JP2683390B2 - 局所適用のための医薬又は化粧品組成物 - Google Patents

局所適用のための医薬又は化粧品組成物

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は過酸化ベンゾイル−第4級アンモニウム親油
性サリチレートをベースとする医薬品および化粧品組成
物および特に座瘡の治療にこれらを使用することに関す
る。
従来技術および発明が解決しようとする課題 明らかではないが、座瘡の病因は特徴的病変:ニキビ
の形成に発する。これは毛脂管の閉塞を生じ、次いで管
の漏斗状帯の角化異常を生ずる。閉塞の主要な作用は皮
脂のレオロジーおよびその部分の物理化学的性質を改変
することである。このような改変は固有の皮膚菌株を過
度に増殖させ、順次生体に炎症反応を起こす。
過酸化ベンゾイルは座瘡治療剤として認められたもの
のうち特に興味のある角質溶解剤であることが数年間知
られている。さらに、これはすぐれた静菌性を有する。
座瘡治療に標準的抗生物質を使用することも広く行な
われる。実際に、これはかなりの静菌活性および抗−炎
症活性を示す。経口投与の活性抗生物質は多数ある。こ
れらのうち、クリンダマイシンおよび特にエリスロマイ
シンは局所活性を示す。
抗生物質は局所抗座瘡組成物の活性を増加するために
かねて過酸化ベンゾイルと併用されている。特に、エリ
スロマイシンは既に過酸化ベンゾイルと併用されている
(フンランス特許FR77 021 57号明細書)。
しかし抗生物質(単独又は過酸化ベンゾイルと併用)
を使用することの主な欠点はこれらを長期使用すること
にあり、それにより細菌フローラが耐性を有するように
なり、次の治療で抗生物質の効果が減少する(LEYDEN、
J.J,J.Am.Acad.Dermatol.(1)41〜45、1983)。
さらに、過酸化ベンゾイル−エリスロマイシンの組み
合せは不安定である。
第4級アンモニウム化合物(M.GLOOR,Arch.Dermatol.
Res.265 207−212、1979)は座瘡の局所治療に抗生物
質の代替物として使用することが考えられた。或る種の
第4級アンモニウム化合物は、耐性を誘発せずに座瘡の
原因となる主な菌株に対し抗生物質と同様の効果を有す
ることが示された。
局所治療に対し過酸化ベンゾイルと第4級アンモニウ
ム化合物の併用も既知である(フランス特許FR73 29
233号明細書)。これらの組成物では、過酸化ベンゾイ
ルはその場所で分解して活性酸素を遊離することにより
作用する。
課題を解決するための手段 座瘡、皮膚の潰瘍、イボおよび皮膚の角化異常に対
し、又皮膚病および皮膚障害の一般的治療に対し特に有
効で、安定な組成物を得ることができることがわかっ
た。この場合或る種の第4級アンモニウム誘導体(第4
級アンモニウムサリチレート)と併用した過酸化ベンゾ
イルは安定であり、分解せずに活性を保有する。
本発明に従つて過酸化ベンゾイルを第4級アンモニウ
ムサリチレートと局所組成物、例えばゲルで併用する場
合、過酸化ベンゾイルは分解せず、2ケ月の貯蔵後尚安
定してることが確定された。
第4級アンモニウムサリチレートと併用する場合過酸
化ベンゾイルが安定性を有するため、一層低用量を組成
物に使用することができ、従つてさらに皮膚許容性が増
大する。
第4級アンモニウムサリチレートはある程度紫外線を
吸収することも確定された。こうして本発明による組成
物は過酸化ベンゾイルの使用により一般的に遭遇する欠
点、例えば不安定又は二次作用をほとんど示さない。
従つて、これらの新規組成物は非常に安定で、十分に
許容性がある。これらは細菌の耐性を生ずることなく、
非常に良好な抗菌性を示し、角質溶解性であり、主要な
座瘡発生細菌の1種のPropionibacterium Acnesに対し
特に細菌静菌性がある。これらは防腐性、殺菌性、抗真
菌性でもあり、ニキビの治療および数の減少に活性があ
る。
これらの性質のため、本発明組成物は皮膚障害および
特に座瘡のような皮膚病、皮膚の潰瘍、イボおよび皮膚
の角化異常の治療に対し適する。
従つて、本発明の目的は過酸化ベンゾイルおよび少な
くとも1種の第4級アンモニウム親油性サリチレートを
許容しうる生理学的支持体中に含有する局所医薬および
化粧組成物である。
本発明の別の目的は座瘡の治療における組成物の使用
方法に関する。
本発明の尚別の目的は組成物および化粧品により治療
方法を供することである。
本発明のそれ以上の目的は以下の記載および例から明
らかとなろう。
発明の構成 本発明によれば、過酸化ベンゾイルと併用する第4級
アンモニウム親油性サチリレートは次の式: 〔式中、 (i) R1,R2,R3およびR4は同一又は異なり、末端鎖又
は鎖中に1個以上のヒドロキシル基を含み得る直鎖C1
C18飽和アルキル基を表し、又は (ii) R3および/又はR4は基: R8OC2H3R7 OCH2−CHOH−CH2 (式中、 0≦n≦4およびpは0又は1を表し、 R8はH又はC1〜C18アルキル、アルケニル、アルキル
シクロシルキル又はアルキルアリール基を表し、アルキ
ル基は分枝鎖又は直鎖であり、脂肪族又は芳香族基は1
個又はそれより多いC1〜C4アルキル又はアルコキシ置換
基を有することができ、 R7はH、CH3はCH2OHを表わし、 そして、R7がCH2OHを表す場合、R8はH以外であり、
p=1であり、 R7がCH2OHでない場合、p=0であり、 基(OC2H3R7)は次の鎖: のいずれか1つを表す)を表し、 R1およびR2は(i)項に示す意味を有し、又は (iii) R4は基: (式中、nは0又は1であり、R6は水素、ヒドロキシ、
ハルゲン、アルキル、又はヒドロキシアルキル基、又は
C1〜C18アシル基を表す)を表し、R1、R2およびR3は上
記(i)又は(ii)に示す意味を有し、又は (iv) R1およびR2は式 (式中、R4は上記(i)、(ii)又は(iii)に示した
意味を有する)に相当する芳香族複素環(この場合R3
存在しない)を形成し、又は (v) R1およびR2は酸素原子により中断されてもよい
非−芳香族、飽和又は不飽和複素基を形成し、この場合
R4は上記(i)、(ii)又は(iii)に示した意味を表
し、R3は(i)に規定の基を表し、又は (vi) R1、R2およびR3は非−芳香族飽和又は不飽和二
環状基を形成し、R4は上記(i)、(ii)又は(iii)
に示した意味を表し、R5は式: (式中、nは0〜16の整数である)を有する基を表す〕
で有する。
これらの化合物は特にフランス特許出願第8616 763
号明細書に記載され、特にアルコール媒体、好ましくは
メタノール中の相当する第4級アンモニウムカーボネー
トのような塩から製造することが好ましく、これにエタ
ノール又はメタノールのようなアルコール又はテトラヒ
ドロフランのようなエーテルに溶解した選択親油性サリ
チル酸誘導体を添加する。反応は自然に開始し、その進
行は二酸化炭素の放出により追跡される。
次の第4級アンモニウム親油性サリチレートは特に好
ましい: ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−オクタノ
イル サリチレート、 ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−デカノイ
ル サリチレート、 ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−ドデカノ
イル サリチレート、 ヘキサデシルピリジニウム 5−オクタノイル サリ
チレート、 ヘキサデシルピリジニウム 5−デカノイル サリチ
レート、 ヘキサデシルピリジニウム 5−ドデカノイル サリ
チレート、 ベンジルジメチルヘキサデシルンアンモニウム 5−
オクタノイル サリチレート、 ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム 5−デ
カノイル サリチレート、 ベンイルジメチルヘキサデシルンアンモニウム 5−
ドデカノイル サリチレート、 ベンジルトリメチルアンモニウム 5−デカノイル
サリチレート、 ヘキサデシルジメチルヒドロキシエチルアンモニウム
5−デカノイル サリチレート、 テトラメチルアンモニウム 5−ドテカノイル サリ
チレート、 ドデシルエチルジメチルアンモニウム 5−デカノイ
ル サリチレート、 トリメチル−ヒドロキシエチルアンモニウム 5−デ
カノイル サリチレート、 トリメチル−ヒドロキシエチルアンモニウム 5−ド
デカノイル サチリレート、 N−ドデシル、N−メチルモリホリニウム 5−デカ
ノイル サリチレート、 N−メチル、N−オクチル ピリリジニウム 5−ド
デカノイル サリチレート、 ベンズエソニウム 5−オクタノイル サリチレー
ト、 ベンズエソニウム 5−ドデカノイル サリチレー
ト。
これらの化合物は下記方法で製造できる: 発明の例 A−N−ヘキサデシル、N,N,N−トリメチルアンモニウ
ム 5−オクタノイル サリチレートの製造 15mlのメタノールに溶解した2g(7.57ミリモル)の5
−オクタノイル サリチル酸を15mlのメタノールに溶解
した2.62g(4.16ミリモル)のヘキサデシルトリメチル
アンモニウムカーボネートの溶液に添加した。混合物は
1時間環境温度で撹拌し、次に溶媒を蒸発して除き、白
色残留固体はアセトン/ジエチルエーテルの混合物から
再結晶して3.8g(91.5%収量)のヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウム 5−オクタノイルサリチレートを製造
した。
融点=130℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C34H61NO4、分子量=547.9 C H N 計算値% 74.54 11.22 2.56 分析値% 74.48 11.32 2.62 1Hおよび13C NMRスペクトルはアンモニウムカチオン
および5−オクタノイル サリチレート アニオンの特
性値を示し、予期構造を確証した。
B−N−ヘキサデシル、N,N,N,−トリメチル アンモニ
ウム 5−ドデカノイル サリチレートの製造 15mlのエタノールに溶解した2g(6.85ミリモル)の5
−デカノイル サリチル酸を15mlのメタノールに溶解し
た2.2g(3.5ミリモル)のヘキサデシルトリメチルアン
モニウムカーボネートに添加した。混合物は1時間環境
温度で撹拌し、次に溶媒を蒸発して除き、得た白色残留
固体をアセトン/ジエチルエーテルの混合物から再結晶
して3.8(96%収量)のヘキサデシルトリメチルアンモ
ニウム 5−デカノイル サリチレートを製造した。
融点=130℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C36H65NO4、分子量=575.9 C H N 計算値% 75.08 11.37 2.43 分析値% 75.05 11.42 2.44 1Hおよび13C NMRスペクトルは第4級アンモニウム
カチオンおよび5−デカノイル サリチレート アニオ
ンの特性値を示し、予期構造を確証した。
C−N−ヘキサデシル、N,N,N,−トリメチル アンモニ
ウム 5−ドデカノイル サリチレートの製造 15mlのエタノールに溶解した2g(6.25ミリモル)の5
−ドデカノイルサリチル酸を15mlのメタノールに溶解し
た2g(3.18ミリモル)のヘキサデシルトリメチルアンモ
ニウムカーボネートの溶液に添加した。混合物は1時間
環境温度で撹拌し、次に溶媒を蒸発して除き、得た白色
残留固体はアセトン/ジエチルエーテルの混合物から再
結晶して3.5g(93%収量)のヘキサデシルトリメチルア
ンモニウム 5−ドテカノイル サリチレートを製造し
た。
融点=130℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C38H69NO4、分子量=604 C H N 計算値% 75.57 11.52 2.32 分析値% 75.17 11.61 2.5 13C NMRスペクトルは第4級アンモニウムカチオンお
よび5−デカノイル サリチレートアニオンの特性値を
示し、予期構造を確証した。
UVスペクトル(エタノール中)は吸収ピーク、λmax.
=280nm、モル吸光係数 ε=14080を示した。
D−N−ヘキサデシルピリジニウム 5−オクタノイル
サリチレート1水和物の製造 15mlのメタノールに溶解した2g(7.57ミリモル)の5
−オクタノイル サリチル酸を15mlのメタノールに溶解
した2.5(3.79ミリモル)のヘキサデシルピリジニウム
カーボネートの溶液に添加した。混合物は1時間環境温
度で撹拌し、次に粗褐色残留物を濾別し、濾別は乾燥す
るまで蒸発して4.2g(98%収量)のヘキサデシルピリジ
ニウム 5−オクタノイル サリチレートを製造した。
元素分析:C36H57NO4、1H2O、分子量=585.9 C H N 計算値% 73.8 10.15 2.39 分析値% 73.22 9.77 2.31 13C NMRスペクトルは第4級アンモニウムカチオンお
よび5−オクタノイル サリチレートアニオンの特性値
を示し、予期構造を確証した。
エタノール中のUVスペクトルは吸収ピーク、λmax=2
79nm、モル吸光係数 ε=21450を示した。
E−N−ヘキサデシル ピリジニウム 5−オクタノイ
ル サリチレート 11/2水和物の製造 15mlのエタノールに溶解した2g(6.85ミリモル)の5
−デカノイル サリチル酸を15mlのメタノールに溶解し
た2.3g(3.44ミリモル)のヘキサデシルピリジニウムカ
ーボネート溶液に添加した。混合物は1時間環境温度で
撹拌し、次いで溶媒は蒸発して除き、得た褐色残留物は
アセトン/ジエチルエーテルの混合物から再結晶して3.
9g(96%収量)のヘキサデシルピリジニウム 5−デカ
ノイル サリチレートを製造した。
融点=73℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C38H61NO4、1.5H2O分子量=622.9 C H N 計算値% 73.27 10.36 2.25 分析値% 73.64 9.64 1.82 13C NMRスペクトルは芳香族第4級アンモニウムカチ
オンおよび5−デカノイル サリチレートアニオンの特
性値を示し、予期構造を確証した。
F−N−ヘキサデシルピリジニウム 5−ドデカノイル
サリチレート水和物の製造 15mlのエタノールに溶解した2g(6.25ミリモル)の5
−ドデカノイル サリチル酸を15mlのエタノールに溶解
した2.1g(3.14ミリモル)のヘキサデシルピリジニウム
カーボネート溶液に添加した。混合物は1時間環境温度
で撹拌し、次いで溶媒は蒸発して除き、得た褐色残留物
はアセトン/ジエチルエーテル混合物から再結晶して3.
7g(95%収量)のヘキサデシルピリジニウム 5−ドデ
カノイル サリチレートを製造した。
融点=79℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C40H65NO4、1H2O、分子量=642 C H N 計算値% 74.84 10.52 2.18 分析値% 74.61 10.12 1.96 13C NMRスペクトルは芳香族第4級アンモニウムカチ
オンおよび5−デカノイル サリチレートの特性値を示
し、予期構造を確証した。
UVスペクトル(エタノール中で)は吸収ピーク、λma
x=279mn、モル吸光係数 ε=18910を示した。
G−N−ベンジル、N,N−ジメチル、N−ヘキサデシル
アンモニウム 5−オクタノイルサリチレートの製造 15mlのメタノールに溶解した2g(7.57ミリモル)の5
−オクタノイル サリチル酸を15mlのメタノールに溶解
した3g(3.84ミリモル)のベンジルジメチルヘキサデシ
ルアンモニウムカーボネートに溶液に添加した。混合物
は1時間環境温度で撹拌し、次いで溶媒を蒸発して除
き、白色残留物はアセトン/ジエチルエーテル混合液か
ら再結晶して4.5g(95%収量)のベンジルジメチルヘキ
サデシルアンモニウム 5−オクタノイル サリチレー
トを製造した。
融点=114℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C40H65NO4、分子量=623.9 C H N 計算値% 77.00 10.50 2.24 分析値% 77.02 10.58 2.38 13C NMRスペクトルは第4級アンモニウムカチオンお
よび5−オクタノイルサリチレートの特性値を示し、予
期構造を確証した。
化合物H〜Qは例A〜G記載と同様に製造した。
H−N−ベンジル、N,N−ジメチル、N−ヘキサデシル
アンモニウム 5−デカノイル サリチレートの製造 融点=113℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C40H69NO4、分子量=652 C H N 計算値% 77.37 10.67 2.15 分析値% 77.22 10.69 2.25 I−N−ベンジリ、N,N−ジメチル、N−ヘキサデシル
アンモニウム 5−ドテカノイルサリチレートの製造 融点=117℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C40H73NO4、分子量=680.08 C H N 計算値% 77.71 10.82 2.06 分析値% 77.15 10.81 2.08 UVスペクトル(エタノール中で)は吸収ピークλmax
=281nm、モル吸光係数 ε=17720を示した。
J−N−ベンジル、N,N,N−トリエチルアンモニウム
5−デカノイル サリチレートの製造 融点=135℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C27H39NO4、分子量=441.6 C H N 計算値% 73.43 8.9 3.17 分析値% 73.01 8.74 3.18 K−N,N−ジメチル、N,β−ピドロキシエチルアンモニ
ウム 5−デカノイル サチレートの製造 元素分析:C37H68NO5、1/2H2O分子量=615.96 C H N 計算値% 72.15 11.29 2.12 分析値% 72.51 10.85 2.27 L−N,N,N,N−テトラメチルアンモニウム 5−ドデカ
ノイル サリチレートの製造 融点=97℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C23H40NO4、分子量=390.15 C H N 計算値% 70.8 10.33 3.59 分析値% 70.27 9.87 3.38 M−トリメチル−β−ヒドロキシエチルアンモニウム
5−ドデカノイル サリチレートの製造 融点=67℃(メタノール/ジエチルエーテル) 元素分析:C24H41NO5、分子量=423.6 C H N 計算値% 68.05 9.76 3.31 分析値% 68.09 9.59 2.69 UVスペクトル(エタノール):λmax=288nm、ε=1664
0 N−トリメチル−β−ヒドロキシエチルアンモニウム
5−デカノイル サリチレートの製造 元素分析:C22H35NO5、3/4H2O分子量=407.6 C H N 計算値% 64.82 9.51 3.43 分析値% 64.75 9.36 3.01 O−ジメチルエチルドデシルアンモニウム 5−デカノ
イル サリチレートの製造 融点=65℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C33H59NO4、H2O分子量=551.9 C H N 計算値% 71.8 11.14 2.65 分析値% 72.07 10.74 2.33 P−N−メチル、N−オクチルペピリジニウム 5−ド
デカノイル サリチレートの製造 融点=45℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C33H57NO4、0.5H2O分子量=540.9 C H N 計算値% 73.28 10.81 2.59 分析値% 73.31 11.02 2.7 Q−N−ドデシル、N−メチル モルホリニウム 5−
デカノイル サリチレートの製造 融点=78℃(アセトン/ジエチルエーテル) 元素分析:C34H59NO5分子量=561.8 C H N 計算値% 72.68 10.58 2.49 分析値% 72.58 10.68 2.6 R−ベンズエソニウム 5−オクタノイル サリチレー
トの製造 100mlのメタノールに溶解した2.2g(8.4ミリモル)の
5−オクタノイル サリチル酸を100mlのメタノールに
溶解した3.7g(4.2ミリモル)のベンズエソニウム カ
ーボネート溶液に添加した。混合物は1時間環境温度で
撹拌し、次に溶液は濾過し、濾液は乾燥するまで蒸発し
て5.5g(98%収量)のベンズエソニウム 5−オクタノ
イル サリチレートを製造した。
元素分析:C42H61NO4、2H2O、分子量=712 C H N 計算値% 70.85 9.20 1.97 分析値% 70.93 9.07 2.07 13C NMRスペクトルは第4級アンモニウムカチオンお
よび5−オクタノイル サリチレートアニオンの特性値
を示し、予期構造を確証した。
S−ベンズエソニウム 5−デカノイル サリチレート
の製造 100mlのエタノールに溶解した2g(6.4ミリモル)の5
−ドデカノイル サリチル酸を100mlのメタノールに溶
解した2.82g(3.2ミリモル)のベンズエソニウム カー
ボネート溶液に添加した。混合物は1時間環境温度で撹
拌し、次に溶液を濾過し、濾液を乾燥するまで蒸発して
4.5g(97%収量)のベンズエソニウム 5−ドデカノイ
ル サリチレートを製造した。
元素分析:C46H69NO6、H2O、分子量=750 C H N 計算値% 73.66 9.54 1.87 分析値% 73.60 9.48 1.87 13C NMRスペクトルは第4級アンモニウムカチオンお
よび5−ドデカノイル サリチレートアニオンの特性値
を示し、予期構造を確証した。
本発明による医薬又は化粧組成物は過酸化ベンゾイル
および少なくとも1種の上記一般式(I)に相当する第
4級アンモニウム親油性サリチレートを生理学的に許容
しうる支持体に組み合せて含有する局所組成物であるこ
とを主特徴とする。
組成物は総組成物重量につき0.01〜25重量%、好まし
くは0.1〜3重量%濃度の式(I)に相当する少なくと
も1種の化合物、および総組成物重量につき0.1〜20重
量%、好ましくは1〜10重量%濃度の過酸化ベンゾイル
を含有する、溶液、エマルジョン、サスペンジヨン、ゲ
ル又は分散体の形態でよい。
これらの組成物は他の周知の生理学的に許容しうる媒
体および添加物を含有できる。例えば溶液、マイクロ−
サスペンジヨン又は小胞性エマルジヨンは次例:アセト
ン、エタノール、イソプロピルアルコール、商品名「DO
WANOL」として販売される生成物のようなグリコールエ
ーテル、ポリグリコール、ポリエチレングリコール、短
鎖酸のC1〜C4アルキルエステル、好ましくはエチル又は
イソプロピル ラクテート、商品名「MIGLYOL」として
販売される生成物のような脂肪酸トリグリセリドおよび
ミリスチン酸イソプロピルから選択した1種又はそれよ
り多い生理学的に許容しうる有機溶媒を水の他に使用し
製造できる。
本発明組成物は次例:セルロースおよびその誘導体、
グアルガム、ヘテロバイオ ポリサツカライド、網状ポ
リアクリル酸、メタクリル酸/メチルメタクリレート共
重合体、ポリ−β−アラニン、コロイド シリカから選
択した増粘剤およびゲル化剤、軟化剤、過脂剤、緩和
剤、加湿剤、界面活性剤、pH調整剤、浸透剤、保存料、
消泡剤、遮光剤、油、ワックス、香料、色素および/又
は顔料(皮膚又は組成物自体を着色するための)および
局所適用組成物に通常使用する任意の他の成分を含むこ
ともできる。
過酸化ベンゾイルと望ましくないように反応できるビ
ヒクルおよび成分を勿論使用してはならない。
本発明組成物はレチノン誘導体のような抗座瘡剤、抗
菌剤、抗炎症剤、非−ホルモンステロイド化合物、特に
プレグネノロン、および/又は表皮剥離剤又はニキビ除
去剤を組み合せ含有することもできる。
クリーム、乳液、ゲル、分散体、又はマイクロ−エマ
ルジョン、濃さの異なる組成物、含浸パツド、軟膏、ス
チツク又は石鹸錠剤は主として局所適用に適するガレヌ
ス製剤形の例である。
本発明による医薬組成物は過酸化ベンゾイルおよび式
(I)を有する少なくとも1種の第4級アンモニウム親
油性サリチレートを医薬的に許容しうる支持体に含有す
ることを特徴とする。
これらの医薬組成物は、特にこれらの抗菌性および角
層剥離性を有するため、皮膚病、特に座瘡の治療に薬物
として使用できる。
従つて本発明のそれ以上の目的は皮膚病、特に座瘡、
皮膚潰瘍、イボ、および角化異常の治療に対する薬物の
製造に医薬組成物を使用することである。
座瘡の治療は症状の重度により3〜25週間1日に2又
は3回患部に上記規定の組成物を適用することにある。
本発明のさらに別の目的を構成する化粧組成物は過酸
化ベンゾイルおよび式(I)を有する少なくとも1種の
第4級アンモニウム親油性サリチレートを化粧的に許容
しうる支持体に含有することを特徴とする。
本発明による化粧組成物は化粧品による皮膚治療、特
に角質溶解治療、又は斑点又はイボに対する治療に対し
使用できる。
本発明のさらにそれ以上の目的は皮膚を清潔又は清浄
化するために本発明による組成物を皮膚に適用する化粧
的治療方法に関する。
次例は発明の範囲を全く限定することなく発明を例示
するためのものである。
次の組成物を製造した: 例1 −過酸化ベンゾイル、100%活性 5.0g −ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−オクタ
ノイル サリチレート 1.0g −ジエチレングリコール、モノエチルエーテル 20.0g −エタノール、90゜ 50.0g −ヒドロキシエチル セルロース 2.0g −蒸留水 100gにする十分量 組成物はゲル形であつた。
例2 −過酸化ベンゾイル、100%活性 10.0g −ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−ドデカ
ノイル サリチレート 0.5g −プロピレン グリコール 10.0g −エタノール 40.0g −ヒドロキシエチル セルロース 2.2g −コロイドシリカ 2.0g −プロピレグリコール、モノエチルエーテル 15.0g −蒸留水 100.0gにする十分量 組成物はゲル形であつた。
例3 −過酸化ベンゾイル、100%活性 5.0g −ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−デカノ
イル サリチレート 1.0g −ポリエチレングリコール ステアレート、50モル
エチレン オキシドにオキシエチレン化した 4.2g −グリセロース、モノステアレート 1.1g −セチル アルコール 2.0g −ステアリル アルコール 17.0g −ヒドロキシエチル セルロース 0.35g −蒸留水 100.0gにする十分量 組成物はクリーム形であつた。
例4 −過酸化ベンゾイル、100%活性 10.0g −ヘキサデジルトリメチルアンモニウム 5−ドデカ
ノイル サリチレート 0.5g −PEG75ステアレート(75モル エチレン オキシド
にオキシエチレン化したポリエチレングリコール +
グリコール モノステアレート、商品名 GELOT 64とし
てGATTE FOSSEにより販売) 14.0g −MIGYOL 812(C6〜C12脂肪酸トリグリセルド、DYNAM
IT NOBELにより販売) 17.0g −セチルアルコール 2.0g −ステアリル アルコール 2.0g −ヒドロキシプロピル グアル 0.3g −蒸留水 100.0gにする十分量 組成物はゲル形であつた。
例5 −過酸化ベンゾイル、100%活性 2.5g −ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−オクタ
ノイル サリチレート 1.0g −ジエチレングリコール、モノエチルエーテル 20.0g −エタノール、90% 50.0g −ヒドロキシエチル セルロース 2.0g −蒸留水 100.0gにする十分量 組成物はゲル形であつた。
例1〜5による組成物の座瘡にかかりやすい皮膚に対
する毎週の適用により、3〜6週後皮膚は清浄化し、油
性が著しく少なくなり、ニキビの数が減少した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 イリナ ベック フランス国 ビルピンテ,アブニュ ジ ー.サシェ,70 (72)発明者 ジャン ピエール ラウギエール フランス国 アントニィ,リュ デ ゴ ウティエーレ,22

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】局所適用に対する化粧品組成物であって、
    過酸化ベンゾイルおよび一般式(I): 〔式中、 (i) R1,R2,R3およびR4は同一又は異り、末端鎖又は
    鎖中に1個以上のヒドロキシル基を含むことができる直
    鎖C1〜C18飽和アルキル基を表わし、又は (ii) R3および/又はR4は基: R8OC2H3R7 OCH2−CHOH−CH2 (式中、 0n4およびpは0又は1を表わし、 R8はH又はC1〜C18アルキル、アルケニル、アルキルシ
    クロアルキル又はアルキルアリール基を表わし、アルキ
    ル基は分枝鎖又は直鎖であり、脂肪族又は芳香族基は1
    個又はそれより多いC1〜C4アルキル又はアルコキシ置換
    基を有することができ、 R7はH、CH3はCH2OHを表わし、 そして、R7がCH2OHを表わす場合、R8はH以外であり、
    p=1であり、 R7がCH2OHでない場合、p=0であり、 基(OC2H3R7)は次の鎖: のいずれか1つを表わす)を表わし R1とR2は上記(i)を示す意味を有し、又は (iii)R4は基: (式中、nは0又は1であり、R6は水素、ヒドロキシ、
    ハルゲン、アルキル又はヒドロキシアルキル基、又はC1
    〜C18アシル基を表わす)を表わし、R1、R2およびR3
    上記(i)又は(ii)に示す意味を有し、又は (iv) R1およびR2は式 (式中、R4は上記(i)、(ii)又は(iii)に示した
    意味を有する)に相当する芳香族複素環(この場合R3
    存在しない)を形成し、又は (v) R1およびR2は酸素原子により中断されてもよい
    非−芳香族、飽和又は不飽和複素基を形成し、この場合
    R4は上記(i)、(ii)又は(iii)に示した意味を表
    わし、R3は(i)に規定の基を表わし、又は (vi) R1,R2およびR3は非−芳香族飽和又は不飽和二
    環状基を形成し、R4は上記(i)、(ii)又は(iii)
    に示した意味を表わし、R5は式: (式中、nは0〜16の整数である)を有する基を表わ
    す〕で有する少なくとも1種の第4級アンモニウム親油
    性サリチレートを、化粧品として許容しうる支持体に含
    むことを特徴とする、上記局所適用に対する化粧品組成
    物。
  2. 【請求項2】ニキビ、皮膚の潰瘍、いぼ、ケラチン障害
    の如き皮膚障害や皮膚病を処理するための局所適用に対
    する医薬組成物であって、過酸化ベンゾイルおよび一般
    式(I): 〔式中、 (i) R1,R2,R3およびR4は同一又は異り、末端鎖又は
    鎖中に1個以上のヒドロキシル基を含むことができる直
    鎖C1〜C18飽和アルキル基を表わし、又は (ii) R3および/又はR4は基: R8OC2H3R7 OCH2−CHOH−CH2 (式中、 0n4およびpは0又は1を表わし、 R8はH又はC1〜C18アルキル、アルケニル、アルキルシ
    クロアルキル又はアルキルアリール基を表わし、アルキ
    ル基は分枝鎖又は直鎖であり、脂肪族又は芳香族基は1
    個又はそれより多いC1〜C4アルキル又はアルコキシ置換
    基を有することができ、 R7はH、CH3はCH2OHを表わし、 そして、R7がCH2OHを表わす場合、R8はH以外であり、
    p=1であり、 R7がCH2OHでない場合、p=0であり、 基(OC2H3R7)は次の鎖: のいずれか1つを表わす)を表わし R1とR2は(i)項で示した意味を有し、又は (iii) R4は基: (式中、nは0又は1であり、R6は水素、ヒドロキシ、
    ハロゲン、アルキル又はヒドロキシアルキル基、又はC1
    〜C18アシル基を表わす)を表わし、R1、R2およびR3
    上記(i)又は(ii)に記載の通りであり、又は (iv) R1およびR2は式 (式中、R4は上記(i)、(ii)又は(iii)に示す意
    味を有する)に相当する芳香族複素環(この場合R3は存
    在しない)を形成し、又は (v) R1およびR2は酸素原子により中断されてもよい
    非−芳香族、飽和又は不飽和複素基を形成し、この場合
    R4は上記(i)、(ii)又は(iii)に示す意味を表わ
    しR3は(i)に規定の基を表わし、又は (vi) R1,R2およびR3は非−芳香族飽和又は不飽和二
    環状基を形成し、R4は上記(i)、(ii)又は(iii)
    に示した意味を表わし、R5は式: (式中、nは0〜16の整数である)を有する基を表わ
    す〕で有する少なくとも1種の第4級アンモニウム親油
    性サリチレートを、医薬として許容しうる支持体に含む
    ことを特徴とする、上記局所適用に対する医薬組成物。
  3. 【請求項3】第4級アンモニウム親油性サリチレートは
    次の化合物: ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−オクタノイ
    ル サリチレート、 ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−デカノイル
    サリチレート、 ヘキサデシルトリメチルアンモニウム 5−ドデカノイ
    ル、サリチレート、 ヘキサデシルピリジニウム 5−オクタノイル サリチ
    レート、 ヘキサデシルピリジニウム 5−デカノイル サリチレ
    ート、 ヘキサデシルピリジニウム 5−ドデカノイル サリチ
    レート、 ヘキサデシルジメチルヒドロキシエチルアンモニウム
    5−デカノイル サリチレート、 テトラメチルアンモニウム 5−ドデカノイル サリチ
    レート、 ドデシルエチルジメチルアンモニウム 5−デカノイル
    サリチレート、 トリメチルβ−ヒドロキシエチルアンモニウム 5−デ
    カノイル サリチレート、 トリメチル−ヒドロキシエチルアンモニウム 5−ドデ
    カノイル サリチレート、 N−ドデシル、N−メチルモルホリニウム 5−デカノ
    イル サリチレート、 N−メチル、N−オクチル ピペリジニウム 5−ドデ
    カノイル サリチレート、 ベンズエソニウム 5−オクタノイル サリチレート、 ベンズエソニウム 5−ドデカノイル サリチレート から選択する、請求項1又は2記載の組成物。
  4. 【請求項4】第4級アンモニウム親油性サリチレートは
    次の化合物: ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム 5−オク
    タノイル サリチレート、 ベンジルジメチルヘキサデシルンアンモニウム 5−デ
    カノイル サリチレート、 ベジルジメチルヘキサデシルアンモニウム 5−ドデカ
    ノイル サリチレート、 ベンジルトリメチルアンモニウム 5−デカノイル サ
    リチレート、 から選択する、請求項1又は2記載の組成物。
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