JP2702002B2 - 銅張積層板の製法 - Google Patents

銅張積層板の製法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は銅張積層板の製法に関す
る。さらに詳しくは、耐熱性に優れるとともに接着強
度、機械強度、長期電気的絶縁の信頼性にも優れた多層
プリント配線板として有用な銅張積層板の製法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピュータ、制御器、計測機な
どの産業用電子機器の発展はめざましく、それらに使用
されるプリント配線板も高密度配線化、多層化が行なわ
れるようになってきている。
【0003】しかし、これらのプリント配線板に主に使
用されている従来のガラス基材エポキシ樹脂銅張積層板
では、寸法安定性、耐熱性などの点で要求仕様を満足で
きない状況となり、耐熱性の優れた銅張積層板の開発が
要望されている。耐熱性の優れた銅張積層板としては、
たとえば特公昭60-26423号公報に示されているようなポ
リイミド樹脂(たとえばポリアミノビスマレイミド樹
脂)とガラス基材からなるものが知られており、ガラス
転移温度が高い、加熱時の寸法安定性に優れるなどの特
徴を有している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記ポリイミ
ド樹脂は吸水性が高く、湿熱時の寸法安定性に課題があ
り、プリプレグ製造時に用いる溶剤が沸点の高い極性溶
剤であるため積層成形時に溶剤が残存しやすく、ポリイ
ミド銅張積層板の品質にバラツキを生じるなどの欠点を
有しており、これらの解決が課題とされていた。
【0005】本発明はこのような背景に鑑みてなされた
ものであり、ポリイミド銅張積層板と同程度の優れた耐
熱性を有し、しかも接着性、機械強度、長期電気的絶縁
の信頼性に優れた銅張積層板の製法を提供することを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、臭素化フェノ
ールとサリチルアルデヒドとの縮合物にエピクロロヒド
リンを反応させてえられる分子量800〜5000のポリエポ
キシ化合物(以下、ポリエポキシ化合物(A)という)
と、一般式(I):
【0007】
【化2】 (式中、Rはハロゲン原子、−C6H5または炭素数1〜5
のアルキル基を示す)で示されるジアミノトリアジン
(以下、ジアミノトリアジン(B)という)と、ビスフェ
ノールAとホルムアルデヒドとの重縮合物である分子量
1000以上のポリフェノール化合物(以下、ポリフェノー
ル化合物(C)という)とを、ポリエポキシ化合物(A)のエ
ポキシ基1当量に対するジアミノトリアジン(B)の活性
水素当量とポリフェノール化合物(C)のフェノール性水
酸基当量の合計が0.3〜1.5当量で、かつジアミノトリア
ジン(B)とポリフェノール化合物(C)のモル比が1/99〜
40/60の割合で配合し、ポリエポキシ化合物(A)、ジア
ミノトリアジン(B)およびポリフェノール化合物(C)の合
計量100部(重量部、以下同様)に対し、イミダゾール
類0.01〜0.3部および直鎖状高分子化合物1〜100部を配
合した樹脂組成物を、シート状基材に含浸、乾燥したの
ち、プリプレグシートとし、このプリプレグシートを銅
箔とともに積層、加熱、圧縮することを特徴とする銅張
積層板の製法に関する。
【0008】
【作用】樹脂成分としてポリエポキシ化合物(A)を主体
とし、これにポリフェノール化合物(C)を反応させるこ
とにより架橋密度を高めて耐熱性を向上させる。また、
トリアジン環を含むジアミンを導入することにより、さ
らに銅張積層板の寸法安定性を増大させると同時に、導
体から溶出した銅を捕捉する作用によって高温時の長期
的な電気的絶縁の高信頼性をうることができる。また架
橋網目構造中にリニアな耐熱性直鎖状高分子化合物を介
在させることにより、耐熱性を維持しつつ、靭性、強接
着性を与える樹脂組成物となり、このような樹脂組成物
を用いることにより、銅箔または基材との接着性を向上
させることができる。
【0009】
【実施例】本発明の製法においては、ポリエポキシ化合
物(A)、ジアミノトリアジン(B)、ポリフェノール化合物
(C)、イミダゾール類および直鎖状高分子化合物を配合
した樹脂組成物が使用される。
【0010】前記ポリエポキシ化合物(A)は臭素化フェ
ノールとサリチルアルデヒドとの縮合物にエピクロロヒ
ドリンを反応させてえられる化合物である。
【0011】前記臭素化フェノールとしては、たとえば
p-ブロモフェノール、m-ブロモフェノール、o-ブロモフ
ェノールなどがあげられる。
【0012】前記ポリエポキシ化合物(A)としては分子
量800〜5000のものが使用され、さらに2000〜3000のも
のが好ましい。800未満では最終的な硬化物が脆くな
り、5000をこえると反応が充分に行なわれず、耐熱性が
低下する。
【0013】このようなポリエポキシ化合物(A)は、た
とえば臭素化フェノール1モルに対し、サリチルアルデ
ヒドを好ましくは0.1〜3.0モル、さらに好ましくは0.5
〜1.5モルの割合で、酸性触媒の存在下、好ましくは80
〜250℃、さらに好ましくは100〜180℃の温度範囲で、
1〜6時間反応させてえられた縮合物に対し、該縮合物
の水酸基1当量当たり、3当量以上のエピクロロヒドリ
ンを公知の方法、すなわち、触媒およびアルカリ水溶液
(たとえば50% NaOH 水溶液)の存在下で、50〜150℃
の温度で反応させることによりうることができる。前記
触媒としては、たとえばベンジルトリメチルクロライ
ド、ベンジルトリメチルブロマイド、ベンジルジメチル
アミン、トリエチルアミン、N-メチルモルホリン、トリ
フェニルホスホニウムブロマイド、トリフェニルホスホ
ニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライ
ドなどがあげられる。
【0014】前記ジアミノトリアジン(B)は前記一般式
(I)で示される化合物であり、その具体例としては、た
とえば2-クロロ-4,6-ジアミノ-S-トリアジン、ベンゾグ
アナミン、2,4-ジアミノ-6-メチル-S-トリアジンなどが
あげられる。
【0015】前記ポリフェノール化合物(C)はビスフェ
ノールAとホルムアルデヒドとの重縮合物で、分子量10
00以上のものであり、さらに1500〜3000のものが好まし
い。分子量が1000未満では最終的な硬化物の機械的特
性、耐熱性、耐湿性が低下する。
【0016】このようなポリフェノール化合物(C)は、
たとえばビスフェノールAとホルマリンをシュウ酸とと
もに加熱反応させたのち、脱水、濃縮してえられる。
【0017】前記ポリエポキシ化合物(A)とジアミノト
リアジン(B)とポリフェノール化合物(C)との配合割合
は、ポリエポキシ化合物(A)のエポキシ基1当量当り、
ジアミノトリアジン(B)の活性水素当量とポリフェノー
ル化合物(C)のフェノール性水酸基当量の合計が0.3〜1.
5当量、好ましくは0.6〜1.0当量であり、かつジアミノ
トリアジン(B)とポリフェノール化合物(C)のモル比が1
/99〜40/60、好ましくは1/10〜1/2になる割合で
ある。
【0018】ジアミノトリアジン(B)の活性水素当量と
ポリフェノール化合物(C)のフェノール性水酸基当量の
合計が0.3未満では架橋密度が充分でなく耐熱性が劣
り、1.5当量をこえると架橋密度が上がりすぎて機械的
強度が低くなる。またジアミノトリアジン(B)とポリフ
ェノール化合物(C)のモル比が1/99よりジアミノトリ
アジン(B)の割合が小さいと、寸法安定性および高温時
の長期的な電気的絶縁の信頼性の向上の効果が少なく、
40/60よりジアミノトリアジン(B)の割合が大きくなる
と、溶剤に対する溶解性がわるくなり汎用されている溶
剤に溶けにくくなる。
【0019】硬化触媒として配合されるイミダゾール類
としては、たとえば2-メチルイミダゾール、2-エチル-4
-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾー
ル、2-フェニルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾー
ル、2-ヘプタデシルイミダゾールなどがあげられる。
【0020】イミダゾール類の添加量は、ポリエポキシ
化合物(A)、ジアミノトリアジン(B)およびポリフェノー
ル化合物(C)の合計量100部に対して0.01〜0.3部の範囲
であり、さらに0.03〜0.1部の範囲であることが好まし
い。0.01部未満では反応速度が遅く、積層板用プリプレ
グとした際のレジンの流動性制御が困難になる。また、
0.3部をこえると積層用プリプレグとした際のポットラ
イフが短くなり好ましくない。
【0021】直鎖状高分子化合物とは、たとえばポリエ
ーテルイミド、ポリスルホン、ポリパラバン酸、ポリフ
ェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリ
ビフェニルテトラカルボン酸イミド、ポリアリルエステ
ル、ポリアリルスルホン、フェノキシ樹脂など汎用の熱
可塑性の高分子化合物をいう。とくにガラス転移温度が
100℃以上で、かつ分解温度が300℃以上のものが耐熱性
の点から好ましい。直鎖状高分子化合物の分子量は通常
5000以上、さらには10000〜50000が望ましい。5000未満
では高分子化合物による靭性および接着性付与の効果が
充分えられない。
【0022】直鎖状高分子化合物の配合量はポリエポキ
シ化合物(A)、ジアミノトリアジン(B)およびポリフェノ
ール化合物(C)の合計量100部に対して1〜100部であ
り、さらに5〜20部が好ましい。配合量が1部未満では
靭性および接着性付与の効果が充分ではなく、100部を
こえると樹脂粘度が上がりすぎ、積層板用プリプレグ製
造時の基材への含浸が不充分になる。
【0023】本発明の製法においては、前記樹脂組成物
をシート状基材に含浸、乾燥したのち、プリプレグシー
トにされる。
【0024】前記樹脂組成物は通常、溶剤に溶解し、所
定濃度(樹脂成分が40〜60%程度)の含浸用ワニスとし
て、プリプレグ製造に適用される。
【0025】ここで使用される溶剤としては、たとえば
エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコ
ールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど
のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテルアセテートなど、エチレングリコール、
ジエチレングリコールなどのエーテル類およびその酢酸
エステルなどが好適に用いられる。N,N´-ジメチルホル
ムアミド、N,N´-ジメチルアセトアミドなどのアミド
類、N-メチル-2-ピロリドンなどの極性溶媒も用いるこ
とができるが、これらは沸点が高いため積層板中に残ら
ないように注意する必要がある。またこれらの溶剤は必
要に応じて何種類か併用してもよい。
【0026】こうしてえられた含浸用ワニスをシート状
基材に含浸させ、たとえば80〜200℃で1〜30分間乾燥
し、プリプレグシートとされる。プリプレグシートの樹
脂含有量は通常30〜50%である。
【0027】前記シート状基材は、ガラス繊維からなる
ものが一般的であるが、他に芳香族ポリアミド繊維から
なるものを用いてもよい。また、マット状のガラス、ポ
リエステル、芳香族ポリアミドを用いてもよい。
【0028】えられたプリプレグシートは所定枚数重ね
あわせ、銅箔を少なくとも片面に重ねた状態で、通常熱
板間80〜250℃、圧力5〜100kg/cm2で10〜300分間加熱
加圧して銅張積層板とされる。ここに示した条件は望ま
しい値であるがこれに限定されるものではない。
【0029】本発明の製法によりえられる銅張積層板は
耐熱性、半田耐熱性、接着性、機械強度、電気特性に優
れ、高密度多層用基板として好適に用いられる。
【0030】以下、実施例により、本発明をさらに具体
的に説明する。
【0031】[実施例1]p-ブロモフェノール384gと
サリチルアルデヒド60gを濃塩酸0.3gの存在下、100℃
で30分間反応させたのち、p-トルエンスルホン酸 0.5g
を加え、180℃で2時間反応させてポリフェノールをえ
た。このポリフェノール112gにエピクロロヒドリン740
g、テトラエチルアンモニウムクロライド1g、NaOH 4
2gを加え、70℃で反応させて分子量3000のポリエポキ
シ化合物(A)をえた。
【0032】またビスフェノールA228gに対し、37%
ホルマリン50ccとシュウ酸0.8gを加え、120℃で2時間
反応させたのち、脱水、濃縮して分子量3000のポリフェ
ノール化合物(C)をえた。
【0033】えられたポリエポキシ化合物(A)174g、ポ
リフェノール化合物(C)95g(フェノール性水酸基/エ
ポキシ基の当量比:0.8)、ベンゾグアナミン1.87g
(活性水素/エポキシ基の当量比:0.01、ベンゾグアナ
ミン/ポリフェノール化合物(C)のモル比:1/3)、2
-エチル-4-メチルイミダゾール 0.3g、ポリパラバン酸
16gを配合し、エチレングリコールモノメチルエーテル
190gに溶解し、60%濃度の含浸用ワニスをえた。
【0034】えられた含浸用ワニスを厚さ0.18mmのガラ
ス織布に含浸し、180℃で90分間乾燥して樹脂含有量55
%のプリプレグシートをえた。
【0035】このプリプレグシートを4枚重ねて両面に
35μmの銅箔を介し、加熱下でプレス成形を行なった。
成形条件はプレス温度170℃、プレス圧力40kg/cm2、プ
レス時間60分とした。
【0036】えられた銅張積層板の物理的、電気的性質
につての評価結果を表1に示す。なお、高温高湿バイア
ス試験では、図1に示されるようなスルーホール2を有
する銅パターンの電極3を設けたサンプルを通常のサブ
トラクティブ法により作製し、これについて85℃/85%
/100Vの条件で試験し、絶縁抵抗が105Ωに低下した時
点を短絡時間とした。
【0037】[実施例2]実施例1と同様の方法でm-ブ
ロモフェノール380gとサリチルアルデヒド122gを反応
させてえた縮合物に、エピクロロヒドリン400gを反応
させて分子量1500のポリエポキシ化合物(A)をえた。
【0038】実施例1と同様の方法でビスフェノールA
684gと37%ホルマリン50ccを反応させて分子量1000の
ポリフェノール化合物(C)をえた。
【0039】えられたポリエポキシ化合物(A)174g、ポ
リフェノール化合物(C)89g(フェノール性水酸基/エ
ポキシ基の当量比:0.75)、2,4-ジアミノ-6-メチル-S-
トリアジン2.5g(活性水素/エポキシ基の当量比:0.0
2、2,4-ジアミノ-6-メチル-S-トリアジン/ポリフェノ
ール化合物(C)のモル比:1/5)、2-フェニルイミダ
ゾール 0.28g、ポリエーテルイミド20gを配合し、エ
チレングリコールモノメチルエーテル234gに溶解し、5
5%濃度の含浸用ワニスをえた。
【0040】えられた含浸用ワニスを厚さ0.18mmのガラ
ス織布に含浸し、180℃で90分間乾燥して樹脂含有量52
%のプリプレグシートをえた。
【0041】このプリプレグシートを4枚重ねて両面に
厚さ35μmの銅箔を介し、加熱下でプレス成形を行なっ
た。成形条件はプレス温度200℃、プレス圧力40kg/c
m2、プレス時間90分とした。
【0042】えられた銅張積層板の物理的、電気的性質
についての評価結果を表1に示す。 [実施例3]p-ブロモフェノール128gとサリチルアル
デヒド122gを氷酢酸600cc中で4℃で撹拌しながら硫酸
/氷酢酸混合液(混合比:100cc/300cc)を20分かけて
滴下し、4℃で3日間放置してポリフェノールをえた。
このポリフェノール 110gにエピクロロヒドリン740部
を実施例1と同様の方法で反応させて分子量800のポリ
エポキシ化合物(A)をえた。
【0043】えられた分子量800のポリエポキシ化合物
(A)174g、実施例1で用いた分子量3000のポリフェノー
ル化合物(C)77g(フェノール性水酸基/エポキシ基の
当量比:0.6)とベンゾグアナミン1.3g(活性水素/エ
ポキシ基の当量比:0.007、ベンゾグアナミン/ポリフ
ェノール化合物(C)のモル比:0.27/1)、2-エチル-4ー
メチルイミダゾール0.4g、ポリスルホン20gを配合
し、エチレングリコールモノエチルエーテル182gに溶
解し、60%濃度の含浸用ワニスをえた。
【0044】えられた含浸用ワニスを厚さ0.18mmのガラ
ス織布に含浸し、180℃で90分間乾燥して樹脂含有量55
%のプリプレグシートをえた。
【0045】このプリプレグシートを4枚重ねて両面に
厚さ35μmの銅箔を介し、加熱下でプレス成形を行なっ
た。成形条件はプレス温度180℃、プレス圧力40kg/c
m2、プレス時間60分とした。
【0046】えられた銅張積層板の物理的、電気的性質
についての評価結果を表1に示す。 [実施例4]実施例1で用いた分子量3000のポリエポキ
シ化合物(A)174g、実施例2で用いた分子量1000のポリ
フェノール化合物(C)101g(フェノール性水酸基/エポ
キシ基の当量比:0.85)、2,4-ジアミノ-6-メチル-S-ト
リアジン5.6g(活性水素/エポキシ基の当量比:0.0
3、2,4-ジアミノ-6-メチル-S-トリアジン/ポリフェノ
ール化合物(C)のモル比:0.45/1)、2-メチルイミダ
ゾール0.35g、フェノキシ樹脂30gを配合し、エチレン
グリコールモノメチルエーテル254gに溶解し、55%濃
度の含浸用ワニスをえた。
【0047】えられた含浸用ワニスを厚さ0.18mmのガラ
ス織布に含浸し、180℃で90分間乾燥して樹脂含有量55
%のプリプレグシートをえた。
【0048】このプリプレグシートを4枚重ねて両面に
厚さ35μmの銅箔を介し、加熱下でプレス成形を行なっ
た。成形条件はプレス温度180℃、プレス圧力40kg/c
m2、プレス時間60分とした。
【0049】えられた銅張積層板の物理的、電気的性質
についての評価結果を表1に示す。 [比較例1]エポキシ化合物のエピコート5046B-80(油
化シェルエポキシ(株)製)125gにジシアンジアミド
2g、2-エチル-4-メチルイミダゾール0.15gを加え、
エチレングリコールモノエチルエーテル65gに溶解し、
53%濃度の積層板用ワニスをえた。
【0050】このワニスを厚さ0.18mmのガラス織布に含
浸し、180℃で60分間乾燥して樹脂含有量45%のプリプ
レグシートをえた。
【0051】このプリプレグシートを4枚重ねて両面に
厚さ35μmの銅箔を介し、加熱下にプレス成形を行なっ
た。成形条件はプレス温度200℃、プレス圧力40kg/c
m2、プレス時間60分とした。
【0052】えられた銅張積層板の物理的、電気的性質
についての評価結果を表1に示す。 [比較例2]ポリイミド樹脂ケルイミド601(日本ポリ
イミド社の商品名)100gをN-メチル-2-ピロリドン100
gに溶解し、50%濃度の積層板用ワニスをえた。
【0053】このワニスを厚さ0.18mmのガラス織布に含
浸し、150℃で30分間乾燥して樹脂含有量45%のプリプ
レグシートをえた。
【0054】このプリプレグシートを4枚重ねて両面に
厚さ35μmの銅箔を介し、加熱下にプレス成形を行なっ
た。成形条件はプレス温度220℃、プレス圧力40kg/c
m2、プレス時間90分とした。
【0055】えられた銅張積層板の物理的、電気的性質
についての評価結果を表1に示す。
【0056】
【表1】 以上の実施例に示したように、本発明によってえられる
銅張積層板は、従来のポリイミド銅張積層板と同程度の
優れた耐熱性を有し、かつ接着強度、機械強度、長期電
気的絶縁の信頼性にも優れた積層板である。
【0057】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明の製法によ
れば、従来のポリイミド銅張積層板と同程度の優れた耐
熱性を有し、かつ接着強度、機械強度、長期電気的絶縁
の信頼性に優れた銅張積層板をうることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】高温高湿バイアス試験に用いた積層板の説明図
である。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 臭素化フェノールとサリチルアルデヒド
    との縮合物にエピクロロヒドリンを反応させてえられる
    分子量800〜5000のポリエポキシ化合物と、一般式(I): 【化1】 (式中、Rはハロゲン原子、−C6H5または炭素数1〜5
    のアルキル基を示す)で示されるジアミノトリアジン
    と、ビスフェノールAとホルムアルデヒドとの重縮合物
    である分子量1000以上のポリフェノール化合物とを、ポ
    リエポキシ化合物のエポキシ基1当量に対するジアミノ
    トリアジンの活性水素当量とポリフェノール化合物のフ
    ェノール性水酸基当量の合計が0.3〜1.5当量で、かつジ
    アミノトリアジンとポリフェノール化合物のモル比が1
    /99〜40/60の割合で配合し、ポリエポキシ化合物、ジ
    アミノトリアジンおよびポリフェノール化合物の合計量
    100重量部に対し、イミダゾール類0.01〜0.3重量部およ
    び直鎖状高分子化合物1〜100重量部を配合した樹脂組
    成物を、シート状基材に含浸、乾燥したのち、プリプレ
    グシートとし、このプリプレグシートを銅箔とともに積
    層、加熱、圧縮することを特徴とする銅張積層板の製
    法。
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