JPH0245468A - 光学活性化合物及びその用途 - Google Patents
光学活性化合物及びその用途Info
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- JPH0245468A JPH0245468A JP63194371A JP19437188A JPH0245468A JP H0245468 A JPH0245468 A JP H0245468A JP 63194371 A JP63194371 A JP 63194371A JP 19437188 A JP19437188 A JP 19437188A JP H0245468 A JPH0245468 A JP H0245468A
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な光学活性化合物、当該化合物を含有する
液晶組成物及び当該化合物あるいは当該化合物の少なく
とも1釉を成分として含有する液晶組成物を使用して構
成されることを特徴とする光スイッチング素子に関する
。
液晶組成物及び当該化合物あるいは当該化合物の少なく
とも1釉を成分として含有する液晶組成物を使用して構
成されることを特徴とする光スイッチング素子に関する
。
液晶表示素子の表示方式として現在広く実用に供されて
いるものは、ねじれネマチック型(TN)及び動的散乱
型(DS)である。これらはネマチック液晶を主成分と
したネマチック液晶セルによる表示であるが、従来のネ
マチック液晶セルの短所の一つに応答速度が遅く、最高
数ミリ秒のオーダーの応答速度しか得られないという事
実があげられる。そしてこのことがネマチック液晶セル
の応用範囲を制約する一因となっている。これに対して
最近スメクチック液晶セルを用いればよ多高速な応答が
得られることが明らかになってきた。
いるものは、ねじれネマチック型(TN)及び動的散乱
型(DS)である。これらはネマチック液晶を主成分と
したネマチック液晶セルによる表示であるが、従来のネ
マチック液晶セルの短所の一つに応答速度が遅く、最高
数ミリ秒のオーダーの応答速度しか得られないという事
実があげられる。そしてこのことがネマチック液晶セル
の応用範囲を制約する一因となっている。これに対して
最近スメクチック液晶セルを用いればよ多高速な応答が
得られることが明らかになってきた。
光学活性なスメクチック液晶の中には強誘′屯性を示す
ものがあることが知られており、その応用に関して大き
な関心が持たれている。強誘電性液晶は、1975年、
R,B、メイヤー(λB。
ものがあることが知られており、その応用に関して大き
な関心が持たれている。強誘電性液晶は、1975年、
R,B、メイヤー(λB。
Mayor )ら[ジュルナール・ド・フィジーク(J
、 Phya、 )、第56巻、第L69頁(LP01
)]により最初に合成されたが、それは、4−(4−n
−デシルオキシベンジリデンアミン) −2’−メチル
プチルシンナメー) (DOBAMBC)を代表例とす
るシッフ塩基系の化合物であり、これが特定の状態、例
えばカイラルスメクチックC相において強誘電性を示す
ことを特徴とするものである。その後、N、 A、クラ
ーク(N、A、 C1ark )ら〔アプライド・フィ
ツクス・レターズ(Appl、 Phys、 Lett
、 )第36巻、第899頁(1980))により、D
OBAMBCの薄膜セルにおいて、マイクロ秒オーダー
の高速応答性が発見され、これが契機となって強誘電性
液晶はその高速応答性やメモリ性を利用して、液晶テレ
ビ等のデイスプレィ用のみならず、光プリンターヘッド
、光フーリエ変換素子、ライトパルプ等のオプトエレク
トロニクス関係素子の部品にも使用可能な材料として注
目を集めている。強誘電性液晶セルにおいては、綽電率
が高く、自発分極が大きい材料を用いるt”tどセルを
高速駆動できて有利であるため、自発分極の大きい材料
の開発が望まれている。
、 Phya、 )、第56巻、第L69頁(LP01
)]により最初に合成されたが、それは、4−(4−n
−デシルオキシベンジリデンアミン) −2’−メチル
プチルシンナメー) (DOBAMBC)を代表例とす
るシッフ塩基系の化合物であり、これが特定の状態、例
えばカイラルスメクチックC相において強誘電性を示す
ことを特徴とするものである。その後、N、 A、クラ
ーク(N、A、 C1ark )ら〔アプライド・フィ
ツクス・レターズ(Appl、 Phys、 Lett
、 )第36巻、第899頁(1980))により、D
OBAMBCの薄膜セルにおいて、マイクロ秒オーダー
の高速応答性が発見され、これが契機となって強誘電性
液晶はその高速応答性やメモリ性を利用して、液晶テレ
ビ等のデイスプレィ用のみならず、光プリンターヘッド
、光フーリエ変換素子、ライトパルプ等のオプトエレク
トロニクス関係素子の部品にも使用可能な材料として注
目を集めている。強誘電性液晶セルにおいては、綽電率
が高く、自発分極が大きい材料を用いるt”tどセルを
高速駆動できて有利であるため、自発分極の大きい材料
の開発が望まれている。
また実用上は、液晶化合物あるいは組成物自身が安定で
あり、更には、室温を中心とする広い温度範囲で強6s
t性を示すことが必要である。
あり、更には、室温を中心とする広い温度範囲で強6s
t性を示すことが必要である。
しかし、 DOBAMBCなどのシッフ塩基型の化合物
は水や光等に対する安定性の点で難点があり、また強誘
電性を示す温度範囲も室温よ940℃以上高温側にある
など、実用に適するものではなかった。そこで、強誘電
性液晶材料として、物理的化学的に安定で、しかも大き
い自発分極を持つ材料系の実現が強く期待されている。
は水や光等に対する安定性の点で難点があり、また強誘
電性を示す温度範囲も室温よ940℃以上高温側にある
など、実用に適するものではなかった。そこで、強誘電
性液晶材料として、物理的化学的に安定で、しかも大き
い自発分極を持つ材料系の実現が強く期待されている。
本発明の目的は化学的安定性、光安定性に優れ、自発分
極が大きく、かつカイラルスメクチックC相の温度範囲
の広い新規光学活性化合物を得ることにある。また本発
明はこのような光学活性化合物あるいは液晶組成物を用
いて高速応答性を有する光示素子等を提供しようとする
ものである。
極が大きく、かつカイラルスメクチックC相の温度範囲
の広い新規光学活性化合物を得ることにある。また本発
明はこのような光学活性化合物あるいは液晶組成物を用
いて高速応答性を有する光示素子等を提供しようとする
ものである。
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は光学活性化
合物に関する発明であって、下記一般式l: ・・・ (1) 〔ただし、X及びYのうち少なくとも1つはフッ素ある
いは塩素s mFiO又は1であシ、Lは−Coo−基
、−0CO−基、又は直接結合を示すが、mが00とき
は直接結合を示し、Qけ一〇−基又は直接結合を示し、
Rは炭素数4以上のアルキル基を示し、C,F、0CF
(CF、)基あるいは基Rのうち、少なくとも一方は光
学活性基である〕で表されることを特徴とする。
合物に関する発明であって、下記一般式l: ・・・ (1) 〔ただし、X及びYのうち少なくとも1つはフッ素ある
いは塩素s mFiO又は1であシ、Lは−Coo−基
、−0CO−基、又は直接結合を示すが、mが00とき
は直接結合を示し、Qけ一〇−基又は直接結合を示し、
Rは炭素数4以上のアルキル基を示し、C,F、0CF
(CF、)基あるいは基Rのうち、少なくとも一方は光
学活性基である〕で表されることを特徴とする。
また、本発明の第2の発明は液晶組成物に関する発明で
あって、第1の発明の光学活性化合物の少なくとも1a
を成分として含有することを特徴とする。
あって、第1の発明の光学活性化合物の少なくとも1a
を成分として含有することを特徴とする。
そして、本発明の第5の発明は光スイッチング素子に関
する発明であって、第1の発明の光学活性化合物、ある
いはこの化合物の少なくとも1種を成分として含有する
液晶組成物を使用して構成されることを特徴とする。
する発明であって、第1の発明の光学活性化合物、ある
いはこの化合物の少なくとも1種を成分として含有する
液晶組成物を使用して構成されることを特徴とする。
前記一般式(1)の化合物は、中心骨格が安息香酸エス
テル構造を有しておシ、更に分子の両末端に長鎖の置換
基(炭素数4〜1Bが好ましい)が存在するのでそれ自
身が液晶性を示すものである。また、この化合物は不斉
炭素にカルボニル基を直接結合させているほか、ピリジ
ン埠、フッ素あるいは塩素の双極子モーメントが分子長
軸に対して横方向に作用するので商い旋光性を有してい
る。また、複数のフッ素の存在により表面エネルギーの
低下が起こるため、強誘電性液晶に不可欠な薄いセル内
において、ドメインの回転に対する抵抗が非フツ素系化
合物に比較して減少することが予想され、これらがあい
まって表示素子として使用する場合に高速応答性が期待
できる。
テル構造を有しておシ、更に分子の両末端に長鎖の置換
基(炭素数4〜1Bが好ましい)が存在するのでそれ自
身が液晶性を示すものである。また、この化合物は不斉
炭素にカルボニル基を直接結合させているほか、ピリジ
ン埠、フッ素あるいは塩素の双極子モーメントが分子長
軸に対して横方向に作用するので商い旋光性を有してい
る。また、複数のフッ素の存在により表面エネルギーの
低下が起こるため、強誘電性液晶に不可欠な薄いセル内
において、ドメインの回転に対する抵抗が非フツ素系化
合物に比較して減少することが予想され、これらがあい
まって表示素子として使用する場合に高速応答性が期待
できる。
本発明における一般式(1)の光学活性化合物は、例え
ば次のような合成り路に従って4A造することができる
。
ば次のような合成り路に従って4A造することができる
。
(以下、m=1の場合を示す)
又は
(以下、m == Oの場合の1例を示す)上記製造過
程を概説すると、始めに6−クロロニコチン酸とナトリ
ウムアルコキシドを反応させて6−アルキルオキシニコ
チン酸(II)ヲ央造する。次にこれを常法により酸ク
ロライド(III)とし、4−ヒドロキシ安息香酸化合
物(1v)との反応によジカルボン酸化合物(V)を製
造する。
程を概説すると、始めに6−クロロニコチン酸とナトリ
ウムアルコキシドを反応させて6−アルキルオキシニコ
チン酸(II)ヲ央造する。次にこれを常法により酸ク
ロライド(III)とし、4−ヒドロキシ安息香酸化合
物(1v)との反応によジカルボン酸化合物(V)を製
造する。
(V)から常法により酸クロライド(′V1)全製造す
る。
る。
一方、フェノール化合物(〜’IJ)kWジクロイド(
1m)と反応させ、パーフルオロ−1−グロビルオキシ
エチル力ルボニル基の導入されたフェノール化合物(I
X)を製造する。
1m)と反応させ、パーフルオロ−1−グロビルオキシ
エチル力ルボニル基の導入されたフェノール化合物(I
X)を製造する。
また、化合物(II)とジヒドロキシ化合物(X)との
反応によりフェノール化合物(XI)を製造する。
反応によりフェノール化合物(XI)を製造する。
更に、4−ヒドロキシ安息香酸化合物(IV。
ただしX=Y )と酸クロライド(〜1舖)との反応に
よりカルボン酸化合物(X[+)を裏遺し、常法により
酸クロライド(Xlll)を製造する。
よりカルボン酸化合物(X[+)を裏遺し、常法により
酸クロライド(Xlll)を製造する。
なお、化合物(IV)のつちXあるいはYがFである化
合物は、文献(竹原貞夫ほか、第11回液晶討論会予稿
集、1985年、第176頁)に準じてフルオロアニン
ールから製造できる。
合物は、文献(竹原貞夫ほか、第11回液晶討論会予稿
集、1985年、第176頁)に準じてフルオロアニン
ールから製造できる。
最後に、酸クロライド(V])とフェノール化合物([
)、フェノール化合物(刈)と酸クロライド(Xlll
)あるいは酸クロライド(III)とフェノール化金物
(XIV)を塩基性物質の存在下に縮合させて一般式i
の化合物を製造することができる。
)、フェノール化合物(刈)と酸クロライド(Xlll
)あるいは酸クロライド(III)とフェノール化金物
(XIV)を塩基性物質の存在下に縮合させて一般式i
の化合物を製造することができる。
なお、Lが直接結合でm = 1の場合は、化合物(V
ll)の代わ夛にビフェニル誘導体を用いては)に対応
するビフェニル誘導体を製造し、化合物(11[)との
反応によ夕、目的の化合物(1)を製造することができ
る。
ll)の代わ夛にビフェニル誘導体を用いては)に対応
するビフェニル誘導体を製造し、化合物(11[)との
反応によ夕、目的の化合物(1)を製造することができ
る。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明の適用範囲はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
本発明の適用範囲はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
実施例1
(a) 窒素雰囲気中で金属ナトリウム2.Ofを1
−デカノール12.6f及びトルエン200−に加えて
加熱溶解させた後、減圧下にトルエンをW去り、6−ク
ロロニコチン酸15fのN−メチルピロリドン140−
の浴液を加えて145〜155℃で17時間加熱反応さ
せた。放冷後水を加えて希酢酸で中和して中性とし、ト
ルエン抽出し、水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、トルエン溶液をシリカゲルのカラムを通し、溶媒
を留去して6−ゾシルオキシニコチン# (1)を得た
。
−デカノール12.6f及びトルエン200−に加えて
加熱溶解させた後、減圧下にトルエンをW去り、6−ク
ロロニコチン酸15fのN−メチルピロリドン140−
の浴液を加えて145〜155℃で17時間加熱反応さ
せた。放冷後水を加えて希酢酸で中和して中性とし、ト
ルエン抽出し、水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、トルエン溶液をシリカゲルのカラムを通し、溶媒
を留去して6−ゾシルオキシニコチン# (1)を得た
。
(11上記の化合物a4Fに塩化チオニル20W1tを
加えて2時間加熱後塩化チオニルを減圧下留去し、これ
をトルエン50−に溶解し、2−フルオロ−4−ヒドロ
キシ安息香tR(IV) 4.7 yのピリジン50−
の溶液に徐々に滴下して60〜72℃にて5時間反応さ
せ、−夜装置した後希酢酸で中和し、トルエン抽出し、
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後トルエン浴
液をシリカゲルのカラムを通した後溶媒を留去して、残
留物をエタノールより再結晶精製し、6−デシルオキシ
ピリジン−3−カルボン酸−5′−フルオロ−4′−カ
ルボキシフェニルエステル(V)を製造した。
加えて2時間加熱後塩化チオニルを減圧下留去し、これ
をトルエン50−に溶解し、2−フルオロ−4−ヒドロ
キシ安息香tR(IV) 4.7 yのピリジン50−
の溶液に徐々に滴下して60〜72℃にて5時間反応さ
せ、−夜装置した後希酢酸で中和し、トルエン抽出し、
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後トルエン浴
液をシリカゲルのカラムを通した後溶媒を留去して、残
留物をエタノールより再結晶精製し、6−デシルオキシ
ピリジン−3−カルボン酸−5′−フルオロ−4′−カ
ルボキシフェニルエステル(V)を製造した。
(c)m−フルオaフェノール2.82を二硫化炭素8
0−に浴解し、す夛つぶした無水塩化アルミニウム7t
を加え、かくはんしながら光学活性パーフルオロ−2−
プロピルオキシプロピオン酸クロライド1lL7f/二
硫化炭素50dの浴液を7℃以下で滴下し、その後7時
間加熱還流し、冷却後希塩酸中に注ぎ、水、冷戻酸水素
ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、#媒を留去し、残
留物のトルエン溶液をシリカゲルのカラムを通し、溶媒
を留去して5−フルオロ−4−(パーフルオロ−1−プ
ロピルオキシエチルカルボニル)フェノール(IK)を
製造した。
0−に浴解し、す夛つぶした無水塩化アルミニウム7t
を加え、かくはんしながら光学活性パーフルオロ−2−
プロピルオキシプロピオン酸クロライド1lL7f/二
硫化炭素50dの浴液を7℃以下で滴下し、その後7時
間加熱還流し、冷却後希塩酸中に注ぎ、水、冷戻酸水素
ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、#媒を留去し、残
留物のトルエン溶液をシリカゲルのカラムを通し、溶媒
を留去して5−フルオロ−4−(パーフルオロ−1−プ
ロピルオキシエチルカルボニル)フェノール(IK)を
製造した。
(d) (1))で製造した酸化合物(V) 1.
Ofから(kl)と同様にして製造した酸クロライド(
%1)、及び(C)で製造した化合物([) 1. O
fを使用し、力2ムクロマトグラフイにヘキサン−トル
エン混合溶媒を用いる以外Fi<b>と同様にして化合
物■:6一デシルオキシピリジン−5−カルボン酸−3
1−フルオロ−4’−(5−フルオロ−4−(パーフル
オa−+−プロピルオキシエチルカルボニル)クエニル
オキシカルボニル〕フェニルエステルを製造した。
Ofから(kl)と同様にして製造した酸クロライド(
%1)、及び(C)で製造した化合物([) 1. O
fを使用し、力2ムクロマトグラフイにヘキサン−トル
エン混合溶媒を用いる以外Fi<b>と同様にして化合
物■:6一デシルオキシピリジン−5−カルボン酸−3
1−フルオロ−4’−(5−フルオロ−4−(パーフル
オa−+−プロピルオキシエチルカルボニル)クエニル
オキシカルボニル〕フェニルエステルを製造した。
この化合物を透明電極の間隙が約5μmのガラスセルに
封入し、±5v% l Hg の電界を印加しながら偏
光顕微鏡で観察すると、温度降下時に54℃から電界の
反転に伴いドメインも反転するのが認められた。その他
の相転移温度は他の例と共に後記衣1に示しである。な
おCryは結晶状態、5CI)は強誘電性のカイラルス
メクチックC相で、上記の電界に対して少なくとも一部
が応答するの相である。8AはスメクチックA相、Ch
はコレステリック相、工は等方性液相を示している。ま
た・けその相が存在することを示している。なお()は
その相がモノトロピックであることを示している。
封入し、±5v% l Hg の電界を印加しながら偏
光顕微鏡で観察すると、温度降下時に54℃から電界の
反転に伴いドメインも反転するのが認められた。その他
の相転移温度は他の例と共に後記衣1に示しである。な
おCryは結晶状態、5CI)は強誘電性のカイラルス
メクチックC相で、上記の電界に対して少なくとも一部
が応答するの相である。8AはスメクチックA相、Ch
はコレステリック相、工は等方性液相を示している。ま
た・けその相が存在することを示している。なお()は
その相がモノトロピックであることを示している。
この化合物を電極間隙120μmのセルに封入し、宮里
らの報告による三角波法(K、宮里、S、アペ、H,タ
ケゾエ、A、7クダ及びE、クゼ(K。
らの報告による三角波法(K、宮里、S、アペ、H,タ
ケゾエ、A、7クダ及びE、クゼ(K。
Miyasato 、 8.Abe 、 H,Take
goe %A、Fukuda 。
goe %A、Fukuda 。
E、Kuze ) ジャパニーズ・ジャーナル・オ
プ・アプライド・フィツクス(Jpn、 J、 App
l、 Phye、)、1983年、第22巻、第し66
1頁〕で自発分極を測定したところ、その値は+ 75
nC/crn2であった。
プ・アプライド・フィツクス(Jpn、 J、 App
l、 Phye、)、1983年、第22巻、第し66
1頁〕で自発分極を測定したところ、その値は+ 75
nC/crn2であった。
実施例2
2−フルオロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて4−ヒ
ドロキシ安息香酸を用いる以外は実施例1と同様にして
化合物■:6−デシルオキンビリジン−5−カルボベ1
1−4’−[5−フルオロ−4−(パーフルオロ−1−
プロピルオキシエチルカルボニル)フェニルオキシカル
ボニル]フェニルエステルを製造した。この化合物の相
転移温度は表1に示す通りである。
ドロキシ安息香酸を用いる以外は実施例1と同様にして
化合物■:6−デシルオキンビリジン−5−カルボベ1
1−4’−[5−フルオロ−4−(パーフルオロ−1−
プロピルオキシエチルカルボニル)フェニルオキシカル
ボニル]フェニルエステルを製造した。この化合物の相
転移温度は表1に示す通りである。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値は+
20 nC/crn”であった。
20 nC/crn”であった。
実施1タリ 5
1−デカノールに代えて1−オクタツール、2−フルオ
ロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて4−ヒドロキシ安
息香酸、m−フルオロフェノールに代えてm−クロロフ
ェノールを用いる以外は実施例1と同様にして化合物■
:6−オクチルオキシピリジン−3−カルボン[−4’
−〔5−クロロ−4−(パーフルオロ−1−プロピルオ
キシエチルカルボニル)フェニルオキシカルボニル〕フ
ェニルエステルを製造シタ。この化合物の相転移温度は
表1に示す通りである。
ロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて4−ヒドロキシ安
息香酸、m−フルオロフェノールに代えてm−クロロフ
ェノールを用いる以外は実施例1と同様にして化合物■
:6−オクチルオキシピリジン−3−カルボン[−4’
−〔5−クロロ−4−(パーフルオロ−1−プロピルオ
キシエチルカルボニル)フェニルオキシカルボニル〕フ
ェニルエステルを製造シタ。この化合物の相転移温度は
表1に示す通りである。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値は92
nC7cm”であった。
nC7cm”であった。
実施例4
2−フルオロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて5−フ
ルオロ−4−ヒドロキシ安息香酸、m−フルオロフェノ
ールに代えてフェノールを用いる以外は実施例1と同様
にして化合物■:6−デシルオキシピリジン−3−カル
ボンm−2′−フルオロ−4’−(4−(パーフルオロ
−1=フロビルオキシエチルカルボニル)フェニルオキ
シカルボニル〕フェニルエステルk 製m した。
ルオロ−4−ヒドロキシ安息香酸、m−フルオロフェノ
ールに代えてフェノールを用いる以外は実施例1と同様
にして化合物■:6−デシルオキシピリジン−3−カル
ボンm−2′−フルオロ−4’−(4−(パーフルオロ
−1=フロビルオキシエチルカルボニル)フェニルオキ
シカルボニル〕フェニルエステルk 製m した。
この化合物の相転移温度は表1に示す通りである。ただ
し、−はその相の存在が明確でないことを表している。
し、−はその相の存在が明確でないことを表している。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値はI
17 nC/<−であった。
17 nC/<−であった。
実施例5
1−デカノールに代えて1−ドデカノール、2−フルオ
ロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて4−ヒドロキシ安
息香酸、m−フルオロフェノールに代えて0−クロロフ
ェノールを用いる以外は実施例1と同様にして化合物■
:6−ドデシルオキシピリジン−3−カルボン酸−4’
−〔2−クロロ−4−(パーフルオロ−1−プロピルオ
キシエチルカルボニル)フェニルオキシカルボニル〕フ
ェニルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は
表1に示す通りである。
ロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて4−ヒドロキシ安
息香酸、m−フルオロフェノールに代えて0−クロロフ
ェノールを用いる以外は実施例1と同様にして化合物■
:6−ドデシルオキシピリジン−3−カルボン酸−4’
−〔2−クロロ−4−(パーフルオロ−1−プロピルオ
キシエチルカルボニル)フェニルオキシカルボニル〕フ
ェニルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は
表1に示す通りである。
実施例6
実施例1で製造した6−ゾシルオキシニコチン酸5.9
F、ヒドロキノン5を及CFp−トルエンスルホンl[
1,7f ヲ)ルエン180dと共に加熱還流させ、デ
ィーンスターク水分離器で生成する水を系外に除去しな
がら50時間反応させ、冷却後水洗し、希水酸化ナトリ
ウム水溶液で抽出し、この水浴液を希酢醒で中和し、エ
ーテル抽出し、水で洗浄して無水(iilI−酸マグネ
シウムで乾燥し、エーテルを留去してトルエンに溶解し
、シリカゲルのカラムを通した後溶媒を留去し、ベンゼ
ンで再結晶して、6−デシルオキシビリジン−3−カル
ボン酸−4′−ヒドロキシフェニルエステル(XI)を
&造L7’c。
F、ヒドロキノン5を及CFp−トルエンスルホンl[
1,7f ヲ)ルエン180dと共に加熱還流させ、デ
ィーンスターク水分離器で生成する水を系外に除去しな
がら50時間反応させ、冷却後水洗し、希水酸化ナトリ
ウム水溶液で抽出し、この水浴液を希酢醒で中和し、エ
ーテル抽出し、水で洗浄して無水(iilI−酸マグネ
シウムで乾燥し、エーテルを留去してトルエンに溶解し
、シリカゲルのカラムを通した後溶媒を留去し、ベンゼ
ンで再結晶して、6−デシルオキシビリジン−3−カル
ボン酸−4′−ヒドロキシフェニルエステル(XI)を
&造L7’c。
5−フルオロ−4−ヒドロキシ安息香酸(IV)及び酸
クロライド(Vl)から実施例1(b)と同様にして3
−フルオ0−4−(パーフルオロ−1−プロピルオキシ
エチルカルボニル)オキシ安息香+1(Xll)を製造
した。この化合物から製造した酸クロライド(Xlll
)及び上記フェノール化合物(XI)を用いて実施例1
(〜と同様にして化合物■:6一デシルオキシピリジン
−3−カルボン酸−4’−[5−フルオロ−4−(パー
フルオロ−1−プロピルオキシエチルカルボニルオキシ
)ベンゾイルオキシ〕フェニルエステルを製造シた。こ
の化合物の相転移温度は表1に示す通りである。
クロライド(Vl)から実施例1(b)と同様にして3
−フルオ0−4−(パーフルオロ−1−プロピルオキシ
エチルカルボニル)オキシ安息香+1(Xll)を製造
した。この化合物から製造した酸クロライド(Xlll
)及び上記フェノール化合物(XI)を用いて実施例1
(〜と同様にして化合物■:6一デシルオキシピリジン
−3−カルボン酸−4’−[5−フルオロ−4−(パー
フルオロ−1−プロピルオキシエチルカルボニルオキシ
)ベンゾイルオキシ〕フェニルエステルを製造シた。こ
の化合物の相転移温度は表1に示す通りである。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値/d
85 nC^3であった。
85 nC^3であった。
実施例7
1−デカノールに代えて1−ヘキサノールを用いて実施
例1と同様にして6−へキシルオキシニコチン!(U)
を製造し、この化合物及びクロロヒドロキノンを用いて
実施例6と同様にして、6−へキシルオキシピリジン−
5−カルボ7に一5’−クロロ−41−ヒドロキシフェ
ニルエステル(XI)を製造した。
例1と同様にして6−へキシルオキシニコチン!(U)
を製造し、この化合物及びクロロヒドロキノンを用いて
実施例6と同様にして、6−へキシルオキシピリジン−
5−カルボ7に一5’−クロロ−41−ヒドロキシフェ
ニルエステル(XI)を製造した。
また5−フルオロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて4
−ヒドロキシ安息香酸を用いて実施例6と同様にして4
−(パーフルオロ−1−プロピルオキシエチルカルボニ
ルオキシ)安息香[(Xll)を製造した。この化合物
から製造した酸クロライド(Xlll)及び上記化合物
(XI)を用いて、実施例1と同様にして化合物■:6
−ヘキシルオキシピリジン−5−カルボン酸−51−ク
ロロ−4″−〔4−(パーフルオロ−1−プロピルオキ
シエチルカルボニルオキシ)ベンゾイルオキシ〕フェニ
ルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は表1
に示す通シである。
−ヒドロキシ安息香酸を用いて実施例6と同様にして4
−(パーフルオロ−1−プロピルオキシエチルカルボニ
ルオキシ)安息香[(Xll)を製造した。この化合物
から製造した酸クロライド(Xlll)及び上記化合物
(XI)を用いて、実施例1と同様にして化合物■:6
−ヘキシルオキシピリジン−5−カルボン酸−51−ク
ロロ−4″−〔4−(パーフルオロ−1−プロピルオキ
シエチルカルボニルオキシ)ベンゾイルオキシ〕フェニ
ルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は表1
に示す通シである。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値は82
nC/(−であった。
nC/(−であった。
実施例8
1〜デカノールに代えて光学活性−2−メチルフタノー
ル、光学活性パーフルオロ−2−プロピルオキシプロピ
オン酸に代えてそのラセミ体を用いる以外は実施例1と
同様にして化合物■:6−(2−メチルブチルオキシ)
ピリジン−3−カルボン酸−31−フルオロ−4’−(
5−フルオロ−4−(バー フルオロ−1−フロビルオ
キシエチルカルボニル)フェニルオキシカルボニル〕フ
ェニルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は
表IK示す通りである。
ル、光学活性パーフルオロ−2−プロピルオキシプロピ
オン酸に代えてそのラセミ体を用いる以外は実施例1と
同様にして化合物■:6−(2−メチルブチルオキシ)
ピリジン−3−カルボン酸−31−フルオロ−4’−(
5−フルオロ−4−(バー フルオロ−1−フロビルオ
キシエチルカルボニル)フェニルオキシカルボニル〕フ
ェニルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は
表IK示す通りである。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値は8
nCA−であった。
nCA−であった。
実施例9
1−デカノールに代えて光学活性−2−オクタツール、
2−フルオロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて4−ヒ
ドロキシ安息香酸、光学活性パーフルオロ−2−プロピ
ルオキシプロピオン酸に代えてそのラセミ体を用いる以
外は実施例1と同様にして化合物■:6−(1−メチル
へブチルオキシ)ピリジン−3−カルボン酸−4’−[
3−フルオロ−4−(パーフルオロ−1−フロビルオキ
シエチルカルボニル)フェニルオキシカルボニル]フェ
ニルエステルを製造シた。この化合物の相転移温度は表
1に示す通シである。
2−フルオロ−4−ヒドロキシ安息香酸に代えて4−ヒ
ドロキシ安息香酸、光学活性パーフルオロ−2−プロピ
ルオキシプロピオン酸に代えてそのラセミ体を用いる以
外は実施例1と同様にして化合物■:6−(1−メチル
へブチルオキシ)ピリジン−3−カルボン酸−4’−[
3−フルオロ−4−(パーフルオロ−1−フロビルオキ
シエチルカルボニル)フェニルオキシカルボニル]フェ
ニルエステルを製造シた。この化合物の相転移温度は表
1に示す通シである。
の儂
また実施例1と同様にして測定した自発分極Δ
は49 nC/、−であった。
実施例10
実施例1で製造した6−ゾシルオキシニコテン& (I
I)の酸クロライド及び3−フルオロ−4−(パーフル
オロ−1−プロピルオキシエチルカルボニル)フェノー
ル(XM)を用いて実施例1と同様にして化合物0:6
一デシルオキシビリジン−3−カルボン酸−5′−フル
オロ−4′−(パーフルオロ−1−プロピルオキシエチ
ルカルボニル)フェニルエステルをm造Lk。コノ化合
物の相転移温度は表1に示す通シである。
I)の酸クロライド及び3−フルオロ−4−(パーフル
オロ−1−プロピルオキシエチルカルボニル)フェノー
ル(XM)を用いて実施例1と同様にして化合物0:6
一デシルオキシビリジン−3−カルボン酸−5′−フル
オロ−4′−(パーフルオロ−1−プロピルオキシエチ
ルカルボニル)フェニルエステルをm造Lk。コノ化合
物の相転移温度は表1に示す通シである。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値は+
35 n07m”であった。
35 n07m”であった。
実施例11
m−フルオロフェノールの代わりに5−フルオロ−4−
ヒドロキシビフェニルを用いて実施例1(C)と同様に
して5−フルオロ−4−ヒドロキシ−4′−(パーフル
オロ−1−プロピルオキシエチルカルボニル)ビフェニ
ル’e 製m した。
ヒドロキシビフェニルを用いて実施例1(C)と同様に
して5−フルオロ−4−ヒドロキシ−4′−(パーフル
オロ−1−プロピルオキシエチルカルボニル)ビフェニ
ル’e 製m した。
上記化合物及び6−ゾシルオキシニコチン酸の酸クロラ
イドを用いて実施例1と同様にして化合物◎:6−デシ
ルオキシピリジン−5−カルボン酸−31−フルオロ−
41−(パーフルオロ−1−プロピルオキシエチルカル
ボニル)−4’−ビフェニルエステルを製造した。この
化合物の相転移温度は表1に示す通シである。
イドを用いて実施例1と同様にして化合物◎:6−デシ
ルオキシピリジン−5−カルボン酸−31−フルオロ−
41−(パーフルオロ−1−プロピルオキシエチルカル
ボニル)−4’−ビフェニルエステルを製造した。この
化合物の相転移温度は表1に示す通シである。
また実施例1と同様にして測定した自発分極の値はj
17 nC/<−であった。
17 nC/<−であった。
実施例12
?
フルオロヒドロキノン及び光学活性−パーフル、to−
2−プロピルオキシプロピオン酸を用いて実施例6と同
様にしてフェノール化合物(刈V、 X= 3−F、
Q= −0−)を製造し、実施例3で製造した6−オク
チルオキシニコチン削と実施例1と同様にして反応及び
後処理を行い、化合物0:6−オクチルオキシピリジン
−3−カルボンH−s′−フルオロ−4′−(パーフル
オロ−1−プロビルオキシエチル力ルポニルオキシ)フ
ェニルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は
表1に示す通りである。
2−プロピルオキシプロピオン酸を用いて実施例6と同
様にしてフェノール化合物(刈V、 X= 3−F、
Q= −0−)を製造し、実施例3で製造した6−オク
チルオキシニコチン削と実施例1と同様にして反応及び
後処理を行い、化合物0:6−オクチルオキシピリジン
−3−カルボンH−s′−フルオロ−4′−(パーフル
オロ−1−プロビルオキシエチル力ルポニルオキシ)フ
ェニルエステルを製造した。この化合物の相転移温度は
表1に示す通りである。
日−−−−−−一−−+−(:l−ロ
翠
40 e 9 ■ 6リ O■ () ■ (リ ■
@ σシ注)L、Qの欄におけるーは直接結合を示す。
@ σシ注)L、Qの欄におけるーは直接結合を示す。
2MBは光学活性−2−メチルブ
チル基、1MHは光学活性1−メチル
ヘプチル基を示す。
X又FiYの置換位g!tを示す数字は下図の定義によ
る。
る。
実施例15
(液晶組成物)
実施例4で製造した化合物■ 20重量部に対して、ノ
ンカイラルのスメクチック液晶である下記構造式の4′
−(2−メチルブチル)−4−ビフェニルカルボン&(
4−へキシルオキシフェニル)エステル55重量部、及
び4′−オクチルオキシ−4−ビフェニルカルボン酸(
4−ノニルオキシフェニル)エステル45重量部を混合
して液晶組成物を調製した。
ンカイラルのスメクチック液晶である下記構造式の4′
−(2−メチルブチル)−4−ビフェニルカルボン&(
4−へキシルオキシフェニル)エステル55重量部、及
び4′−オクチルオキシ−4−ビフェニルカルボン酸(
4−ノニルオキシフェニル)エステル45重量部を混合
して液晶組成物を調製した。
C鵞HsCH(CH3)cH,(XシC00(叉QC@
Htsこの液晶組成物は12〜64℃の範囲で8C41
相を示し、その温度範囲が単独の化合物に比較して著し
く拡大された。
Htsこの液晶組成物は12〜64℃の範囲で8C41
相を示し、その温度範囲が単独の化合物に比較して著し
く拡大された。
実施例14
(液晶組成物)
実施例5.7及び8において製造した化合物■、■及び
■のそれぞれ10.8、及び1511L量部に対して、
実施例13におけるノンカイラルのスメクチック液晶を
それぞれ40及び27重量部混合して液晶組成物を調製
した。この液晶組成物は8〜55℃の範囲でSCI+相
を示し、その温度範囲が単独の化合物に比較して著しく
拡大された。
■のそれぞれ10.8、及び1511L量部に対して、
実施例13におけるノンカイラルのスメクチック液晶を
それぞれ40及び27重量部混合して液晶組成物を調製
した。この液晶組成物は8〜55℃の範囲でSCI+相
を示し、その温度範囲が単独の化合物に比較して著しく
拡大された。
以上2つの実施例で示したように、構造の異なる液晶化
合物を混合することにより、単独で用いるよりも広い温
度範囲、しかも室温の上下でカイラルスメクチックC液
晶となる液晶組成物を得ることができる。
合物を混合することにより、単独で用いるよりも広い温
度範囲、しかも室温の上下でカイラルスメクチックC液
晶となる液晶組成物を得ることができる。
実施例15
(光スイッチング素子)
ポリイミド膜にラビング配向処理を施して、アルミナ粉
末により透明電極の間隙を約5μmに保持したガラスセ
ルに、実施例1で製造した化合物■を加熱して等方性液
体とした後光てんした。このセルを徐冷して50℃に保
持し、±20V、1OHz の方形波を印加したときの
透過光強度の変化を光電子増倍管で測定した結果、光強
度00〜90%変化による応答時間は160μsecで
あり、高速な応答性を示し九。
末により透明電極の間隙を約5μmに保持したガラスセ
ルに、実施例1で製造した化合物■を加熱して等方性液
体とした後光てんした。このセルを徐冷して50℃に保
持し、±20V、1OHz の方形波を印加したときの
透過光強度の変化を光電子増倍管で測定した結果、光強
度00〜90%変化による応答時間は160μsecで
あり、高速な応答性を示し九。
実施例16
(光スイッチング素子)
実施例13及び14で1i141I!!シた液晶組成物
を用いて、実施例15と同様にしてセルを作製した。測
定温度を35℃とする以下は実施例15と同一条件で求
めた応答時間はそれぞれB5及び60μsecであり、
高速な応答性を示した。
を用いて、実施例15と同様にしてセルを作製した。測
定温度を35℃とする以下は実施例15と同一条件で求
めた応答時間はそれぞれB5及び60μsecであり、
高速な応答性を示した。
以上説明したように本発明によれば、一般式!で表され
る光学活性化合物、あるいはこの光学活性化合物の少な
くとも1種を成分として含有する液晶組成物を用いるこ
とにより、自発分極が大きいために表示素子として用い
る場合に高速応答が可能であるのみならず、広い温度範
囲でカイラルスメクチック相を示す材料系及び元スイッ
チング素子を提供することができる。
る光学活性化合物、あるいはこの光学活性化合物の少な
くとも1種を成分として含有する液晶組成物を用いるこ
とにより、自発分極が大きいために表示素子として用い
る場合に高速応答が可能であるのみならず、広い温度範
囲でカイラルスメクチック相を示す材料系及び元スイッ
チング素子を提供することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) 〔ただし、X及びYのうち少なくとも1つはフッ素ある
いは塩素、mは0又は1であり、Lは−COO−基、−
OCO−基、又は直接結合を示すが、mが0のときは直
接結合を示し、Qは−O−基又は直接結合を示し、Rは
炭素数4以上のアルキル基を示し、C_3F_7OCF
(CF_3)基あるいは基Rのうち、少なくとも一方は
光学活性基である〕で表されることを特徴とする光学活
性化合物。 2、請求項1記載の光学活性化合物の少なくとも1種を
成分として含有することを特徴とする液晶組成物。 3、請求項1記載の光学活性化合物、あるいはこの化合
物の少なくと1種を成分として含有する液晶組成物を使
用して構成されることを特徴とする光スイッチング素子
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63194371A JPH0245468A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 光学活性化合物及びその用途 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63194371A JPH0245468A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 光学活性化合物及びその用途 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0245468A true JPH0245468A (ja) | 1990-02-15 |
Family
ID=16323479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63194371A Pending JPH0245468A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | 光学活性化合物及びその用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0245468A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5051527A (en) * | 1988-02-29 | 1991-09-24 | Showa Shell Sekiyu K.K. | Liquid crystal compounds having fluoroalkyl radical |
WO2010134580A1 (ja) * | 2009-05-21 | 2010-11-25 | 静岡県公立大学法人 | 芳香族フッ素化合物の製造方法および新規化合物 |
-
1988
- 1988-08-05 JP JP63194371A patent/JPH0245468A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5051527A (en) * | 1988-02-29 | 1991-09-24 | Showa Shell Sekiyu K.K. | Liquid crystal compounds having fluoroalkyl radical |
WO2010134580A1 (ja) * | 2009-05-21 | 2010-11-25 | 静岡県公立大学法人 | 芳香族フッ素化合物の製造方法および新規化合物 |
JP5641582B2 (ja) * | 2009-05-21 | 2014-12-17 | 静岡県公立大学法人 | 芳香族フッ素化合物の製造方法および新規化合物 |
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