JP2691760B2 - α―(3―ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
α―(3―ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 −技術分野− 本発明は新規化合物である(3−ビニルフェニル)フ
ェニルメタンを経由するα−(3−ベンジルフェニル)
プロピオン酸誘導体の製造方法に関する。この化合物か
らは、消炎剤あるいは鎮痛剤として有用なα−(3−ベ
ンゾイルフェニル)プロピオン酸(商品名:ケトプロフ
ェン)が安価にかつ容易に得られる。
ェニルメタンを経由するα−(3−ベンジルフェニル)
プロピオン酸誘導体の製造方法に関する。この化合物か
らは、消炎剤あるいは鎮痛剤として有用なα−(3−ベ
ンゾイルフェニル)プロピオン酸(商品名:ケトプロフ
ェン)が安価にかつ容易に得られる。
−背景技術− α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸を酸化
し、ケトプロフェンを得ることは米国特許第3,641,127
号に開示されている。しかしながら、同公報において
は、α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸は含硫
黄複素環化合物の脱硫黄により製造されている。すなわ
ち、高価な原料を使い、しかも複雑な反応を要する。
し、ケトプロフェンを得ることは米国特許第3,641,127
号に開示されている。しかしながら、同公報において
は、α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸は含硫
黄複素環化合物の脱硫黄により製造されている。すなわ
ち、高価な原料を使い、しかも複雑な反応を要する。
α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸の酸化は
容易に行な得るところから、従来のケトプロフェン製造
のための問題点は、ひとえに安価に容易にα−(3−ベ
ンジルフェニル)プロピオン酸を製造する点にあった。
容易に行な得るところから、従来のケトプロフェン製造
のための問題点は、ひとえに安価に容易にα−(3−ベ
ンジルフェニル)プロピオン酸を製造する点にあった。
従って、本発明の目的は、ケトプロフェンを安価に、
高純度で、かつ高収率で製造するための中間体を製造す
る方法を提供することにある。
高純度で、かつ高収率で製造するための中間体を製造す
る方法を提供することにある。
−発明の開示− すなわち本発明は、次の工程(I)〜(V)からなる
下記式(I)であらわされるα−(3−ベンジルフェニ
ル)プロピオン酸誘導体の製造方法に関する。
下記式(I)であらわされるα−(3−ベンジルフェニ
ル)プロピオン酸誘導体の製造方法に関する。
工程(I):ZSM-5型合成ゼオライト触媒の存在下にベ
ンゼンをエチレンでアルキル化することにより、未反応
ベンゼン、エチルベンゼン、ポリエチルベンゼンおよび
より重質な重質分からなる反応生成物を製造する工程、 工程(II):前記反応生成物から(3−エチルフェニ
ル)フェニルメタンを沸点:288〜295℃(常圧換算)の
範囲にある成分を主とする留分として、蒸留により回収
する工程、 工程(III):前記回収留分を、脱水素触媒の存在下
に、温度:500〜700℃、圧力:減圧〜5kg/cm2で脱水素す
る工程、 工程(IV):前記脱水素された留分を、カルボニル化
遷移金属錯体触媒の存在下に、一酸化炭素および水素ま
たは水もしくは低級アルコールと、反応温度:40〜200℃
でカルボニル化する工程、および 工程(V):前記カルボニル化の後に、蒸留もしくは
抽出またはその両方により、下記式(I)で表わされる
α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体を回
収する工程。
ンゼンをエチレンでアルキル化することにより、未反応
ベンゼン、エチルベンゼン、ポリエチルベンゼンおよび
より重質な重質分からなる反応生成物を製造する工程、 工程(II):前記反応生成物から(3−エチルフェニ
ル)フェニルメタンを沸点:288〜295℃(常圧換算)の
範囲にある成分を主とする留分として、蒸留により回収
する工程、 工程(III):前記回収留分を、脱水素触媒の存在下
に、温度:500〜700℃、圧力:減圧〜5kg/cm2で脱水素す
る工程、 工程(IV):前記脱水素された留分を、カルボニル化
遷移金属錯体触媒の存在下に、一酸化炭素および水素ま
たは水もしくは低級アルコールと、反応温度:40〜200℃
でカルボニル化する工程、および 工程(V):前記カルボニル化の後に、蒸留もしくは
抽出またはその両方により、下記式(I)で表わされる
α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体を回
収する工程。
(ここでXは水素、ヒドロキシル基またはC1〜C4のアル
コキシ基) 以下に本発明の方法を詳細に説明する。
コキシ基) 以下に本発明の方法を詳細に説明する。
(アルキル化) エチルベンゼンの製造においては、ベンゼンをアルキ
ル化触媒の存在下にエチレンによりアルキル化し、主と
して、未反応ベンゼン、エチルベンゼン、ポリエチルベ
ンゼンおよびより重質な生成物を含むアルキル化生成物
が得られる。このアルキル化は、公知の液相アルキル化
法あるいは気相アルキル化法により行なうことができ
る。使用するベンゼン対エチレンのモル比は、約25:1〜
1:5、好ましくは約10:1〜1:1とすることができる。
ル化触媒の存在下にエチレンによりアルキル化し、主と
して、未反応ベンゼン、エチルベンゼン、ポリエチルベ
ンゼンおよびより重質な生成物を含むアルキル化生成物
が得られる。このアルキル化は、公知の液相アルキル化
法あるいは気相アルキル化法により行なうことができ
る。使用するベンゼン対エチレンのモル比は、約25:1〜
1:5、好ましくは約10:1〜1:1とすることができる。
通常は気相アルキル化を行ない、この気相アルキル化
法においては、例えばアルキル化原料をZSM-5型の合成
ゼオライト触媒上に約250〜650℃、好ましくは約300〜5
50℃の範囲の温度及び大気圧〜100kg/cm2、好ましくは
大気圧〜70kg/cm2の範囲の圧力、並びにWHSVで1〜50
0、好ましくは1〜300の範囲にある空間速度で触媒に通
すことにより反応させる。
法においては、例えばアルキル化原料をZSM-5型の合成
ゼオライト触媒上に約250〜650℃、好ましくは約300〜5
50℃の範囲の温度及び大気圧〜100kg/cm2、好ましくは
大気圧〜70kg/cm2の範囲の圧力、並びにWHSVで1〜50
0、好ましくは1〜300の範囲にある空間速度で触媒に通
すことにより反応させる。
かかるアルキル化の結果、未反応ベンゼン、エチルベ
ンゼン、ポリエチルベンゼンおよび一層重質な生成物を
主とするアルキル化生成物が得られる。要すれば触媒を
予め除去する。
ンゼン、ポリエチルベンゼンおよび一層重質な生成物を
主とするアルキル化生成物が得られる。要すれば触媒を
予め除去する。
以上のようにして得られたアルキル化生成物から、未
反応ベンゼン、エチルベンゼン、少なくとも一部のポリ
エチルベンゼンを除いて副生油を得る。
反応ベンゼン、エチルベンゼン、少なくとも一部のポリ
エチルベンゼンを除いて副生油を得る。
ここで本発明の合成ゼオライト触媒は、SiO2/Al2O3モ
ル比が20で以上あって、主空洞の入口が10員酸素環から
なる結晶性合成アルミノシリケート・ゼオライトであ
る。このようなゼオライトとしては、主空洞の入口が10
員酸素環からなるZSM-5型の合成ゼオライトや、更に、
ゼオライトゼータ1、ゼオライトゼータ2なども挙げら
れる。すなわち、本発明のゼオライトは、10員酸素環か
らなることで特徴付けられるものである。従来の合成ゼ
オライトであるA型ゼオライト、エリオナイト等は8員
酸素環であり、またモデルナイト、X型ゼオライト、Y
型ゼオライト等は12員酸素環である。
ル比が20で以上あって、主空洞の入口が10員酸素環から
なる結晶性合成アルミノシリケート・ゼオライトであ
る。このようなゼオライトとしては、主空洞の入口が10
員酸素環からなるZSM-5型の合成ゼオライトや、更に、
ゼオライトゼータ1、ゼオライトゼータ2なども挙げら
れる。すなわち、本発明のゼオライトは、10員酸素環か
らなることで特徴付けられるものである。従来の合成ゼ
オライトであるA型ゼオライト、エリオナイト等は8員
酸素環であり、またモデルナイト、X型ゼオライト、Y
型ゼオライト等は12員酸素環である。
これら、従来の8員酸素環あるいは12員酸素環からな
るゼオライトは、その構造が本発明のそれとは相違する
ことに起因して本発明の方法には適さないものである。
るゼオライトは、その構造が本発明のそれとは相違する
ことに起因して本発明の方法には適さないものである。
本発明において使用する結晶性合成ゼオライトは、主
空洞の入口が10員酸素環からなる構造特性を有し、SiO2
/Al2O3モル比が20以上である結晶性合成アルミノシリケ
ートであれば何れのものも使用できる。特に好ましく
は、ZSM-5型の合成ゼオライトであり、例えば、ZSM-5、
ZSM-11、ZSM-22、ZSM-23、ZSM-35、ZSM-38、ZSM-48等と
して知られている。これらのZSM-5型の合成ゼオライト
は、何れもその主空洞の入口が10員酸素環からなる構造
特性を有する。更に、特に好適な合成ゼオライトはZSM-
5である。これらのZSM-5型ゼオライトの組成および製法
は、何れも下記の特許公報に記載されている。
空洞の入口が10員酸素環からなる構造特性を有し、SiO2
/Al2O3モル比が20以上である結晶性合成アルミノシリケ
ートであれば何れのものも使用できる。特に好ましく
は、ZSM-5型の合成ゼオライトであり、例えば、ZSM-5、
ZSM-11、ZSM-22、ZSM-23、ZSM-35、ZSM-38、ZSM-48等と
して知られている。これらのZSM-5型の合成ゼオライト
は、何れもその主空洞の入口が10員酸素環からなる構造
特性を有する。更に、特に好適な合成ゼオライトはZSM-
5である。これらのZSM-5型ゼオライトの組成および製法
は、何れも下記の特許公報に記載されている。
ZSM-5 : 米国特許第3,702,886号 ZSM-11:米国特許第3,709,979号および特公昭53-23280号 ZSM-22: 米国特許第4,481,177号 ZSM-23: 米国特許第4,076,842号および同4,490,342号 ZSM-35: 特開昭53-144500号 ZSM-38: 米国特許第4,046,859号 ZSM-48: 米国特許第4,423,021号 ゼオライトゼータ1: 特開昭51-67299号 ゼオライトゼータ2: 特開昭51-67298号 主空洞の入口が10員酸素環からなる構造特性の合成ゼ
オライトは高いSiO2/Al2O3モル比を一般に有し、その値
は通常20以上である。場合によってはSiO2/Al2O3モル比
が非常に高く、例えば1600以上のような合成ゼオライト
も有効である。更に、場合によっては実質的にアルミニ
ウムを含まない、すなわちSiO2/Al2O3モル比が無限大に
近いゼオライトを使うこともできる。このように「高シ
リカ」ゼオライトも本発明の定義に含まれる。このSiO2
/Al2O3モル比は原子吸光法などの通常の分析法で測定さ
れる。この比はゼオライト結晶の硬質アニオン骨格中の
比にできるだけ近い値を表わし、結合剤中またはチャン
ネル内のカチオンその他の形態中のアルミニウムは除か
れる。
オライトは高いSiO2/Al2O3モル比を一般に有し、その値
は通常20以上である。場合によってはSiO2/Al2O3モル比
が非常に高く、例えば1600以上のような合成ゼオライト
も有効である。更に、場合によっては実質的にアルミニ
ウムを含まない、すなわちSiO2/Al2O3モル比が無限大に
近いゼオライトを使うこともできる。このように「高シ
リカ」ゼオライトも本発明の定義に含まれる。このSiO2
/Al2O3モル比は原子吸光法などの通常の分析法で測定さ
れる。この比はゼオライト結晶の硬質アニオン骨格中の
比にできるだけ近い値を表わし、結合剤中またはチャン
ネル内のカチオンその他の形態中のアルミニウムは除か
れる。
主空洞の入口が10員酸素環からなる構造は通常X線回
折法で確認される。例えば、本発明の触媒として好まし
いZSM-5型の合成ゼオライトは、それぞれ特有の特性X
線回折パターンを有する(詳しくは、前記特許公報を参
照)。
折法で確認される。例えば、本発明の触媒として好まし
いZSM-5型の合成ゼオライトは、それぞれ特有の特性X
線回折パターンを有する(詳しくは、前記特許公報を参
照)。
しかしながら、このX線回折分析法によらずとも制御
指数なる測定値をもってX線回折法の代わりとすること
もできる。すなわち、本発明の10員酸素環は制御指数で
1〜12の合成ゼオライトであるとも定義できる。ここ
で、該制御指数は特開昭56-133223号公報で具体的測定
方法を以て示されている。この指数は、ゼオライト結晶
の細孔構造がn−パラフィンよりも大きな断面積の分子
の接近を制御する程度を示すものである。その測定法
は、該公報に開示されているようにn−ヘキサンと3−
メチルペンタンとを一定条件下でゼオライトに吸着さ
せ、それらの吸着量から計算される。
指数なる測定値をもってX線回折法の代わりとすること
もできる。すなわち、本発明の10員酸素環は制御指数で
1〜12の合成ゼオライトであるとも定義できる。ここ
で、該制御指数は特開昭56-133223号公報で具体的測定
方法を以て示されている。この指数は、ゼオライト結晶
の細孔構造がn−パラフィンよりも大きな断面積の分子
の接近を制御する程度を示すものである。その測定法
は、該公報に開示されているようにn−ヘキサンと3−
メチルペンタンとを一定条件下でゼオライトに吸着さ
せ、それらの吸着量から計算される。
代表的な制御指数は下記の通りである。
制御指数 ZSN-5 8.3 ZSM-11 8.7 ZSM-35 4.5 非晶質シリカ・アルミナ 0.6 本発明のゼオライトの製造法としてZSM-5の合成方法
を例にとり説明すると、初めに水酸化テトラプロピルア
ンモニウムあるいはテトラ−n−プロピルアンモニウム
ブロマイド、酸化ナトリウム、酸化アルミニウム、酸化
珪素および水を含む反応原料を調製する。その組成は前
記公報に記載された範囲として、この反応混合物を加熱
し水熱合成される。合成後得られた結晶を空気中で焼成
すれば、ゼオライトZSM-5触媒が得られる。ここでは、
酸化アルミニウムを用いる方法を述べたが、実質的にア
ルミニウム原子を含まないZSM-5を合成することも提案
されている。上記方法は、水酸化テトラプロピルアンモ
ニウムあるいはテトラ−n−プロピルアンモニウムブロ
マイドを用いる方法を説明したが、例えばZSM-5の合成
法としてもこれ以外に種々の有機カチオンまたはその前
駆体としての有機化合物をこの代わりに用いることが提
案されている。この例としては、例えば、アンモニア、
トリアルキルメチルアンモニウムカチオン、トリエチル
−n−プロピルアンモニウムカチオン、C2〜C9第1級モ
ノアルキルアミン、ネオペンチルアミン、ジおよびトリ
アルキルアミン、アルカノールアミン、C5〜C6アルキル
ジアミン、C3〜C12アルキレンジアミン、エチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、C3〜C6ジオール、エチ
レンまたはプロピレングリコール、1,4−ジメトキシシ
クロヘキサン、ヒドロキノン、エチレオキサイドおよび
アンモニア、n−ドデシルベンゼンスルホネート、シク
ロペンタジエニイルフタロシアニン錯体、2−アミノピ
リジン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジオキ
サン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、酒石酸など
のカルボン酸等が挙げられる。
を例にとり説明すると、初めに水酸化テトラプロピルア
ンモニウムあるいはテトラ−n−プロピルアンモニウム
ブロマイド、酸化ナトリウム、酸化アルミニウム、酸化
珪素および水を含む反応原料を調製する。その組成は前
記公報に記載された範囲として、この反応混合物を加熱
し水熱合成される。合成後得られた結晶を空気中で焼成
すれば、ゼオライトZSM-5触媒が得られる。ここでは、
酸化アルミニウムを用いる方法を述べたが、実質的にア
ルミニウム原子を含まないZSM-5を合成することも提案
されている。上記方法は、水酸化テトラプロピルアンモ
ニウムあるいはテトラ−n−プロピルアンモニウムブロ
マイドを用いる方法を説明したが、例えばZSM-5の合成
法としてもこれ以外に種々の有機カチオンまたはその前
駆体としての有機化合物をこの代わりに用いることが提
案されている。この例としては、例えば、アンモニア、
トリアルキルメチルアンモニウムカチオン、トリエチル
−n−プロピルアンモニウムカチオン、C2〜C9第1級モ
ノアルキルアミン、ネオペンチルアミン、ジおよびトリ
アルキルアミン、アルカノールアミン、C5〜C6アルキル
ジアミン、C3〜C12アルキレンジアミン、エチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、C3〜C6ジオール、エチ
レンまたはプロピレングリコール、1,4−ジメトキシシ
クロヘキサン、ヒドロキノン、エチレオキサイドおよび
アンモニア、n−ドデシルベンゼンスルホネート、シク
ロペンタジエニイルフタロシアニン錯体、2−アミノピ
リジン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジオキ
サン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、酒石酸など
のカルボン酸等が挙げられる。
また、その他結晶化時の種としてZSM-5を添加するこ
とにより、上記のような有機カチオンまたはその前駆体
としての有機化合物を添加することなく製造することさ
えも提案されている。
とにより、上記のような有機カチオンまたはその前駆体
としての有機化合物を添加することなく製造することさ
えも提案されている。
反応に用いられるゼオライトは、合成時の反応原料に
起因して、例えばナトリウムイオンその他の金属イオン
を含む。ナトリウム等のアルカリ金属その他の金属とし
ては、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金
属、更に3価の金属イオンで交換したものも使用でき
る。更に、マグネシウム、ホウ素、カリウム、燐もしく
はこれらの化合物で含浸させることにより変性した結晶
性合成アルミノシリケートゼオライト、例えばZSM-5型
ゼオライトも使用することができる。これらのイオン交
換の方法あるは変性方法は、従来公知の方法により行な
うことができる。
起因して、例えばナトリウムイオンその他の金属イオン
を含む。ナトリウム等のアルカリ金属その他の金属とし
ては、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金
属、更に3価の金属イオンで交換したものも使用でき
る。更に、マグネシウム、ホウ素、カリウム、燐もしく
はこれらの化合物で含浸させることにより変性した結晶
性合成アルミノシリケートゼオライト、例えばZSM-5型
ゼオライトも使用することができる。これらのイオン交
換の方法あるは変性方法は、従来公知の方法により行な
うことができる。
上記のように本発明の結晶性合成ゼオライトは、各種
の金属を含むことができるが、金属イオンを水素イオン
でイオン交換したいわゆる水素型ゼオライト(HZSM-5)
あるいは酸型ゼオライトと呼ばれている合成ゼオライト
が本発明の方法には好ましい。代表的な水素型ゼオライ
トは、触媒調製時の有機カチオンを含む触媒を不活性雰
囲気下で、例えば約540℃で1時間加熱し、しかる後に
アンモニウム塩あるいは塩酸などの鉱酸でイオン交換
し、例えば約540℃で焼成することにより活性化され、
いわゆる水素型のゼオライトが得られる。
の金属を含むことができるが、金属イオンを水素イオン
でイオン交換したいわゆる水素型ゼオライト(HZSM-5)
あるいは酸型ゼオライトと呼ばれている合成ゼオライト
が本発明の方法には好ましい。代表的な水素型ゼオライ
トは、触媒調製時の有機カチオンを含む触媒を不活性雰
囲気下で、例えば約540℃で1時間加熱し、しかる後に
アンモニウム塩あるいは塩酸などの鉱酸でイオン交換
し、例えば約540℃で焼成することにより活性化され、
いわゆる水素型のゼオライトが得られる。
その他、必要に応じて水蒸気処理やコーク処理をする
こともできる。
こともできる。
かくの如くして、ベンゼンをエチレンでアルキル化す
ることにより、未反応ベンゼン、エチルベンゼン、ポリ
エチルベンゼンおよびより重質な重質分からなる反応生
成物を得る。この重質分中には(3−エチルフェニル)
フェニルメタンが含まれているが、その他タール分等も
含まれている。
ることにより、未反応ベンゼン、エチルベンゼン、ポリ
エチルベンゼンおよびより重質な重質分からなる反応生
成物を得る。この重質分中には(3−エチルフェニル)
フェニルメタンが含まれているが、その他タール分等も
含まれている。
上記反応生成物から蒸留で、好ましくは減圧蒸留で、
直接回収するか、または反応生成物から重質分を一旦回
収した後に再度蒸留することにより、(3−エチルフェ
ニル)フェニルメタンを含む留分を回収する。何れにし
ても、(3−エチルフェニル)フェニルメタンを含む留
分は、沸点288〜295℃(常圧換算)の範囲にある成分を
主とする留分として回収される。
直接回収するか、または反応生成物から重質分を一旦回
収した後に再度蒸留することにより、(3−エチルフェ
ニル)フェニルメタンを含む留分を回収する。何れにし
ても、(3−エチルフェニル)フェニルメタンを含む留
分は、沸点288〜295℃(常圧換算)の範囲にある成分を
主とする留分として回収される。
なお、上記のアルキル化の反応としては、脱水素して
スチレンを製造するためにモービル社のゼオライト触媒
を用いて広く工業的に行なわれているエチルベンゼンの
製造方法が例示される。
スチレンを製造するためにモービル社のゼオライト触媒
を用いて広く工業的に行なわれているエチルベンゼンの
製造方法が例示される。
(脱水素反応) 上記の(3−エチルフェニル)フェニルメタンを含む
留分を本発明では脱水素触媒の存在下に脱水素させる。
この脱水素触媒としては、従来、例えばエチルベンゼン
を脱水素してスチレンを製造する場合の脱水素反応に用
いられる触媒が使用できる。
留分を本発明では脱水素触媒の存在下に脱水素させる。
この脱水素触媒としては、従来、例えばエチルベンゼン
を脱水素してスチレンを製造する場合の脱水素反応に用
いられる触媒が使用できる。
すなわち、酸化鉄、酸化クロムまたはこれらの混合物
からなる触媒が用いられる。
からなる触媒が用いられる。
例えば、クロミア−アルミナ系触媒及び酸化鉄系触媒
等が例示される。これらは、炭酸カリウム、セリウム、
モリブデン、バナジウム等の酸化物を助触媒として用い
ることもある。
等が例示される。これらは、炭酸カリウム、セリウム、
モリブデン、バナジウム等の酸化物を助触媒として用い
ることもある。
脱水素の反応条件としての圧力については、脱水素反
応が平衡反応であるから、低い圧力の方が脱水素反応は
進行し、またそれが強い吸熱反応であるために、高温で
あるほど反応は進行する。従って、反応温度は、通常50
0℃〜700℃、好ましくは550℃〜650℃の範囲から選択さ
れる。500℃よりも低い温度では脱水素反応が進行せ
ず、また、700℃を越えると分解などの副反応が生じる
ので好ましくない。反応圧力は、減圧ないし5kg/cm2、
好ましくは減圧ないし3kg/cm2程度である。また、通常
は加熱触媒として過剰の水蒸気を用いる。
応が平衡反応であるから、低い圧力の方が脱水素反応は
進行し、またそれが強い吸熱反応であるために、高温で
あるほど反応は進行する。従って、反応温度は、通常50
0℃〜700℃、好ましくは550℃〜650℃の範囲から選択さ
れる。500℃よりも低い温度では脱水素反応が進行せ
ず、また、700℃を越えると分解などの副反応が生じる
ので好ましくない。反応圧力は、減圧ないし5kg/cm2、
好ましくは減圧ないし3kg/cm2程度である。また、通常
は加熱触媒として過剰の水蒸気を用いる。
反応時間は、流通式の反応形式で、LHSVとして0.01〜
10の範囲から選択される。
10の範囲から選択される。
反応終了後、蒸留、好ましくは減圧蒸留により(3−
ビニルフェニル)フェニルメタンを得る。
ビニルフェニル)フェニルメタンを得る。
脱水素反応により得られる(3−ビニルフェニル)フ
ェニルメタンは、その沸点が元の原料中に含まれる飽和
物よりも高くなるので、蒸留による分離が比較的容易と
なる。
ェニルメタンは、その沸点が元の原料中に含まれる飽和
物よりも高くなるので、蒸留による分離が比較的容易と
なる。
しかしながら、飽和物と不飽和物の沸点の差はそれ程
大きくはない。それ故(3−ビニルフェニル)フェニル
メタンを含む留分には(3−エチルフェニル)フェニル
メタンも含まれるが、更に高度な減圧蒸留の精製により
(3−ビニルフェニル)フェニルメタンを分離する必要
はなく、そのまま、あるいは脱水素反応により生じた軽
質あるいは重質な副生物を蒸留により除去するのみで、
次の工程であるカルボニル化工程に供することができ
る。通常、カルボニル化工程に供する(3−ビニルフェ
ニル)フェニルメタンを含む留分は、常圧換算沸点で29
0〜300℃の範囲にある成分を主とする留分として供す
る。
大きくはない。それ故(3−ビニルフェニル)フェニル
メタンを含む留分には(3−エチルフェニル)フェニル
メタンも含まれるが、更に高度な減圧蒸留の精製により
(3−ビニルフェニル)フェニルメタンを分離する必要
はなく、そのまま、あるいは脱水素反応により生じた軽
質あるいは重質な副生物を蒸留により除去するのみで、
次の工程であるカルボニル化工程に供することができ
る。通常、カルボニル化工程に供する(3−ビニルフェ
ニル)フェニルメタンを含む留分は、常圧換算沸点で29
0〜300℃の範囲にある成分を主とする留分として供す
る。
次にカルボニル化工程について説明する。なお、以下
においては、一酸化炭素と水素とを供給して反応させる
ヒドロホルミル化反応と、一酸化炭素および水素または
低級アルコールとを供給して反応させるヒドロエステル
化を総称してカルボニル化と称することがある。
においては、一酸化炭素と水素とを供給して反応させる
ヒドロホルミル化反応と、一酸化炭素および水素または
低級アルコールとを供給して反応させるヒドロエステル
化を総称してカルボニル化と称することがある。
(3−ビニルフェニル)フェニルメタンと水素および
一酸化炭素とを遷移金属カルボニル化触媒の存在下で反
応させた場合(ヒドロホルミル化)には、式(I−a)
のα−(3−ベンジルフェニル)プロピオンアルデヒド
〔式(I)のX=H〕が得られ、それのメチレン基およ
びホルミル基の酸化によってケトプロフェン式(II)が
得られる。
一酸化炭素とを遷移金属カルボニル化触媒の存在下で反
応させた場合(ヒドロホルミル化)には、式(I−a)
のα−(3−ベンジルフェニル)プロピオンアルデヒド
〔式(I)のX=H〕が得られ、それのメチレン基およ
びホルミル基の酸化によってケトプロフェン式(II)が
得られる。
また、(3−ビニルフェニル)フェニルメタンと水ま
たはアルコールおよび一酸化炭素とを遷移金属カルボニ
ル化触媒存在下で反応させた場合(ヒドロエステル化)
には、式(I−b)のα−(3−ベンジルフェニル)プ
ロピオン酸またはそのエステル〔式(I)のX=OHまた
OR〕が得られ、そのメチレン基を酸化し、必要に応じて
加水分解することによりケトプロフェン式(II)が得ら
れる。
たはアルコールおよび一酸化炭素とを遷移金属カルボニ
ル化触媒存在下で反応させた場合(ヒドロエステル化)
には、式(I−b)のα−(3−ベンジルフェニル)プ
ロピオン酸またはそのエステル〔式(I)のX=OHまた
OR〕が得られ、そのメチレン基を酸化し、必要に応じて
加水分解することによりケトプロフェン式(II)が得ら
れる。
カルボニル化に使用される遷移金属触媒としては、N
i、Co、Fe、Mo、Pd、Pt、Rh、Ir、Ru、Re等の遷移金
属、好ましくは、Pd、Pt、Rh、Ir、Ru等の貴金属であ
る。遷移金属としては、酸価数は0から最高位酸価数ま
で使用でき、ハロゲン原子、3価のリン化合物、π−ア
リル基、アミン、ニトリル、オキシム、オレフィン、水
素あるいは一酸化炭素を配位子として含有する錯体触媒
が好ましく用いられる。
i、Co、Fe、Mo、Pd、Pt、Rh、Ir、Ru、Re等の遷移金
属、好ましくは、Pd、Pt、Rh、Ir、Ru等の貴金属であ
る。遷移金属としては、酸価数は0から最高位酸価数ま
で使用でき、ハロゲン原子、3価のリン化合物、π−ア
リル基、アミン、ニトリル、オキシム、オレフィン、水
素あるいは一酸化炭素を配位子として含有する錯体触媒
が好ましく用いられる。
遷移金属錯体触媒の具体例としては、ビストリフェニ
ルホスフィンジクロロ錯体、ビストリブチルホスフィン
ジクロロ錯体、ビストリシクロヘキシルホスフィンジク
ロロ錯体、π−アリルトリフェニルホスフィンジクロロ
錯体、トリフェニルホスフィンピペリジンジクロロ錯
体、ビスベンゾニトリルジクロロ錯体、ビスシクロヘキ
シルオキシムジクロロ錯体、1,5,9−シクロデカトリエ
ンジクロロ錯体、ビストリフェニルホスフィンジカルボ
ニル錯体、ビストリフェニルホスフィンアセテート錯
体、ビストリフェニルホスフィンジナイトレート錯体、
ビストリフェニルホスフィンスルファート錯体、テトラ
キストリフェニルホスフィン錯体、及び一酸化炭素を配
位子の一部に持つ、クロロカルボニルビストリフェニル
ホスフィン錯体、ヒドリドカルボニルトリストリフェニ
ルホスフィン錯体、ビスクロロテトラカルボニル錯体、
ジカルボニルアセチルアセトナート錯体等を挙げること
ができる。
ルホスフィンジクロロ錯体、ビストリブチルホスフィン
ジクロロ錯体、ビストリシクロヘキシルホスフィンジク
ロロ錯体、π−アリルトリフェニルホスフィンジクロロ
錯体、トリフェニルホスフィンピペリジンジクロロ錯
体、ビスベンゾニトリルジクロロ錯体、ビスシクロヘキ
シルオキシムジクロロ錯体、1,5,9−シクロデカトリエ
ンジクロロ錯体、ビストリフェニルホスフィンジカルボ
ニル錯体、ビストリフェニルホスフィンアセテート錯
体、ビストリフェニルホスフィンジナイトレート錯体、
ビストリフェニルホスフィンスルファート錯体、テトラ
キストリフェニルホスフィン錯体、及び一酸化炭素を配
位子の一部に持つ、クロロカルボニルビストリフェニル
ホスフィン錯体、ヒドリドカルボニルトリストリフェニ
ルホスフィン錯体、ビスクロロテトラカルボニル錯体、
ジカルボニルアセチルアセトナート錯体等を挙げること
ができる。
また、反応系において上記の錯体を形成し得る化合物
も反応系に供給することにより用いることができる。す
なわち、上記遷移金属の酸化物、硫酸塩、塩化物等に対
して配位子となり得る化合物、すなわち、ホスフィン、
ニトリル、アリル化合物、アミン、オキシム、オレフィ
ンあるいは、一酸化炭素を同時に反応系に存在させる方
法である。
も反応系に供給することにより用いることができる。す
なわち、上記遷移金属の酸化物、硫酸塩、塩化物等に対
して配位子となり得る化合物、すなわち、ホスフィン、
ニトリル、アリル化合物、アミン、オキシム、オレフィ
ンあるいは、一酸化炭素を同時に反応系に存在させる方
法である。
上記の配位子となり得る化合物としてのホスフィンと
しては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリトリル
ホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシ
ルホスフィン、トリエチルホスフィン等、ニトリルとし
ては、例えば、ベンゾニトリル、アクリロニトリル、プ
ロピオニトリル、ベンジルニトリル等、アリル化合物と
しては、例えば、アリルクロライド、アリルアルコール
等、アミンとしては、例えば、ベンジルアミン、ピリジ
ン、ピペラジン、トリ−n−ブチルアミン等、オキシム
としては、シクロヘキシルオキシム、アセトオキシム、
ベンズアルドオキシム等、オレフィンとしては1,5−シ
クロオクタジエン、1,5,9−シクロデカトリエン等が挙
げられる。
しては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリトリル
ホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシ
ルホスフィン、トリエチルホスフィン等、ニトリルとし
ては、例えば、ベンゾニトリル、アクリロニトリル、プ
ロピオニトリル、ベンジルニトリル等、アリル化合物と
しては、例えば、アリルクロライド、アリルアルコール
等、アミンとしては、例えば、ベンジルアミン、ピリジ
ン、ピペラジン、トリ−n−ブチルアミン等、オキシム
としては、シクロヘキシルオキシム、アセトオキシム、
ベンズアルドオキシム等、オレフィンとしては1,5−シ
クロオクタジエン、1,5,9−シクロデカトリエン等が挙
げられる。
錯体触媒、または錯体を作り得る遷移金属化合物の使
用量は、(3−ビニルフェニル)フェニルメタン1モル
に対して0.0001〜0.5モル、好ましくは0.001〜0.1モル
である。
用量は、(3−ビニルフェニル)フェニルメタン1モル
に対して0.0001〜0.5モル、好ましくは0.001〜0.1モル
である。
また、錯体を作り得る化合物を使用する場合の配位子
となり得る化合物の添加量は、錯体を作り得る化合物1
モルに対して0.8〜10モル、好ましくは1〜4モルであ
る。
となり得る化合物の添加量は、錯体を作り得る化合物1
モルに対して0.8〜10モル、好ましくは1〜4モルであ
る。
更に、反応速度を向上させるで目的で、塩化水素、三
弗化ホウ素等の無機ハロゲン化物やヨウ化メチル等の有
機ヨウ化物等を添加することができる。
弗化ホウ素等の無機ハロゲン化物やヨウ化メチル等の有
機ヨウ化物等を添加することができる。
これらのハロゲン化物を添加する場合は、錯体触媒ま
たは、錯体を作り得る化合物1モルに対して、ハロゲン
原子として0.1〜30倍モル、好ましくは1〜15倍モル使
用する。添加量が0.1モル未満の場合、触媒の種類によ
っても異なるが、添加の効果が見られないこともある。
また、30倍モルを越えるときは、触媒活性が却って低下
すると共に、(3−ビニルフェニル)フェニルメタンの
二重結合にハロゲンが付加する等のために目的の反応が
抑制される。
たは、錯体を作り得る化合物1モルに対して、ハロゲン
原子として0.1〜30倍モル、好ましくは1〜15倍モル使
用する。添加量が0.1モル未満の場合、触媒の種類によ
っても異なるが、添加の効果が見られないこともある。
また、30倍モルを越えるときは、触媒活性が却って低下
すると共に、(3−ビニルフェニル)フェニルメタンの
二重結合にハロゲンが付加する等のために目的の反応が
抑制される。
カルボニル化反応は、反応温度40〜150℃、好ましく
は55〜130℃で行なう。反応温度が40℃未満では、反応
速度が著しく遅くなり、実用上実施することができな
い。また、150℃を越える温度では、重合、水素付加お
よびアルコール付加等の副反応や錯体触媒の分解が生じ
好ましくない。
は55〜130℃で行なう。反応温度が40℃未満では、反応
速度が著しく遅くなり、実用上実施することができな
い。また、150℃を越える温度では、重合、水素付加お
よびアルコール付加等の副反応や錯体触媒の分解が生じ
好ましくない。
反応圧力は5kg/cm2以上であれば、適宜選択できる。5
kg/cm2未満では、実用上実施することができない程反応
が遅くなる。また、圧力は高い程反応が速やかに進行し
好ましいが、圧力が高過ぎる場合には反応器の耐圧を非
常に高くする必要が生ずるなど、製造装置の点から自ず
と限界がある。従って、実用上は800kg/cm2以下の圧力
で充分である。
kg/cm2未満では、実用上実施することができない程反応
が遅くなる。また、圧力は高い程反応が速やかに進行し
好ましいが、圧力が高過ぎる場合には反応器の耐圧を非
常に高くする必要が生ずるなど、製造装置の点から自ず
と限界がある。従って、実用上は800kg/cm2以下の圧力
で充分である。
一酸化炭素と共に水素を用いるヒドロホルミル化反応
は一酸化炭素および水素の混合ガスの吸収による圧力減
少が認められなくなるまで行えばよく、通常は4〜20時
間の反応時間で充分ある。
は一酸化炭素および水素の混合ガスの吸収による圧力減
少が認められなくなるまで行えばよく、通常は4〜20時
間の反応時間で充分ある。
反応に必要な一酸化炭素と水素とは、あらかじめ混合
された混合ガスの状態でも、各別に反応器に供給しても
よい。反応系に供給する場合の一酸化炭素と水素のモル
比は適宜選択できる。すなわちカルボニル化反応では、
一酸化炭素と水素とは正確に1:1のモル比で吸収消費さ
れる。従って、過剰に供給された成分が反応せずに残留
するため、圧力減少が認められなくなった時点で他方の
成分を供給すれば再び反応が進行する。従って、反応器
の大きさ、反応の形式にもよるが、一酸化炭素対水素の
モル比は1:1で供給すれば最も効率的である。
された混合ガスの状態でも、各別に反応器に供給しても
よい。反応系に供給する場合の一酸化炭素と水素のモル
比は適宜選択できる。すなわちカルボニル化反応では、
一酸化炭素と水素とは正確に1:1のモル比で吸収消費さ
れる。従って、過剰に供給された成分が反応せずに残留
するため、圧力減少が認められなくなった時点で他方の
成分を供給すれば再び反応が進行する。従って、反応器
の大きさ、反応の形式にもよるが、一酸化炭素対水素の
モル比は1:1で供給すれば最も効率的である。
ヒドロホルミル化反応の終了後、反応物は、好ましく
は減圧下で、蒸留分離すれば、容易に目的生成物である
α−(3−ベンジルフェニル)プロピオンアルデヒド
(式I−a)と触媒とに分離することができる。回収さ
れた錯体触媒は再度ヒドロホルミル化反応に使用するこ
とができる。
は減圧下で、蒸留分離すれば、容易に目的生成物である
α−(3−ベンジルフェニル)プロピオンアルデヒド
(式I−a)と触媒とに分離することができる。回収さ
れた錯体触媒は再度ヒドロホルミル化反応に使用するこ
とができる。
一酸化炭素と共に水またはアルコールを用いるヒドロ
エステル化反応においては、(3−ビニルフェニル)フ
ェニルメタンを水の存在下に反応させると、式(I)に
おけるXがヒドロキシル基であるカルボン酸が得られ
る。また、炭素数1〜4のアルキル基を有する低級アル
コールの存在下で反応させた場合、式(I)におけるX
が該低級アルコールのアルコキシ基であるエステルが得
られ、例えば、メチルアルコールではメチルエステルが
得られる。
エステル化反応においては、(3−ビニルフェニル)フ
ェニルメタンを水の存在下に反応させると、式(I)に
おけるXがヒドロキシル基であるカルボン酸が得られ
る。また、炭素数1〜4のアルキル基を有する低級アル
コールの存在下で反応させた場合、式(I)におけるX
が該低級アルコールのアルコキシ基であるエステルが得
られ、例えば、メチルアルコールではメチルエステルが
得られる。
アルコールは低級アルコールであって、メチルアルコ
ール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−
ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール及びイソブ
チルアルコール等の炭素数1〜4の低級アルコールであ
るが、好ましくはメチルアルコールである。
ール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−
ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール及びイソブ
チルアルコール等の炭素数1〜4の低級アルコールであ
るが、好ましくはメチルアルコールである。
ヒドロエステル化の終了後、反応物は、好ましくは減
圧下で蒸留あるいは抽出により分離すれば、容易に目的
化合物であるα−(3−ベンジルフェニル)プロピオン
酸またはそのエステル(式I−b)と触媒とに分離する
ことができる。もちろん分離には蒸留と抽出の両方を利
用することができる。回収された錯体触媒は再度使用す
ることもできる。
圧下で蒸留あるいは抽出により分離すれば、容易に目的
化合物であるα−(3−ベンジルフェニル)プロピオン
酸またはそのエステル(式I−b)と触媒とに分離する
ことができる。もちろん分離には蒸留と抽出の両方を利
用することができる。回収された錯体触媒は再度使用す
ることもできる。
工程(IV)のカルボニル化の後に、蒸留、抽出あるい
はその両方により、前記式(I)のα−(3−ベンジル
フェニル)プロピオン酸誘導体を回収する。脱水素工程
からの留分に含まれている未反応の(3−エチルフェニ
ル)フェニルメタンは、カルボニル化反応工程前では
(3−ビニルフェニル)フェニルメタンとは分離が容易
ではないが、カルボニル化の後では極めて容易に分離す
ることができる。それ故に、カルボニル化の後に蒸留ま
たは抽出により(3−エチルフェニル)フェニルメタン
を回収し、これは前記脱水素工程(III)の原料として
再循環することが好ましい。この際カルボニル化工程に
おける未反応分としての(3−ビニルフェニル)フェニ
ルメタンと共に脱水素工程に再循環することができる。
すなわち、既に説明したように、通常の工程において行
なわれる未反応物の分離や目的物の精製などは、前記脱
水素工程においては特に行なう必要がなく、副反応から
の分解物や重合物の除去を行なう程度の精製を行なえば
よい。
はその両方により、前記式(I)のα−(3−ベンジル
フェニル)プロピオン酸誘導体を回収する。脱水素工程
からの留分に含まれている未反応の(3−エチルフェニ
ル)フェニルメタンは、カルボニル化反応工程前では
(3−ビニルフェニル)フェニルメタンとは分離が容易
ではないが、カルボニル化の後では極めて容易に分離す
ることができる。それ故に、カルボニル化の後に蒸留ま
たは抽出により(3−エチルフェニル)フェニルメタン
を回収し、これは前記脱水素工程(III)の原料として
再循環することが好ましい。この際カルボニル化工程に
おける未反応分としての(3−ビニルフェニル)フェニ
ルメタンと共に脱水素工程に再循環することができる。
すなわち、既に説明したように、通常の工程において行
なわれる未反応物の分離や目的物の精製などは、前記脱
水素工程においては特に行なう必要がなく、副反応から
の分解物や重合物の除去を行なう程度の精製を行なえば
よい。
このようにして得られたカルボニル化反応の生成物α
−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体を、例
えば、前記米国特許第3,641,127号公報に従い酸化する
ことによりケトプロフェンを容易に得ることができる。
−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体を、例
えば、前記米国特許第3,641,127号公報に従い酸化する
ことによりケトプロフェンを容易に得ることができる。
次にこの酸化について説明する。
水素を用いるカルボニル化で得られたα−(3−ベン
ジルフェニル)プロピオンアルデヒド(式I−a)の酸
化は、2つのフェニル基に挟まれたメチレン基およびホ
ルミル基に対して行なわれる。その際、メチレン基およ
びホルミル基が一段階の反応で一挙に酸化されてもよ
い。また、メチレン基を酸化した後に、更にホルミル基
を酸化する反応を組合わせてもよく、また、その逆の場
合も可能である。ホルミル基を後で酸化するときには、
公知の方法でホルミル基をブロックした上で酸化を実施
することもできる。
ジルフェニル)プロピオンアルデヒド(式I−a)の酸
化は、2つのフェニル基に挟まれたメチレン基およびホ
ルミル基に対して行なわれる。その際、メチレン基およ
びホルミル基が一段階の反応で一挙に酸化されてもよ
い。また、メチレン基を酸化した後に、更にホルミル基
を酸化する反応を組合わせてもよく、また、その逆の場
合も可能である。ホルミル基を後で酸化するときには、
公知の方法でホルミル基をブロックした上で酸化を実施
することもできる。
メチレン基が先に酸化されればα−(3−ベンゾイル
フェニル)プロピオンアルデヒドが得られる。また、ホ
ルミル基が先に酸化されれば、式(I−b)のα−(3
−ベンジルフェニル)プロピオン酸が得られる。
フェニル)プロピオンアルデヒドが得られる。また、ホ
ルミル基が先に酸化されれば、式(I−b)のα−(3
−ベンジルフェニル)プロピオン酸が得られる。
更に、水またはアルコールを用いるヒドロエステル化
反応で得られる式(I−b)のα−(3−ベンジルフェ
ニル)プロピオン酸またはそのアルキルエステルを酸化
し、必要に応じて加水分解することにより、ケトプロフ
ェン、すなわち式(II)のα−(3−ベンゾイルフェニ
ル)プロピオン酸を容易に得ることができる。ヒドロエ
ステル化によりエステルが得られたときは、酸化の前に
これを加水分解してα−(3−ベンジルフェニル)プロ
ピオン酸とし、これを酸化に供することもできる。
反応で得られる式(I−b)のα−(3−ベンジルフェ
ニル)プロピオン酸またはそのアルキルエステルを酸化
し、必要に応じて加水分解することにより、ケトプロフ
ェン、すなわち式(II)のα−(3−ベンゾイルフェニ
ル)プロピオン酸を容易に得ることができる。ヒドロエ
ステル化によりエステルが得られたときは、酸化の前に
これを加水分解してα−(3−ベンジルフェニル)プロ
ピオン酸とし、これを酸化に供することもできる。
上記の酸化法には、例えば、酸化触媒の存在下におけ
る分子状酸素による酸化、あるいは酸化剤として過マン
ガン酸塩、二酸化マンガン、クロム酸塩、重クロム酸
塩、四酢酸鉛、過ヨウ素酸塩、四酸化ルテニウム、四酸
化オスミウム、過酸化水素、二酸化セレン、亜塩素酸も
しくは次亜塩素酸塩、オゾンおよびこれらの混合物から
なる酸化剤を用いる酸化などが挙げられる。
る分子状酸素による酸化、あるいは酸化剤として過マン
ガン酸塩、二酸化マンガン、クロム酸塩、重クロム酸
塩、四酢酸鉛、過ヨウ素酸塩、四酸化ルテニウム、四酸
化オスミウム、過酸化水素、二酸化セレン、亜塩素酸も
しくは次亜塩素酸塩、オゾンおよびこれらの混合物から
なる酸化剤を用いる酸化などが挙げられる。
過マンガン酸塩などの酸化剤は、原料に対して少なく
とも1当量以上、好ましくは1.5当量以上必要である。
使用量の上限は特に制限はないが、通常は10当量を越え
ると、不経済となるだけで好ましくない。酸化剤による
酸化の反応温度は、0〜200℃、好ましくは30〜150℃で
ある。0℃未満の反応温度では、反応が進まず、また、
200℃を越えると副生成物などが生じ目的物の選択率が
著しく低下するので何れも好ましくない。
とも1当量以上、好ましくは1.5当量以上必要である。
使用量の上限は特に制限はないが、通常は10当量を越え
ると、不経済となるだけで好ましくない。酸化剤による
酸化の反応温度は、0〜200℃、好ましくは30〜150℃で
ある。0℃未満の反応温度では、反応が進まず、また、
200℃を越えると副生成物などが生じ目的物の選択率が
著しく低下するので何れも好ましくない。
分子状酸素による酸化の際の触媒には、周期律表中第
VI-B、VII-B、VIII族から選ばれる金属、例えば、クロ
ム、マンガン、タングステン、モリブデン、白金、パラ
ジウム、コバルト、ニッケル、鉄、ロジウム、ルテニウ
ムの塩およびこれらの混合物が挙げられ、特に好ましい
ものは、コバルト、鉄、マンガン、クロムなどの塩であ
る。塩としては、例えばナフテン酸などの飽和カルボン
酸の塩が好ましい。触媒の使用量は、例えば、原料に対
して0.05〜10重量%が適当である。分子状酸素は、純酸
素あるいは空気として供給することもでき、また、純酸
素と他の不活性ガスと混合して反応系に供給してもよ
い。
VI-B、VII-B、VIII族から選ばれる金属、例えば、クロ
ム、マンガン、タングステン、モリブデン、白金、パラ
ジウム、コバルト、ニッケル、鉄、ロジウム、ルテニウ
ムの塩およびこれらの混合物が挙げられ、特に好ましい
ものは、コバルト、鉄、マンガン、クロムなどの塩であ
る。塩としては、例えばナフテン酸などの飽和カルボン
酸の塩が好ましい。触媒の使用量は、例えば、原料に対
して0.05〜10重量%が適当である。分子状酸素は、純酸
素あるいは空気として供給することもでき、また、純酸
素と他の不活性ガスと混合して反応系に供給してもよ
い。
分子状酸素による酸化の反応温度は30〜250℃、好ま
しくは50〜200℃である。反応温度が30℃未満では反応
速度が著しく小さくなり、また250℃を越えると目的物
の選択率が著しく低下するので何れも好ましくない。
しくは50〜200℃である。反応温度が30℃未満では反応
速度が著しく小さくなり、また250℃を越えると目的物
の選択率が著しく低下するので何れも好ましくない。
また、酸化剤との接触効率を向上させるために溶媒を
用いてもよく、このような溶媒としては、例えば、水、
アセトン、tert−ブチルアルコールなどのアルコール、
氷酢酸、酢酸、イソオクタン、ベンゼン、クロロホル
ム、ピリジンなどの単一あるいは混合溶媒などが用いら
れる。
用いてもよく、このような溶媒としては、例えば、水、
アセトン、tert−ブチルアルコールなどのアルコール、
氷酢酸、酢酸、イソオクタン、ベンゼン、クロロホル
ム、ピリジンなどの単一あるいは混合溶媒などが用いら
れる。
酸化後においては、酸化剤または酸化触媒を濾過など
により分離するか、あるいは、ベンゼン、酢酸エチル、
クロロホルムなどの有機溶媒で反応混合物を抽出した
後、通常の蒸留によりあるいは再結晶により、高純度の
α−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸であるケ
トプロフェンが得られる。酸化生成物がエステルの時
は、常法に従い加水分解し、精製すれば、容易に高純度
のα−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸が得ら
れる。
により分離するか、あるいは、ベンゼン、酢酸エチル、
クロロホルムなどの有機溶媒で反応混合物を抽出した
後、通常の蒸留によりあるいは再結晶により、高純度の
α−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸であるケ
トプロフェンが得られる。酸化生成物がエステルの時
は、常法に従い加水分解し、精製すれば、容易に高純度
のα−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸が得ら
れる。
以上詳述したように、本発明の方法によればZSM-5型
の合成ゼオライト触媒によりベンゼンをエチル化する際
に副生する重質副生油から、ケトプロフェン前駆体であ
るα−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体を
高純度でかつ安価に容易に製造することができる。この
α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体から
は、酸化し、その酸化の前後で必要に応じて加水分解す
ればケトプロフェンが容易に製造できる。
の合成ゼオライト触媒によりベンゼンをエチル化する際
に副生する重質副生油から、ケトプロフェン前駆体であ
るα−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体を
高純度でかつ安価に容易に製造することができる。この
α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導体から
は、酸化し、その酸化の前後で必要に応じて加水分解す
ればケトプロフェンが容易に製造できる。
−発明を実施するための最良の形態− 以下に実施例により本発明を詳述する。
実験例1 (アルキル化) 合成ゼオライトZS-5(H型、SiO2/Al2O3モル比=60)
100gをステンレス鋼製流通式反応器に入れ、次の条件下
でベンゼンをエチレンでアルキル化した。
100gをステンレス鋼製流通式反応器に入れ、次の条件下
でベンゼンをエチレンでアルキル化した。
反応温度: 450℃ 圧力: 大気圧 エチレン/ベンゼン: 0.2 (モル比) WHSV: 4.5 得られた反応液を蒸留し、未反応ベンゼン、エチルベ
ンゼン、ポリエチルベンゼンを留去し、重質分を収率2.
5%で回収した。
ンゼン、ポリエチルベンゼンを留去し、重質分を収率2.
5%で回収した。
続いて、得られた重質分から、減圧蒸留により、常圧
換算で288〜293℃の沸点範囲にある留分(A)を得た。
換算で288〜293℃の沸点範囲にある留分(A)を得た。
この留分には(3−エチルフェニル)フェニルメタン
が含まれていた。分析によると(3−エチルフェニル)
フェニルメタンの含有量は87重量%であった。
が含まれていた。分析によると(3−エチルフェニル)
フェニルメタンの含有量は87重量%であった。
(脱水素反応) 上記の留分を次の条件により、水蒸気を加熱媒体とし
つつ脱水素反応を実施した。
つつ脱水素反応を実施した。
触媒:日産ガードラー触媒社製、商品名:G-64C(炭酸カ
リと酸化クロムとを助触媒にした酸化鉄系触媒) 温度:600℃ LHSV:2.0 水蒸気/炭化水素:2.0 (モル比) 脱水素反応後、同様にして減圧蒸留により、沸点範囲
283〜298℃(常圧換算)の留分を得た。分析すると、そ
の中(3−ビニルフェニル)フェニルメタンの含有量は
48重量%であった。
リと酸化クロムとを助触媒にした酸化鉄系触媒) 温度:600℃ LHSV:2.0 水蒸気/炭化水素:2.0 (モル比) 脱水素反応後、同様にして減圧蒸留により、沸点範囲
283〜298℃(常圧換算)の留分を得た。分析すると、そ
の中(3−ビニルフェニル)フェニルメタンの含有量は
48重量%であった。
別に、以下のようにして合成した(3−ビニルフェニ
ル)フェニルメタンのIR、NMRのスペクトルと比較した
が、結果は同一であった。
ル)フェニルメタンのIR、NMRのスペクトルと比較した
が、結果は同一であった。
上記の留分には、未反応の(3−エチルフェニル)フ
ェニルメタンも含まれているが、特にこれを分離するこ
となく以下のカルボニル化工程に供した。
ェニルメタンも含まれているが、特にこれを分離するこ
となく以下のカルボニル化工程に供した。
参考製造例 (3−ビニルフェニル)フェニルメタンの別途合成 還流冷却器および攪拌機付きの2lフラスコ中に、金属
ナトリウムで乾燥したテトラビドロフラン50mlと金属マ
グネシウム28g(1.15モル)を入れ、室温で攪拌してお
く。これに臭化3−ビニルベンゼン183g(1.02モル)の
乾燥テトラヒドロフラン500ml溶液を2時間かけて徐々
に滴下した。反応温度は80℃を保持した。
ナトリウムで乾燥したテトラビドロフラン50mlと金属マ
グネシウム28g(1.15モル)を入れ、室温で攪拌してお
く。これに臭化3−ビニルベンゼン183g(1.02モル)の
乾燥テトラヒドロフラン500ml溶液を2時間かけて徐々
に滴下した。反応温度は80℃を保持した。
滴下終了後、更に80℃で1時間攪拌した。このグリニ
ャール溶液を、臭化ベンジル171g(1.0モル)とNiCl2(P
h2P(CH)3PPh2)5.5gの乾燥エーテル500ml溶液に2時間か
けて徐々に滴下し、更に35℃で1時間攪拌した。この反
応溶液を氷水に投入した後、分液し、油層を回収し、エ
ーテルおよびテトラヒドロフランを減圧留去して、(3
−ビニルフェニル)フェニルメタンを収率60%で得た。
ャール溶液を、臭化ベンジル171g(1.0モル)とNiCl2(P
h2P(CH)3PPh2)5.5gの乾燥エーテル500ml溶液に2時間か
けて徐々に滴下し、更に35℃で1時間攪拌した。この反
応溶液を氷水に投入した後、分液し、油層を回収し、エ
ーテルおよびテトラヒドロフランを減圧留去して、(3
−ビニルフェニル)フェニルメタンを収率60%で得た。
生成物の分析結果は次の通りである。
沸点:108.5 〜110.5 ℃/0.5 〜1mmHg IR:(Neat)cm-1 3040、2930、1635、1600、1500、1460、995、910、79
0、710、7001 H-NMR:(CCl4、δ ppm) 6.7 〜7.70 (9H、多重線) 6.30〜6.60 (1H、4重線) 5.40〜5.70 (1H、2重線) 5.00〜5.15 (1H、2重線) 3.80 (2H、1重線) 元素分析:(C15H14として) 計算値 C: 92.78% H: 7.22% 実測値 C: 92.80% H: 7.20% 次に実験例1で得られた(3−ビニルフェニル)フェ
ニルメタンを含む留分を原料としケトプロフェンを合成
した。
0、710、7001 H-NMR:(CCl4、δ ppm) 6.7 〜7.70 (9H、多重線) 6.30〜6.60 (1H、4重線) 5.40〜5.70 (1H、2重線) 5.00〜5.15 (1H、2重線) 3.80 (2H、1重線) 元素分析:(C15H14として) 計算値 C: 92.78% H: 7.22% 実測値 C: 92.80% H: 7.20% 次に実験例1で得られた(3−ビニルフェニル)フェ
ニルメタンを含む留分を原料としケトプロフェンを合成
した。
実験例2 α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸(式I、X
=−OH)の合成 上記実験例1で得た(3−ビニルフェニル)フェニル
メタンを含む留分40g、10%塩酸水溶液75g、ビストリフ
ェニルホスフィンジクロロパラジウム0.8g、反応溶媒と
してベンゼン80mlを、内容積500mlのオートクレーブに
入れ、常温で一酸化炭素により100kg/cm2まで加圧し
た。加熱して温度100℃に達した後、更に一酸化炭素で3
00kg/cm2まで加圧し、反応による一酸化炭素の吸収がな
くなるまで反応させた。
=−OH)の合成 上記実験例1で得た(3−ビニルフェニル)フェニル
メタンを含む留分40g、10%塩酸水溶液75g、ビストリフ
ェニルホスフィンジクロロパラジウム0.8g、反応溶媒と
してベンゼン80mlを、内容積500mlのオートクレーブに
入れ、常温で一酸化炭素により100kg/cm2まで加圧し
た。加熱して温度100℃に達した後、更に一酸化炭素で3
00kg/cm2まで加圧し、反応による一酸化炭素の吸収がな
くなるまで反応させた。
反応終了後、冷却してベンゼン層を分離し、5%苛性
ソーダ水溶液50mlで3回抽出した。苛性ソーダ水溶液層
がpH2になるまで塩酸を加え、クロロホルムで抽出し
た。クロロホルムを減圧で除き、淡黄色であるα−(3
−ベンジルフェニル)プロピオン酸の粗結晶18gを得
た。
ソーダ水溶液50mlで3回抽出した。苛性ソーダ水溶液層
がpH2になるまで塩酸を加え、クロロホルムで抽出し
た。クロロホルムを減圧で除き、淡黄色であるα−(3
−ベンジルフェニル)プロピオン酸の粗結晶18gを得
た。
これを再結晶して精製したサンプルの融点、IRスペク
トルおよびNMRスペクトルなどは文献値と一致した。
トルおよびNMRスペクトルなどは文献値と一致した。
実験例3 α−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸(ケトプ
ロフェン)の合成(その1) 実験例2で得られたα−(3−ベンジルフェニル)プ
ロピオン酸24gのベンゼン溶液200mlを水200mlに懸濁さ
せ、攪拌しながら1.6%過マンガン酸カリウム水溶液2l
を滴下する。滴下終了後、室温で約10時間攪拌を続け
る。この混合物を濃硫酸で酸性にした後、30gの亜硫酸
ナトリウムで処理した。反応溶液に水を加え、エーテル
で抽出し、エーテル層を水で洗った後、5%の水酸化カ
リウム水溶液で抽出した。さらに水層を塩酸で酸性にし
た後、再度エーテルで抽出した。エーテル層は水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エーテルを減圧
留去した。ベンゼン/石油エーテルから再結晶させα−
(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸(ケトプロフ
ェン)を得た。
ロフェン)の合成(その1) 実験例2で得られたα−(3−ベンジルフェニル)プ
ロピオン酸24gのベンゼン溶液200mlを水200mlに懸濁さ
せ、攪拌しながら1.6%過マンガン酸カリウム水溶液2l
を滴下する。滴下終了後、室温で約10時間攪拌を続け
る。この混合物を濃硫酸で酸性にした後、30gの亜硫酸
ナトリウムで処理した。反応溶液に水を加え、エーテル
で抽出し、エーテル層を水で洗った後、5%の水酸化カ
リウム水溶液で抽出した。さらに水層を塩酸で酸性にし
た後、再度エーテルで抽出した。エーテル層は水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エーテルを減圧
留去した。ベンゼン/石油エーテルから再結晶させα−
(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸(ケトプロフ
ェン)を得た。
スペクトル、融点などは標品と同一であった。
実験例4 α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸メチルエス
テル(式I、X=−OCH3)の合成 実験例1で得た(3−ビニルフェニル)フェニルメタ
ンを含む留分40g、5%塩化水素メチルアルコール溶液1
50ml、ビストリフェニルホスフィンジクロロパラジウム
1gを一酸化炭素により300kg/cm2まで加圧し、加熱して9
0℃に達した後、一酸化炭素で700kg/cm2になるまで更に
加圧し、一酸化炭素の吸収が見られなくなるまで反応さ
せた。
テル(式I、X=−OCH3)の合成 実験例1で得た(3−ビニルフェニル)フェニルメタ
ンを含む留分40g、5%塩化水素メチルアルコール溶液1
50ml、ビストリフェニルホスフィンジクロロパラジウム
1gを一酸化炭素により300kg/cm2まで加圧し、加熱して9
0℃に達した後、一酸化炭素で700kg/cm2になるまで更に
加圧し、一酸化炭素の吸収が見られなくなるまで反応さ
せた。
反応終了後、オートクレーブを冷却し、未反応ガスを
除去し、内容物に炭酸カリウム粉末1gを加えた後、減圧
蒸留し、α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸メ
チルエステル(式I、X=−OCH3)を得た。(3−ビニ
ルフェニル)フェニルメタンを基準として90%の収率で
あった。分析の結果を次に示す 沸点:118.2〜120.2℃/0.5〜1.0mmHg IR:(Neat)cm-1 3050、2985、1740、1605、1500、1440、1350、1250、12
00、1080、1035、1005、790、7051 H-NMR:(CCl4、δ ppm) 6.40〜7.40 (9H、多重線) 3.68 (2H、1重線) 3.10〜3.65 (4H、多重線) 1.32〜1.51 (3H、2重線) 元素分析:(C17H18O2として) 計算値 C: 80.31% H: 7.09% O: 12.60% 実測値 C: 80.35% H: 7.10% O: 12.55% 別に回収した常圧換算283〜293℃の留分には未反応の
(3−ビニルフェニル)フェニルメタンと(3−エチル
フェニル)フェニルメタンが含まれていたが、これを脱
水素工程に再循環させることができる。
除去し、内容物に炭酸カリウム粉末1gを加えた後、減圧
蒸留し、α−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸メ
チルエステル(式I、X=−OCH3)を得た。(3−ビニ
ルフェニル)フェニルメタンを基準として90%の収率で
あった。分析の結果を次に示す 沸点:118.2〜120.2℃/0.5〜1.0mmHg IR:(Neat)cm-1 3050、2985、1740、1605、1500、1440、1350、1250、12
00、1080、1035、1005、790、7051 H-NMR:(CCl4、δ ppm) 6.40〜7.40 (9H、多重線) 3.68 (2H、1重線) 3.10〜3.65 (4H、多重線) 1.32〜1.51 (3H、2重線) 元素分析:(C17H18O2として) 計算値 C: 80.31% H: 7.09% O: 12.60% 実測値 C: 80.35% H: 7.10% O: 12.55% 別に回収した常圧換算283〜293℃の留分には未反応の
(3−ビニルフェニル)フェニルメタンと(3−エチル
フェニル)フェニルメタンが含まれていたが、これを脱
水素工程に再循環させることができる。
実験例5 α−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸(ケトプ
ロフェン)の合成(その2) 実験例4で得たα−(3−ベンジルフェニル)プロピ
オン酸メチルエステル25.4gのベンゼン溶液200mlを水20
0mlに懸濁させ、攪拌しながら1.6%過マンガン酸カリウ
ム水溶液2lを滴下した。滴下終了後、室温で約10時間攪
拌を続けた。この混合物を濃硫酸で酸性とした後、30g
の亜硫酸ナトリウムで処理した。反応溶液に水を加え、
エーテルで抽出し、エーテル層を水で洗った後、エーテ
ルは減圧で留去した。5%の水酸化カリウム水溶液と残
分を混合し、この混合液を還流温度で3時間加水分解を
行なった。冷却後、エーテルで油分を抽出洗浄し、さら
に水層を塩酸で酸性にした後、再度エーテルで抽出し
た。エーテル層は水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後、エーテルを減圧留去した。ベンゼン/石油エー
テルから再結晶させα−(3−ベンゾイルフェニル)プ
ロピオン酸(ケトプロフェン)を得た。
ロフェン)の合成(その2) 実験例4で得たα−(3−ベンジルフェニル)プロピ
オン酸メチルエステル25.4gのベンゼン溶液200mlを水20
0mlに懸濁させ、攪拌しながら1.6%過マンガン酸カリウ
ム水溶液2lを滴下した。滴下終了後、室温で約10時間攪
拌を続けた。この混合物を濃硫酸で酸性とした後、30g
の亜硫酸ナトリウムで処理した。反応溶液に水を加え、
エーテルで抽出し、エーテル層を水で洗った後、エーテ
ルは減圧で留去した。5%の水酸化カリウム水溶液と残
分を混合し、この混合液を還流温度で3時間加水分解を
行なった。冷却後、エーテルで油分を抽出洗浄し、さら
に水層を塩酸で酸性にした後、再度エーテルで抽出し
た。エーテル層は水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後、エーテルを減圧留去した。ベンゼン/石油エー
テルから再結晶させα−(3−ベンゾイルフェニル)プ
ロピオン酸(ケトプロフェン)を得た。
スペクトル、融点などは標品と同一であった。
実験例6 α−(3−ベンジルフェニル)プロピオンアルデヒド
(式I−a)の合成(その1) 実験例1で得た(3−ビニルフェニル)フェニルメタ
ンを含む留分30g、ロジウムヒドリドカルボニルトリス
トリフェニルホスフィン0.3gを、内容積500mlの攪拌機
付オートクレーブに入れ、60℃に加熱し、水素と一酸化
炭素との等モル混合ガスで50kg/cm2まで加圧し、反応に
よる混合ガスの吸収が認められなくなるまで反応させ
た。反応終了後室温まで冷却し、残存混合ガスを放出
し、内容物を減圧蒸留器に移し、留出温度範囲113〜116
℃/0.5〜1mmHgのα−(3−ベンジルフェニル)プロピ
オンアルデヒド(式I−a)を収率95%で得た。
(式I−a)の合成(その1) 実験例1で得た(3−ビニルフェニル)フェニルメタ
ンを含む留分30g、ロジウムヒドリドカルボニルトリス
トリフェニルホスフィン0.3gを、内容積500mlの攪拌機
付オートクレーブに入れ、60℃に加熱し、水素と一酸化
炭素との等モル混合ガスで50kg/cm2まで加圧し、反応に
よる混合ガスの吸収が認められなくなるまで反応させ
た。反応終了後室温まで冷却し、残存混合ガスを放出
し、内容物を減圧蒸留器に移し、留出温度範囲113〜116
℃/0.5〜1mmHgのα−(3−ベンジルフェニル)プロピ
オンアルデヒド(式I−a)を収率95%で得た。
スペクトル分析の結果は以下の通りであった。
IR:(Neat)cm-1 3050、2990、2840、2720、1735、1600、1500、1450、13
90、1090、1010、780、7001 H-NMR:(CCl4、δ ppm) 9.75 (1H、1重線) 6.65〜7.65 (9H、多重線) 2.95〜3.50 (3H、多重線) 1.35〜1.50 (3H、2重線) 元素分析:(C16H16Oとして) 計算値 C: 85.72% H: 7.14% O: 7.14% 実測値 C: 85.70% H: 7.15% O: 7.15% 実験例7 α−(3−ベンジルフェニル)プロピオンアルデヒド
(式I−a)の合成(その2) ロジウムヒドリドカルボニトリストリフェニルホスフ
ィンの代わりに、酸化ロジウム0.1gとトリフェニルホス
フィン0.6gとを用いて、実験例6と同様にして(3−ビ
ニルフェニル)フェニルメタンをヒドロホルミル化反応
を実施した。その結果α−(3−ベンジルフェニル)プ
ロピオンアルデヒド(式I−a)を収率90%で得た。
90、1090、1010、780、7001 H-NMR:(CCl4、δ ppm) 9.75 (1H、1重線) 6.65〜7.65 (9H、多重線) 2.95〜3.50 (3H、多重線) 1.35〜1.50 (3H、2重線) 元素分析:(C16H16Oとして) 計算値 C: 85.72% H: 7.14% O: 7.14% 実測値 C: 85.70% H: 7.15% O: 7.15% 実験例7 α−(3−ベンジルフェニル)プロピオンアルデヒド
(式I−a)の合成(その2) ロジウムヒドリドカルボニトリストリフェニルホスフ
ィンの代わりに、酸化ロジウム0.1gとトリフェニルホス
フィン0.6gとを用いて、実験例6と同様にして(3−ビ
ニルフェニル)フェニルメタンをヒドロホルミル化反応
を実施した。その結果α−(3−ベンジルフェニル)プ
ロピオンアルデヒド(式I−a)を収率90%で得た。
実験例8 ケトプロフェンの合成(同時酸化法) 実験例6で得たα−(3−ベンジルフェニル)プロピ
オンアルデヒド(式I−a)20gのベンゼン溶液200mlを
水200mlに懸濁させ、攪拌しながら1.6%過マンガン酸カ
リウム水溶液4lを滴下する。滴下終了後、室温で約10時
間攪拌を続ける。
オンアルデヒド(式I−a)20gのベンゼン溶液200mlを
水200mlに懸濁させ、攪拌しながら1.6%過マンガン酸カ
リウム水溶液4lを滴下する。滴下終了後、室温で約10時
間攪拌を続ける。
この混合物を濃硫酸で酸性とした後、60gの亜硫酸ナ
トリウムで処理した。反応溶液に水を加え、エーテルで
抽出し、エーテル層を水で洗った後、5%の水酸化カリ
ウム水溶液で抽出した。この水層を塩酸で酸性にした
後、再度エーテルで抽出した。エーテル層は水で洗い、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エーテルを減圧留去
した。ベンゼン/石油エーテルから再結晶させα−(3
−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸(ケトプロフェ
ン)を得た。スペクトル、融点などは標品と同一であっ
た。
トリウムで処理した。反応溶液に水を加え、エーテルで
抽出し、エーテル層を水で洗った後、5%の水酸化カリ
ウム水溶液で抽出した。この水層を塩酸で酸性にした
後、再度エーテルで抽出した。エーテル層は水で洗い、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、エーテルを減圧留去
した。ベンゼン/石油エーテルから再結晶させα−(3
−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸(ケトプロフェ
ン)を得た。スペクトル、融点などは標品と同一であっ
た。
−産業上の利用可能性− 以上のように本発明の製造方法は、消炎剤や鎮痛剤と
して有用な医薬あるケトプロフェン(商品名)の前駆体
であるα−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導
体を製造する方法である。これを使用することにより、
酸化などの簡単な方法によってケトプロンフェンを製造
することができるので有用である。
して有用な医薬あるケトプロフェン(商品名)の前駆体
であるα−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸誘導
体を製造する方法である。これを使用することにより、
酸化などの簡単な方法によってケトプロンフェンを製造
することができるので有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 69/616 C07C 69/616 // B01J 23/86 B01J 23/86 X 29/40 29/40 X 31/24 31/24 X C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 C07C 5/333 9734−4H C07C 5/333 7/04 9734−4H 7/04 15/50 9734−4H 15/50 59/84 2115−4H 59/84
Claims (4)
- 【請求項1】ZSM-5型合成ゼオライト触媒の存在下に、
ベンゼンをエチレンでアルキル化することにより、未反
応ベンゼン、エチルベンゼン、ポリエチルベンゼンおよ
び重質分からなる反応生成物を得て、次いで該反応生成
物から沸点288〜295℃(常圧換算)の範囲にある成分を
主とする留分として(3−エチルフェニル)フェニルメ
タンを蒸留により回収し、更に該留分を脱水素触媒の存
在下に脱水素処理し、次に遷移金属錯体カルボニル化触
媒の存在下に、一酸化炭素および水素、または一酸化炭
素および水もしくは低級アルコールにより、反応温度40
〜200℃でカルボニル化を行なった後、蒸留および/ま
たは抽出により下記式(I)で表わされるα−(3−ベ
ンジルフェニル)プロピオン酸誘導体を回収することを
特徴とするα−(3−ベンジルフェニル)プロピオン酸
誘導体の製造方法。 (ここで、Xは水素、ヒドロキシル基または炭素数1〜
4のアルコキシ基を示す。) - 【請求項2】前記脱水素触媒が、酸化鉄および/または
酸化クロム系触媒である請求の範囲第1項記載の方法。 - 【請求項3】前記カルボニル化遷移金属錯体触媒の金属
が、Pd、Pt、Rh、Ir、Ruから選ばれる遷移金属である請
求の範囲第1項記載の方法。 - 【請求項4】前記脱水素反応の温度が500〜700℃、およ
び圧力が減圧ないし5kg/cm2である請求の範囲第1項記
載の方法。
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JP6646687 | 1987-03-20 | ||
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-
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