JP2688697B2 - 光学活性化合物及びその用途 - Google Patents

光学活性化合物及びその用途

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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な光学活性化合物、当該化合物を含有す
る液晶組成物及び当該化合物あるいは当該化合物の少な
くとも1種を含有する液晶組成物を使用して構成される
光スイッチング素子に関する。
〔従来の技術〕
液晶表示素子の表示方式として現在広く実用に供され
ているものは、ねじれネマチック型(TN)及び動的散乱
型(DS)である。これらはネマチック液晶を主成分とし
たネマチック液晶セルによる表示であるが、従来のネマ
チック液晶セルの短所の一つに応答速度が遅く、最高数
ミリ秒のオーダーの応答速度しか得られないという事実
があげられる。そしてこのことがネマチック液晶セルの
応用範囲を制約する一因となっている。これに対して最
近スメクチック液晶セルを用いればより高速な応答が得
られることが明らかになってきた。
光学活性なスメクチック液晶の中には強誘電性を示す
ものがあることが知られており、その応用に関して大き
な関心が持たれている。強誘電性液晶は、1975年、R.B.
メイヤー(R.B.Meyer)ら〔ジュルナール・ド・フイジ
ーク(J.Phys.)、第36巻、第L69頁(1975)〕により最
初に合成されたが、それは、4−(4−デシルオキシベ
ンジリデンアミノ)−2′−メチルブチルシンナメート
(DOBAMBC)を代表例とするシッフ塩基系の化合物であ
り、これが光学活性の状態、例えばカイラルスメクチッ
クC相において強誘電性を示すことを特徴とするもので
ある。その後、N.A.クラーク(N.A.Clark)ら〔アプラ
イド・フイジクス・レターズ(Appl.Phys.Lett.)、第3
6巻、第899頁(1980)〕により、DOBAMBCの薄膜セルに
おいて、マイクロ秒オーダーの高速応答性が発見され、
これが契機となって強誘電性液晶はその高速応答性やメ
モリ性を利用して、液晶テレビ等のデイスプレイ用のみ
ならず、光プリンターヘッド、光フーリエ変換素子、ラ
イトバルブ等のオプトエレクトロニクス関係素子の部品
にも使用可能な材料として注目を集めている。強誘電性
液晶セルにおいては、誘電率が高く、自発分極が大きい
材料を用いるほどセルを高速駆動できて有利であるた
め、自発分極の大きい材料の開発が望まれている。
また実用上は、液晶化合物あるいは組成物自身が安定
であり、更には、室温を中心とする広い温度範囲で強誘
電性を示すことが必要である。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、DOBAMBCなどのシッフ塩基型の化合物は水や
光等に対する安定性の点で難点があり、また強誘電性を
示す温度範囲も室温より40℃以上高温側にあるなど、実
用に適するものではなかった。そこで強誘電性液晶材料
として、物理的化学的に安定で、しかも大きい自発分極
を持つ材料系の実現が強く期待されている。
本発明の目的は化学的安定性、光安定性に優れ、自発
分極が大きく、かつカイラルスメクチックC相の温度範
囲の広い新規光学活性化合物を得ることにある。また本
発明はこのような光学活性化合物あるいは液晶組成物を
用いて高速応答性を有する表示素子等を提供しようとす
るものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明を概説すると、本発明の第1の発明は光学活性
化合物に関する発明であって、下記一般式I: (ただし、環a又は環bの少なくとも一方は少なくと
も1個のフツ素又は塩素を含むハロゲン含有環であり、
1は炭素数4以上のアルキル基又はアルキルオキシ
基、R2は炭素数4以上のアルキル基、アルキルオキシ
基、アルキルオキシカルボニル基又はアルカノイルオキ
シ基、mは0又は1、基R1あるいはR2のうち少なくと
も一方は光学活性基である)で表されることを特徴とす
る。
また、本発明の第2の発明は液晶組成物に関する発明
であって、第1の発明の光学活性化合物の少なくとも1
種を成分として含有することを特徴とする。
そして、本発明の第3の発明は光スイツチング素子に
関する発明であって、第1の発明の光学活性化合物、あ
るいはこれらの化合物の少なくとも1種を成分として含
有する液晶組成物を使用して構成されることを特徴とす
る。
前記一般式(I)の化合物は、中心骨格が3,6−ジ置
換ピリジンカルボン酸のフエニルエステル構造を有して
おり、更に分子の両末端に長鎖の置換基(炭素数4〜18
が好ましい)が存在するのでそれ自身が液晶性を示す材
料である。また、この化合物は不斉炭素にカルボニル基
を直接結合させている場合があるほか、ピリジン環ある
いはハロゲン原子の双極子モーメントが分子長軸に対し
て横方向に作用するので高い旋光性を有している。その
ほか、フツ素の存在により表面エネルギーの低下が起こ
るため、強誘電性液晶に不可欠な薄いセル内において、
ドメインの回転に対する抵抗が非フツ素系化合物に比較
して減少することが予想され、これらがあいまって表示
素子として使用する場合に高速応答性が期待できるもの
である。
〔化合物の製法〕
本発明における一般式(1)の光学活性化合物は、例
えば次のような合成経路に従って製造することができ
る。
上記製造過程を概説すると、始めにカルボン酸化合物
(II)を塩化チオニル等の塩素化剤により酸クロライド
(III)とする。次に(III)を6−ヒドロキシニコチン
酸を塩基性物質存在下に反応させてカルボン酸化合物
(IV)を製造する。(IV)を上記と同様に酸クロライド
(V)とする。
最後にこの酸クロライド(V)とヒドロキシ化合物
(VI)とを塩基性物質の存在下に反応させて目的する化
合物(I)を製造することができる。
ただし、m=0の場合は酸クロライド(III)及び6
−ヒドロキシニコチン酸エステル(VII)を上記と同様
に反応させて化合物(I)を製造することができる。
なお、環aがポリフルオロ置換されている場合の一般
式(II)で示される化合物はポリフルオロ−あるいはポ
リフルオロクロロベンゾニトリル類とナトリウムアルコ
キシドとの反応、次いで加水分解で製造する。ちなみに
これらのポリハロゲノベンゾニトリル類は、文献1:バー
チャル(J.M.Birchall)ほか、ジャーナル・オブ・ケミ
カル・ソサエテイ(J.Chem.Soc.)、1971年、第1343頁
あるいは文献2:高岡昭生、石川延男ほか、日本化学会
誌、1985年、第2155頁に従って製造できる。
また、フツ素を1個含む4−ヒドロキシフルオロ安息
香酸化合物は、文献3:竹原貞夫ほか、第11回液晶討論会
予稿集、1985年、第176頁に準じてフルオロアニソール
から製造することができる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明する
が、本発明の適用範囲はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。なお以下の各例において、環aある
いは環bがポリハロゲン含有環を表す場合は、これを (ただしW〜Zはフツ素又は塩素を示す)で表すものと
する。
実施例1 (a) 4−オクチルオキシ安息香酸6.3gを塩化チオニ
ル15mlと3時間加熱反応させた後、塩化チオニルを留去
して得られる生成物をトルエンに溶解し、これに6−ヒ
ドロキシニコチン酸3.5gのピリジン80mlの溶液を加えて
57〜60℃で8時間反応させ、一夜放置後水に注いでエー
テルで抽出し、有機層を水で洗浄して無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し溶媒を留去したのちクロロホルムに溶解
し、シリカゲルのカラムを通して溶媒を留去し、エタノ
ールで再結晶して、6−(4−オクチルオキシベンゾイ
ルオキシ)ニコチン酸(VI、R1=C8H17O、環a:無置
換)を製造した。
(b) 文献1に従って製造した4−ヒドロキシテトラ
フルオロ安息香酸5.3g及び光学活性−2−オクタノール
3.3gをp−トルエンスルホン酸1.1g、トルエン150mlと
共に加熱還流させ、水分離器で生成する水を系外に除去
しながら27時間反応させ、冷却後水を加えてエーテル抽
出し、希炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄し
て無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、4
−ヒドロキシ−テトラフルオロ安息香酸−1′−メチル
ヘプチルエステル(VI、環b:W〜Z=F、m=1、R2
COO−1−メチルヘプチル)を得た。
(c) (a)で製造した化合物(IV)及び(b)で製
造した化合物(VI)を用いて(a)と同様にして反応・
後処理を行い、残留物をヘキサン−クロロホルムを溶媒
とするシリカゲルのカラムクロマトグラフィにより精製
し、更にヘプタン−エタノールで再結晶して化合物:6
−(4−オクチルオキシベンゾイルオキシ)ピリジン−
3−カルボン酸−4′−(1−メチルヘプチルオキシカ
ルボニル)テトラフルオロフエニルエステルを製造し
た。
この化合物を透明電極の間隙が約3μmのガラスに封
入し、±5V、1Hzの電界を印加しながら偏光顕微鏡で観
察すると、温度降下時に、58℃から電界の反転に伴いド
メインも反転するのが認められた。その他の相転移温度
は他の例と共に後記表1に示してある。なおCryは結晶
状態、SC*は強誘電性のカイラルスメクチツクC相で、
上記の電界に対して少なくとも一部が応答する相であ
る。SAはスメクチツクA相、Chはコレステリツク相、I
は等方性液相を示している。また・はその相が存在する
ことを示している。なお( )はその相がモノトロピツ
クであることを示している。
この化合物を電極間隙115μmのセルに封入し、宮里
らの報告による三角波法〔K.宮里、H.ダケゾエ、A.フク
ダほか、ジヤパニーズ・ジヤーナル・オブ・アプライド
・フイジクス(Jpn.J.Appl.phys.)、1983年、第22巻、
第L661頁〕で自発分極を測定したところ、その値は92nC
/cm2であった。
実施例2 4−デシル安息香酸及び6−ヒドロキシニコチン酸を
用いて実施例1(a)と同様にして6−(4−デシルベ
ンゾイルオキシ)ピリジン−3−カルボン酸を製造し
た。この化合物及び4−(1−メチルヘプチルオキシ)
テトラフルオロフエノールを用いて実施例1(c)と同
様にして化合物:6−(4−デシルベンゾイルオキシ)
ピリジン−3−カルボン酸−4′−(1−メチルヘプチ
ルオキシ)テトラフルオロフエニルエステルを製造し
た。この化合物の相転移温度は表1に示す通りである。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値は68
nc/cm2であった。
実施例3 3−フルオロ−4−(1−メチルヘプチルオキシ)安
息香酸及び6−ヒドロキシニコチン酸を用いて実施例1
(a)と同様にして6−〔3−フルオロ−4−(1−メ
チルヘプチルオキシ)ベンゾイルオキシ〕ピリジン−3
−カルボン酸を製造した。
この化合物及び4−オクタノイルオキシフエノールを
用いて実施例1(c)と同様にして化合物:6−〔3−
フルオロ−4−(1−メチルヘプチルオキシ)ペンゾイ
ルオキシ〕ピリジン−3−カルボン酸−4′−オクタノ
イルオキシフエニルエステルを製造した。この化合物の
相転移温度は表1に示す通りである。
実施例4 4−デシルオキシ安息香酸及び6−ヒドロキシニコチ
ン酸を用いて実施例1(a)と同様にして6−(4−デ
シルオキシベンゾイルオキシ)ピリジン−3−カルボン
酸を製造した。この化合物、及び4−ヒドロキシ−2−
クロロトリフルオロ安息香酸と光学活性−2−オクタノ
ールから実施例1(b)と同様にして製造した4−ヒド
ロキシ−2−クロロトリフルオロ安息香酸−1′−メチ
ルヘプチルエステルを用いて、実施例1(c)と同様に
して化合物:6−(4−デシルオキシベンゾイルオキ
シ)ピリジン−3−カルボン酸−4′−(1−メチルヘ
プチルオキシカルボニル)−3−クロロトリフルオロフ
エニルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は
表1に示す通りである。ただし、−はその相の存在が明
確でないことを表している。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値は97
nC/cm2であった。
実施例5 窒素雰囲気中で金属ナトリウム1.1g、光学活性−2−
メチルブタノール4g及びトルエン250mlを加熱しナトリ
ウムが溶解した後、減圧下にトルエンを留去し、3−ク
ロロテトラフルオロベンゾニトリル9.5gのN,N−ジメチ
ルアセトアミド140mlの溶液を加えて145〜155℃で17時
間加熱反応させた。放冷後水を加えてトルエン抽出し、
溶媒を留去して残留物を20%水酸化ナトリウム300mlと1
5時間加熱還流し、冷却後希塩酸を加えて酸性にし、析
出する固体をろ過し、乾燥後ヘキサンで再結晶して4−
(2−メチルブチルオキシ)−3−クロロトリフルオロ
安息香酸(II、R1=2−メチルブチルオキシ、環a:W=
Cl、X〜Z=F)を得た。
上記カルボン酸(II)及び6−ヒドロキシニコチン酸
を用いて実施例1(a)と同様にして6−〔4−(2−
メチルブチルオキシ)−3−クロロトリフルオロベンゾ
イルオキシ〕ニコチン酸を製造した。この化合物及び4
−ドデシルフエノールを用いて実施例1(c)と同様に
して化合物:6−〔4−(2−メチルブチルオキシ)−
3−クロロトリフルオロベンゾイルオキシ〕ピリジン−
3−カルボン酸−4′−ドデシルフエニルエステルを製
造した。この化合物の相転移温度は表1に示す通りであ
る。
実施例6 3−フルオロ−4−(1−メチルヘプチルオキシ)安
息香酸及び6−ヒドロキシニコチン酸を用いて実施例1
(a)と同様にして6−〔3−フルオロ−4−(1−メ
チルヘプチルオキシ)ベンゾイルオキシ〕ニコチン酸を
製造した。この化合物及び3−フルオロ−4−オクチル
オキシフエノールを用いて実施例1(c)と同様にして
化合物:6−〔3−フルオロ−4−(1−メチルヘプチ
ルオキシ)ベンゾイルオキシ〕ピリジン−3−カルボン
酸−3′−フルオロ−4′−オクチルオキシフエニルエ
ステルを製造した。この化合物の相転移温度は表1に示
す通りである。
実施例7 3−クロロ−4−(1−メチルヘプチルオキシ)安息
香酸及び6−ヒドロキシニコチン酸を用いて実施例1
(a)と同様にして6−〔3−クロロ−4−(1−メチ
ルヘプチルオキシ)ベンゾイルオキシ〕ニコチン酸を製
造した。この化合物及び4−ヒドロキシテトラフルオロ
安息香酸オクチルを用いて実施例1(c)と同様にして
化合物:6−〔3−クロロ−4−(1−メチルヘプチル
オキシ)ベンゾイルオキシ〕ピリジン−3−カルボン酸
−4′−オクチルオキシカルボニルテトラフルオロフエ
ニルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は表
1に示す通りである。
実施例8 3−フルオロ−4−(1−メチルヘプチルオキシ)安
息香酸及び6−ヒドロキシニコチン酸デシルエステルを
用いて実施例1(c)と同様にして化合物:6−〔3−
フルオロ−4−(1−メチルヘプチルオキシ)ベンゾイ
ルオキシ〕ピリジン−3−カルボン酸デシルエステルを
製造した。この化合物の相転移温度は表1に示す通りで
ある。
実施例9 4−(1−メチルヘプチルオキシ)−3−クロロトリ
フルオロ安息香酸及び6−ヒドロキシニコチン酸オクチ
ルを用いて実施例1(c)と同様にして化合物:6−
〔4−(1−メチルヘプチルオキシ)−3−クロロトリ
フルオロベンゾイルオキシ〕ピリジン−3−カルボン酸
オクチルエステルを製造した。この化合物の相転移温度
は表1に示す通りである。
実施例10 4−ヒドロキシ−テトラフルオロ安息香酸−1′−メ
チルヘプチルエステルに代えて4−ヒドロキシ−2−フ
ルオロ安息香酸−1′−メチルヘプチルエステルを用い
る以外は実施例1と同様にして化合物:6−(4−オク
チルオキシベンゾイルオキシ)ピリジン−3−カルボン
酸−3′−フルオロ−4′−(1−メチルヘプチルオキ
シカルボニル)フエニルエステルを製造した。この化合
物の相転移温度は表1に示す通りである。
実施例11 4−オクチルオキシ安息香酸に代えて4−デシルオキ
シテトラフルオロ安息香酸、4−ヒドロキシテトラフル
オロ安息香酸に代えて4−ヒドロキシ−2−クロロトリ
フルオロ安息香酸を用いる以外は実施例1と同様にして
化合物:6−(4−デシルオキシテトラフルオロベンゾ
イルオキシ)ピリジン−3−カルボン酸−4′−(1−
メチルヘプチルオキシカルボニル)−3−クロロトリフ
ルオロフエニルエステルを製造した。この化合物の相転
移温度は表1に示す通りである。
注) 2MBは光学活性−2−メチルブチル基、1MHは光学
活性−1−メチルヘプチル基を示す。
Aはポリハロゲン置換の環を、Bは1個のハロゲ
ン置換の環を示す。
ハロゲン原子が1個の場合の置換位置は下図の定
義に従う。
実施例12 《液晶組成物》 実施例2における化合物の30重量部に対して、ノン
カイラルのスメクチック液晶である下記構造式の4−
(2−メチルブチル)−4′−ビフエニルカルボン酸−
4″−ヘキシルオキシフエニルエステル25重量部、及び
4−オクチルオキシ−4′−ビフエニルカルボン酸−
4″−ペンチルオキシフエニルエステル45重量部を混合
して液晶組成物を調製した。
この液晶組成物は4〜58℃の範囲でSC*相を示し、そ
の温度範囲が単独の化合物に比較して著しく拡大されて
いた。
実施例13 《液晶組成物》 実施例1及び4における化合物及びの各々10重量
部に対して、実施例12におけるノンカイラルのスメクチ
ック液晶化合物を各々25重量部、及び下記構造式の4−
オクチルオキシ安息香酸−4′−(2−メチルブチルオ
キシ)フエニルエステル30重量部を混合して液晶組成物
を調製した。
この液晶組成物は3〜52℃の範囲でSC*相を示し、そ
の温度範囲がそれぞれ単独の場合に比較して著しく拡大
されていた。
実施例14 《液晶組成物》 実施例5、6および9における化合物、及びの
それぞれ10、10及び5重量部に対して、実施例13におけ
る3種のノンカイラルのスメクチック液晶化合物をそれ
ぞれ25重量部混合して液晶組成物を調製した。この液晶
組成物は2〜56℃の範囲でSC*相を示し、その温度範囲
がそれぞれ単独の化合物の場合に比較して著しく拡大さ
れていた。
以上3つの実施例で示したように、本発明の化合物に
構造の異なる液晶化合物を混合することにより、単独で
用いるよりも広い温度範囲、しかも室温の上下でカイラ
ルスメクチックC液晶となる液晶組成物を得ることがで
きる。
実施例15 《光スイッチング素子》 透明電極つきのガラス表面に形成したポリイミド膜に
ラビング配向処理を行って、アルミナ粉末により透明電
極の間隙を3μmに保持したガラスセルに、実施例8で
得られる化合物を加熱して等方性液体として充てん
し、薄膜液晶セルを作製した。このセルを徐冷して44℃
に保持し、±20V、10Hzの方形波を印加したときの透過
光強度の変化を光電子増倍管で測定した結果、光強度の
0〜90%変化による応答時間は61μsecであり、高速な
応答性を示すことが認められた。
実施例16 《光スイッチング素子》 実施例12から14で調製した液晶組成物を用いて、実施
例15と同様にして液晶セルを作製した。測定温度を40℃
とする以外は実施例15と同一条件で求めた応答時間はそ
れぞれ58、77、及び47μsecであり、高速な応答性を示
すことが認められた。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、一般式Iで表さ
れる光学活性化合物、あるいはこの光学活性化合物の少
なくとも1種を成分として含有する液晶組成物を用いる
ことにより、自発分極が大きいために表示素子として用
いる場合に高速応答が可能であるのみならず、広い温度
範囲でカイラルスメクチック相を示す材料系及び光スイ
ッチング素子を提供することができる。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記一般式I: (ただし、環a又は環bの少なくとも一方は少なくとも
    1個のフツ素又は塩素を含むハロゲン含有環であり、R
    1は炭素数4以上のアルキル基又はアルキルオキシ基、
    2は炭素数4以上のアルキル基、アルキルオキシ基、
    アルキルオキシカルボニル基又はアルカノイルオキシ
    基、mは0又は1、基R1あるいはR2のうち少なくとも
    一方は光学活性基である)で表されることを特徴とする
    光学活性化合物。
  2. 【請求項2】請求項1記載の光学活性化合物の少なくと
    も1種を成分として含有することを特徴とする液晶組成
    物。
  3. 【請求項3】請求項1記載の光学活性化合物、あるいは
    この化合物の少なくとも1種を成分として含有する液晶
    組成物を使用して構成されることを特徴とする光スイッ
    チング素子。
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