クリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロ
ペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシ
エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート。 単官能含ヒドロキシメタクリレート類の例：２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルメ
タクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシ
プロピルメタクリレート、２−メタクリロイルオキシエ
チル−２−ヒドロキシプロピルフタレート。 単官能含ハロゲンメタクリレート類の例：２，２，２−
トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−
テトラフルオロプロピルメタクリレート、１Ｈ−ヘキサ
フルオロイソプロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５
Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート、１Ｈ，１
Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
ート、２，６−ジブロモ−４−ブチルフェニルメタクリ
レート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチルメタ
クリレート、２，４，６−トリブロモフェノール３ＥＯ
付加メタクリレート。 単官能含エーテル基メタクリレート類の例：２−メトキ
シエチルメタクリレート、１，３−ブチレングリコール
メチルエーテルメタクリレート、ブトキシエチルメタク
リレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレ
ート、メトキシポリエチレングリコール＃４００メタク
リレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレ
ート、メトキシトリプロピレングリコールメタクリレー
ト、メトキシポリプロピレングリコールメタクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールメタクリレート、２
−エチルヘキシルカルビトールメタクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルメタクリレート、フェノキシエチルメ
タクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタク
リレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリ
レート、クレジルポリエチレングリコールメタクリレー
ト、ｐ−ノニルフェノキシエチルメタクリレート、ｐ−
ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート。 単官能含カルボキシルメタクリレート類の例：β−カル
ボキシエチルメタクリレート、こはく酸モノメタクリロ
イルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロ
ラクトンモノメタクリレート、２−メタクリロイルオキ
シエチルハイドロゲンフタレート、２−メタクリロイル
オキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−メタクリ
ロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレ
ート、２−メタクリロイルオキシプロピルテトラヒドロ
ハイドロゲンフタレート。 その他の単官能メタクリレート類の例：Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノプロピルメタクリレート、モルホリノエチルメタクリ
レート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、ジ
フェニル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェー
ト、２−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェ
ート、カプロラクトン変性−２−メタクリロイルオキシ
エチルアシッドホスフェート。 二官能メタクリレート類の例：１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ル＃２００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール
＃３００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール＃
４００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール＃６
００ジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタ
クリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレー
ト、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポ
リプロピレングリコール＃４００ジメタクリレート、ポ
リプロピレングリコール＃７００ジメタクリレート、ネ
オペンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチル
グリコールＰＯ変性ジメタクリレート、ヒドロキシピバ
リン酸ネオペンチルグリコールエステルジメタクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエス
テルのカプロラクトン付加物ジメタクリレート、１，６
−ヘキサンジオールビス（２−ヒドロキシ−３−メタク
リロイルオキシプロピル）エーテル、１，９−ノナンジ
オールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモ
ノステアレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
トモノベンゾエート、ビスフェノールＡジメタクリレー
ト、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、ＰＯ
変性ビスフェノールＡジメタクリレート、水素化ビスフ
ェノールＡジメタクリレート、ＥＯ変性水素化ビスフェ
ノールＡジメタクリレート、ＰＯ変性水素化ビスフェノ
ールＡジメタクリレート、ビスフェノールＦジメタクリ
レート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジメタクリレート、
ＰＯ変性ビスフェノールＦジメタクリレート、ＥＯ変性
テトラブロモビスフェノールＡジメタクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジメタクリレート、イソシア
ヌル酸ＥＯ変性ジメタクリレート。 三官能メタクリレート類の例：グリセリンＰＯ変性トリ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリメタクリ
レート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリメタクリ
レート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリメタクリレート、
イソシアヌル酸ＥＯ変性ε−カプロラクトン変性トリメ
タクリレート、１，３，５−トリメタクリロイルヘキサ
ヒドロ−ｓ−トリアジン、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレ
ートトリプロピオネート。 四官能以上のメタクリレート類の例：ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタメタクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリ
スリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールメ
タンテトラメタクリレート、オリゴエステルテトラメタ
クリレート、トリス（メタクリロイルオキシ）ホスフェ
ート。 アリレート類の例：アリルグリシジルエーテル、ジアリ
ルフタレート、トリアリルトリメリテート、イソシアヌ
ル酸トリアリレート。 酸アミド類の例：アクリルアミド、Ｎ−メチロールアク
リルアミド、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミ
ド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、アクリロイルモ
ルホリン、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリ
ルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルア
ミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、メタクリロ
イルモルホリン。 スチレン類の例：スチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、
ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｐ−メチル
スチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシス
チレン、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルスチレン、ｐ−ｔ
−ブトキシカルボニルオキシスチレン、２，４−ジフェ
ニル−４−メチル−１−ペンテン。 他のビニル化合物の例：酢酸ビニル、モノクロロ酢酸ビ
ニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、酪酸ビニル、
ラウリン酸ビニル、アジピン酸ジビニル、メタクリル酸
ビニル、クロトン酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニ
ル、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン
等。上記のラジカル重合性化合物（Ｂ）は、以下に示す
メーカーの市販品として、容易に入手することができ
る。例えば、共栄社油脂化学工業（株）社製の「ライト
アクリレート」、「ライトエステル」、「エポキシエス
テル」、「ウレタンアクリレート」および「高機能性オ
リゴマー」シリーズ、新中村化学（株）社製の「ＮＫエ
ステル」および「ＮＫオリゴ」シリーズ、日立化成工業
（株）社製の「ファンクリル」シリーズ、東亞合成化学
（株）社製の「アロニックスＭ」シリーズ、大八化学工
業（株）社製の「機能性モノマー」シリーズ、大阪有機
化学工業（株）社製の「特殊アクリルモノマー」シリー
ズ、三菱レイヨン（株）社製の「アクリエステル」およ
び「ダイヤビームオリゴマー」シリーズ、日本化薬
（株）社製の「カヤラッド」および「カヤマー」シリー
ズ、（株）日本触媒社製の「アクリル酸／メタクリル酸
エステルモノマー」シリーズ、日本合成化学工業（株）
社製の「ＮＩＣＨＩＧＯ−ＵＶ紫光ウレタンアクリレー
トオリゴマー」シリーズ、信越酢酸ビニル（株）社製の
「カルボン酸ビニルエステルモノマー」シリーズ、
（株）興人社製の「機能性モノマー」シリーズ等があげ
られる。また以下に示す環状化合物もラジカル重合性化
合物（Ｂ）としてあげられる。 三員環化合物の例：ジャーナル・オブ・ポリマー・サイ
エンス・ポリマー・ケミストリー・エディション（J.Po
lym.Sci.Polym.Chem.Ed.）、第１７巻、３１６９頁（１
９７９年）記載のビニルシクロプロパン類、マクロモレ
キュラー・ケミー・ラピッド・コミュニケーション（Ma
kromol.Chem.Rapid Commun.）、第５巻、６３頁（１９
８４年）記載の１−フェニル−２−ビニルシクロプロパ
ン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリ
マー・ケミストリー・エディション（J.Polym.Sci.Poly
m.Chem.Ed.）、第２３巻、１９３１頁（１９８５年）お
よびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマ
ー・レター・エディション（J.Polym.Sci.Polym.Lett.E
d.）、第２１巻、４３３１頁（１９８３年）記載の２−
フェニル−３−ビニルオキシラン類、日本化学会第５０
春期年会講演予稿集、１５６４頁（１９８５年）記載の
２，３−ジビニルオキシラン類。 環状ケテンアセタール類の例：ジャーナル・オブ・ポリ
マー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディシ
ョン（J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.）、第２０巻、３０
２１頁（１９８２年）およびジャーナル・オブ・ポリマ
ー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション（J.
Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.）、第２１巻、３７３頁（１
９８３年）記載の２−メチレン−１，３−ジオキセパ
ン、ポリマー・プレプレプリント（Polym.Preprint
s）、第３４巻、１５２頁（１９８５年）記載のジオキ
ソラン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・
ポリマー・レター・エディション（J.Polym.Sci.Polym.
Lett.Ed.）、第２０巻、３６１頁（１９８２年）、マク
ロモレキュラー・ケミー（Makromol.Chem.）、第１８３
巻、１９１３頁（１９８２年）およびマクロモレキュラ
ー・ケミー（Makromol.Chem.）、第１８６巻、１５４３
頁（１９８５年）記載の２−メチレン−４−フェニル−
１，３−ジオキセパン、マクロモレキュルズ（Macromol
ecules）、第１５巻、１７１１頁（１９８２年）記載の
４，７−ジメチル−２−メチレン−１，３−ジオキセパ
ン、ポリマー・プレプレプリント（Polym.Preprint
s）、第３４巻、１５４頁（１９８５年）記載の５，６
−ベンゾ−２−メチレン−１，３−ジオセパン。さら
に、ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、以下に示す文献に
記載のものもあげることができる。例えば、山下晋三ら
編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、大成社）
や加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料
編）」、（１９８５年、高分子刊行会）、ラドテック研
究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９
頁、（１９８９年、シーエムシー）、赤松清編、「新・
感光性樹脂の実際技術」、（１９８７年、シーエムシ
ー）、遠藤剛編、「熱硬化性高分子の精密化」、（１９
８６年、シーエムシー）、滝山榮一郎著、「ポリエステ
ル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞
社）があげられる。さらに本発明の重合性組成物は、下
記に示すカルボキシル基含有ポリマー（Ｃ）を添加して
用いることができる。ここでカルボキシル基含有ポリマ
ー（Ｃ）とは、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸
エステル［以下、（メタ）アクリル酸エステルと略記す
る］とアクリル酸との共重合体、（メタ）アクリル酸エ
ステルと（メタ）アクリル酸とこれらと共重合し得るビ
ニルモノマーとの共重合体が挙げられる。これらの共重
合体は単独であるいは２種以上混合しても差し支えな
い。ここで（メタ）アクリル酸エステルとしては、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレ
ート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニル
アクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメ
タクリレート、イソボルニルメタクリレート等が挙げら
れる。また、（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）ア
クリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとして
は、テトラヒドリフルフリルアクリレート、ジメチルア
ミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、
２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，
２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、テ
トラヒドリフルフリルメタクリレート、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、アク
リルアミド、スチレン等が挙げられる。本発明のラジカ
ル重合性化合物（Ｂ）は、ただ一種のみ用いても、所望
とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合
したものを用いても構わない。また本発明の重合開始剤
（Ａ）は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に
対して０．０１から２０重量部の範囲で用いるのが好ま
しく、さらに、０．１から１０重量部の範囲で用いるの
がより好ましい。またカルボキシル基含有ポリマー
（Ｃ）は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に
対して２０から５００重量部の範囲で用いるのが好まし
く、さらに５０から１５０重量部の範囲で用いるのがよ
り好ましい。重合開始剤（Ａ）は複数種を組み合わせて
使用することも可能である。本発明の重合性組成物は、
有機高分子重合体等のバインダーと混合し、ガラス板や
アルミニウム板、その他の金属板、ポリエチレンテレフ
タレートやポリエチレン等のポリマーフィルムに塗布し
て使用することが可能である。本発明の重合性組成物と
混合して使用可能なバインダーとしては、ポリアクリレ
ート類、ポリ−α−アルキルアクリレート類、ポリアミ
ド類、ポリビニルアセタール類、ポリホルムアルデヒド
類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスチレ
ン類、ポリビニルエステル類等の重合体、共重合体があ
げられ、さらに具体的には、ポリメタクリレート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポ
リビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルアセテート、ノボラック樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂そ
の他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、
（シーエムシー、１９８７年）や「１０１８８の化学商
品」、６５７〜７６７頁（化学工業日報社、１９８８
年）記載の業界公知の有機高分子重合体があげられる。
本発明の重合性組成物は、粘度調整をはじめとする塗工
適正の向上等を目的として、必要に応じて溶媒を添加し
て使用することも可能である。本発明の重合性組成物に
添加して使用することのできる溶媒は特に限定されず、
本発明の重合性組成物と均一に混合することのできる溶
媒であればいかなるものも使用可能である。例えば、ア
ルコール系、ケトン系、エステル系、芳香族系、炭化水
素系、ハロゲン化炭化水素系等の公知の溶媒等があげら
れるが、これらに限定されるものではない。また、本発
明の重合性組成物は他の増感剤を用いなくとも十分な感
度を有しているが、さらに感度向上や硬化後の膜特性を
向上させる目的で、増感剤や他の光重合開始剤と併用す
ることが可能である。本発明の重合性組成物と混合して
併用可能な増感剤や他の光重合開始剤としては、ベンゾ
フェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−ト
リメチルベンゾフェノン、４，４’−ジメチルベンゾフ
ェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベン
ゾフェノン類、クマリン１、クマリン３３８、クマリン
１０２等のクマリン類、３，３’−カルボニルビス（７
−ジエチルアミノクマリン）等のケトクマリン類、さら
にチバスペシャリテーケミカルズ光重合開始剤総合カタ
ログ（１９９７年発行）記載のイルガキュアー６５１、
イルガキュアー１８４、ダロキュアー１１７３、イルガ
キュアー５００、イルガキュアー１０００、イルガキュ
アー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー
３６９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１４
９、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５
０、イルガキュアー８１９、イルガキュアー７８４、イ
ルガキュアー２６１があげられる。また、特公昭５９−
１２８１号公報、特公昭６１−９６２１号公報ならびに
特開昭６０−６０１０４号公報記載のトリアジン誘導
体、米国特許第２８４８３２８号、特公昭３６−２２０
６２号公報、特公昭３７−１３１０９号公報、特公昭３
８−１８０１５号公報ならびに特公昭４５−９６１０号
公報記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３
９１６２号公報、特開昭５９−１４０２０３号公報なら
びにMacromolecules誌、第１０巻、第１３０７頁（１９
７７年、米国化学会発行）記載のヨードニウム化合物を
はじめとする各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２
２０５号公報記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０
号公報、ヨーロッパ特許第１０９８５１号、ヨーロッパ
特許第１２６７１２号、Journalof Imaging Science
誌、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）記載の金属ア
レン錯体、特開昭６１−１５１１９７号公報記載のチタ
ノセン類、特開昭５５−１２７５５０号公報ならびに特
開昭６０−２０２４３７号公報記載の２，４，５−トリ
アリールイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−ク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
−１，１’−ビイミダゾール、特開昭５９−１０７３４
４号公報記載の有機ハロゲン化合物等も併用可能な光重
合開始剤としてあげることができる。また、本発明の重
合性組成物は保存時の重合を防止する目的で熱重合防止
剤を添加することが可能である。本発明の重合性組成物
に添加可能な熱重合防止剤の具体例としては、ｐ−メト
キシフェノール、ハイドロキノン、アルキル置換ハイド
ロキノン、カテコール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、
フェノチアジン等をあげることができ、これらの熱重合
防止剤は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）１００重量部に
対して０．００１から５重量部の範囲で添加されるのが
好ましい。また、本発明の重合性組成物はさらに重合を
促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド等に
代表される重合促進剤や連鎖移動触媒を添加することが
可能である。本発明の重合性組成物に添加可能な重合促
進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、Ｎ−フ
ェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリン等のアミン類、米国特許第４４１４３１２
号や特開昭６４−１３１４４号公報記載のチオール類、
特開平２−２９１５６１号公報記載のジスルフィド類、
英国特許第３５５８３２２号や特開昭６４−１７０４８
号公報記載のチオン類、特開平２−２９１５６０号公報
記載のＯ−アシルチオヒドロキサメートやＮ−アルコキ
シピリジンチオン類があげられる。本発明の重合性組成
物はさらに目的に応じて、染料や有機顔料、無機顔料、
ホスフィンやホスホネート、ホスファイト等の酸素除去
剤、還元剤、カブリ防止剤、退色防止剤、ハレーション
防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、着色剤、可塑剤、難
燃剤、酸化防止剤、色素前駆体、紫外線吸収剤、防カビ
剤、帯電防止剤、磁性体、希釈を目的とした有機溶剤等
と混合して使用しても良い。故に、バインダーその他と
ともに基板上に塗布してインキ、刷版材料、フォトレジ
スト、電子写真、ダイレクト刷版材料、ホログラム材料
等の感光材料やマイクロカプセル等の各種記録媒体、さ
らには接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止剤および各種塗
料に応用することが可能である。
【００２６】
【作用】本発明の重合開始剤（Ａ）は、紫外線から可視
光領域の照射光に対して鋭敏なラジカル重合開始剤とし
て機能する。特に３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍ
といった水銀ランプからの照射光に対して高い感度を発
現する。その反応メカニズムについては以下のように考
えられる。重合開始剤（Ａ）中のスルホニウム構造はそ
れ自身が、紫外線から可視領域に好適な吸収を有してい
るため、増感機能を併せ持った重合開始剤として機能す
る。すなわち、光励起された場合、分子内で効率的な電
子移動あるいはエネルギー移動を起こして、非常に速や
かに光分解してラジカルを生成することが可能であるた
め高感度な重合開始剤として機能していると考えられ
る。また重合開始剤（Ａ）中のスルホニウムイオンは電
子受容性が高いため、光励起された際には自身の分解だ
けでなく、カウンターアニオンが電子供与性を有する場
合にはさらに効率的に分解が進行すると考えられる。一
般式（１）中のアニオンＺ-が一般式（２）で表される
ボレートアニオンの場合には、該ボレートアニオンは電
子供与性が高いだけでなく、アニオン自身も分解してフ
リーラジカルを発生する。したがってこの場合、フリー
ラジカルは、スルホニウムカチオン、ボレートアニオン
双方から発生するため極めて高い感度が得られる。
光領域の照射光に対して鋭敏なラジカル重合開始剤とし
て機能する。特に３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍ
といった水銀ランプからの照射光に対して高い感度を発
現する。その反応メカニズムについては以下のように考
えられる。重合開始剤（Ａ）中のスルホニウム構造はそ
れ自身が、紫外線から可視領域に好適な吸収を有してい
るため、増感機能を併せ持った重合開始剤として機能す
る。すなわち、光励起された場合、分子内で効率的な電
子移動あるいはエネルギー移動を起こして、非常に速や
かに光分解してラジカルを生成することが可能であるた
め高感度な重合開始剤として機能していると考えられ
る。また重合開始剤（Ａ）中のスルホニウムイオンは電
子受容性が高いため、光励起された際には自身の分解だ
けでなく、カウンターアニオンが電子供与性を有する場
合にはさらに効率的に分解が進行すると考えられる。一
般式（１）中のアニオンＺ-が一般式（２）で表される
ボレートアニオンの場合には、該ボレートアニオンは電
子供与性が高いだけでなく、アニオン自身も分解してフ
リーラジカルを発生する。したがってこの場合、フリー
ラジカルは、スルホニウムカチオン、ボレートアニオン
双方から発生するため極めて高い感度が得られる。
【００２７】
【実施例】以下、実施例にて本発明を具体的に説明する
が、本発明は下記の実施例のみに、なんら限定されるも
のではない。尚、特に断りのない限り、例中、部とは重
量部を示す。まず、実施例に先だって、上述した本発明
の重合開始剤（Ａ）の合成例のいくつかを示す。 合成例１ 化合物（１）の合成 Dimethyl-(2-oxo-2-(2-oxo-2H-chromen-3-yl)ethyl)sul
fonium bromide １．０８部をアセトニトリル１００部
に溶解せしめ、攪拌しながら、Lithium butyltriphenyl
borate １．００部を含んだ水溶液１００部を、１０分
間かけて２５℃にて滴下した後、イオン交換水５００部
を加えた。生成した淡黄色結晶を濾過、蒸留水にて洗浄
後、減圧下乾燥し、化合物（１）０．８５部を得た。
が、本発明は下記の実施例のみに、なんら限定されるも
のではない。尚、特に断りのない限り、例中、部とは重
量部を示す。まず、実施例に先だって、上述した本発明
の重合開始剤（Ａ）の合成例のいくつかを示す。 合成例１ 化合物（１）の合成 Dimethyl-(2-oxo-2-(2-oxo-2H-chromen-3-yl)ethyl)sul
fonium bromide １．０８部をアセトニトリル１００部
に溶解せしめ、攪拌しながら、Lithium butyltriphenyl
borate １．００部を含んだ水溶液１００部を、１０分
間かけて２５℃にて滴下した後、イオン交換水５００部
を加えた。生成した淡黄色結晶を濾過、蒸留水にて洗浄
後、減圧下乾燥し、化合物（１）０．８５部を得た。
【００２８】元素分析 C35H37BO3S 理論値 C, 76.63; H, 6.80; S, 5.85 測定値 C, 76.61; H, 6.80; S, 5.84 合成例２ 化合物（５）の合成 Dimethyl-[2-oxo-2-(10-oxo-2,3,5,6-tetrahydro-1H,4
H,10H-11-oxa-3a-aza-benzo[de]anthracen-9-yl)ethyl]
sulfonium bromide １．３８部をアセトニトリル１００
部に溶解せしめ、攪拌しながら、Lithium butyltriphen
ylborate１．００部を含んだ水溶液１００部を、１０分
間かけて２５℃にて滴下した後、イオン交換水５００部
を加えた。生成した淡黄色結晶を濾過、蒸留水にて洗浄
後、減圧下乾燥し、化合物（５）０．９３部を得た。
H,10H-11-oxa-3a-aza-benzo[de]anthracen-9-yl)ethyl]
sulfonium bromide １．３８部をアセトニトリル１００
部に溶解せしめ、攪拌しながら、Lithium butyltriphen
ylborate１．００部を含んだ水溶液１００部を、１０分
間かけて２５℃にて滴下した後、イオン交換水５００部
を加えた。生成した淡黄色結晶を濾過、蒸留水にて洗浄
後、減圧下乾燥し、化合物（５）０．９３部を得た。
【００２９】元素分析 C41H46BNO3S 理論値 C, 76.50; H, 7.20; N, 2.18; S, 4.98 測定値 C, 76.49; H, 7.17; N, 2.14; S, 4.94 実施例１〜実施例６および比較例１〜比較例４ 重合開始剤（Ａ）６部、ラジカル重合性化合物（Ｂ）と
してペンタエリスリトールトリアクリレート１００部、
溶剤としてシクロヘキサノン１６００部および増感剤０
部または３部からなる重合性組成物を第１表に示す組成
にて配合し、塗工液を調整した。この塗工液をスピンコ
ーターを用いてガラス板に塗工し、６０℃で１０分間乾
燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜圧は約２．０
μｍであった。この塗工物に対して、３５０〜３８０ｎ
ｍの光を選択的に透過するバンドパスフィルターを通し
て高圧水銀ランプの光を照射することにより８０ｍＪ／
ｃｍ2のエネルギーを与えた。光照射後における重合性
組成物の膜のタックを評価した結果を第１表に示した。
比較例に使用した重合開始剤および増感剤は以下に示す
構造を有する。
してペンタエリスリトールトリアクリレート１００部、
溶剤としてシクロヘキサノン１６００部および増感剤０
部または３部からなる重合性組成物を第１表に示す組成
にて配合し、塗工液を調整した。この塗工液をスピンコ
ーターを用いてガラス板に塗工し、６０℃で１０分間乾
燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜圧は約２．０
μｍであった。この塗工物に対して、３５０〜３８０ｎ
ｍの光を選択的に透過するバンドパスフィルターを通し
て高圧水銀ランプの光を照射することにより８０ｍＪ／
ｃｍ2のエネルギーを与えた。光照射後における重合性
組成物の膜のタックを評価した結果を第１表に示した。
比較例に使用した重合開始剤および増感剤は以下に示す
構造を有する。
【００３０】
【表１】
【００３１】化合物（７）
【００３２】
【化１０】
【００３３】化合物（８）
【００３４】
【化１１】
【００３５】化合物（９）
【００３６】
【化１２】
【００３７】化合物（１０）
【００３８】
【化１３】
【００３９】実施例７〜実施例１２および比較例５〜比
較例７ 重合開始剤（Ａ）６部、ラジカル重合性化合物（Ｂ）と
してペンタエリスリトールトリアクリレート１００部、
溶剤としてシクロヘキサノン１６００部および増感剤０
部または３部からなる重合性組成物を第２表に示す組成
にて配合し、塗工液を調整した。この塗工液をスピンコ
ーターを用いてガラス板に塗工し、６０℃で１０分間乾
燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜圧は約２．０
μｍであった。この塗工物に対して、３９０〜４２０ｎ
ｍの光を選択的に透過するバンドパスフィルターを通し
て高圧水銀ランプの光を照射することにより２００ｍＪ
／ｃｍ2のエネルギーを与えた。光照射後における重合
性組成物膜のタックを評価した結果を第２表に示した。
較例７ 重合開始剤（Ａ）６部、ラジカル重合性化合物（Ｂ）と
してペンタエリスリトールトリアクリレート１００部、
溶剤としてシクロヘキサノン１６００部および増感剤０
部または３部からなる重合性組成物を第２表に示す組成
にて配合し、塗工液を調整した。この塗工液をスピンコ
ーターを用いてガラス板に塗工し、６０℃で１０分間乾
燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜圧は約２．０
μｍであった。この塗工物に対して、３９０〜４２０ｎ
ｍの光を選択的に透過するバンドパスフィルターを通し
て高圧水銀ランプの光を照射することにより２００ｍＪ
／ｃｍ2のエネルギーを与えた。光照射後における重合
性組成物膜のタックを評価した結果を第２表に示した。
【００４０】
【表２】
【００４１】実施例１３〜実施例２８ 実施例１におけるペンタエリスリトールトリアクリレー
ト１００部のかわりに、第３表に示したラジカル重合性
化合物（Ｂ）各々１００部にかえた他は、実施例１と全
く同様の操作で、実験をそれぞれ行った。いずれの実施
例もタックフリーの膜が得られた。 第３表 ─────────────────────────────────── 実施例 ラジカル重合性化合物（Ｂ） ─────────────────────────────────── 13 トリメチロールフ゜ロハ゜ントリアクリレート 14 2-エチルヘキシルアクリレート 15 2-ヒト゛ロキシエチルアクリレート 16 1,6-ヘキサンシ゛オールシ゛アクリレート 17 エチレンク゛リコールシ゛アクリレート 18 ホ゜リフ゜ロヒ゜レンク゛リコールシ゛アクリレート 19 ヘ゜ンタエリスリトールシ゛アクリレート 20 ヘ゜ンタエリスリトールテトラアクリレート 21 シ゛ヘ゜ンタエリスリトールヘキサアクリレート 22 2-エチルヘキシルメタクリレート 23 ク゛リシシ゛ルメタクリレート 24 1,6-ヘキサンシ゛オールシ゛メタクリレート 25 シ゛エチレンク゛リコールシ゛メタクリレート 26 トリメチロールフ゜ロハ゜ントリメタクリレート 27 シ゛アリルフタレート 28 トリアリルトリメリテート ─────────────────────────────────── 実施例２９〜実施例３４および比較例８〜１１ 重合開始剤（Ａ）３部、ラジカル重合性化合物（Ｂ）と
してペンタエリスリトールトリアクリレート５０部、カ
ルボキシル基含有ポリマー（Ｃ）としてメタクリル酸／
メチルメタクリレート／ブチルメタクリレート／２−エ
チルヘキシルアクリレート共重合体（共重合比＝重量換
算で２５／５０／５／２０、重量平均分子量１０万）５
０部、溶剤としてメチルエチルケトン１６００部、増感
剤０部または２部からなる組成物を第４表のように配合
し、スピンコーターを用いて乾燥後の膜圧が約１．５μ
ｍの厚みになるようにステンレス板上に塗布した。この
重合性組成物が塗布されたステンレス板をオーブン中６
０℃にて１分間保持して乾燥させた後、該ステンレス板
を日本分光（株）ＳＳ−２５ＣＰ型分光照射装置を用い
て露光した。露光後、１％炭酸ナトリウム水溶液にて該
ステンレス板を現像し、不溶化した段数を評価した結果
を第４表に示した。この実験では硬化した段数の値が大
きいほど高い感度を有している。
ト１００部のかわりに、第３表に示したラジカル重合性
化合物（Ｂ）各々１００部にかえた他は、実施例１と全
く同様の操作で、実験をそれぞれ行った。いずれの実施
例もタックフリーの膜が得られた。 第３表 ─────────────────────────────────── 実施例 ラジカル重合性化合物（Ｂ） ─────────────────────────────────── 13 トリメチロールフ゜ロハ゜ントリアクリレート 14 2-エチルヘキシルアクリレート 15 2-ヒト゛ロキシエチルアクリレート 16 1,6-ヘキサンシ゛オールシ゛アクリレート 17 エチレンク゛リコールシ゛アクリレート 18 ホ゜リフ゜ロヒ゜レンク゛リコールシ゛アクリレート 19 ヘ゜ンタエリスリトールシ゛アクリレート 20 ヘ゜ンタエリスリトールテトラアクリレート 21 シ゛ヘ゜ンタエリスリトールヘキサアクリレート 22 2-エチルヘキシルメタクリレート 23 ク゛リシシ゛ルメタクリレート 24 1,6-ヘキサンシ゛オールシ゛メタクリレート 25 シ゛エチレンク゛リコールシ゛メタクリレート 26 トリメチロールフ゜ロハ゜ントリメタクリレート 27 シ゛アリルフタレート 28 トリアリルトリメリテート ─────────────────────────────────── 実施例２９〜実施例３４および比較例８〜１１ 重合開始剤（Ａ）３部、ラジカル重合性化合物（Ｂ）と
してペンタエリスリトールトリアクリレート５０部、カ
ルボキシル基含有ポリマー（Ｃ）としてメタクリル酸／
メチルメタクリレート／ブチルメタクリレート／２−エ
チルヘキシルアクリレート共重合体（共重合比＝重量換
算で２５／５０／５／２０、重量平均分子量１０万）５
０部、溶剤としてメチルエチルケトン１６００部、増感
剤０部または２部からなる組成物を第４表のように配合
し、スピンコーターを用いて乾燥後の膜圧が約１．５μ
ｍの厚みになるようにステンレス板上に塗布した。この
重合性組成物が塗布されたステンレス板をオーブン中６
０℃にて１分間保持して乾燥させた後、該ステンレス板
を日本分光（株）ＳＳ−２５ＣＰ型分光照射装置を用い
て露光した。露光後、１％炭酸ナトリウム水溶液にて該
ステンレス板を現像し、不溶化した段数を評価した結果
を第４表に示した。この実験では硬化した段数の値が大
きいほど高い感度を有している。
【００４２】
【表３】
【００４３】
【発明の効果】本発明の重合開始剤（Ａ）はラジカル重
合性化合物（Ｂ）の重合開始剤として有効であり、これ
らからなる重合性組成物は、光の照射により良好な物性
をもった硬化物を得ることが可能である。また、紫外線
から可視光領域の照射光に対して非常に高感度であるた
め、低エネルギーの露光によっても効率的に硬化するこ
とが可能である。したがって、本発明の重合性組成物
は、成型樹脂、注型樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、
光造形樹脂、プリント基板用レジスト、カラーフィルタ
ー用レジスト、ドライフィルムレジスト、マイクロエレ
クトロニクス用レジスト、印刷版用感光性樹脂、感光性
インキジェット、印刷（オフセット、グラビア、シルク
スクリーン）用インキ、印刷校正用カラープルーフ、塗
料、表面コート剤、接着剤、粘着剤、離型剤、ホログラ
ム記録材料等の各種材料に好適に使用できる。
合性化合物（Ｂ）の重合開始剤として有効であり、これ
らからなる重合性組成物は、光の照射により良好な物性
をもった硬化物を得ることが可能である。また、紫外線
から可視光領域の照射光に対して非常に高感度であるた
め、低エネルギーの露光によっても効率的に硬化するこ
とが可能である。したがって、本発明の重合性組成物
は、成型樹脂、注型樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、
光造形樹脂、プリント基板用レジスト、カラーフィルタ
ー用レジスト、ドライフィルムレジスト、マイクロエレ
クトロニクス用レジスト、印刷版用感光性樹脂、感光性
インキジェット、印刷（オフセット、グラビア、シルク
スクリーン）用インキ、印刷校正用カラープルーフ、塗
料、表面コート剤、接着剤、粘着剤、離型剤、ホログラ
ム記録材料等の各種材料に好適に使用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J011 AA01 QA03 QA06 QA08 QA09 QA12 QA13 QA15 QA17 QA21 QA23 QA24 QA27 QA32 QA33 QA34 QA35 QA37 QA39 QA42 QB14 QB16 SA22 SA62 SA83 UA01 UA06 VA01 VA04 WA01 WA02 WA05 WA06 WA07 4J015 EA03 EA04 EA05 EA06
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式（１）で表される重合開始剤
（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）とを含んでなる重
合性組成物。 一般式（１） 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に
水素原子、アルキル基、またはアリール基を表す。
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロ
キシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシル
オキシ基、アシル基、またはアミノ基を表す。Ｚ-は任
意のアニオンを表す。）
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001098756A JP4132709B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001098756A JP4132709B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 重合性組成物 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002293816A true JP2002293816A (ja) | 2002-10-09 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007178848A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 |
| JP2013047211A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-03-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 塩及びレジスト組成物 |
| US8404427B2 (en) | 2005-12-28 | 2013-03-26 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, and pattern-forming method and resist film using the photosensitive composition |
| JP2014094925A (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-22 | Adeka Corp | 芳香族スルホニウム塩化合物 |
| JP2015168617A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-28 | 株式会社Adeka | 芳香族スルホニウム塩化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物 |
| JP2018043979A (ja) * | 2016-09-07 | 2018-03-22 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| US10131646B2 (en) | 2015-03-18 | 2018-11-20 | Adeka Corporation | Aromatic sulfonium salt compound, photoacid generator, resist composition, cationic polymerization initiator, and cationically polymerizable composition |
| CN114262395A (zh) * | 2022-01-05 | 2022-04-01 | 江南大学 | 一种含硫鎓盐杂化型光引发剂的光固化体系和应用 |
-
2001
- 2001-03-30 JP JP2001098756A patent/JP4132709B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007178848A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 |
| US7749679B2 (en) * | 2005-12-28 | 2010-07-06 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, pattern-forming method using the photosensitive composition and compounds used in the photosensitive composition |
| US8404427B2 (en) | 2005-12-28 | 2013-03-26 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, and pattern-forming method and resist film using the photosensitive composition |
| JP2013047211A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-03-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 塩及びレジスト組成物 |
| JP2014094925A (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-22 | Adeka Corp | 芳香族スルホニウム塩化合物 |
| JP2015168617A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-28 | 株式会社Adeka | 芳香族スルホニウム塩化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物 |
| US10131646B2 (en) | 2015-03-18 | 2018-11-20 | Adeka Corporation | Aromatic sulfonium salt compound, photoacid generator, resist composition, cationic polymerization initiator, and cationically polymerizable composition |
| JP2018043979A (ja) * | 2016-09-07 | 2018-03-22 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| CN114262395A (zh) * | 2022-01-05 | 2022-04-01 | 江南大学 | 一种含硫鎓盐杂化型光引发剂的光固化体系和应用 |
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