JP2736132B2 - 非磁性金属化ポリエステルフイルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、グラフィック用途等に使用される非磁性金
属化ポリエステルフイルムに関する。

［従来の技術］ グラフィック用、装飾用に用いられるポリエステルフ
イルムとして、表面に非磁性金属（たとえばアルミニウ
ム）の層を積層した非磁性金属化ポリエステルフイルム
が知られている。これらの用途においては、平滑フイル
ム表面に非磁性金属の層を積層し、該非磁性金属層の表
面も平滑にした鏡面に近いものが要求されることもある
が、逆に、高級感等を出すために、非磁性金属層の表面
を艶消しタイプの面としたものが要求されることが多
い。

このような艶消しタイプの表面は、通常、表面に微小
凹凸（突起）を形成し、光を適当に乱反射させることに
よって得られる。非磁性金属の層は、たとえば蒸着等に
より、通常極めて薄い厚さで積層されるから、非磁性金
属層自身で表面突起を形成するのは困難なことが多く、
基材となるポリエステルフイルムの表面に微小突起を形
成し、該表面上に積層される非磁性金属層の表面に、フ
イルム表面突起をトレースさせて、艶消しのための微小
凹凸を形成することが考えられる。

このような表面に微小凹凸（突起）を形成したフイル
ムとして、ポリエステルにコロイド状シリカに起因する
実質的に球形のシリカ粒子を含有させた二軸配向ポリエ
ステルフイルムが知られている（たとえば特開昭59−17
1623号公報）。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記のような従来の二軸配向ポリエス
テルフイルムでは、含有されたシリカ粒子が、フイルム
の厚さ方向全域にわたって略ランダムに分布するため、
フイルム表面における含有粒子による突起の密度増大に
は限界があり、しかもその突起高さもランダムに相当ば
らつくことになる。そのため、このフイルム表面上に非
磁性金属層を積層した場合、非磁性金属層の表面突起の
高さもばらつくことになり、高さの高い部分が削れやす
くなるとともに、突起による艶消し状態もばらつくこと
になり、表面の光沢度（艶消し度）が不均一になる。ま
た、非磁性金属層の表面突起の高密度化にも限界がある
ため、艶消し効果にも限界があり、しかもその密度がば
らつくため、やはり艶消し状態がばらつくことになる。
したがって、前記従来の二軸配向ポリエステルフイルム
では、艶消し効果上、および非磁性金属層の耐久性上不
十分なものしか得られなかった。

また別の問題として、一般に樹脂フイルム上に金属層
を積層した場合、両層の物性（とくに熱膨張、熱収縮
率）の違いから、加工工程における熱的負荷等により、
製品となるべき金属化フイルムにカールが生じることが
多い。この点、上述の如く表面突起が形成されたフイル
ム表面に極薄の非磁性金属層を設けるようにすると、非
磁性金属層自身があたかも波打つようになるので構造的
に上記熱膨張差、熱収縮差は吸収されやすくなり、カー
ルが生じにくくなる。しかし前記従来のポリエステルフ
イルムでは、表面突起を高密度に形成できない上、その
突起の高さもばらついているので、カール防止効果も不
十分である。

本発明は、基材フイルム表面の突起の高密度化と高さ
の均一化を達成し、その上に積層される非磁性金属層の
表面にも均一な高さの突起を高密度に形成して、その表
面の艶消し効果を高めるとともに均一な艶消し状態を達
成し、さらに、その非磁性金属層の耐久性を向上し、非
磁性金属化ポリエステルフイルムのカールも抑えること
を目的とする。

［課題を解決するための手段］ この目的に沿う本発明の非磁性金属化ポリエステルフ
イルムは、ポリエステルＡと粒径比（長径／短径の比）
が1.0〜1.3の不活性粒子とを主成分とするフイルムを共
押出によりポリエステルＢを主成分とするフイルムの少
なくとも片面に積層した二軸配向ポリエステルフイルム
の前記ポリエステルＡのフイルム層表面に、融解熱40ca
l/g以上の非磁性金属からなる層を積層した非磁性金属
化ポリエステルフイルムであって、前記不活性粒子の平
均粒径が該不活性粒子を含む前記ポリエステルＡの積層
フイルムの厚さの0.1〜100倍であり、該ポリエステルＡ
の積層フイルム中の前記不活性粒子の含有量が0.01〜10
重量％であるものから成る。

本発明におけるポリエステルＡは、特に限定されるこ
とはないが、特に、エチレンテレフタレート、エチレン
α、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−4,4′
−ジカルボキシレート、エチレン2,6−ナフタレート単
位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成
分とする場合に表面突起の形成、基材フイルムとしての
耐久性がより一層良好となるので望ましい。また、本発
明を構成するポリエステルは結晶性である場合に耐久性
がより一層良好となるのできわめて望ましい。ここでい
う結晶性とはいわゆる非晶質ではないことを示すもので
あり、定量的には結晶化パラメータにおける冷結晶化温
度Tccが検出され、かつ結晶化パラメータ△Tcgが150℃
以下のものである。さらに、示差走査熱量計で測定され
た融解熱（融解エンタルピー変化）が0.1cal/g以上の結
晶性を示す場合に耐久性がより一層良好となるのできわ
めて望ましい。また、エチレンテレフタレートを主要構
成成分とするポリエステルの場合に基材フイルム表面強
度がより一層良好となるので特に望ましい。なお、本発
明を阻害しない範囲内で、２種以上のポリエステルを混
合しても良いし、ポリエチレンテレフタレート、イソフ
タレート、ポリシクロヘキサン、ジメチレン、エチレン
テレフタレート等の共重合ポリマを用いても良い。

本発明のポリエステルＡ中の不活性粒子の形状は、フ
イルム中での粒径比（粒子の長径／短径）が1.0〜1.3の
粒子、特に、球形状の粒子の場合に、最終的に非磁性金
属膜表面に形成される突起の高さを均一化しやすく、か
つ高密度化しやすいので望ましい。

また、本発明のポリエステルＡ中の不活性粒子はフイ
ルム中での単一粒子指数が0.7以上、好ましくは0.9以上
である場合に基材フイルム表面強度がより一層良好とな
るので特に望ましい。

本発明のポリエステルＡ中の不活性粒子の種類は特に
限定されないが、上記の好ましい粒子特性を満足させる
には好ましい粒子として、コロイダルシリカに起因する
実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子（た
とえば架橋ポリスチレン）などがある。特に10重量％減
量時温度（窒素中で熱重量分析装置島津TG−30Mを用い
て測定。昇温速度20℃／分）が380℃以上になるまで架
橋度を高くした架橋高分子粒子が特に望ましい。なお、
コロイダルシリカに起因する球形シリカの場合にはアル
コキシド法で製造された、ナトリウム含有量が少ない、
実質的に球形のシリカが特に望ましい。しかしながら、
その他の粒子、例えば炭酸カルシウム、二酸化チタン、
アルミナ等の粒子でもフイルム厚さと平均粒径の適切な
コントロールにより十分使いこなせるものである。

不活性粒子の大きさは、該不活性粒子を含有する積層
フイルム中での平均粒径が該積層フイルム厚さの0.1〜1
00倍、好ましくは1.1〜50倍、さらに好ましくは1.9〜30
倍の範囲とされる。平均粒径／フイルム厚さ比が上記の
範囲より小さいと表面に形成される突起の高さが不均一
になり、表面の強度が不良となり、逆に大きくても表面
強度が不良となるので好ましくない。

また、ポリエステルＡ中の不活性粒子のフイルム中で
の平均粒径（直径）が0.007〜10μｍ、好ましくは0.02
〜８μｍさらに好ましくは0.1〜５μｍの範囲である場
合に、非磁性金属層表面の艶消し効果、非磁性金属層の
強度がより一層良好となるので望ましい。

つまり、本発明における基材フイルムの積層フイルム
層には、該フイルム厚さ近傍あるいはそれよりも大きな
平均粒径の不活性粒子が含有される。換言すれば、極薄
積層フイルムに、そのフイルム厚さ近傍あるいはそれよ
りも大きな平均粒径の微小不活性粒子が含有される。し
たがって、二軸配向ポリエステルフイルム全体に対し、
その厚さ方向に、実質的に積層フイルム層のみに集中し
て不活性粒子を分布させることができる。その結果、積
層フイルム中における粒子密度を容易に高くすることが
でき、該粒子により形成されるフイルム表面の突起の密
度も容易に高めることができる。また、不活性粒子は、
上記積層フイルム中に含有されることで、二軸配向ポリ
エステルフイルム全体に対し、その厚さ方向に位置規制
されることになり、しかも積層フイルムの厚さと平均粒
径とは前述の如き関係にあるから、該粒子により形成さ
れる表面突起の高さは、極めて均一になる。

上記不活性粒子のポリエステルＡの積層フイルム中の
含有量は、0.01〜10重量％の範囲とされる。この範囲よ
りも少ないと、形成される突起の密度が低いため、目標
とする非磁性金属層表面の艶消し効果が得られず、かつ
非磁性金属層強度向上効果が不十分となる。逆に上記範
囲よりも多いと、不活性粒子が凝集しやすくなって、凝
集粒子が不均一な高さの突起を形成する機会が多くなる
ので望ましくない。

このようなポリエステルＡと不活性粒子とを主成分と
するフイルムがポリエステルＢを主成分とするフイルム
に積層され、基材フイルムが構成される。

ポリエステルＢは、前述のポリエステルＡと同様のも
のからなり、ポリエステルＢとポリエステルＡとは同じ
種類のものでも異なるものでもよい。ポリエステルＡの
フイルム層は、ポリエステルＢからなるフイルム層の両
面、又は片面に積層される。つまり、積層構成がA/B/
A、A/Bの場合であるが、もちろん、Ａと異なる表面状態
を有るＣ層をＡと反対面に設けたA/B/Cでも、あるいは
それ以上の多層構造でもよい。（ここで、Ａ、Ｂ、Ｃそ
れぞれの樹脂の種類は同種でも、異種でもよい。また、
少なくとも片方の表面はＡ層であることが必要であ
る。） ポリエステルＢとしても、結晶性ポリマが望ましく、
特に、結晶性パラメータ△Tcgが20〜100℃の範囲の場合
に、該ポリエステルＢのフイルム表面の耐スクラッチ性
（傷付き防止性）等がより一層良好となるので望まし
い。具体例として、エチレンテレフタレート、エチレン
α、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−4,4′
−ジカルボキシレート、エチレン2,6−ナフタレート単
位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成
分とする場合に耐スクラッチ性が特に良好となるので望
ましい。ただし、本発明を阻害しない範囲内、望ましい
結晶性を損なわない範囲内で、好ましくは５モル％以内
であれば他成分が共重合されていてもよい。

本発明のポリエステルＢにも、本発明の目的を阻害し
ない範囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、ま
た酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有
機添加剤が通常添加される程度添加されていてもよい。

ポリエステルＢを主成分とするフイルム中には不活性
粒子を含有している必要は特にないが、このフイルム層
が基材フイルムの一面を形成する場合、平均粒径が0.00
7〜10μｍ、特に0.02〜６μｍの不活性粒子が0.001〜0.
2重量％、特に0.005〜0.15重量％、さらには0.005〜0.1
2重量％含有されていると、加工工程上、使用上におい
て、摩擦係数や、耐スクラッチ性がより一層良好となる
のみならず、フイルムの巻姿が良好となるのできわめて
望ましい。含有する不活性粒子の種類はポリエステルＡ
に望ましく用いられるものを使用することが望ましい。
ポリエステルＡとＢに含有される粒子の種類、大きさは
同じでも異なっていても良い。

上述の如き不活性粒子を含有するポリエステルＡと、
ポリエステルＢとが共押出により積層され、シート状に
成形された後二軸に延伸され、二軸配向ポリエステルフ
イルムとされる。本発明における共押出による積層と
は、不活性粒子を含有するポリエステルＡと、ポリエス
テルＢとをそれぞれ異なる押出装置で押出し、口金から
積層シートを吐出する前にこれらを積層することをい
う。この積層は、シート状に成形、吐出するための口金
内（たとえばマニホルド）で行ってもよいが、前述の如
く積層フイルム層が極薄であることから、口金に導入す
る前のポリマ管内で行うことが好ましい。とくに、ポリ
マ管内の積層部を、矩形に形成しておくと、幅方向に均
一に積層できるので特に好ましい。ポリマ管内矩形積層
部で積層された溶融ポリマは、口金内マニホルドでシー
ト幅方向に所定幅まで拡幅され、口金からシート状に吐
出された後、二軸に延伸される。したがって、たとえ二
軸配向後の積層フイルム層が極薄であっても、ポリマ管
内矩形積層部では、不活性粒子含有ポリエステルポリマ
を、かなりの厚さで積層することになるので、容易にか
つ精度よく積層できる。

また、本発明の二軸配向ポリエステルフイルムにおい
ては、不活性粒子を含む積層フイルム側の表面の不活性
粒子による粒子濃度比が0.1以下であることが好まし
い。この表面粒子濃度比は、後述の測定法に示す如く、
フイルム表面突起を形成する不活性粒子がフイルム表面
において如何にポリエステルＡの薄膜で覆われているか
を示すものであり、粒子がフイルム表面に実質的に直接
露出している度合が高い程表層粒子濃度比が高く、表面
突起は形成するがポリエステルＡの薄膜に覆われている
度合が高い程表層粒子濃度比は低い。突起を形成する不
活性粒子がポリエステルＡの薄膜で覆われていることに
より、不活性粒子が高密度に極薄積層フイルム層に分布
している状態にあっても、該粒子が該積層フイルム層、
ひいてはポリエステルＢのベースフイルム層にしっかり
と保持されることになる。したがって、表層粒子濃度比
を上記値以下とすることにより、粒子の脱落等が防止さ
れて、フイルム表面の耐久性が高く維持され、さらには
その上に積層される非磁性金属層の耐久性も高く維持さ
れる。このような表層粒子濃度比は、共押出による積層
を行うことによって達成可能となる。ちなみに、コーテ
ィング方法によっても、本発明と同様の密度の表面突起
を有するフイルム、すなわち、ポリエステルＢのフイル
ム層に対し極薄厚さで樹脂層をコーティングし、該樹脂
層内に不活性粒子を含有させることは可能であるが、表
層粒子濃度比が著しく高くなり（つまり粒子が実質的に
表面に直接露出する度合が著しく高くなり）、本発明フ
イルムに比べ表面の極めて脆いものしか得られない。

上記の如き、含有不活性粒子により表面に均一かつ高
密度に突起の形成された基材フイルムのポリエステルＡ
側の表面に非磁性金属膜が積層される。

本発明における非磁性金属としては、融解熱40cal/g
以上のものを対象とし、代表的なものとして、アルミニ
ウム、銅、タングステン、ニッケル、マンガン等が挙げ
られるが、グラフィック用途、装飾用途で特に多用され
ているのはアルミニウムである。また、非磁性金属膜の
厚さとしては、0.01〜25μｍ、より好ましくは0.01〜６
μｍであり、非磁性金属膜の形成法としては、スパッタ
リング法、蒸着法、イオンプレーティング法、メッキ
法、塗布法、極薄箔積層等各種ある。

このように、本発明においては、均一な高さでかつ高
密度に突起の形成された、基材フイルムのポリエステル
Ａ側の表面に非磁性金属の薄層が積層され、該突起によ
り非磁性金属膜が支持されて非磁性金属膜自身の強度が
向上されるとともに、基材フイルムの表面突起により極
薄の非磁性金属膜の層を介して実質的に略等しいサイズ
で非磁性金属膜の表面にも突起が形成（トレース）さ
れ、非磁性金属膜の表面の艶消し効果が著しく高められ
ると同時に、均一な突起高さの削れにくい耐久性の高い
表面を形成することができる。また、均一な高さでかつ
高密度な突起を有するフイルム面上に非磁性金属膜が積
層されるから、非磁性金属膜は細かくかつ均一にうねっ
た層となり、該層と基材フイルム層との間に物性差があ
ったとしても、熱膨張、熱収縮等の差が上記うねり構造
によって吸収され、非磁性金属化ポリエステルフイルム
としてカールが発生しなくなる。

次に本発明の非磁性金属化ポリエステルフイルムの製
造方法について説明する。

まず、ポリエステルＡに不活性粒子を含有せしめる方
法としては、重合後、重合中、重合前のいずれでも良い
が、ポリマにベント方式の２軸押出機を用いて練り込む
方法が本発明範囲の表面形態のフイルムを得るのに有効
である。また、粒子の含有量を調節する方法としては、
上記方法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時
に不活性粒子を実質的に含有しないポリエステルで希釈
して粒子の含有量を調節する方法が本発明範囲の表面形
態のフイルムを得るのに有効である。さらにこの粒子高
濃度マスターポリマの溶融粘度、共重合成分などを調節
して、その結晶化パラメータ△Tcgを30〜80℃の範囲に
しておく方法は延伸破れなく、本発明範囲の表面形態の
フイルムを得るのに有効である。

かくして、不活性粒子を含有するペレットＡを十分乾
燥したのち、公知の溶融押出機に供給し、ポリエステル
の融点以上分解点以下の温度で溶融し、もう一方の実質
的に不活性粒子を含有しないポリエステルＢ（種類は不
活性粒子を含有するポリエステルと同一であっても異な
っていてもよい）を前述の如き積層用装置に供給し、ス
リット状のダイからシート状の押出し、キャスティング
ロール上で冷却固化せしめて未延伸フイルムを作る。す
なわち、２または３台の押出機、２または３層用の合流
ブロックあるいは口金を用いて、これらのポリエステル
ポリマを積層する。合流ブロック方式を用いる場合は積
層部分を前述の如く矩形のものとし、両ポリエステルの
溶融粘度の差（絶対値）を０〜2000ポイズ、好ましくは
０〜1000ポイズの範囲にしておくことが本発明範囲の表
面形態のフイルムを安定して、幅方向の斑なく、工業的
に製造するのに有効である。

次にこの複層の未延伸フイルムを二軸延伸し、二軸配
向せしめる。二軸延伸の方法は同時二軸延伸、逐次二軸
延伸法のいずれでもよいが、長手方向、幅方向の順に延
伸する逐次二軸延伸法の場合に本発明範囲の表面形態の
フイルムを安定して、幅方向の斑なく、工業的に製造す
るのに有効である。逐次二軸延伸の場合、長手方向の延
伸を、３段階、特に４段階以上に分けて、40〜150℃の
範囲で、かつ、1000〜50000％／分の延伸速度で、３〜
６倍行なう方法は本発明範囲の表面形態を有するフイル
ムを得るのに有効である。幅方向の延伸温度、速度は、
80〜170℃、1000〜20000％／分の範囲が好適である。延
伸倍率は３〜10倍が好適である。また必要に応じてさら
に長手方向、幅方向の少なくとも一方向に延伸すること
もできる。いずれにしても不活性粒子を含有するきわめ
て薄い層を設けてから、面積延伸倍率（長手方向倍率×
幅方向倍率）として９倍以上の延伸を行なうことが本発
明のポイントである。次にこの延伸フイルムを熱処理す
る。この場合の熱処理条件としては、幅方向に弛緩、微
延伸、定長下のいずれかの状態で140〜280℃、好ましく
は160〜220℃の範囲で0.5〜60秒間が好適であるが、熱
処理にマイクロ波加熱を併用することによって本発明範
囲の表面形態を有するフイルムが得られやすくなるので
望ましい。

本発明の基材製法の特徴は、特殊な方法で調製した特
定範囲の熱特性を有する高濃度粒子ポリマを用いて、不
活性粒子を含有するきわめて薄い層を設けた後にフイル
ムを二軸延伸することであり、製膜工程内で、フイルム
を一軸延伸した後、コーティングなどを施しさらに延伸
する方法、あるいは二軸延伸フイルムにコーティングし
て作られる積層フイルムでは本発明フイルムの性能には
遠く及ばず、また、コスト面でも本発明フイルムが優れ
ている。

かくして得られた二軸配向ポリエステルフイルムを用
途に応じて適当な幅にスリットして基材フイルムとし、
該基材フイルムのポリエステルＡ層側の表面に、非磁性
金属膜が積層されて非磁性金属化ポリエステルフイルム
が作製される。非磁性金属膜は、たとえばアルミニウム
よりなり、前述の如き各種方法により形成可能である。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］ 本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次
の通りである。

（１）粒子の平均粒径 フイルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法
（たとえばヤマト科学製PR−503型）で除去し粒子を露
出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒子
はダメージを受けない条件を選択する。これをSEM（走
査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像（粒子によって
できる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケ
ンブリッジインストルメント製QTM900）に結び付け、観
察箇所を変えて粒子数5000個以上で次の数値処理を行な
い、それによって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。

Ｄ＝ΣDi/N ここで、Diは粒子の円相当径、Ｎは個数である。

（２）粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。

（３）ガラス点移転Tg、冷結晶化温度Tcc、結晶化パラ
メータ△Tcg、融点 パーキンエルマー社製のDSC（示差走査熱量計）II型
を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りである。
すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、300℃の温度
で５分間溶融した後、液体窒素中に急冷する。この急冷
試料を10℃／分で昇温し、ガラス転移点Tgを検知する。
さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度Tccとした。さらに昇温を続
け、融解ピーク温度を融点とした。また、TccとTgの差
（Tcc−Tg）を結晶化パラメータ△Tcgと定義する。

（４）表面突起の平均高さ ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ESM−3200、エリ
オニスク（株）製］と断面測定装置［PMS−１、エリオ
ニクス（株）製］においてフイルム表面の平坦面の高さ
を０として走査したときの突起の高さ測定値を画像処理
装置［IBAS2000、カールツァイス（株）製］に送り、画
像処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起行部分を２値化して得られ
た個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さと
し、これを個々の突起について求める。この測定を場所
をかえて500回繰返し、突起個数を求め、測定された全
突起についてその高さの平均値を平均高さとした。また
走査型電子顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間の値を選
択する。なお、場合によっては、高精度光干渉式３次元
表面解析装置（WYKO社製TOPO−3D、対物レンズ:40〜200
倍、高解像度カメラ使用が有効）を用いて得られる高さ
情報を上記SEMの値に読み替えて用いてもよい。

（５）表層粒子濃度比 ２次イオンマススペクトル（SIMS）を用いて、フイル
ム中の粒子に起因する元素の内のもっとも高濃度の元素
とポリエステルの炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚
さ方向の分析を行なう。SIMSによって測定される最表層
粒子濃度（深さ０の点）における粒子濃度Ａとさらに深
さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Ｂの比、A/Bを
表層粒子濃度比と定義した。測定装置、条件は下記のと
おりである。

測定装置 ２次イオン質量分析装置（SIMS） 西独、ATOMIKA社製Ａ−DIDA3000 測定条件 １次イオン種:O₂ ⁺ １次イオン加速電圧:12KV １次イオン電流:200nA ラスター領域:400μｍ□ 分析領域：ゲート30％ 測定真空度:6.0×10⁹Torr Ｅ−GUN:0.5KV−3.0A （６）単一粒子指数 フイルムの断面を透過型電子顕微鏡（TEM）で写真観
察し、粒子を検知する。観察倍率を100000倍程度にすれ
ば、それ以上分けることができない１個の粒子が観察で
きる。粒子の占める全面積をＡ、その内２個以上の粒子
が凝集している凝集体の占める面積をＢとした時、（Ａ
−Ｂ）/Aをもって、単一粒子指数とする。TEM条件は下
記のとおりであり１視野面積:2μm²の測定を場所を変え
て、500視野測定する。

・装置：日本電子製JEM−1200EX ・観察倍率:100000倍 ・切片厚さ：約1000オングストローム （７）粒径比 上記（１）の測定において個々の粒子の長径の平均値
／短径の平均値の比である。

すなわち、下式で求められる。

長径＝ΣD1i/N 短径＝ΣD2i/N D1i、D2iはそれぞれ個々の粒子の長径（最大径）、短
径（最短径）、Ｎは総個数である。

なお、粒径比は、粒子の長径、短径をSEM観察により1
00個以上の粒子について測定し、上記の如く、長径の平
均値／短径の平均値の比として求めた。

（８）積層されたフイルム中の熱可塑性樹脂Ａ層の厚さ ２次イオン質量分析装置（SIMS）を用いて、フイルム
中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリエ
ステルの炭素元素の濃度比（M⁺/C⁺）を粒子濃度とし、
ポリエステルＡ層の表面から深さ（厚さ）方向の分析を
行なう。表層では表面という界面のために粒子濃度は低
く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発
明フイルムの場合は深さ［Ｉ］でいったん極大値となっ
た粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をも
とに極大値の粒子濃度の1/2になる深さ［II］（ここでI
I＞Ｉ）を積層厚さとした。条件は測定法（５）と同様
である。

なお、フイルム中にもっとも多く含有する粒子が有機
高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、表面か
らエッチングしながらXPS（Ｘ線光電子分光法）、IR
（赤外分光法）あるいはコンフォーカル顕微鏡などで、
その粒子濃度のデプスプロファイルを測定し、上記同様
の手法から積層厚さを求めても良い。

（９）非磁性金属層表面の艶消し効果 艶消し効果を、表面の光沢度によって評価した。つま
り、光沢度が高い程艶消し効果は悪く、光沢度が低い程
艶消し効果が良い。光沢度の測定は、標準光源からの光
を、規定の角度で試料面に当て、正反射成分を受光器で
測定することにより行う。上記規定の角度は、入射角60
度とし、受光器で正反射成分を測定するので、受光角も
60度とする。光沢度の基準としては、次に規定する基準
面、一次基準面又は二次基準面を用いる。

（イ）基準面は、屈折率1,567のガラス表面とし、この
場合の値を100（％）として表す。

（ロ）一次基準面は、屈折率が既知の透明又は黒色ガラ
スの平滑面とする。

（ハ）二次基準面は、高光沢、中光沢及び低光沢の光沢
度をもつ光沢板で、一次基準面によって校正したものと
する。

試験片の大きさは100×100mm以上とし、３個の試験片
の測定の平均値をとる。上記受光器を含む光沢度測定装
置の標準校正を一次基準面又は二次基準面を用いて行っ
た後、各試料の測定を行う。

（10）非磁性金属膜の耐久性 幅1/2インチの非磁性金属化ポリエステルフイルムを
テープ走行試験機を使用して、ガイドピン（表面粗度:R
aで100nm）上を走行させる（走行速度1000m/分、走行回
数10パス、巻き付け角:60゜、走行張力:20g）。この
時、非磁性金属膜表面に入った傷を顕微鏡で観察し、幅
2.5μｍ以上の傷がテープ幅あたり２本未満は優、２本
以上10本未満は良、10本以上は不良と判定した。優が望
ましいが、良でも実用的には使用可能である。

（11）カール 非磁性金属化フイルムから500×500mmの正方形の試料
を切り出し、そのカールの状態を下記の５段階に分類
し、ＤとＥはカール：良好、Ａ、Ｂ、Ｃはカール：不良
と判定した。

A:完全に筒状を呈するもの。

B:Aに近い状態だが、筒の一部が開口しているもの。

C:Bの開口部が広がったものであるが、側面の最長部を
円の直径とできるもの。

D:Cの開口部がさらに広がったものであり、側面の最長
部を円の直径とはできないもの。

E:カールの全くないもの、またはほとんどないもの。

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１〜７、比較例１〜６ 平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子（粒径比1.0
3）、コロイダルシリカに起因するシリカ粒子（粒径比
1.08）を含有するエチレングリコールスラリーを調製
し、このエチレングリコールスラリーを190℃で1.5時間
熱処理した後、テレフタル酸ジメチルとエステル交換反
応後、重縮合し、該粒子を0.3〜55重量％含有するポリ
エチレンテレフタレート（以下PETと略記する）のペレ
ットを作った。このペレットを用いてポリエステルＡを
調製し、また、常法によって、実質的に不活性粒子を含
有しないPETを製造し、ポリエステルＢとした。これら
のポリマをそれぞれ180℃で３時間減圧乾燥（3Torr）し
た。ポリエステルＡを押出機１に供給し310℃で溶融
し、さらに、ポリエステルＢを押出機２に供給、280℃
で溶融し、これらのポリマを矩形積層部を備えた合流ブ
ロックで合流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面
温度30℃のキャスティング・ドラムに巻きつけて冷却固
化し、片面にポリエステルＡ層を有する２層構造の未延
伸フイルムを作った。この時、それぞれの押出機の吐出
量を調節し総厚さ、ポリエステルＡ層の厚さを調節し
た。（ただし比較例５はＢ層単層）。この未延伸フイル
ムを温度80℃にて長手方向に4.5倍延伸した。この延伸
は２組ずつのロールの周速差で、４段階で行なった。こ
の一軸延伸フイルムをステンタを用いて延伸速度2000％
／分で100℃で幅方向に4.0倍延伸し、定長下で、200℃
にて５秒間熱処理し、総厚さ60μｍ、ポリエステルＡ層
厚さ0.08〜４μｍの二軸配向積層フイルムを得た。これ
らのフイルムを1/2インチ幅にスリットして基材フイル
ムとし、該基材フイルムのポリエステルＡ層の表面に、
アルミニウムよりなる非磁性金属膜を蒸着法により積層
して非磁性金属化ポリエステルフイルムを作成した。

基材フイルムとしての各パラメータは第１表に示した
とおりであり、これらが本発明の範囲内の場合には、光
沢度（艶消し効果）、非磁性金属膜の耐久性、カールの
各特性は第１表に示したとおり良好な値を示したが、粒
径比、t/dが本発明の範囲外であるものはこれらの特性
を兼備することはできなかった。特に比較例６では、粒
径比を1.5としたシリカ粒子を用いたところ、非磁性金
属膜の耐久性が大きく低下した。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の非磁性金属化ポリエス
テルフイルムによるときは、基材フイルムを共押出によ
る積層二軸配向ポリエステルフイルムとし、特定サイ
ズ、含有量の不活性粒子を含有するポリエステルＡ層の
表面に、高さの均一な突起を高密度で形成し、該突起に
より非磁性金属膜を構造的に強固に支持するとともに、
非磁性金属膜表面にトレースされる突起も高さが均一で
かつ高密度に形成できるようにしたもので、むらのない
かつ極めて高い艶消し効果を得ることができ、かつ、非
磁性金属自身の耐久性も大幅に向上でき、しかも非磁性
金属化ポリエステルフイルムとしてカールのない良好な
製品を得ることができる。

また、本発明の非磁性金属化ポリエステルフイルムの
基材フイルムとしての二軸配向ポリエステルフイルム
は、製膜工程内で、コーティングなどの操作なしで共押
出により直接複合積層することによって作ったフイルム
であり、製膜工程中あるいはその後のコーティングによ
って作られる積層フイルムに比べて、最表層の分子も二
軸配向であるため、上述した特性以外、例えば、表面の
耐削れ性もはるかに優れ、しかもコスト面、品質の安定
性などにおいて有利である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｂ３２Ｂ 7/02 １０３ Ｂ３２Ｂ 7/02 １０３ 27/20 27/20 Ｚ // Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 9:00 (72)発明者 伊藤 達也 滋賀県大津市園山１丁目１番１号 東レ 株式会社滋賀事業場内 (56)参考文献 特開 昭62−225345（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリエステルＡと粒径比（長径／短径の
   比）が1.0〜1.3の不活性粒子とを主成分とするフイルム
   を、共押出により、ポリエステルＢを主成分とするフイ
   ルムの少なくとも片面に積層した二軸配向ポリエステル
   フイルムの前記ポリエステルＡのフイルム層表面に、融
   解熱40cal/g以上の非磁性金属からなる層を積層した非
   磁性金属化ポリエステルフイルムであって、前記不活性
   粒子の平均粒径が該不活性粒子を含む前記ポリエステル
   Ａの積層フイルムの厚さの0.1〜100倍であり、該ポリエ
   ステルＡの積層フイルム中の前記不活性粒子の含有量が
   0.01〜10重量％であることを特徴とする非磁性金属化ポ
   リエステルフイルム。
2. 【請求項２】前記不活性粒子を含むポリエステルＡの積
   層フイルムの表面の不活性粒子の粒子濃度比が0.1以下
   である請求項１記載の非磁性金属化ポリエステルフイル
   ム。