JPH01294652A - 光学活性液晶化合物 - Google Patents

光学活性液晶化合物

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JPH01294652A
JPH01294652A JP63121829A JP12182988A JPH01294652A JP H01294652 A JPH01294652 A JP H01294652A JP 63121829 A JP63121829 A JP 63121829A JP 12182988 A JP12182988 A JP 12182988A JP H01294652 A JPH01294652 A JP H01294652A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規々光学活性液晶化合物に関する。
〔従来の技術〕
液晶表示素子の表示方式として現在広く寮用に供されて
いるものは、ねじれネマチック型(TN)及び動的散乱
!(DS)である。これらはネマチック液晶を主成分と
したネマチック液晶セA/による表示であるが、従来の
ネマチック液晶上μの短所の一つく応答速度が遅く、最
高数ミリ秒のオーダーの応答速度しか得られないという
事突があげられる。セしてこのことがネマチック液晶上
μの応用範囲を制約する一因となっている。これに対し
て最近スメクチック液晶セルを用いればよシ高速な応答
が得られることが明らかになってきた。
光学活性なスメクチック液晶の中には強誘電性を示すも
のがあることが知られており、その応用に関して大きな
関心が持たれている。強誘電性液晶は、1975年、R
,B、メイヤー(R,B。
Mayer )らKよシ最初に合成されたが〔シュyナ
ール・ド・フイジーク(、r、phya、 )、第36
巻、第L6?頁(1975))、それは、4−(41+
+ n−デシNオキシベンジリデンアミノ)−2−メチ
μブチyシンナメー) (DOBAMBC)を代表例と
するンッフ塩基系の化合物であシ、これが特定の光学活
性の状態、例えばカイツルスメクチックC相において強
誘電性を示すことを特徴とするものである。その後、N
、んクラーク(N、んC1ark )ら〔アプライド・
フィジクスーレターズ(Appl、Phys、Lett
、 )第36巻、第899頁(19130) )によっ
てDOBAMBCtD HHセルにおいて、マイクロ秒
オーダーの高速応答性が発見され、これが契機となって
強誘電性液晶はその高速応答性やメモリ性を利用して、
液晶テレビ等のデイスプレィ用のみならず、光プリンタ
ーヘッド、光フーリエ変換素子、ライトパルプ等のオプ
トエレクトロニクス関係素子の部品にも使用可能な材料
として注目を集めている。強誘電性液晶上μにおいては
、誘電率が高く、自発分極が大きい材料を用いるほど七
μを高速!IK動できて有利であるため、自発分極の大
きい材料の開発が望まれている。また突出上は、液晶化
合物自身が安定であシ、更には、室温を中心とする広い
温度範囲で強誘電性を示すことが必要である。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、 DOBAMBCなどのシップ塩基型の化合物
は水や光等に対する安定性の点で難点があシ、また強誘
電性を示す温度範囲も室温よル40°C程度高温側にあ
るなど、実用に適するものでは彦かつ九。そこで、強誘
電性液晶材料として、物理的化学的に安定で、しかも大
きい自発分極を持つ材料系の実現が強く期待されている
本発明の目的は化学的安定性、光安定性に優れ、自発分
極が大きく、かつカイツルスメクチックC相の温度範囲
の広い新規液晶化合物を得ることにある。また本発明は
このような新規な光学活性液晶化合物あるいはそれを含
む液晶組成物を用いて高速応答性を有する表示素子等を
提供しようとするものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明を概説すれば、本発明は光学活性液晶化合物に関
する発明であって、下記−数式1で表される化合物であ
ることを特徴とする。
〔ただし、Xは水素、塩素、臭素又はVアノ基、L%Q
は−0−、I又は直接結合、mは口又は1%nは1又は
2を示すが、m+nは1又は2であシ、Rは炭素数4以
上のアルキA/基を示し、C,Fテ0CF(CFI)−
基あるいは基Rのうち、少なくとも一方は光学活性基で
ある〕′− 婦癲藷44ら 一般式(1)の化合物は、不斉炭素にカルボニ/l/基
及びCF3¥St−直接結合させているほか、多くの場
合、分子の長軸に対して横方向に塩素、臭素又はVアノ
基を含有しているので、高い旋光性を有している。また
、中心骨格は安息香1俊ビフエニルエステルあるいはビ
フェニyカ〜ボン酸エステA/構造等を有しておシ、更
に分子両末端に長Aアルキ〜基(炭素数4〜1Bが好ま
しい)が存在するのでそれ自身が液晶性を示すものであ
る。また、複数のフッ素の存在によシ表面エネルギーの
低下が起こシ、非フツ素系化合物に比較して低粘度とな
ることが予想され、表示素子として使用する場合に高速
応答性が期待できる。
〔化合物の製法〕
本発明における一般式(1)の光学活性液晶化合物は、
例えば次のような合成経路に従って製造することができ
る。
(V) (■) X=Br%Ct (■) X (■) 上記製造過程を概説すると、始めに光学活性バーフルオ
ロ−2−プロピμオキシプロピオン酸(It)の酸クロ
ライド(all)を常法により製造し、化合物(IT)
と反応させる。(ff)の結合りが直接結合の場合はフ
リーデルクラフツ反応によるアシy化であシ、−〇−基
の場合はエステル化であす、パーフルオロ−1−プロピ
yオキシエチyカ〃ボニ〃基の導入されたメトキシ化合
物(V)が得られる。次に臭素又はN、N−ジクpロー
p−ト〃エンスyホン酸アミド(DC’r)を用いてハ
ロゲン化物(n)を製造する。臭素化物を非プロトン性
溶媒中でVアン化第−銅によりVアノ化して(■)を製
造することができる。更にメトキシ化合物(W)又は(
■)を前者は臭化水素酸で、後者は無水塩化アルミニウ
ムで脱メチル化して、パーフルオロ−1−プロピルオキ
Vエチルカ〜ボニル基を持つフェノ−y化合物(■)が
得られる。最後に(■)を酸クロライド(II)と反応
させて一般式1の化合物を製造することができる。なお
上記製造過程において、普通は光学活性パーフルオロ−
2−プロピ〃オキVプロピオン酸(1)を用いて光学活
性化合物を製造するが、Rが光学活性基である化合物を
用いる場合には、ラセミ体の(厘)を用いて目的化合物
を製造することができる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例によシ更に具体的に説明するが、
本発明の適用範囲はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
実施例1 化合物■ (a)4−メトキシビフエニ1v9.2 tを二硫化炭
素80−に溶解し、すりつぶした無水塩化アルミニウム
7f′1に加え、かくはんしながら光学活性パーフルオ
ロ−2−プロピ〜オキVプロピオン酸クロライド17.
 s t /二硫化炭素3〇−の溶液を7°C以下で滴
下し、その後7時間加熱還流し、冷却後希塩酸中に注ぎ
、析出し九固体をヘキサンから再結晶して精製し、4−
メトキV−41−(パーフルオロ−1−プロピ〜オキシ
エチμ力〃ボニA/)ビフエニ/’(V、ただLL=直
接結合、m=1)を得た。
(b)上記の化合物9.85 fを酢酸70−に溶ML
、N、N−ジクロロ−p−)ルエンスyホン酸アミド1
41を酢酸40−に溶解した溶液を滴下して3時間加熱
還流し、−夜放置後酢酸を留去して残留物を水洗、乾燥
後エタノ−μから再結晶して、3−クロロ−4−メトキ
シ−4′−(パーフルオロ−1−プロ?”A/オキシエ
チp力〜ボニ1v)ビア x = tv (■、L=直
接結合、X= Ct%m=1)を製造した。
次にこの化合物aspを酢酸50−に溶解し、臭化水素
酸120−を加えて34時間加熱還流し、冷却後水を加
えて析出する固体を集め、ベンゼンから再結晶して3−
クロロ−4−ヒドロキシ−41−(パー7A/オロー1
−プロピμオキシエチμ力〜ボニA/)ビフエニ/I/
(■、L=11(接結台、X=CL、 m= 1 )を
製造した。
(c)(b)で得られたヒドロキシ化合物1.5 fを
ピリジン30−に溶解し、4−オクチμオキV安息香酸
α8tから常法により製造した酸クロライドのトルエン
溶液に加えて55〜62℃で7時間かくはんし、−夜放
置後水を加えてトルエン抽出し、希炭酸水素ナトリウム
水溶液次いで水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後溶媒を留去して、残留物をヘキサン−トルエンを溶媒
とするシリカゲルのカラムクロマトグフフイにより精製
し、更にヘプタンで再結晶して化合物■(−数式lにお
いてX = Ct%L=直接結合、Q=−〇−基、R=
 C5Hsr、m=n=1の化合物)を製造した。
(d)この化合物を透明電極の電極間隙が約3μmのガ
ラスセルに封入し、偏光顕*鏡で観察した結果、56〜
84°Cの範囲でSC*相を示した。この温度範囲では
例えば±5V、IHzの電界を印加したときに電界の極
性反転に伴ってドメインの反転が′a測された。その他
の相転移温度は他の例と共に後記表1に示す通りである
。丸だしCryは結晶状態、SC*はカイフルスメクチ
ックC相、SAはスメクチック人相、chはコレステリ
ック相、■は等方性液相を示している。また・はその相
が存在することを示している。またこの化合物を電極間
隙120/Amのセルに封入し、三角波法〔営巣ほか、
ジャパニーズ・ジャーナ〜・オプ・アプライド・フイジ
クヌ(Jpn、J、Appl、Phys、 ) 198
3年、第22巻、第L661頁〕で自発分極を測定した
ところ、その値は161 nC/cWI”  であった
実施例2 4−オクチルオキシ安息香酸の代わシに4−デシルオキ
シ安息香酸を用いる以外は実施例1(c)と同様にして
化合物■(−数式IにおいてX=CL、L=直接結合、
Q = −0−m、R= ateH21、m = n 
= 1の化合物)を製造した。
この化合物の相転移温度は表1に示す通シである。ただ
し、−はその相が存在しないか、あるいは存在が明確で
ないことを表している。また実施例1(d)と同様にし
て測定した自発分極の値は155nC/備1であった。
化合物■ 実施例1 (a)において得られる(V)を(b)と同
様に臭化水素酸で脱メチル化してフェノール化合物(■
、L=直接結合、X=H,m=1)を製造し、この化合
物と4−オクチルオキシ安息香酸の代わりに4−デシ〃
オキシ安息香酸を用いる以外は実施例1(C)と同様に
して化合物■(−数式lにおいてX=H,L=直接結合
、Q=−〇−基、R” CIIIHII、m = n 
= 1の化合物)を製造した。
この化合物の相転移温度は表1に示した通シである。な
お0はその相がモノトロピックであることを示している
。また実施例1と同様にして測定した自発分極の値はj
 22 nC/ 5”であった。
実施例3 化合物■       Br 実施例1(a)で得られるメトキシ化合物(V)9.9
fを酢酸100−に溶解し、無水臭化アルミニウムα8
fを加え、かくはんしながら臭素五2f/酢酸20−の
溶液を滴下して85〜95°Cで2時間反応させた。希
塩酸中に注いで析出する固体を集め、エタノールから再
結晶して3−ブロモー4−メトキシ−4#−(パーフル
オロ−1−プロビルオキシエチNカ〜ボニ1v)ビフエ
ニA/(Vl、L=直接結合、X=Br、 m= 1 
)を製造した。これを実施例1(b)と同様に臭化水素
酸で脱メチル化させて処理し、5−ブロモ−4−ヒドロ
キシ−4′−(パーフルオロ−1−プロヒルオキシエチ
〃カルボニA/)ビフェニル(■、L=直接結合、X=
Br、 m = 1 )を製造した。
次に上記化合物■を用いる以外は実施例1(C)と同様
にして化合物■ (−数式1においてXzBr、L=直接結合、Q=−0
−基、R= C@Hrr、 m = n = 1の化合
物)を製造した。この化合物の相転移温度は表1に示し
である。また自発分極の値は102 nC/ tym2
であった。
化合物■       。N 上記で得られる臭素化合物(Vl)tzrff−N−メ
チルピロリドン95−に溶解し、シアン化第−銅2.1
Fを加えて185〜194℃で7時間反応させた。放冷
後希塩酸を加えてかくはん後Fμエン抽出して、希塩酸
次いで水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、
トルエンを減圧下留去し、残留物をトルエンを溶媒とす
るシリカゲルのカフムクロマトグフフイで精製して、5
−シアノ−4−メトキシ−4′−(パーフμオロー1−
プロビルオキシエチルカ〃ボニIv)ビフエニIv(■
、L=直接結合、m=1)を製造した。
次に上記化合物(■)41fを無水塩化アルミニウム2
.2fと混合すると発泡と発熱が認められた。2時間放
置後これにシクロヘキサン5〇−を加えて61〜75℃
に5時間保持し、冷却後希塩酸30−を加えてかくはん
後水洗し、溶媒を留去して残留物をエタノールから再結
晶して、3−シアノ−4−ヒドロキS/−4’−(パー
フルオロ−1−プロビルオキシエチルカ〃ボ二/I/)
ビア x 二lv(■、L=直接結合、X=CN。
m=1)を製造した。更に実施例1(C)と同様にして
化合物■(−数式Iにおいて、X==CN。
L=直接結合、Q = −0−IE、R= 08H1?
、m=n=1の化合物)を製造した。この化合物の相転
移温度は表1に示した通りである。また実施例1と同様
にして測定した自発分極の値は227HC/ ts”と
大きな値であった。
実施例4 光学活性−バーフルオロ−り−プロピ〜オキVプロピオ
ン酸クロライドと4−メトキシフェノールから実施例1
(C)と同様にして4−(/(−7Nオロー1−プロビ
ルオキシエチルカルボニルオキシ)アニソール(V%L
=−〇−基、m=o )を製造した。次にこの化合物を
実施例3と同様にして臭素化(ただし反応温度63〜7
2℃)、シアノ化、及び脱メチル化をfT)て、2−シ
アノ−4−(パーフルオロ−1−プロビルオキシエチy
カルボニ〜オキシ)フェノ−/L’(V1%L=−0−
基、X=CN%m=o)を製造した。
4′−オクチル−4−ビフエニ〜カルボン酸α9?を塩
化チオニv5−と2時間加熱し、塩化チオニルを留去し
た残留物をトルエン10−に溶解し、上記(■)の化合
物1.3fのピリジン30−の溶液に徐々に加えて、6
4〜71℃で12時間反応させ、−夜放置後水に注いで
トルエンで抽出し、トルエン溶液を1%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、次いで水で洗浄して無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を減圧下に留去して得られる残留物をヘ
キサン−トルエンを溶媒とするシリカゲμのカフムクロ
マトグフフイで精製し、更にヘプタンで再結晶して、化
合物■(−数式1においてX=CN、L=−0−基、Q
=直接結合、R=CaHty、m = 0、n = 2
の化合物)を製造した。この化合物の相転移温度は表1
に示した通シである。また実施例1と同様にして測定し
た自発分極の値は172 nC/ ts”であった。
実施例5 4−メFキシビフェニルの代わシに2−ブロモアニソー
ルを用いる以外は実施例1(&)と同様にして2−ブロ
モー4−(パーフルオロ−1−ブロピルオキシエチルカ
〃ボニ/I/)アニソ−/I/(Vl、 L=直接結合
、X=Br%m==o)を製造し、次いでこの化合物を
実施例5と同様にしてシアノ化し、更に脱メチル化を行
って、2−シアノ−4−(パーフルオロ−1−プロビル
オキシエチμカルボニA/)フェノ−/I/(■、L=
直接結合、X=CN%m;0)を製造した。入にこの化
合物と4′−デシ〜オキシ−4−ビフエ二yカμボン酸
を用いる以外は実施例1(C)と同様にして化合物■(
−数式IにおいてX=CN、L=直接結合、Q = −
0−’1、R= CICIHII、m=0、n = 2
の化合物)を製造した。この化合物の相転移温度は表1
に示した通シである。また実施例1と同様にして測定し
た自発分極の値は149nC/τ鵞であった。
4−メトキシビフエニμの代わりに2−クロロアニソー
ルを用いる以外は実施例1(a)と同様ニして2−クロ
ロ−4−(パーフルオロ−1−ブロピyオキシエチ〜力
ルポ二〜)アニソ−A/ (VT、L=直接結合、X=
C2,m=0)を製造し、次いでこの化合物を実施例1
(b)と同様にして脱メチル化して2−クロロ−4−(
バー7/l/オロー1−プロピμオキシエチルカμボ二
A/) 7:X−/−A/(Vl、L=直接結合、X 
= Ct、m=0)を製造した。次にこの化合物と4′
−オクチルオキシ−4−ビフェニμカルボン酸を用いる
以外は実施例1(C)と同様にして化合物■(−数式!
においてx = ct%L=直接結合、Q=−o−基、
R= C,Hl、、m=o、n = 2の化合物)を製
造した。この化合物の相転移温度は表1に示した通シで
ある。
実施例6 化合物■       CN ラセミ体のパーフルオロ−2−ブロピμオキ・Vプロピ
オン酸を用いる以外は実施例3と同様にして、3−シア
ノ−4−ヒドロキシ−4′−(バー7〜オロー1−プロ
ピμオキシエチルカルボニl′v)ビア x 二tv 
(■、L=直接結合、X=CN%m=1)を製造した。
この化合物と光学活性−4−(1−メチルへブチルオキ
シ)安息香酸を用いる以外は実施例1(C)と同様にし
て化合物■(−数式IにおいてX=CN%L=直接結合
、Q=−〇−基、R= CHs(CHs)CsHls、
m=n = 1の化合物)を製造した。この化合物の相
転移温度は表1に示した通りである。また実施例1と同
様にして測定した自発分極の値は134nC/ 51”
であつ九。
実施例7 ラセミ体のパーフルオロ−り−プロピ〜オキシプロピオ
ン酸クロフィトと4−メトキシ−41−ヒドロキシビフ
エニμから実施例1(c)ト同様にして4−メトキシ−
47−(パーフルオロ−1−プロビルオキシエチル力ル
ポ二μオキシ)ビフエニ/I/(V、L=−0−M、m
=1)を製造した。次にこの化合物を反応温度を78〜
83℃とする以外は実施例1(b)と同様にして塩素化
し、次いで脱メチル化反応を行い、ヒドロキン化合物(
■、x=cz、m=1)を製造した。
更にこの化合物と光学活性−4−(2−メ千〜ブチyオ
キシ)安息香酸を用いる以外は実施例1(C)と同様に
して化合物[相](−数式■においてX = CL%L
 = Q =−0−基、R= C)(1C*H(CHs
)(4H@ 、 m = n =1の化合物)を製造し
た。
この化合物の相転移温度は表1に示し九通シである。ま
た実施例1と同様にして測定した自発分極の値は26 
nC/ am”であった。2−メチルブチル基を含む液
晶化合物は普通5 HC/ x”程度であるから、この
自発分極の向上は塩素導入による効果と推定できる。
実施例8 化合物OCt 4−メトキシビフェニルの代わりに2−クロロアニソ−
μを用いる以外は実施例1 (a%b)ト同様にして、
2−クロロ−4−(バー7Nオロー1−プロヒルオキシ
エチ〜カルボニIv)フェノ−/L/(■、X=Ct%
m=0)を製造した。
次いでこの化合物と4−ヘキシルオキシ安息香酸を用い
る以外は実施例1(C)と同様にして化合物0(−数式
1においてX = Ct%L=直接結合、Q=−〇−基
、R= CaHl、、m = 01n=1の化合物)を
製造した。この化合物の相転移温度は表1に示した4シ
である。
実施例9 実施例3における化合物■の20重量部に対して、ノン
カイフルのスメクチック液晶である下記構造式の4’−
(2−メチルブチA/)−4−ビフェニルカルボン酸−
4g−オクチルオキシフエニ〜エステ7%150重量部
及び4′−オクチルオキシ−4−ビフェニルカルボン酸
−4#−ベンチpオキシフニー4#−ベンチp鯖キシフ
エニルエシて、液晶組成物を調製した。
この液晶組成物は12〜51℃の範囲で実施例1(d)
の電界に応答し、SC*相を示した。
また、±20V、IQHzの方形1皮を印加したときの
透過光強度の変化から求めた応答時間は74μ式であシ
、高速な応答性を示した。
>   慢  哨  へ  か  寸  の  か  
へ  哨  哨  噛r    −哨  1  噴  
噂  彎  い  賃  膿  1  噂  噂(J@
111Iam番@a*e* 0   ロ  ロ  ロ  ロ  ロ  1  ロ  
ロ  ロ  ロ  ロQ Q  I−+222 Q 2
 Q Q’ ouza:+ooooQo。
一’    11111   ロ  −I+   ロ 
 −1:l    F  ?+  y   y   −
へ  N  へ  −−−目   r   r   f
   ?   −〇  〇  〇  −−0名 が e ■ O■ 9 ■ ■ ■ ■ ■ CL、Q
の欄におけるーは直接結合、chの欄におけるーはこの
相が存在しないか、あるいは存在が明確でないことを表
している。IMEは光学活性1−メチルへブチA/3,
2MBは光学活性2−メチルブチル基を示す。
実施例10 実施例6における化合物■の20重量部に対して、実施
例9におけるノンカイラμのスメクチック液晶化合物そ
れぞれ40重量部を混合して液晶組成物を調製した。こ
の液晶組成物は6〜47℃の範囲でSC*相を示した。
また、実施例9と同様にして測定した応答時間は56μ
式であり、高速な応答性を示した。
このように、構造の異なる液晶化合物を混合することK
よシ、単独で用いるよシも広い温度範囲しかも室温の上
下でカイラルスメクチックC液晶となる液晶組成物が得
られる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、−数式1で表さ
れる光学活性液晶化合物を用いることによシ、自発分極
が大きいために表示素子として用いる場合に高速応答が
可能な材料を提供することができるのみならず、従来材
料に比較して低温でカイ”FA/スメクチックC液晶相
を示し、また混合した場合は広い温度範囲でカイラルス
メクチックC液晶相を示す材料系を提供することができ
る。
特許出願人  日本電信電話株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・〔 I 〕 〔ただし、Xは水素、塩素、臭素又はシアノ基、L、Q
    は−O−基又は直接結合、mは0又は1、nは1又は2
    を示すが、m+nは1又は2であり、Rは炭素数4以上
    のアルキル基を示し、C_3F_7OCF(CF_3)
    −基あるいは基Rのうち、少なくとも一方は光学活性基
    である〕で表されることを特徴とする光学活性液晶化合
    物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02155986A (ja) * 1988-12-08 1990-06-15 Toshiba Corp 液晶材料
US5051527A (en) * 1988-02-29 1991-09-24 Showa Shell Sekiyu K.K. Liquid crystal compounds having fluoroalkyl radical
JP2010512332A (ja) * 2006-12-06 2010-04-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ハイドロフルオロエーテル化合物類並びにそれらの調製方法及び使用方法

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