JP2595036B2 - 第４級アンモニウムレチノエートおよびこれを含む組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な第４級アンモニウム誘導体および一層
詳細には新規な第４級のアンモニウムのレチノエート、
その製造方法ならびにこれらを含有する化粧品および医
薬品用組成物を目的とする。

技術状況レポートにはヘキサデシルトリメチルアンモ
ニウムの種々の塩の使用、特にこれのオレエートの殺菌
剤としての使用がすでに述べられている［特にGautier
などのBull.Soc.Chim.France（1955）（634）参照］。

本発明者は新規な第４級アンモニウムレチノエートを
見出したが、これは本発明の目的をなす。本発明者はこ
の新規の第４級アンモニウムレチノエートは、Propioni
bactrium Acnes菌株に対する殺菌作用をもつことなら
びにこの化合物が防腐剤、にきび細胞溶解性（comdol
ytique）、角質細胞溶解性（ｋratolytique）、いぼ
細胞溶解性（verrulytique）のおよび（または）各種の
皮膚症状に対する、特に、細菌性、ミクロ細菌性原因か
らくるおよび（または）病原性のあるある種の酵母の侵
入と関係することのありうる感性性もしくは非感染性の
皮膚病に対する薬剤として用いるのが有利でありうるこ
とを確認した。この化合物はまたふけ防止剤（agent an
tipelliculaive）としてあるいは毛髪の再生を刺戟しか
つ抜け毛を抑制するためにも用いることができる。

本発明の化合物はまた、皮膚の老化防止特性、特に太
陽光による老化を防止する特性をもつことも明らかとな
った。

本発明者はこの化合物が の手当に特に有効であることを認めた。

周知のとおり は、思春期に始まり多くの場合20〜25才頃に自然になく
なる多形性皮膚障害である。

は患者の体のうちで毛の生えている皮膚は別として皮脂
線に富む部分（額、顔、鼻翼、上半身、背中）に発生す
る。

の原因病理論は、十分に明解とはいえないものの、特徴
的な病変であるにきびの発生に原因を求めている。にき
びは毛脂管（canal pilosbac）の漏斗状部分の非角
質化（dyskratinisation）の結果による同上の管の障
害から発生する。

この障害の主な結果として皮脂の粘弾性およびpH、酸
素蒸気圧などのような媒体の物理化学的特性が変化す
る。

この変化によつて、皮膚上にある菌株、主として、嫌
気性または耐気性（ａro−tolerant）菌株であるProp
ionibactrium Acnesの異常増殖（hyperprolifratio
n）が可能となる。

細菌の異常増殖の結果、媒質中に細菌を起源とするあ
る種のプロテアーゼまたはヒアルウロニダーゼが発生
し、これらは濾胞嚢（sac folliculaire）の細胞溶解
を、従つて真皮中に炎症性化合物の発生を惹起しかつ生
体の炎症タイプの反応を開始する。

現在のところ炎症性化合物の性質は不明確であるが、
それが殺菌に起源をもつことはほとんど疑いないように
思われ、このことは、炎症性 の抗菌性化合物による経口的または局所的治療の成功を
説明する。

この目的からみて、 の手当においてエリスロマイシン、テトラクリン、クリ
ンダマイシンのごとき抗生物質のような抗菌性化合物の
使用がしばしば是認されてきた。抗菌性化合物は良好な
結果を生むが、これの過度の使用はPropioni−bactri
um Acnes菌株に抗生物質そのものに対する耐性を与え、
そのために反復的な手当はほとんど有効でなくなる。

本発明者は新規な第４級アンモニウムのレチノエート
は、特にエリスロマイシンおよびクリンダマイシンのよ
うな に対して局所的方法で用いる抗生物質の抗細菌活性に似
た、Propinio−bactrium Acnesに対する「試験管内」
抗菌活性をもち、しかも抗生物質の反復的使用にもとづ
く制約は示さないことを見出した。

本発明者はまた新規な第４級のアンモニウムレチノエ
ートはヘキサデシルトリメチルアンモニウムのオレエー
トよりも優れたにきびおよび角質細胞溶解活性をもつこ
とを確認した。

従つて本発明は新規な化合物として、以下に規定する
第４級アンモニウムのレチノエートを目的とする。

本発明の他の目的は上気に規定する化合物を含みかつ
治療のための手当に有用な組成物からなる。

本発明はまたこの化合物を基体とする組成物および化
粧品による手当方法も目的とする。

本発明の他の目的は以下の記載および例を読めば明ら
かとなろう。

本発明の主な目的をなす第４級アンモニウムのレチノ
エートは式（Ｉ）： に実質的に相当する化合物である。式中において （ｉ） 同一のまたは互いに異なるR₁,R₂,R₃は一つまた
はいくつかのヒドロキシル基を鎖の末端にまたは鎖中に
もつれていてよいC₁〜C₄の飽和直鎖アルキル基を表わ
し;R₄はC₁₂〜C₁₈の直鎖アルキルまたはアルケニル基を
表わし； （ii） R₃は式 （式中、ｎは０または１に等しく、R₅は水素原子、ヒド
ロキシル、ハロゲン原子、C₁〜C₁₈のアルキルもしくは
ヒドロキシアルキル基またはC₂〜C₁₈アシル基を表す）
を表わし;R₁,R₂およびR₄は上記（ｉ）に記載のものと同
じ意味をもち； （iii） R₁およびR₂は酸素原子、他の窒素原子または
硫黄原子を場合によっては含む脂肪族複素環を形成して
よく； R₃およびR₄は上記（ｉ）および（ii）に記載のものと
同じ意味をもつ。

本発明に従う化合物は、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまた
は、これらの混合物に、選択したレチノン酸をこれら溶
媒の一つに溶解したものを添加したもののごとき溶媒中
に溶解した、対応する第４級アンモニウムの塩例えばよ
り特定的には炭素塩から製造するのが好ましい。反応は
窒素またはアルゴンのような不活性ガス流化で実施する
のが好ましい。

本発明の目的をなす組成物は、上記した式（Ｉ）に相
当する化合物を、局所的適用に好適な支持体中に含む局
所的適用組成物であることを実質的特徴とする。

本組成物はその全重量に対して0.00001〜１重量％、
望ましくは0.001〜１重量％の範囲の濃度で、式（Ｉ）
に相当する化合物を少くとも一つ含む溶液、乳濁液、懸
濁液、ゲルまたは小胞状分散物の形をとつてよい。

本組成物は現状の技術で周知の局所的適用のために許
容できる基剤および補助剤を含んでよい。例えば、生理
学的見地から許容可能な一つまたはいくつかの有機溶媒
を用いることにより溶液を調製することができる。有機
溶媒は水に加えて、アセトン、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、グリコールエーテル例えば「Dowanol」
の名で発売される製品、ポリグリコール、例えばポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、短鎖有
機酸エステル例えば、望ましくは、C₁〜C₄アルキルラク
テート、脂肪酸エステル例えばイソプロピルミリステー
ト、天然のまたは合成的なトリグリセリド、鉱物性の油
およびろうのうちから選択する。

本発明の組成物は、イオン性および（または）望まし
くは非イオン性の界面活性剤、天然のまたは合成的なイ
オン性および（または）望ましくは非イオン性重合体、
特に蛋白質、セルロースおよび（または）セルロースの
誘導体、グアールガム、いなごまめの実、アラビアガ
ム、ビオヘテロ多糖類、例えばキサンタンガム、シテイ
ン、キトサンまたは誘導体、あるいはまたベントンおよ
びモンモリロナイトなどもまた含んでよい。

必要ならば、酸化防止剤、界面活性剤、他の保存剤、
角質細胞溶解剤もしくはにきび細胞溶解剤、香料および
着色剤のうちから選択する補助剤を添加することができ
る。

例えば酸化防止剤として、ｔ−ブチルヒドロキシキノ
ン、ブチルヒドロキシアニソール、ブチルヒドロキシト
ルエンならびにα−トコフエノールおよびその誘導体を
あげることができる。

主として局所的適用のために調製されたガレヌス製剤
的形態は、クリーム、乳液、ゲル、分散液またはミクロ
乳濁液、小胞（vesicule）、多かれ少かれ増粘化したロ
ーション、浸漬タンポン、ポマード、ステイツクの形あ
るいはまたスプレーまたは泡沫の形のエアロゾル処方物
の形、さらにまた石けん塊の形をとる。

本発明の組成物は のような各種の皮膚病を手当するのに特に好適である。
この場合、本組成物は医薬品として許容できる媒体中
に、式（Ｉ）の化合物とともに抗菌剤、抗炎症剤および
抗脂漏性化合物のような抗 剤もまた含有してよい。

抜け毛を手当するためにまたは毛髪の再生を刺戟する
ために本発明の化合物を用いる場合、この化合物は毛髪
の再生に役立つ薬剤、一層特定的にはピリミジン誘導体
例えばMINOXIDILとも呼ばれる2,4−ジアミノ６−ピペリ
ジノピリミジン３−オキシド、７−クロロ３−メチル1,
2,4−ベンゾチアジアジン1,1−ジオキシドないしは「DI
AZOXIDE」、5,5−ジフエニルイミダゾリン2,4−ジオン
ないしは「PHENYTOIN」と組合わせてよい。

本発明の一目的は、皮膚病の手当のための以上のよう
な組成物を製造するために式（Ｉ）の化合物を使用する
ことにある。

本発明の組成物はまた、特にきびおよび角質の細胞溶
解剤として、皮膚の化粧品による手当のためにも用いる
ことができる。

本組成物は化粧品として許容できる媒体中に、皮膚の
手入および化粧品による手当のための組成物中に化粧品
として通常用いる補助剤を含有してよい。

化粧品による手当方法はこのような組成物を２〜６ケ
月の期間にわたつて皮膚に適用することからなる。

本発明の化合物の抗菌活性は、Propioni−bactrium
Acnes菌株としてATCC6919菌株を用いて、G.A.DENYSら
によつてAntimicrobial Agents and Chemotherapy（198
3年）23巻335〜337ページに、またJ.J.LEYDENらによつ
てJ.Am.Acad.Dermatol.（1983年）８巻１号41〜45ペー
ジに記載され、これらの著者によつて用いられた方法に
従う最低阻止濃度（C.M.I.）（Concentration Minimale
Inhibitrice）を決定するために、希釈法によつて検討
した。

本発明の第４級アンモニウムのレチノエートの、μg/
ml（DMSO）で表わした最低阻止濃度（C.M.I.）を第１表
に示す。

この表を検討すると、本発明の第４級アンモニウムの
レチノエート（all transおよび13−cis）は、比較のた
めの物質として選んだヘキサデシルトリメチルアンモニ
ウムのオレエートに比べて、Propionibactrium Acnes
菌株に対して一層高い活性をもつことが明らかとなろ
う。

以下の諸例は、一方で、本発明の化合物の製造方法
を、他方で、この化合物を使用する薬品および化粧品組
成物を例解するためのものである。

製造例１ Ｎ−ヘキサデシルN,N,N−トリメチルアンモニウムのall
transレチノエート：化合物番号２（第１表）の製造 新たに精製しかつ乾燥したヘキサデシルトリメチルア
ンモニウムの炭酸塩5.25g（8.3ミリモル）を無水メタノ
ール50ml中に溶解した溶液に、無水のテトラヒドロフラ
ン50ml中に予め溶解したall transレチン酸5g（16.6ミ
リモル）を添加する。光を遮断して混合物を30℃で２時
間不活性雰囲気下で撹拌し、次に溶液を高真空下で蒸発
しかつ得られる残留物をヘプタン中に回収する。溶液を
濾過しかつ高真空下で溶媒を蒸発する。栗色のペースト
状物の形のＮ−ヘキサデシルN,N,N−トリメチルアンモ
ニウムのall transレチノエート9.7gを得る（収率は定
量的である）。

元素分析;C₃₉H₆₉NO₂,1H₂O; 分子量＝602 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値、％： 77.82 11.89 2.32 実測値、％： 77.44 12.04 2.00¹³ Cおよび¹Hの核磁気共鳴［CDCl₃、内部基準（ref.inte
rne）T.M.S.］ ¹Hおよび¹³Cの核磁気共鳴スペクトルにより所期の構
造が確認される。特に、¹³Cの核磁気共鳴スペクトルは
第４級アンモニウムレチノエートの生成によるＣ−14の
弱い場への変移（＋7.6ppm）を示す。¹Hの核磁気共鳴ス
ペクトルにより、レチン鎖の立体化学はＨ−12の化学的
変移613ppmのためにall transであることが確められ
る。

紫外線スペクトル（エタノール）γmax＝336nm εmol＝
41579 製造例２ Ｎ−ヘキサデシルN,N,N−トリメチルアンモニウムの13
−cisレチノエート：化合物番号３（第１表）の製造 新たに精製しかつ乾燥したヘキサデシルトリメチルア
ンモニウムの炭酸塩5.25g（8.3ミリモル）を無水メタノ
ール50ml中に溶解した溶液に、無水のテトラヒドロフラ
ン50ml中に予め溶解した13−cisレチン酸5g（16.6ミル
モル）を添加する。光を遮断して混合物を30℃で２時間
不活性雰囲気下で撹拌し、次いで溶媒を高真空下で蒸発
しかつ得られる残留物をヘプタン中に回収する。溶液を
濾過しかつ溶媒を高真空下で蒸発する。褐色のペースト
状物の形のＮ−ヘキサデシルN,N,N−トリメチルアンモ
ニウムの13−cisレチノエート9.7gを得る（収率は定量
的である）。

元素分析;C₃₉H₆₉NO₂,1.5H₂O; 分子量＝611 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値％： 76.67 11.54 2.29 実測値％： 77.06 11.68 2.21¹ Hおよび¹³Cの核磁気共鳴（CDCl₃、内部基準T.M.S） ¹Hの核磁気共鳴スペクトルにより、H₁₂の化学的変移
7.9ppmをもつレチノエート鎖の13−シス構造が確認され
る。¹³の核磁気共鳴スペクトルにより、レチノエート対
陰イオンの生成に基くC₁₄の弱い場への変移（＋9ppm）
が示される。

紫外線スペクトル（エタノール） γmax＝339nm εmol＝30600 製造例３ Ｎ−ベンジルN,N−ジメチルＮ−ヘキサデシルアンモニ
ウムのall transレチノエート；化合物番号４（第１
表）の製造 新たに精製しかつ乾燥したベンジルジメチルヘキサデ
シルアンモニウムの炭酸塩6.5g（8.3ミリモル）を無水
メタノール50ml中に溶解した溶液に、無水のテトラヒド
ロフラン50ml中に予め溶解したall transレチン酸5g（1
6.6ミルモル）を添加する。光を遮断して混合物を30℃
で２時間不活性雰囲気下で撹拌し、次いで溶媒を高真空
下で蒸発しかつ得られる残留物をヘプタン中に回収す
る。溶液を濾過しかつ溶媒を高真空下で蒸発する。褐色
のペースト状物の形のＮ−ベンジルN,N−ジメチルＮ−
ヘキサデシルアンモニウムのall transレチノエート10.
9gを得る（収率は定量的である）。

元素分析;C₄₅H₇₃NO₂,H₂O; 分子量＝678 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値％： 79.77 11.07 2.06 実測値％： 79.79 11.11 2.1 ¹³ Cの核磁気共鳴（CDCl₃、内部基準T.M.S.） C¹⁴の弱い場への変移7.3ppmは第４級アンモニウムレ
チノエートの対陰イオンの生成を示す。13.68ppmにある
C20のピークによりレチン鎖のall trans立体化学が認め
られる。アンモニウムのメチルのピークは49.64ppmにあ
る。

紫外線スペクトル（エタノール）γmax＝335 εmol＝30
378 製造例４ Ｎ−ベンジルN,N−ジメチルＮ−ヘキサデシルアンモニ
ウムの13−シスレチノエート：化合物番号５（第１表）
の製造 新たに精製しかつ乾燥したベンジルジメチルヘキサデ
シルアンモニウムの炭酸塩6.5g（8.3ミリモル）を無水
メタノール50ml中に溶解した溶液に、無水のテトラヒド
ロフラン50ml中に予め溶解した13−cisレチン酸5g（16.
6ミルモル）を添加する。光を遮断して混合物を30℃で
２時間不活性雰囲気下で撹拌し、次いで溶媒を高真空下
で蒸発しかつ得られる残留物をヘプタン中に回収する。
溶液を濾過しかつ溶媒を高真空下で蒸発する。栗色のペ
ースト状物の形のＮ−ベンジルN,N−ジメチルＮ−ヘキ
サデシルアンモニウムの13−cisレチノエート10.9gを得
る（収率は定量的である）。

元素分析:C₄₅H₇₃NO₂,H₂O; 分子量＝678 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値％： 79.77 11.07 2.06 実測値％： 79.38 11.14 1.98¹³ Cの核磁気共鳴（CDCl₃、内部基準T.M.S.） Ｃ−14の弱い場への変移9ppmは第４級アンモニウムレ
チノエートの対陰イオンの生成を示す。20.41ppmでのＣ
−20のピークによりレチン鎖の13−cis立体化学が認め
られる。アンモニウムのメチルのピークは49.56ppmにあ
る。

紫外線スペクトル（エタノール）γmax＝336 εmol＝37
772 製造例５ N,N−ジメチルＮ−ヘキサデシルＮ−β−ヒドロキシエ
チルアンモニウムのall transレチノエート：化合物番
号６（第１表）の製造 新たに精製しかつ乾燥したジメチルヘキサデシルβ−
ヒドロキシエチルアンモニウムの炭酸塩5.75g（8.3ミリ
モル）を無水メタノール50ml中に溶解した溶液に、無水
のテトラヒドロフラン50ml中に予め溶解したall trans
レチン酸5g（16.6ミリモル）を添加する。光を遮断して
混合物を30℃で４時間不活性雰囲気下で撹拌し、次いで
溶媒を高真空下で蒸発しかつ得られる残留物をエチルア
セテート中に回収する。溶液を濾過しかつ溶媒を高真空
下で蒸発する。褐色のペースト状物の形のN,N−ジメチ
ルＮ−β−ヒドロキシエチルＮ−ヘキサデシルアンモニ
ウムのall trasレチノエート10gを得る（収率は定量的
である）。

元素分析;C₄₀H₇₁NO₃,H₂O; 分子量＝632 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値％： 75.9 11.55 2.21 実測値％： 75.54 11.53 1.92¹ Hの核磁気共鳴（CDCl₃、内部基準T.M.S.） C₁₄の弱い場への変移7.8ppmは第４級アンモニウムの
レチノエート対陰イオンの生成を示す。13.67ppmでのＣ
−20のピークによりレチン鎖のall trans立体化学が認
められる。

紫外線スペクトル（エタノール）γmax＝328 εmol＝31
051 製造例６ Ｎ−ドデシルＮ−エチルN,N−ジメチルアンモニウムのa
ll transレチノエート：化合物番号７（第１表）の製造 この化合物は前記諸例に記載の操作方法に従つて製造
する。

元素分析:C₃₆H₆₃NO₂,H₂O;分子量＝577.9 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値％： 74.8 11.68 2.42 実測値％： 75.1 11.34 2.08¹³ Cの核磁気共鳴（CDCl₃、内部基準T.M.S.） Ｃ−14の弱い場への変移7.7ppmは第４級アンモニウム
のレチノエート対陰イオンの生成を示す。13.66ppmでの
Ｃ−20のピークによりレチン鎖のall trans立体化学が
認められる。アンモニウムのもつメチルのピークは50.4
6ppmにある。

紫外線スペクトル（エタノール）γmax＝336 εmol＝38
625 製造例７ Ｎ−ドデシルＮ−メチルモルホリニウムのall transレ
チノエート：化合物番号８（第１表）の製造 この化合物は前記諸例において述べた操作方式に従つ
て製造する。

元素分析:C₃₇H₆₃NO₃,0.5H₂O; 分子量＝578.9 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値％： 76.76 11.14 2.42 実測値％： 76.62 10.95 2.20¹³ Cの核磁気共鳴（CDCl₃、内部基準T.M.S.） Ｃ−14の弱い場への変移7.9ppmは第４級アンモニウム
のレチノエート対陰イオンの生成を示す。Ｃ−20のピー
クは13.78ppmにあり；アンモニウムのもつメチルのピー
クは46.94ppmにある。

紫外線スペクトル（エタノール）γmax＝336 εmol＝38
416 例８ Ｎ−ドデシルN,N,N−トリメチルアンモニウムのall tra
nsレチノエート：化合物番号９（第１表）の製造 この化合物は前記諸例に記載の操作方式に従つて製造
する。

元素分析:C₃₅H₆₁NO₂,0.5H₂O; 分子量＝545.9 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値％： 77.1 11.63 2.56 実測値％： 77.11 11.49 2.28¹³ Cの核磁気共鳴（CDCl₃、内部基準T.M.S.） Ｃ−14の弱い場への変移7.5ppmは、第４級アンモニウ
ムのレチノエート対陰イオンの生成を示す。Ｃ−20のピ
ークは13.64ppmにあり；アンモニウムのもつメチルのピ
ークは52.97ppmにある。

組成物の例 下記の高 性組成物を製造する： 例１ ・ヒドロキシプロピルセルロース 1.5g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・ヘキサデシルトリメチルアンモニウムのall transレ
チノエート 0.03g ・無水イソプロパノール 全体を100gとする量 この組成物はゲルの形をとる。

例２ ・ヒドロキシプロピルセルロース 1.5g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・ヘキサデシルトリメチルアンモニウムの13−cisレチ
ノエート 0.02g ・無水エタノール 全体を100gとする量 この組成物はゲルの形をとる。

例３ ・ヒドロキシプロピルセルロース 1.5g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.04g ・C₈−C₁₂脂肪酸のトリグリセリド 10.00g ・ジメチルベンジルヘキサデシルアンモニウムのall tr
ansレチノエート 0.0025g ・無水イソプロパノール 全体を100gとする量 この組成物はゲルの形をとる。

例４ ・ヒドロキシプロピルセルロース 1.5g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・エチルラクテート 10.00g ．ジメチルベンジルヘキサデシルアンモニウムの13−ci
sレチノエート 0.03g ・無水イソプロパノール 全体を100gとする量 この組成物はゲルの形をとる。

例５ ・ヘキサデシルトリメチルアンモニウムのall transレ
チノエート 0.1g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・無水イソプロパノール 全体を100gとする量 この組成物はローシヨンの形をとる。

例６ ・ヘキサデシルトリメチルアンモニウムの13−cisレチ
ノエート 0.15g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・無水エタノール 全体を100gとする量 この組成物はローシヨンの形をとる。

例７ ・C₈−C₁₂脂肪酸のトリグリセリド 15.00g ・ドデジルトリメチルアンモニウムのall transレチノ
エート 0.20g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・無水イソプロパノール 全体を100gとする量 この組成物はローシヨンの形をとる。

例８ ・白ワセリン 50.00g ・ワセリン油 15.00g ・精製パラフイン 34.93g ・ヘキサデシルトリメチルアンモニウムのall transレ
チノエート 0.02g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g この組成物はステイツクの形をとる。

適用の態様：前記の処方物を手当すべき部分に２〜６ケ
月の期間にわたつて毎晩適用することができる。

数週間の手当の後、 の減退が認められる。

例９ 下記の汚れ分解ローシヨンを調製する。

・ヘキサデシルトリメチルアンモニウムのall transレ
チノエート 0.1g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・無水イソプロパノール 全体を100g このローシヨンを１日１回２〜４週間にわたって汚れ
に適用する。

例10 下記のふけ防止のローシヨンを調製する： ・ベンジルトリメチルアンモニウムのall transレチノ
エート 0.001g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・無水イソプロパノール 全体を100gとする量 このローシヨン１日１回15日にわたつてそして週２回
１ケ月にわたつて毛髪の生えた皮膚に適用する。

例11 脂漏性皮膚炎に対する活性のある下記のローシヨンを
調製する： ・ヘキサデシルトリメチルアンモニウムの13−cisレチ
ノエート 0.005g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・無水イソプロパノール 全体を100gとする量 このローシヨンを３〜４週間にわたつて、１日１回手
当すべき部分に適用する。

例12 乾癬に対する活性のある下記のローシヨンを調製す
る： ・ヘキサデシルトリメチルアンモニウムのall transレ
チノエート 0.001g ・ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ・無水イソプロパノール 全体を100gとする量 この組成物を65日間にわたつて１日１または２回手当
すべき部分に適用する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/205 ＡＤＡ Ａ６１Ｋ 31/205 ＡＤＡ 31/33 ＡＤＢ 31/33 ＡＤＢ Ｃ０７Ｄ 521/00 Ｃ０７Ｄ 521/00

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式： 〔式中、Ｘ は式： の全トランスレチノエートまたは式： の13−シス−レチノエートを表わし、 （ｉ） 同一のまたは互いに異なるR₁,R₂,R₃は一つ以上
   のヒドロキシル基を鎖の末端にまたは鎖中に有し得るC₁
   〜C₄の飽和直鎖アルキル基を表わし； R₄はC₁₂〜C₁₈の直鎖アルキルまたはアルケニル基を表わ
   し； （ii） R₃は基： （式中、ｎは０または１に等しく、R₅は水素原子、ヒド
   ロキシル、ハロゲン原子、C₁〜C₁₈のアルキルもしくは
   ヒドロキシアルキル基またはC₂〜C₁₈アシル基を表す）
   を表わし； R₁,R₂およびR₄は上記（ｉ）に記載のものと同じ意味を
   もち； （iii） R₁およびR₂は酸素原子、他の窒素原子または
   硫黄原子を場合によっては含む脂肪族複素環を形成して
   よく； R₃およびR₄は上記（ｉ）および（ii）に記載のものと同
   じ意味をもつ〕を有する第４級アンモニウムレチノエー
   ト。
2. 【請求項２】Ｎ−ヘキサデシル−N,N,N−トリメチルア
   ンモニウムの全トランス−レチノエート、Ｎ−ヘキサデ
   シル−N,N,N−トリメチルアンモニウムの13−シス−レ
   チノエート、Ｎ−ベンジル−N,N−ジメチル−Ｎ−ヘキ
   サデシルアンモニウムの全トランス−レチノエート、Ｎ
   −ベンジル−N,N−ジメチル−Ｎ−ヘキサデシルアンモ
   ニウムの13−シス−レチノエート、Ｎ−ヘキサデシル−
   N,N−ジメチル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）アンモ
   ニウムの全トランス−レチノエート、Ｎ−ドデシル−Ｎ
   −エチル−N,N−ジメチルアンモニウムの全トランス−
   レチノエート、Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルモルホリニウ
   ムの全トランス−レチノエートおよびＮ−ドデシル−N,
   N,N−トリメチルアンモニウムの全トランス−レチノエ
   ートのうちから選択する、請求項１に記載の化合物。
3. 【請求項３】請求項１に記載の化合物を少なくとも１つ
   含有する感染性または非感染性の皮膚病の手当のための
   組成物。
4. 【請求項４】請求項１に記載の化合物を少なくとも１つ
   含有する の手当のための組成物。
5. 【請求項５】請求項１に記載の化合物を少なくとも１つ
   含有する毛髪の再生を刺激しかつ（または）抜け毛を抑
   制するための組成物。