JPS63290837A - 2−(置換フェニル)プロピオンアルデヒドの製造法 - Google Patents

2−(置換フェニル)プロピオンアルデヒドの製造法

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JPS63290837A
JPS63290837A JP12568387A JP12568387A JPS63290837A JP S63290837 A JPS63290837 A JP S63290837A JP 12568387 A JP12568387 A JP 12568387A JP 12568387 A JP12568387 A JP 12568387A JP S63290837 A JPS63290837 A JP S63290837A
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reaction
substituted phenyl
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JP12568387A
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Eiji Takahashi
英二 高橋
Kazuo Ozaki
尾崎 和男
Takao Yamada
隆男 山田
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Maruzen Petrochemical Co Ltd
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Maruzen Petrochemical Co Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、一般式〔1〕 (式中、Rはフェニル基またはメチル基を示す)で表さ
れる2−(置換フェニル)プロピオンアルデヒドを経済
的に製造する新親な方法に関するものである。
本発明の目的物である一般式〔I〕の2−(置換フェニ
ル)プロピオンアルデヒドから容易に誘4される下記一
般式[IV) (式中、Rは前記と同じ意味を示す)で表される2−(
fflフェニル)プロピオンrfiKは、医薬またはそ
の中間体として有用なものが多い。例えば、本発明の方
法によって得られる2−(3フエノキシフエニル)fロ
ピオンアルデヒドから、特開昭51−16636号、同
54−39043号等に記載されている方法でMlされ
る2−(3−フェノキシフェニル)プロピオン酸°は抗
炎症、鎮痛および解熱作用を不していて、一般名フエノ
プロフエンとして知られている。
(従来の技術) 一般式〔I〕で表される2−(i!を換フェニル)プロ
ピオンアルデヒドまたは一般式[1’V)で表される2
−(置換フェニル)プロピオン酸を製造する方法は、従
来から数多く提案されているが、その代表的なプロセス
は次の通りである。
l)芳香核に置換基を有するアセトンフェノン誘導体を
還元して1−(fL’v換フェニル)エチルアルコール
とし九のち、ハロゲン置換、シアン化、加水分解の工程
を経る2−(置換フェニル)プロピオン酸の製造法(米
国特許第3600437号、特開昭58−77841号
参照)、 2)芳香核に置換基を有するフェニル酢酸エステルを炭
酸ジアルキルと反応させて相当するマロン酌ジエステル
とし、ヨウ化メチルでメチル化したのち加水分解、つい
で脱炭酸′する2−(置換フェニル)プロピオン酸の製
造法(特公昭51−45586号参照)、 3)芳香核に置換基を有するアセトフェノン訪導体とモ
ノクロロ酢酸エステルとの反応で得られる3−メチy−
3−([換フェニル)グリシド酸エステルを含水条件下
で鎖酸処理する2−(置換フェニル)プロピオンアルデ
ヒドの製造法(特公昭56−20239号、同59−4
1976号参照)、4)  !換フェニルエチレンアル
コールt たUf換フェニルエチルハライドの脱水また
は脱ハロゲン化水素によシ得られる置換フェニルエチレ
ンを、/9ラジウム系触媒の存在下で一酸化炭素、およ
び低級アルコールまたは水と反応させる2−(fl換フ
ェニル)プロピオン酸ま九はそのアルキルエステルの製
造法(特公昭60−45171号参照)。
なお、本発明方法において、中間原料である前記一般式
〔川〕の置換フェニルエチレンは、フェノキシフェニル
エチレン類およびメトキシフェニルエチレン類である。
置換基としてフェノキシ基またはメトキシ基を有してい
るこのよう力置換フェニルエチレンを製造する方法とし
ては、 a)  相当する置換フェニルエチルアルコー
ルまたは置換フェニルエチルハライドを脱水または脱ハ
ロゲン化水素する方法が最も一般的である。例えば、1
−(3−フェノキシフェニル)エチルアルコールを脱水
して3−フェノキシフェニルエチレンヲ製造する方法(
特開昭53−18533号参照)が知られている。その
他の方法としては、b)ジアリールエタン類の分解によ
る方法(End、 Eng、 Chem、 Prod。
Rem、Dev@lop、  3(I1,16(I96
4)参照)、C)炭素数3以上のアルキル基を持つアニ
ソールを分解して3−メトキシフェニルエチレンを得る
方法(米国特許第2698868号参照)、d)メトキ
シ桂皮酸を脱炭酸する方法(J、 Applisd C
hem。
1.95(I951)参照)、e)芳香核に置換基を有
スるアセトフェノン訪導体をアルミニウムアルコキサイ
ドと共に加熱する方法0特開昭49−86332号参照
)、り硫化カル〆ニルを酸化剤とし、4−メトキシフェ
ニルエタンを酸化脱水素して4−メトキシフェニルエチ
レンを得る方法(米国特許第3875252号参照)、
等が知られている。しかし、酸化剤を用いずにフェノキ
シ基またはメトキシ基を有するフェニルエタン類を脱水
素して相当するフェニルエチレン類を製造した例は見受
けられない。
(発明が解決しようとする問題点) 上記した従来法のうち、方法l)および2)の出発物質
は高価で入手し難い物質であるうえ、いずれも工程数が
多く、繁雑なプロセスを含む等の問照点がある。
工程数の比較的少ない例として、方法3)および4)が
あけられる。しかし、方法3)および4)において本な
お出発物質の合成が容易であるとは言い難い。
また、置換フェニルエチレンを得る方法において、方法
a)F′i、原料の置換フェニルエチレンアルコールお
よび置換フェニルエチルハライドが高価で入手困難な物
質であるため、工業的に有利な方法とは言えない。方法
b)およびC)のような分解による方法は、置換基であ
るフェノキシ基またはメトキシ基が不安定であるため、
多S′の副生物を生成し、精製が困難である。方法d)
は、原料の桂皮酸誘導体が高価であるうえ、目的物の収
率も低い。方法e)も原料が高価であシ、収率も低いの
で工業的に有利な方法とは言えない。また、方法f)で
は、4−メトキシフェニルエチレンの収率は高いが、熱
に不安定な硫化力/l/〆ニルを酸化剤として用いるの
で、経済上および操作上の問題がある。
本発明の目的は、上記のような従来法のもつ欠点を解消
しようとするものである。すなわち本発明の目的は、容
易に入手し44.する安価な原料から、簡単な操作で経
済的に2−(置換フェニル)プロピオンアルデヒドを製
造する方法を提供するにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、前記一般式〔I〕で表される2−(fi
換フェニル)プロピオンアルデヒドの工業的生産に適し
た製造法を鋭意研究した結果、置換フェニルエタンを原
料とし、脱水素工程、ついで力、!L/ylf ニル化
工程を行なうことからなる新駅な製造法を完成した。
すなわち、本発明は、つぎの工程(I)および(It)
からなることを特徴とする前記一般式(I)で表される
2−([換フェニル)プロピオンアルデヒドの製造法に
関するものである。
(I)  一般式〔■〕 (式中、Rはフェニル基またはメチル基を示す)で表さ
れる置換フェニルエタンを脱水素触媒の存在下400〜
700℃で脱水素して、一般式〔■〕(式中、RFi前
記と同じ意味を示す)で表される置換フェニルエチレン
を製造する工程、および(II)  上記置換フェニル
エチレンをヒドロホルミル化触媒の存在下で水素および
一酸化炭素と反応させることにより前記2−(置換フェ
ニル)プロピオンアルデヒドを製造する工程。
したがって、本発明によれば、置換フェニルエタン、水
素、−酸化炭素のような工業的に安価に、かつ大量に入
手し得る原料から、わずか2段階で2−([−換フェニ
ルデロビオンアルデヒドが容易に得られる。
本発明の出発原料である前記一般式(n)の置換フェニ
ルエタンは、具体的には、3−フェノキシフェニルエタ
ン、4−フェノキシフェニルエタン、2−フェノキシフ
ェニルエタン、3−メトキシフェニルエタン、4−メト
キシフェニルエタン、2−メトキシフェニルエタンであ
る。これらの置換フェニルエタンは従来公知のいずれの
方法によって得られたものでも使用できる。公知の合成
法としては、例えば下記に示す方法が知られており、安
価な原料から、容易に製造できる。
両            悶           
 悶以下に、各工程について、その実施方法を具体的に
説明する。
本発明の方法における第一段の反応である工程(I)は
、前記一般式〔]〕の置換フェニルエタンを脱水素して
前記一般式〔m〕の置換フェニルエチレンを得ることを
目的としている。
本発明で用いられる置換フェニルエタンの置換基は、酸
素原子を介してフェニル基に結合した構造であるため、
転移または脱離を生じやすい。また、このような置換基
を有するフェニルアルカン類は、一般にアルキル基が脱
離しやすい。したがって、工程(I)では、該置換基お
よびエチル基が転移または脱離しない方法を選ぶことが
肝要である。
本発明者らは、このような置換フェニルエタンの脱水素
反応について穐々検討した結果、アルキルフェノール類
を脱水素してアルケニルフェノール類を製造する方法に
準じて行なうととKよシ、目的が達成できることを見い
だした。アルキルフェノール類を脱水素する方法は、特
公昭49−41183号、同53−43491号、特開
昭54−55529号、同55−28958号、同57
−203022号、同61−293942号等に示され
ておシ、従来から知られている。すなわち、本発明の工
程(I)は、このようなアルキルフェノール類の脱水素
方法に準じて行なうのが好ましく、脱水素触媒としては
例えば酸化鉄、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化クロ
ム、酸化スズ、酸化チタン、酸化バリウム等が単独ない
し混合物として用いられる。反応温度は通常400〜7
00℃、好ましくは450〜650℃である。原料の供
給速度は、触媒を基準として液時空間速度(LH8V)
 0.1〜10 br   の範囲が通常採用される。
反応圧力は、常圧、減圧、加圧のいずれでもよいが、常
圧付近で反応を行なうのが実際的である。脱水素反応は
、平衡論的に分圧の低い方が有利でろ)、通常は希釈剤
の存在下で行なわれる。希釈剤としては、例えば水、ベ
ンゼン、トルエン、窒素、炭酸ガス等が用いられる。希
釈剤の使用量は、原料1モルに対し2〜200モル、好
ましくは3〜100モルである。
なお、希釈剤として水などの液状物を使用するときは、
生成物中に希釈剤が混入するので、必要に応じてその一
部または全部の除去が行なわれる。
このようにして得られる脱水素反応生成物は、本工程の
目的物である置換フェニルエチレンの他に未反応物およ
び若干の副生物を含む混合物であシ、この混合物はその
lま、または置換フェニルエチレンを濃縮ないし精製し
て、次の工程(n)K付される。
工程(It) i;i、前記工程(I) Kより得られ
る置換7エ二ルエチレンから、2−(&換フェニル)フ
ロピオンアルデヒドを得る本のである。この方法は。
オレフィン性不飽和化合物をヒドロホルミル化触媒の存
在下で水素および一酸化炭素と反応させる公知のヒドロ
ホルミル化方法に準じて行なうことができる。
使用されるヒドロホルミル化触媒としては、ロジウム系
触媒、白金−スズ糸触媒およびコバルト系触媒があるが
、特にロジウム系触媒が好ましい。
、ヒドロホルミル化反応に使用し得るロジウム系触媒は
数多くしられており、それらの具体例として、ヒドリド
カルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム
、クロロカルゲニルピス(トリフェニルホスフィン)ロ
ジウム、ジクロロテトラカルボニルニロジウム、ドデカ
カルざニル四ロジウム、クロロトリス(トリフェニルホ
スフィン)ロジウム、トリクロロトリス(トリフェニル
ホスフィン)ロジウム、クロロビス(シクロオクテン)
ロジウム、テトラキストリフェニルホスフィンロジウム
、ジカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)口・ゾ
ウム、ジクロロビス(トリプホルホスフイン)ロジウム
、ジカルボニルアセチルアセトナートロジウム、ロジウ
ムアセチルア七トナート、酢酸ロジウム、塩化ロジウム
、酸化ロジウム、ロジウム・カーボン、ロジウム・アル
ミナなどを挙けることができる。ヒドロホルミル化触媒
は置換フェニルエチレン1モルニ対シて0.01−10
0 ミリモル、好ましくは01〜lOミリモルの濃度範
囲で用諭られる。
上記のようなヒドロホルミル化触媒は単独で使用して本
よいが、ヒドロホルミル化触媒ニ対して過剰の第三級有
機リン化合物を共存させることによシ、目的物の収率を
高め、かつ触媒を安定化し、反応中あるいは生成物の分
離工程における触媒の失活を抑制することができる。こ
のような第三級有機リン化合物は数多くあるが、トリフ
ェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリブチル
ホスフィン、トリエチルホスフィン、ビス(I,2−ジ
フェニルホスフィノ)エタン、トリフェニルホスファイ
トなどをその具体例として挙げることができる。有機リ
ン化合物を併用する場合の添加量は、使用するヒドロホ
ルミル化触媒1モルあたシ通常1〜100モル、好まし
くは3〜50モルである。
反応に必要な水素と一酸化炭素は、混合ガスとして、ま
たは別々に反応器に供給する。水素と一酸化炭素の分圧
比Fi1対2〜10対1の範囲内であることが望ましく
、%Kl対1が好ましい。
反応圧力は、通常大気圧から359 kg/an” s
好ましくFi5〜200 ktt/c−の範囲から選は
れる。
反応温度は1通常30〜150℃、好ましくは50〜1
20℃である。30℃未満の反応温度では実用的な反応
速度が得られず、また150℃を越えると重合、水素付
加などの副反応を生じ好ましくない。反応は一般に水素
および一酸化炭素の吸収が認められなく表るまで行なえ
ばよく、通常は1〜10時間で十分である。
本発明のよりなダ換フェニルエチレンのヒドロホルミル
化反応では、目的物である2−(置換フェニル)プロピ
ルアルデヒドのほかに、その異性体である3−(置換フ
ェニル)プロピオンアルデヒドも少量生成するが、これ
らは通常の蒸溜操作によって容易に分離できる。また、
回収された触媒は、再度カルメニル化反応に使用できる
(発明の効果) 本発明の方法は、従来法に比較して安価な原料を使用し
、各工程においても複雑な中間体や特殊な薬剤を扱う事
なく、簡単な操作で実施できる。
本発明の工程(I)は、酸化剤を用いずに脱水素を行な
うので、取シ扱い上の特殊な処置および装置を必要とせ
ず、経済的である。また、工程<1)で得られるt換フ
ェニルエタンを工程(II)のヒドロホルミル化反応に
付すると、収率よく目的物が得られ、不純物の含有量が
少ないので精製が容易であシ、高純度品を必要とする医
薬品等の中間原料を製造する方法として有利である。
以上述べたように1本発明は、新規な方法によシ、簡単
な操作で収率よ〈、シか屯効率的かつ経済的に2−(置
換フェニル)プロピオンアルデヒドを製造することを可
能にしたものである。
(実施例) 以下、実施例によシ本発明をさらに具体的に説明するが
、これらは単に例示にとどまシ、本発明を限定するもの
ではない。
実施例1 工程(I):309dの酸化スズ触媒を充填した脱水素
灰jFl[[IK、 3−フェノキシフェニルエタンf
 LH8V O,5hr  で3−フェノキシフェニル
エタンの10倍モルの水と共に供給し、常圧下580℃
で脱水素反応を行なった。得られた生成物をガスクロマ
トグラフィーで分析したところ、3−)エノキシフェニ
ルエタンの転化率は61.3%、3−フェノキシフェニ
ルエチレンへの選択率は96.3チであった。この反応
液から水を分離したのち、次の工程(II)に付した。
工程(It) :水を除いた後の上記脱水素反応液20
0I、ヒドリドカル〆ニルトリス(トリフェニルホスフ
ィン)ロジウム0.71を1009+/のオートクレー
ブに入れ、水素と御飯化炭素の等モル混合ガスで60 
klildに保ちながら、攪拌下70”Cで3時間反応
させた。
メートクレープを室温まで冷却し、残ガスを放出後、生
成物を内部標準法によシガスクロマトグラフィーで分析
したところ、3−フェノキシフェニルエチレンの転化率
が99.IIs、2−(3−フェノキシフェニル)ゾロ
ピオンアルデヒドへの選択率が91.096,3−(3
−フェノキシフェニル)プロピオンアルデヒドへの選択
率が4.3係であった。
なお、反応生成物を減圧下で蒸溜して2−(3−フェノ
キシフェニル)プロピオンアルデヒドを得て、NMRに
よシその構造を確認した。
NMR(TMS、 CDCl5)  δ(ppm) :
 1.41 (d 、 3H)、3.57(q、IH)
、6.85〜7.40(m、6H)、9.66(d、I
H) 実施例2 工程(I):実施例1と同じ脱水素反応装置に、4−フ
ェノキシフェニルエタンをLH8V 0.5 hr””
で4−フェノキシフェニルエタンの10倍モルのベンゼ
ンと共に供給し、常圧下530℃で脱水素反応を行なっ
た。その結果、4−フェノキシフェニルエタンの転化率
は20.5チ、4−フェノキシフェニルエチレンへの選
択率は95.3%であった。
この反応液からベンゼンを減圧下で溜去したのち、次の
工程(IOK付した。
工程(n):ベンゼンを除いた後の上記脱水素反応液4
00Iを用いた他は実施例1と同様のヒドロホルミル化
反応を行なった。その結果、4−フェノキシフェニルエ
チレンの転化率が93.8%、2−(4−フェノキシフ
ェニル)ゾロピオンアルデヒドへの選択率が90.21
3−(4−フェノキシフェニル)ゾロピオンアルデヒド
への選択率が6−391であった。
実施例3 工程(I) : 3−フェノキシフェニルエタンの代シ
に4−メト中シフェニルエタンヲ用い、 LH8V t
O,3hr”、反応温度を490℃とした以外は実施例
1と同様の脱水素反応を行なったところ。
4−メトキシフェニルエタンの転化率Fi18.8%、
4−メトキシフェニルエチレンへの選択率は92.0チ
であった。この反応液から水を分離したのち、次の工程
(IDK付した。
工程(II) :水を除いた後の上記脱水素反応液40
0Iを用いた他は実施例1と同様のヒドロホルミル化反
応を行なった。その結果、4−メトキシフェニルエチレ
ンの転化率が91.99に、2−(4−メトキシフェニ
ル)ゾロピオンアルデヒドへの選択率が88.71G、
3−(4−メトキシフェニル)プロピオンアルデヒドへ
の選択率が9.0憾であった。
実施例4 工程(I) : 4− フェノキシフェニルエタンの代
シに3−メトキシフェニルエタンを用い、LH8VをQ
、3hr  1反応源度を560”Cとした以外は実施
例2と同様の脱水素反応を行なったところ、3−メトキ
シフェニルエタンの転化率1i58.8%、転化した3
−メトキシフェニルエタンに対スる3−メトキシフェニ
ルエチレンの収率ti93.9 %であった。この反応
液を蒸溜し、3−メトキシフェニルエチレン681.3
−メトキシフェニルエタン32%からなる部分を得た。
工程(II) :上記部分200Iiを用いた他Fi実
施例1と同機のヒドロホルミル化反応を行なった。その
結果、3−メトキシフェニルエチレンの転化率は98.
7憾、2−(3−メトキシフェニル)プロピオンアルデ
ヒドへの選択率は90.5%、3−(3−メトキシフェ
ニル)プロピオンアルデヒドへの選択率は6.1饅であ
った。
代理人弁理士(8107)  佐々木 清 隆(ほか3
名) 手vE躬11正書 昭和62年6月29日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の工程( I )および(II)からなることを特徴
    とする、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、Rはフェニル基またはメチル基を示す)で表さ
    れる2−(置換フェニル)プロピオンアルデヒドの製造
    法。 ( I )一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す)で表される置換フ
    ェニルエタンを脱水素触媒の存在下400〜700℃で
    脱水素して、一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す)で表される置換フ
    ェニルエチレンを製造する工程、および(II)上記置換
    フェニルエチレンをヒドロホルミル化触媒の存在下で水
    素および一酸化炭素と反応させることにより前記2−(
    置換フェニル)プロピオンアルデヒドを製造する工程。
JP12568387A 1987-05-25 1987-05-25 2−(置換フェニル)プロピオンアルデヒドの製造法 Pending JPS63290837A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5260491A (en) * 1990-09-24 1993-11-09 New York University Cationic rhodium bis(dioxaphosphorus heterocycle) complexes and their use in the branched product regioselective hydroformylation of olefins

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5260491A (en) * 1990-09-24 1993-11-09 New York University Cationic rhodium bis(dioxaphosphorus heterocycle) complexes and their use in the branched product regioselective hydroformylation of olefins

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