JP2713281B2 - 半導体封止材料用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止材料用エポキシ樹脂組成物

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JP2713281B2 JP1532596A JP1532596A JP2713281B2 JP 2713281 B2 JP2713281 B2 JP 2713281B2 JP 1532596 A JP1532596 A JP 1532596A JP 1532596 A JP1532596 A JP 1532596A JP 2713281 B2 JP2713281 B2 JP 2713281B2
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修二 中村
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規にして有用なる
半導体封止材用エポキシ樹脂組成物に関し、さらに詳細
には、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノンとエピク
ロルヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂を用
いた耐熱性と靱性に優れる半導体封止材料を提供する為
の組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】エポキシ樹脂は、種々の硬化剤で硬化さ
せることにより、一般的に機械的性質、耐水性、耐薬品
性、耐熱性、電気的性質などの優れた硬化物となり、接
着剤、塗料、積層板、成形材料、注型材料および半導体
封止材料など幅広い分野に使用されている。
【0003】最も汎用的なエポキシ樹脂は、ビスフェノ
ールAにエピクロルヒドリンを反応させて得られる液状
および固形のビスフェノールA型エポキシ樹脂であり、
これらは靱性に優れる硬化物を与えるが、1分子あたり
のグリシジル基が2個より多くないために架橋密度が低
く、耐熱性に劣る硬化物になる傾向にある。
【0004】このような欠点を改良するために、いわゆ
る多官能エポキシ樹脂であるノボラック型エポキシ樹脂
などが使用されているが、これらの場合確かに耐熱性は
向上するものの、靱性が低いという欠点を有している
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そこでビスフェノール
A型エポキシ樹脂の靱性とノボラック型エポキシ樹脂の
耐熱性を兼ね備えたエポキシ樹脂の開発が望まれてい
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等はこうした実
状に鑑みて、ノボラック型エポキシ樹脂の様に強靱なエ
ポキシ樹脂組成物を求めて鋭意研究した結果、4,4’
−ジヒドロキシベンゾフェノンにエピクロルヒドリンを
反応させて得られるエポキシ樹脂を必須の成分とし、か
かるエポキシ樹脂成分に硬化剤と、さらに必要に応じて
硬化促進剤とを配合せしめてなる組成物が、前述された
ごとき特性を兼ね備えたものであることを見いだして、
本発明を完成させるに至った。
【0007】すなわち、本発明は、4、4'−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンとエピクロルヒドリンを反応させて得ら
れるエポキシ樹脂と、硬化剤とを必須成分として含有す
ることを特徴とする半導体封止材料用エポキシ樹脂組成
物、および、下記、一般式[II]で示されるエポキシ樹
脂と、硬化剤とを必須成分として含有することを特徴と
する半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供するもので
ある。
【0008】
【化2】
【0009】[nは0〜10を表わす。]
【0010】本発明で用いるエポキシ樹脂は、4,4’
−ジヒドロキシベンゾフエノン、即ち、構造式(I)
【0011】
【化3】
【0012】で示される化合物に塩基の存在下エピクロ
ルヒドリンを反応せしめることにより容易に得られる。
【0013】この場合の反応条件は、従来より行われて
いるエポキシ樹脂の製造条件と同じであり、特に制限さ
れるものではない。例えば、4,4’−ジヒドロキシベ
ンゾフェノンの1モルに対し、エピクロルヒドリンを
1.4〜20モル添加し、塩基の存在下に20〜120
℃で2〜7時間エポキシ化を行うことができる。
【0014】エポキシ化の際に用いる塩基は、特に限定
されるものではないが、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムが例示される。上
記の様に得られるエポキシ樹脂は、特にその構造が特定
されるものではないが、耐熱性の点からエポキシ当量が
163〜350であることが好ましく、特にエポキシ当
量が163〜300であることが耐熱性向上の効果が顕
著なものとなる。また、得られるエポキシ樹脂の具体的
な構造としては、以下の一般式[II]、
【0015】
【化4】
【0016】[nは0〜10を表わす。]で示されるエ
ポキシ樹脂が挙げられる。ここにおいてもnが0〜1.
3の場合耐熱性が良好なものとなり、特にnが0〜0.
9の場合その効果が顕著なものとなる。
【0017】この様なエポキシ樹脂の分子量、エポキシ
当量、軟化点の調節は、4,4’−ジヒドロキシベンゾ
フェノンのモル数に対するエピクロルヒドリンのモル数
の過剰率を調節することによって行なうことができる。
即ち、エピクロルヒドリンの過剰率を下げるとエポキシ
樹脂の分子量が高くなり、靱性の高い硬化物を与えるよ
うになり、逆に上げると分子量が低くなり、耐熱性の高
い硬化物を与えるようになる傾向がある。ただし、一般
的には過剰率が8倍を超えるとそれ以上耐熱性に優れた
硬化物を与えるエポキシ樹脂は得られにくくなるので、
過剰率は10倍以下にすることが望ましい。
【0018】本発明の半導体封止材料用エポキシ樹脂組
成物は、4,4’−シドヒドロキシベンゾフェノンとエ
ビクロルヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂
と、硬化剤と必須の成分としているが、通常、これらの
成分と充填剤と、更に必要に応じて硬化促進剤とを公知
慣用の方法で混合せしめれば容易に目的とする半導体封
止材料が得られる。
【0019】本発明に用いられる硬化剤は、特に限定さ
れるものでなく、通常エポキシ樹脂の硬化剤として常用
されている化合物はすべて使用することができ、ジエチ
レントリアミン、トリエテレンテトラミンなどの脂肪族
アミン類、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニ
ルメタン、ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族ア
ミン類、ポリアミド樹脂およびこれらの変性物、無水マ
レイン酸、無水フタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、
無水ピロメリット酸などの酸無水物系硬化剤、多価フェ
ノール類、ノボラック樹脂などのフェノール性水酸基を
有する化合物、ジシアンジアミド、イミダゾール、BF
3−アミン錯体、グアニジン誘導体、などの潜在性硬化
剤などが上げられる。
【0020】硬化剤の使用量は、特に限定されるもので
はないが、エポキシ樹脂の一分子中に含まれるエポキシ
基の数と、硬化剤中のアミノ基またはイミノ基、フェノ
ール性水酸基などの活性水素基の数あるいは酸無水物基
の数が当量付近となる量が一般的である。
【0021】上掲されたごとき各化合物を硬化剤として
用いる際は、多くの場合さらに硬化促進剤をも併用する
ことが必要となるが、そうした場合にはジメチルベンジ
ルアミンなどのごとき三級アミン類、イミダゾール類、
または各種金属化合物などをはじめ、公知慣用の硬化促
進剤ならすべて使用できることは勿論である。本発明の
組成物には、さらに必要に応じて、公知慣用のエポキシ
樹脂や充填剤、着色剤、離型剤、シランカップリング剤
などの各種添加剤をも添加配合せしめることができ、ま
たタール、ピッチ、アミノ樹脂、アルキッド樹脂、フェ
ノール樹脂なども併用することができる。
【0022】本発明の半導体封止材料用エポキシ樹脂組
成物は、耐熱性と靱性のいずれにも優れているので、樹
脂封止電気電子部品を製造した場合の耐ハンダクラック
性などの特性が著しく良好になる。
【0023】
【実施例】次に本発明を製造例、実施例および比較例に
より具体的に説明するが、以下において部は特に断りの
無い限りすべて重量部であるものとする。
【0024】製造例1 4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン214g(1モ
ル)をエピクロルヒドリン740g(8モル)に溶解さ
せた後、攪拌下80℃で20%NaOH水溶液440g
(2.2モル)を5時間かけて滴下し、過剰のエピクロ
ルヒドリンを蒸留回収して得られた生成物に、トルエン
490gを加え均一に溶解させ、水160gを加えて水
洗した後、油水分離し、油層から共沸蒸留により水を除
いた後、濾過し、更にトルエンを溜去させて、エポキシ
当量が180なるエポキシ樹脂(a)310gを得た。
【0025】製造例2 エピクロルヒドリンの使用量を324g(3.5モル)
に変更した以外は製造例1と同様にして、エポキシ当量
が197なるエポキシ樹脂(b)305gを得た。
【0026】製造例3 4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン214g(1モ
ル)をエピクロルヒドリン231g(2.5モル)およ
びトルエン54gの混合物に溶解させた後、攪拌下80
℃で20%NaOH水溶液440g(2.2モル)を5
時間かけて滴下し、更に1時間反応させ、水層を棄却し
た後、過剰のエピクロルヒドリンを蒸留回収して得られ
た生成物に、ついでトルエン490gを加え均一に溶解
させ、水160gを加えて水洗した後、油水分離し、油
層から共沸蒸留により水を除いた後、濾過し、更にトル
エンを溜去させて、エポキシ当量が208なるエポキシ
樹脂(c)300gを得た。
【0027】実施例1〜3および比較例1〜2 エポキシ樹脂として製造例1〜3で得られたエポキシ樹
脂(a)〜(c)、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂 EPICLON N−738(大日本インキ化学工
業(株)、エポキシ当量180)またはビスフェノールA
型エポキシ樹脂EPICLON 840(同社製、エポ
キシ当量185)、硬化剤としてEPICLONB−5
70(同社製、メチルテトラヒドロフタル酸無水物)、
硬化促進剤として2ーエチル−4−メチルイミダゾール
を用い、エポキシ樹脂のエポキシ基1個に対して硬化剤
の酸無水物が1個になるように表−1に示す組成で配合
して、本発明および比較対照用のエポキシ樹脂組成物を
得た。これらのエポキシ樹脂組成物を100℃で2時
間、ついで160℃で2時間、更に180℃で2時間の
条件で硬化せしめて試験片とし、JIS K−6911
に準拠して熱変形温度、曲げ強度、曲げ弾性率、引っ張
り強度、引っ張り強度、引っ張り伸び律および煮沸吸収
率を測定した。結果を表−1に示す。
【0028】
【表1】
【0029】
【発明の効果】本発明によれば、従来のビスフェノール
A型エポキシ樹脂硬化物の靱性とノボラック型エポキシ
樹脂硬化物の耐熱性を併有する硬化物を与えることがで
き、しかも耐熱性に関してはノボラック型エポキシ樹脂
に比べて優れたものとなるので、靱性と耐熱性とを兼備
した半導体封止硬化物を提供できる。

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 4、4'−ジヒドロキシベンゾフェノンとエ
    ピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂
    と、硬化剤とを必須成分として含有することを特徴とす
    る半導体封止材料用エポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 下記、一般式[II]で示されるエポキシ
    樹脂と、硬化剤とを必須成分として含有することを特徴
    とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 【化1】 [nは0〜10を表わす。]
  3. 【請求項3】 エポキシ樹脂のエポキシ当量が163〜
    350である請求項1または2記載の組成物。
  4. 【請求項4】 組成物の全エポキシ樹脂成分のエポキシ
    当量が163〜350である請求項1、2または3記載
    の組成物。
  5. 【請求項5】 更に、充填剤を配合したものである請求
    項1〜4の何れか1つに記載の組成物。
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