JP2648774B2 - ポジ型光熱写真材料 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/0285—Silver salts, e.g. a latent silver salt image
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03C1/00—Photosensitive materials
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- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポジ型光熱写真材料に関
し、特に接触速度(contact speeds)で用いるのに好適な
白黒ポジ型光熱写真媒体に関する。
し、特に接触速度(contact speeds)で用いるのに好適な
白黒ポジ型光熱写真媒体に関する。
【０００２】ネガ型乾銀系により提供される像形成材料
を補完しうるポジ型像形成材料に対する要望は、特に、
グラフィックアートおよび医療用像形成に用いるために
増大しつつある。このような用途のためには、望ましい
像形成材料は以下に示す特性を有するべきである。
を補完しうるポジ型像形成材料に対する要望は、特に、
グラフィックアートおよび医療用像形成に用いるために
増大しつつある。このような用途のためには、望ましい
像形成材料は以下に示す特性を有するべきである。
【０００３】(i)接触速度(105〜103エルグ/cm2)または
より高い速度; (ii)より高速材料のための可視〜近赤外
(VIS-NIR)スペクトル増感; (iii)露出フィルムが後に印
刷工程において接触用途に用いうるように、像形成領域
が紫外〜可視光(UV〜VIS)(340〜700nm)において透明で
あること; (iv)ドライ処理、好ましくは標準乾銀(drysi
lver)処理条件を用いうること; そして、(v)後の接触露
出において像安定性であること。
より高い速度; (ii)より高速材料のための可視〜近赤外
(VIS-NIR)スペクトル増感; (iii)露出フィルムが後に印
刷工程において接触用途に用いうるように、像形成領域
が紫外〜可視光(UV〜VIS)(340〜700nm)において透明で
あること; (iv)ドライ処理、好ましくは標準乾銀(drysi
lver)処理条件を用いうること; そして、(v)後の接触露
出において像安定性であること。
【０００４】従来から好ましいポジ型光熱写真材料は探
求されており、これらの例は、英国特許第1156933号、
同第1172425号、同第1507829号および同第2022277号;
欧州特許第320020号; 米国特許明細書第3,589,901号、
同第4,075,017号、同第4,124,387号および同第4,587,19
8号および特開昭53-120520号、同57-089750号、同57-10
1832号、同58-040543号、同58-040544号、同61-107243
号、同62-187837号、同62-187842号および同63-034536
号に記載されている。
求されており、これらの例は、英国特許第1156933号、
同第1172425号、同第1507829号および同第2022277号;
欧州特許第320020号; 米国特許明細書第3,589,901号、
同第4,075,017号、同第4,124,387号および同第4,587,19
8号および特開昭53-120520号、同57-089750号、同57-10
1832号、同58-040543号、同58-040544号、同61-107243
号、同62-187837号、同62-187842号および同63-034536
号に記載されている。
【０００５】欧州特許公報第362827号には、熱転写性着
色剤、重合性モノマーおよびそれらのための光開始剤を
含有する感光性媒体を有するポジ型光熱写真エレメント
が開示されている。このエレメントを化学線照射に露出
することによりエレメントの光照射領域に重合が生じ、
そのことにより、このような領域において着色剤が固定
され、潜像が形成される。次いで、露出されたエレメン
トを像レセプターシートと接触させて加熱することによ
り、エレメントの未露出領域における着色剤がエレメン
トからレセプターに像に応じて転写される。
色剤、重合性モノマーおよびそれらのための光開始剤を
含有する感光性媒体を有するポジ型光熱写真エレメント
が開示されている。このエレメントを化学線照射に露出
することによりエレメントの光照射領域に重合が生じ、
そのことにより、このような領域において着色剤が固定
され、潜像が形成される。次いで、露出されたエレメン
トを像レセプターシートと接触させて加熱することによ
り、エレメントの未露出領域における着色剤がエレメン
トからレセプターに像に応じて転写される。
【０００６】特公昭60-030931号には、感光性媒体とし
て感熱性発色試薬と光重合性モノマーとの層を有するポ
ジ型光熱写真エレメントが記載されている。後に光に露
出することにより、光重合が露出領域において生じ、そ
のことにより発色試薬の１種が固定され、熱処理中にお
いて発色系の残りの成分と混合することが防止される。
ポジティブ、ニュートラル像を生成するために光開始剤
の選択の重要性には議論の余地はなく、また、エレメン
トの像形成領域における近紫外光(340〜400nm)を吸収し
ない組成物の調製も重要である。
て感熱性発色試薬と光重合性モノマーとの層を有するポ
ジ型光熱写真エレメントが記載されている。後に光に露
出することにより、光重合が露出領域において生じ、そ
のことにより発色試薬の１種が固定され、熱処理中にお
いて発色系の残りの成分と混合することが防止される。
ポジティブ、ニュートラル像を生成するために光開始剤
の選択の重要性には議論の余地はなく、また、エレメン
トの像形成領域における近紫外光(340〜400nm)を吸収し
ない組成物の調製も重要である。
【０００７】欧州特許第223587号および米国特許明細書
第4,772,541号、同第4,800,149号および同第4,865,942
号には、それぞれがモノマー、光開始剤および染料前駆
体または現像剤を含有するバインダー層中に分散された
マイクロカプセルを含有するポジ型光熱写真エレメント
が記載されている。このマイクロカプセル含有層が適当
な波長の光に露出された場合に、露出領域においてモノ
マーが重合し、そのことにより染料前駆体または現像剤
が固定される。露出エレメントは加圧下において像受容
シートと接触させることにより処理され、そして加熱す
ることにより最終像が現像される。この光開始剤は、カ
チオン性染料-ボレートアニオン錯体またはアニオン性
染料-ヨードニウムイオン錯体のようなイオン性染料-対
イオン錯体からなる。露出領域において近UV光に対して
透明である像の生成の必要性には議論の余地がない。開
示されている唯一の光消光性増感剤は390〜500nmの範囲
内に感度を有する3-置換クマリン誘導体である。
第4,772,541号、同第4,800,149号および同第4,865,942
号には、それぞれがモノマー、光開始剤および染料前駆
体または現像剤を含有するバインダー層中に分散された
マイクロカプセルを含有するポジ型光熱写真エレメント
が記載されている。このマイクロカプセル含有層が適当
な波長の光に露出された場合に、露出領域においてモノ
マーが重合し、そのことにより染料前駆体または現像剤
が固定される。露出エレメントは加圧下において像受容
シートと接触させることにより処理され、そして加熱す
ることにより最終像が現像される。この光開始剤は、カ
チオン性染料-ボレートアニオン錯体またはアニオン性
染料-ヨードニウムイオン錯体のようなイオン性染料-対
イオン錯体からなる。露出領域において近UV光に対して
透明である像の生成の必要性には議論の余地がない。開
示されている唯一の光消光性増感剤は390〜500nmの範囲
内に感度を有する3-置換クマリン誘導体である。
【０００８】米国特許明細書第4,761,360号には、感光
性媒体として、ハロゲン化銀、還元剤、フリーラジカル
重合性化合物、銀ベンゾトリアゾールおよび銀ジアゾテ
ート化合物を含有するマイクロカプセル化処方を有する
光熱写真エレメントが開示されている。このエレメント
の露出領域において生成された潜像中心は現像剤中にお
いてジアゾテート化合物をジアゾヒドロキシドへ還元す
るための触媒として機能する。加熱においてこのジアゾ
ヒドロキシドは分解してフリーラジカルを生成して、像
領域において重合を開始させる。米国特許明細書第4,75
3,862号には、同様の構成の光熱写真エレメントが記載
されている。しかしながら、これらは銀ジアゾテートで
はなく銀トリアゼン(triazene)化合物を含有する。
性媒体として、ハロゲン化銀、還元剤、フリーラジカル
重合性化合物、銀ベンゾトリアゾールおよび銀ジアゾテ
ート化合物を含有するマイクロカプセル化処方を有する
光熱写真エレメントが開示されている。このエレメント
の露出領域において生成された潜像中心は現像剤中にお
いてジアゾテート化合物をジアゾヒドロキシドへ還元す
るための触媒として機能する。加熱においてこのジアゾ
ヒドロキシドは分解してフリーラジカルを生成して、像
領域において重合を開始させる。米国特許明細書第4,75
3,862号には、同様の構成の光熱写真エレメントが記載
されている。しかしながら、これらは銀ジアゾテートで
はなく銀トリアゼン(triazene)化合物を含有する。
【０００９】特開昭61-188535号および同61-022841号、
欧州特許公報第301539号、英国特許公報第2195463号お
よび米国特許明細書第4,814,252号には、像を生成する
ために光照射領域における重合を利用するポジ型光熱写
真エレメントが開示されている。しかしながら、像形成
の好ましい方法は像受容層と接触させて感光層を加熱す
ることより達成される。これらの光熱写真エレメント
は、通常発色性である。
欧州特許公報第301539号、英国特許公報第2195463号お
よび米国特許明細書第4,814,252号には、像を生成する
ために光照射領域における重合を利用するポジ型光熱写
真エレメントが開示されている。しかしながら、像形成
の好ましい方法は像受容層と接触させて感光層を加熱す
ることより達成される。これらの光熱写真エレメント
は、通常発色性である。
【００１０】本発明は接触速度で用いるのに有用なこれ
らに変わるポジ型光熱写真材料を提供することを目的と
する。
らに変わるポジ型光熱写真材料を提供することを目的と
する。
【００１１】
【発明の要旨】本発明によれば、表面上に少なくとも２
層を有するベース層を有するポジ型光熱写真エレメント
であって、上記２層が相互に隣接して感光性媒体を形成
し、上記２層の一方が光硬化性組成物と還元性銀源およ
び銀イオンのための還元剤から選択される一成分とを含
有しており、そして他方の層がバインダーと還元性銀源
および銀イオンのための還元剤であって第１層中に存在
しないもののいずれかとを含有し、そして、上記エレメ
ントの化学線照射により露出領域における光硬化性組成
物の硬化が生じ、上記硬化が熱処理中における還元剤と
還元性銀源との相互作用を防止し、ここで、光硬化性組
成物はフリーラジカル硬化性樹脂と340〜440nmの範囲の
波長範囲の照射に対する吸収を有するそれらの樹脂のた
めの光開始剤とを含有しており、上記光開始剤は、上記
化学線照射において、または後の熱処理中に上記340〜4
40nmの範囲の波長における吸収を消失する、ポジ型光熱
写真エレメントが提供される。
層を有するベース層を有するポジ型光熱写真エレメント
であって、上記２層が相互に隣接して感光性媒体を形成
し、上記２層の一方が光硬化性組成物と還元性銀源およ
び銀イオンのための還元剤から選択される一成分とを含
有しており、そして他方の層がバインダーと還元性銀源
および銀イオンのための還元剤であって第１層中に存在
しないもののいずれかとを含有し、そして、上記エレメ
ントの化学線照射により露出領域における光硬化性組成
物の硬化が生じ、上記硬化が熱処理中における還元剤と
還元性銀源との相互作用を防止し、ここで、光硬化性組
成物はフリーラジカル硬化性樹脂と340〜440nmの範囲の
波長範囲の照射に対する吸収を有するそれらの樹脂のた
めの光開始剤とを含有しており、上記光開始剤は、上記
化学線照射において、または後の熱処理中に上記340〜4
40nmの範囲の波長における吸収を消失する、ポジ型光熱
写真エレメントが提供される。
【００１２】概して言えば、本発明の光熱写真エレメン
トは還元性(reducible)銀源の分散体と銀イオンのため
の還元剤とを光硬化性樹脂系中に有する。エレメントに
おいて照射に露出された領域においては、光開始剤がフ
リーラジカル硬化性樹脂の硬化を促進し、そのことによ
り、それらの領域における樹脂のガラス転移温度(Tg)を
増大させ、熱処理中において効果的に固定するか、また
は還元剤が還元性銀源と反応することを防止する。この
光開始剤は像形成中または後の熱処理においてブリーチ
または破壊され、エレメントの像形成領域における残留
着色(吸収)が非常に少ないかまたは全く無い状態とな
る。本発明の光熱写真エレメントは良好な輪郭のポジテ
ィブ像を生成し、広範囲の像形成用途において有用であ
る。そのような用途には接触印刷も含まれる。
トは還元性(reducible)銀源の分散体と銀イオンのため
の還元剤とを光硬化性樹脂系中に有する。エレメントに
おいて照射に露出された領域においては、光開始剤がフ
リーラジカル硬化性樹脂の硬化を促進し、そのことによ
り、それらの領域における樹脂のガラス転移温度(Tg)を
増大させ、熱処理中において効果的に固定するか、また
は還元剤が還元性銀源と反応することを防止する。この
光開始剤は像形成中または後の熱処理においてブリーチ
または破壊され、エレメントの像形成領域における残留
着色(吸収)が非常に少ないかまたは全く無い状態とな
る。本発明の光熱写真エレメントは良好な輪郭のポジテ
ィブ像を生成し、広範囲の像形成用途において有用であ
る。そのような用途には接触印刷も含まれる。
【００１３】また、本発明はポジティブ像生成法に関す
る。この方法は、(a)本発明の光熱写真エレメントを像
に応じて化学線照射に露出することにより潜像を提供す
る工程; および(b)この露出エレメントを加熱すること
により上記潜像を現像する工程; を包含する。
る。この方法は、(a)本発明の光熱写真エレメントを像
に応じて化学線照射に露出することにより潜像を提供す
る工程; および(b)この露出エレメントを加熱すること
により上記潜像を現像する工程; を包含する。
【００１４】一般に、本発明の光熱写真エレメントは少
なくとも２層のバインダー層を有する。それらの中には
還元性銀源、還元剤および光硬化性組成物、ならびにト
ナー、被覆補助剤および他の助剤(例えば、かぶり防止
剤、界面活性剤など)が分散されている。通常は、還元
性銀源は一方の層に含有されており、還元剤は他方の層
に含有されている。さらにトナーが存在する場合は、ト
ナーか還元剤のどちらか一方、より好ましくはトナーと
還元剤との両方は銀源を含有する層と異なる層中に含有
される。
なくとも２層のバインダー層を有する。それらの中には
還元性銀源、還元剤および光硬化性組成物、ならびにト
ナー、被覆補助剤および他の助剤(例えば、かぶり防止
剤、界面活性剤など)が分散されている。通常は、還元
性銀源は一方の層に含有されており、還元剤は他方の層
に含有されている。さらにトナーが存在する場合は、ト
ナーか還元剤のどちらか一方、より好ましくはトナーと
還元剤との両方は銀源を含有する層と異なる層中に含有
される。
【００１５】特に例示はしないけれども、例えば、還元
剤を光硬化性組成物のマイクロカプセル中に含有させる
ことにより感光性媒体を単一層として形成させることは
当業者にとって明らかである。照射に露出した場合に
は、カプセルが硬化し、そのことにより、還元剤が捕捉
され、熱処理においてそれらが銀源と反応することが防
止される。
剤を光硬化性組成物のマイクロカプセル中に含有させる
ことにより感光性媒体を単一層として形成させることは
当業者にとって明らかである。照射に露出した場合に
は、カプセルが硬化し、そのことにより、還元剤が捕捉
され、熱処理においてそれらが銀源と反応することが防
止される。
【００１６】一実施態様では、光熱写真エレメントは、
表面上に還元性銀源と光硬化性組成物とを有する第１バ
インダー層、および還元剤を有する第２バインダー層を
有する支持体を有する。第１および第２バインダー層の
順序は重要でなく変換しうる。
表面上に還元性銀源と光硬化性組成物とを有する第１バ
インダー層、および還元剤を有する第２バインダー層を
有する支持体を有する。第１および第２バインダー層の
順序は重要でなく変換しうる。
【００１７】他の実施態様では、光熱写真エレメントは
３層構成であり、片面上に還元性銀源を含有する第１バ
インダー層、光硬化性組成物を含有する第２バインダー
層および還元剤を含有する第３バインダー層を有する支
持体を有する。第１層と第３層の順序は変えることがで
きる。本態様において、好ましくは、第２層は、ゼラチ
ンのようなバインダー中に光硬化性組成物のミクロ分散
体を含有し、還元剤と還元性銀源との混合を防止する光
硬化性遮断または中間層として機能する。この中間層
は、スパン(SPAN)20のような１種以上の安定試薬を含有
することが好ましい。
３層構成であり、片面上に還元性銀源を含有する第１バ
インダー層、光硬化性組成物を含有する第２バインダー
層および還元剤を含有する第３バインダー層を有する支
持体を有する。第１層と第３層の順序は変えることがで
きる。本態様において、好ましくは、第２層は、ゼラチ
ンのようなバインダー中に光硬化性組成物のミクロ分散
体を含有し、還元剤と還元性銀源との混合を防止する光
硬化性遮断または中間層として機能する。この中間層
は、スパン(SPAN)20のような１種以上の安定試薬を含有
することが好ましい。
【００１８】この光熱写真エレメントは、必要に応じ
て、層の最上に被覆された不活性なバリア層とともに提
供されうる。または、透明フィルムがエレメントの最上
にラミネートされうる。このような遮断材料は光硬化性
組成物を含有する層が空気中の酸素と接触することを防
止する効果を有し、そのことにより、光硬化工程の酸素
による禁止を最低限とする。好ましい遮断材料には、水
溶性ポリマーの被覆が含まれる。例えば、ゼラチン、ポ
リ(ビニルアルコール)、ポリ(ビニルピロリドン)などで
ある。これらは必要に応じて１種以上の界面活性剤を含
有しうる。また、透明材料のラミネートシートには、例
えば、必要に応じて界面活性剤または他の剥離被覆処理
されたポリエステルが挙げられる。
て、層の最上に被覆された不活性なバリア層とともに提
供されうる。または、透明フィルムがエレメントの最上
にラミネートされうる。このような遮断材料は光硬化性
組成物を含有する層が空気中の酸素と接触することを防
止する効果を有し、そのことにより、光硬化工程の酸素
による禁止を最低限とする。好ましい遮断材料には、水
溶性ポリマーの被覆が含まれる。例えば、ゼラチン、ポ
リ(ビニルアルコール)、ポリ(ビニルピロリドン)などで
ある。これらは必要に応じて１種以上の界面活性剤を含
有しうる。また、透明材料のラミネートシートには、例
えば、必要に応じて界面活性剤または他の剥離被覆処理
されたポリエステルが挙げられる。
【００１９】一般に、光熱写真エレメントの各層(バリ
ア層は除く)は、湿潤圧25〜250μmに被覆され、これら
は１〜90％、好ましくは５〜50重量％の固形分を有す
る。バインダーと光硬化性組成物との重量比は、好まし
くは、３:１〜１:３である。このような範囲の値を選択
することにより、良好な安定性、長い保存寿命、および
高い光学密度コントラストを有する光熱写真エレメント
の調製が可能となることが見い出されている。
ア層は除く)は、湿潤圧25〜250μmに被覆され、これら
は１〜90％、好ましくは５〜50重量％の固形分を有す
る。バインダーと光硬化性組成物との重量比は、好まし
くは、３:１〜１:３である。このような範囲の値を選択
することにより、良好な安定性、長い保存寿命、および
高い光学密度コントラストを有する光熱写真エレメント
の調製が可能となることが見い出されている。
【００２０】光開始剤にはフリーラジカル硬化性樹脂の
重合を促進することができるすべての公知の光開始剤系
が包含される。ただし、この光開始剤は像形成中または
後の熱処理中において340〜440nmの範囲の吸収を消失す
るものでなければならない。一般に、これらは、光開始
剤のλmaxにおいて少なくとも0.1、好ましくは0.2吸収
単位(absorbance units)の消失である必要がある。好ま
しくは、光開始剤はブリーチまたは破壊されることによ
り、エレメントの像領域において残存着色があったとし
てもほとんどないことが望ましい。露出の後に、このエ
レメントの像形成領域は光開始剤のλmaxにおいて0.2以
下、好ましくはそれ以下の吸収を有することが好まし
い。
重合を促進することができるすべての公知の光開始剤系
が包含される。ただし、この光開始剤は像形成中または
後の熱処理中において340〜440nmの範囲の吸収を消失す
るものでなければならない。一般に、これらは、光開始
剤のλmaxにおいて少なくとも0.1、好ましくは0.2吸収
単位(absorbance units)の消失である必要がある。好ま
しくは、光開始剤はブリーチまたは破壊されることによ
り、エレメントの像領域において残存着色があったとし
てもほとんどないことが望ましい。露出の後に、このエ
レメントの像形成領域は光開始剤のλmaxにおいて0.2以
下、好ましくはそれ以下の吸収を有することが好まし
い。
【００２１】通常は、フリーラジカル重合の光開始は、
オニウムカチオン(例えば、スルホニウムまたはヨード
ニウムカチオン)の直接開裂によるフリーラジカル付加
重合性および/または架橋性モノマーと相互作用するこ
とが可能なフリーラジカルの生成により、または所望の
スペクトル領域に適合した吸収を有する増感剤(例え
ば、オキソノール染料)を用いて光開裂を増感すること
により行なわれる。したがって、「光開始剤」という用語
は、所望の光化学特性を有する単一化合物、および開裂
性化合物と増感染料との組み合わせとの両方を意味す
る。増感の過程において、光励起された増感剤はエネル
ギーまたは電子を開始剤に移転し、そのことにより開始
剤は分解してフリーラジカル重合開始種を生成する。
オニウムカチオン(例えば、スルホニウムまたはヨード
ニウムカチオン)の直接開裂によるフリーラジカル付加
重合性および/または架橋性モノマーと相互作用するこ
とが可能なフリーラジカルの生成により、または所望の
スペクトル領域に適合した吸収を有する増感剤(例え
ば、オキソノール染料)を用いて光開裂を増感すること
により行なわれる。したがって、「光開始剤」という用語
は、所望の光化学特性を有する単一化合物、および開裂
性化合物と増感染料との組み合わせとの両方を意味す
る。増感の過程において、光励起された増感剤はエネル
ギーまたは電子を開始剤に移転し、そのことにより開始
剤は分解してフリーラジカル重合開始種を生成する。
【００２２】好ましい光開始剤の例には、例えば、米国
特許明細書第4,924,009号に記載されているようなキサ
ンテン染料錯体が挙げられる。ここでは、ローズベンガ
ル、エオシン、エリスロシン、フルオレッセン染料また
はそれらのエステルのようなキサンテン染料が、例え
ば、スルホニウム、ホスホニウムおよびヨードニウムカ
チオンのようなオニウムイオン、またはピリリウム、ヒ
ドラジニウム、またはヒドラジドイオンと錯化してい
る。その他、ブリーチ可能3-置換クマリン化合物、例え
ば、米国特許明細書第4,147,552号に記載されている7-
ジエチルアミノ-5',7'-ジメトキシ-3,3'-カルボニルビ
スクマリン、3,3'-カルボニルビス-5,7-ジメトキシクマ
リン、7-ジエチルアミノ-3,3'-カルボニルビスクマリン
および7-ジエチルアミノ-7'-メトキシ-3,3'-カルボニル
ビスクマリン; ジアルコキシアントラセン、例えば、9,
10-ジエチオキシアントラセン; 式
特許明細書第4,924,009号に記載されているようなキサ
ンテン染料錯体が挙げられる。ここでは、ローズベンガ
ル、エオシン、エリスロシン、フルオレッセン染料また
はそれらのエステルのようなキサンテン染料が、例え
ば、スルホニウム、ホスホニウムおよびヨードニウムカ
チオンのようなオニウムイオン、またはピリリウム、ヒ
ドラジニウム、またはヒドラジドイオンと錯化してい
る。その他、ブリーチ可能3-置換クマリン化合物、例え
ば、米国特許明細書第4,147,552号に記載されている7-
ジエチルアミノ-5',7'-ジメトキシ-3,3'-カルボニルビ
スクマリン、3,3'-カルボニルビス-5,7-ジメトキシクマ
リン、7-ジエチルアミノ-3,3'-カルボニルビスクマリン
および7-ジエチルアミノ-7'-メトキシ-3,3'-カルボニル
ビスクマリン; ジアルコキシアントラセン、例えば、9,
10-ジエチオキシアントラセン; 式
【００２３】
【化１１】
【００２４】で示す化合物; 第XIII回光化学シンポジウ
ム(the XIIIth Symposum on Photochemistry)で開示さ
れているような1,4-ジヒドロピリジン増感染料、例え
ば、オニウム塩とともに用いる3,5-ビス(メトキシカル
ボニル)-2,6-ジメチル-4-フェニル-1,4-ジヒドロピリジ
ン; 例えば、式
ム(the XIIIth Symposum on Photochemistry)で開示さ
れているような1,4-ジヒドロピリジン増感染料、例え
ば、オニウム塩とともに用いる3,5-ビス(メトキシカル
ボニル)-2,6-ジメチル-4-フェニル-1,4-ジヒドロピリジ
ン; 例えば、式
【００２５】
【化１２】
【００２６】で示すようなスルホニウム塩; および、式
【００２７】
【化１３】
【００２８】[式中、Arはオニウム塩を有するアリール
基である。］で示すような１，３，５−トリアリールピ
ラゾリンである。
基である。］で示すような１，３，５−トリアリールピ
ラゾリンである。
【００２９】好ましい光開始剤はオニウム塩を包含す
る。これらは、好ましくは、オキソノール増感染料と組
み合わせたヨードニウム塩である。
る。これらは、好ましくは、オキソノール増感染料と組
み合わせたヨードニウム塩である。
【００３０】オキソノール染料とヨードニウム塩とを組
み合わせて光開始剤として用いることにより、調製され
た光熱写真エレメントは所望の機能を満足しうる。例え
ば、オキソノール染料増感剤は光重合および熱処理工程
中に破壊されるので、像領域における被覆は340〜440nm
の範囲ではUV光を吸収しない。
み合わせて光開始剤として用いることにより、調製され
た光熱写真エレメントは所望の機能を満足しうる。例え
ば、オキソノール染料増感剤は光重合および熱処理工程
中に破壊されるので、像領域における被覆は340〜440nm
の範囲ではUV光を吸収しない。
【００３１】ヨードニウム塩または他のオニウム塩開始
剤と組み合わせることにより、すべてのオキソノール染
料は、本発明に用いうるエレメントの露出において、樹
脂を硬化させることができる。適当なオキソノール染料
の選択により、一般には300〜1000nmの範囲である適当
な波長バンドの照射に対して感光性であるように調製す
ることができる。
剤と組み合わせることにより、すべてのオキソノール染
料は、本発明に用いうるエレメントの露出において、樹
脂を硬化させることができる。適当なオキソノール染料
の選択により、一般には300〜1000nmの範囲である適当
な波長バンドの照射に対して感光性であるように調製す
ることができる。
【００３２】本発明に用いるのに好適なオキソノール染
料の一つの部類は、1990年２月27日に出願した我々の同
時係属英国出願第9004337.3号に記載されている。この
化合物は式
料の一つの部類は、1990年２月27日に出願した我々の同
時係属英国出願第9004337.3号に記載されている。この
化合物は式
【００３３】
【化１４】
【００３４】[式中、nは１または２であり、M+はカチオ
ンである。]で示す化合物を包含する。
ンである。]で示す化合物を包含する。
【００３５】式(I)の染料は630〜900nmの波長範囲、特
に750〜850nmの波長範囲において比較的シャープな吸収
ピークの強い吸収を示す。そして、これらはヨードニウ
ム塩と組み合わせて用いることにより、赤外線露出によ
りフリーラジカル硬化性組成物の光重合を促進させるた
めの増感染料として特に好ましい。染料分子のそれぞれ
の末端フェニル基は１個以上の置換基をさらに有しう
る。特に電子吸引置換基が好ましい。例えば、ニトロ、
シアノ、トリフルオロメチルおよびスルホン基および５
個までの炭素原子を有するアルコキシカルボニル基のよ
うな電子吸引置換基が望ましいが、ハロゲン原子、10個
までの炭素原子を有するアルキル基および10個までの炭
素原子を有するアリール基もまた有用である。式(I)に
示す好ましい染料の例を以下の式(II)に示す。
に750〜850nmの波長範囲において比較的シャープな吸収
ピークの強い吸収を示す。そして、これらはヨードニウ
ム塩と組み合わせて用いることにより、赤外線露出によ
りフリーラジカル硬化性組成物の光重合を促進させるた
めの増感染料として特に好ましい。染料分子のそれぞれ
の末端フェニル基は１個以上の置換基をさらに有しう
る。特に電子吸引置換基が好ましい。例えば、ニトロ、
シアノ、トリフルオロメチルおよびスルホン基および５
個までの炭素原子を有するアルコキシカルボニル基のよ
うな電子吸引置換基が望ましいが、ハロゲン原子、10個
までの炭素原子を有するアルキル基および10個までの炭
素原子を有するアリール基もまた有用である。式(I)に
示す好ましい染料の例を以下の式(II)に示す。
【００３６】
【化１５】
【００３７】式中、nおよびM+は上記と同意義であり、
そしてそれぞれのQは水素原子またはニトロ基である。
そしてそれぞれのQは水素原子またはニトロ基である。
【００３８】染料アニオンはオキソノール染料合成の分
野で知られているすべての好ましいカチオンを包含する
M+と会合しうる。オキソノール染料のカチオンはヨード
ニウムイオンである必要はなく、Li+、Na+およびK+また
は以下の式に示すような四級アンモニウムカチオンを含
むすべてのカチオンであるうる。
野で知られているすべての好ましいカチオンを包含する
M+と会合しうる。オキソノール染料のカチオンはヨード
ニウムイオンである必要はなく、Li+、Na+およびK+また
は以下の式に示すような四級アンモニウムカチオンを含
むすべてのカチオンであるうる。
【００３９】
【化１６】
【００４０】式中、R1〜R4は水素、30個までの炭素原子
を有するアルキル基および12個までの炭素原子を有する
アリール基からなる群から選択される。好ましくは、R1
〜R4の少なくとも１個は水素であり、残りはアルキル基
である。このようなアミンは容易に入手可能だからであ
る。
を有するアルキル基および12個までの炭素原子を有する
アリール基からなる群から選択される。好ましくは、R1
〜R4の少なくとも１個は水素であり、残りはアルキル基
である。このようなアミンは容易に入手可能だからであ
る。
【００４１】一般に、M+は、式
【００４２】
【化１７】
【００４３】で示す化合物の群から選択される。
【００４４】式(I)および(II)において、好ましくは、M
+は少なくとも６個の炭素原子を有する脂肪族アンモニ
ウムイオンである。この場合に染料溶解性が改良される
ことが見い出されている。
+は少なくとも６個の炭素原子を有する脂肪族アンモニ
ウムイオンである。この場合に染料溶解性が改良される
ことが見い出されている。
【００４５】式(II)の染料の好ましい例を以下の式に示
す。
す。
【００４６】
【化１８】
【００４７】オキソノール増感染料の好ましい部類は、
以下の式(III)に示す核を有する。
以下の式(III)に示す核を有する。
【００４８】
【化１９】
【００４９】式中、Xは、式
【００５０】
【化２０】
【００５１】そしてYは、式
【００５２】
【化２１】
【００５３】でそれぞれ示す基である。
【００５４】両式中、R5は水素、ハロゲン原子(例え
ば、ClおよびBrなど)、-CNまたは５個までの炭素原子を
有するアルキル基(例えば、メチル、エチルなど)であっ
て、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシおよび５個までの炭
素原子を有するアルコキシ基から選択される１個以上の
置換基を有するものである。
ば、ClおよびBrなど)、-CNまたは５個までの炭素原子を
有するアルキル基(例えば、メチル、エチルなど)であっ
て、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシおよび５個までの炭
素原子を有するアルコキシ基から選択される１個以上の
置換基を有するものである。
【００５５】R6は、10個まで、好ましくは５個までの炭
素原子を有するアルキル基(例えば、プロピル、イソプ
ロピル、ブチルなど)、または14個まで、好ましくは10
個までの炭素原子を有するアリール基(例えば、フェニ
ル)であって、それぞれ、必要に応じて、５個までの炭
素原子を有するアルキル基、５個までの炭素原子を有す
るアルコキシ基、10個までの炭素原子を有するアリール
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などのようなオ
キソノール染料合成の分野において通常見られる１個以
上の置換基を有するものである。
素原子を有するアルキル基(例えば、プロピル、イソプ
ロピル、ブチルなど)、または14個まで、好ましくは10
個までの炭素原子を有するアリール基(例えば、フェニ
ル)であって、それぞれ、必要に応じて、５個までの炭
素原子を有するアルキル基、５個までの炭素原子を有す
るアルコキシ基、10個までの炭素原子を有するアリール
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などのようなオ
キソノール染料合成の分野において通常見られる１個以
上の置換基を有するものである。
【００５６】R7は水素またはR6である。
【００５７】また、M+は上記と同意義である。
【００５８】式(III)の好ましい染料は以下の式(IV)で
示す核を有する。
示す核を有する。
【００５９】
【化２２】
【００６０】式中、各R8は独立して、プロピル、イソプ
ロピル、ブチルまたはイソブチルである。
ロピル、ブチルまたはイソブチルである。
【００６１】ヨードニウム塩には当業者に知られている
すべてのヨードニウム塩が含まれる。例えば、米国特許
明細書第3,729,313号、同第3,741,769号、同第3,808,00
6号、同第4,026,705号、同第4,228,232号、同第4,250,0
53号、同第4,701,402号および同第4,769,459号に記載さ
れているようなヨードニウム塩が挙げられる。単一のヨ
ードニウム塩または２種以上のヨードニウム塩の組み合
わせを用いうる。
すべてのヨードニウム塩が含まれる。例えば、米国特許
明細書第3,729,313号、同第3,741,769号、同第3,808,00
6号、同第4,026,705号、同第4,228,232号、同第4,250,0
53号、同第4,701,402号および同第4,769,459号に記載さ
れているようなヨードニウム塩が挙げられる。単一のヨ
ードニウム塩または２種以上のヨードニウム塩の組み合
わせを用いうる。
【００６２】ヨードニウム塩は２個の共有結合した炭素
原子といずれかのアニオンとを有する正荷電したヨウ素
原子を有する化合物である。通常は、脂肪族ヨードニウ
ム塩は０℃を上回る温度において熱安定性ではない。し
かしながら、ケミカル・レターズ(Chemical Letters)、
1982年、第65〜６頁に記載されているような安定化され
たアルキルフェニルヨードニウム塩は周囲温度において
安定であり、本発明に用いうる。好ましい化合物はジア
リール、アリール-ヘテロアリールおよびジヘテロアリ
ールヨードニウム塩であって、炭素-ヨウ素結合がアリ
ールまたはヘテロアリール基由来のものである。
原子といずれかのアニオンとを有する正荷電したヨウ素
原子を有する化合物である。通常は、脂肪族ヨードニウ
ム塩は０℃を上回る温度において熱安定性ではない。し
かしながら、ケミカル・レターズ(Chemical Letters)、
1982年、第65〜６頁に記載されているような安定化され
たアルキルフェニルヨードニウム塩は周囲温度において
安定であり、本発明に用いうる。好ましい化合物はジア
リール、アリール-ヘテロアリールおよびジヘテロアリ
ールヨードニウム塩であって、炭素-ヨウ素結合がアリ
ールまたはヘテロアリール基由来のものである。
【００６３】好ましいヨードニウム塩は以下の式に示す
化合物である。
化合物である。
【００６４】
【化２３】
【００６５】式中、Ar1およびAr2は、独立して、必要に
応じて置換されており、必要に応じて相互に結合して環
構造中にヨウ素原子を含む芳香族基であり、そして、X-
はアニオンである。
応じて置換されており、必要に応じて相互に結合して環
構造中にヨウ素原子を含む芳香族基であり、そして、X-
はアニオンである。
【００６６】一般に、芳香族基は４〜20個の炭素原子を
有し、芳香族炭素環(例えば、フェニルまたはナフチ
ル)、およびチエニル、フラニルおよびピラゾリルを含
む芳香族複素環から選択され、これらは５個までの炭素
原子を有するアルキル基(例えば、メチル)、５個までの
炭素原子を有するアルコキシ基(例えば、メトキシ)、ハ
ロゲン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ
素)、５個までの炭素原子を有するカルボキシ基、シア
ノまたはニトロ基またはこれらの組み合わせで置換され
うる。例えば、3-インドリニルのような縮合芳香族複素
環基もまた存在しうる。
有し、芳香族炭素環(例えば、フェニルまたはナフチ
ル)、およびチエニル、フラニルおよびピラゾリルを含
む芳香族複素環から選択され、これらは５個までの炭素
原子を有するアルキル基(例えば、メチル)、５個までの
炭素原子を有するアルコキシ基(例えば、メトキシ)、ハ
ロゲン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ
素)、５個までの炭素原子を有するカルボキシ基、シア
ノまたはニトロ基またはこれらの組み合わせで置換され
うる。例えば、3-インドリニルのような縮合芳香族複素
環基もまた存在しうる。
【００６７】アリール基のオルト位が結合することによ
り、環構造中にヨウ素原子を含む以下に式に示す化合物
を提供しうる。
り、環構造中にヨウ素原子を含む以下に式に示す化合物
を提供しうる。
【００６８】
【化２４】
【００６９】式中、Zは酸素またはイオウ原子である。
【００７０】他の有用なヨードニウム塩には以下の式に
示すモノマー単位を含むポリマーが含まれる。
示すモノマー単位を含むポリマーが含まれる。
【００７１】
【化２５】
【００７２】種々のアニオンがヨードニウム塩における
対イオンとして有用であると知られている。好ましく
は、アニオンが誘導される酸は５を下回るpKaを有す
る。好ましい無機アニオンには、ハライドアニオン、HS
O4 -およびハロゲン含有錯アニオン(例えば、テトラフル
オロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフ
ルオロアルセネートおよびヘキサフルオロアンチモネー
ト)が含まれる。好ましい有機アニオンは、以下の式で
示される。
対イオンとして有用であると知られている。好ましく
は、アニオンが誘導される酸は５を下回るpKaを有す
る。好ましい無機アニオンには、ハライドアニオン、HS
O4 -およびハロゲン含有錯アニオン(例えば、テトラフル
オロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフ
ルオロアルセネートおよびヘキサフルオロアンチモネー
ト)が含まれる。好ましい有機アニオンは、以下の式で
示される。
【００７３】
【化２６】
【００７４】式中、R9はアルキル基またはアリール基
(例えば、フェニル基)であっていずれも置換されうる。
このようなアニオンの例には、CH3COO-およびCF3COO-が
含まれる。
(例えば、フェニル基)であっていずれも置換されうる。
このようなアニオンの例には、CH3COO-およびCF3COO-が
含まれる。
【００７５】X-はAr1またはAr2であり得、例えば、式
【００７６】
【化２７】
【００７７】[X-はCOO-などである。]で示す化合物であ
る。
る。
【００７８】アニオンの最も重要な機能は、異なる溶媒
またはバインダーにおけるヨードニウム塩の溶解性への
効果である。
またはバインダーにおけるヨードニウム塩の溶解性への
効果である。
【００７９】ほとんどのヨードニウム塩は知られてお
り、これらは容易に調製可能であり、いくつかは市販さ
れている。好ましいヨードニウム塩の合成は米国化学協
会誌(Journal of the American Chemical Society)、第
80号、第4279頁、1958年にS.M.ベリンガー(Beringer)ら
により開示されている。
り、これらは容易に調製可能であり、いくつかは市販さ
れている。好ましいヨードニウム塩の合成は米国化学協
会誌(Journal of the American Chemical Society)、第
80号、第4279頁、1958年にS.M.ベリンガー(Beringer)ら
により開示されている。
【００８０】本発明に有用なヨードニウム塩の例を以下
に示す。
に示す。
【００８１】
【表１】
【００８２】オキソノール染料とヨードニウム塩とは支
持体上で反応的に関連する必要がある。反応的な関連と
は、光照射下において化合物間において硬化を促進する
ための化学反応が生じうるような物理的近接を意味す
る。通常は、染料とヨードニウム塩とは支持体上の同一
層中に存在する。オキソノール染料とヨードニウム塩と
の重量比は、一般に、20:１〜１:50、好ましくは２:１
〜１:10である。典型的には、オキソノール染料-ヨード
ニウム塩の割合は、露出波長においてUV吸収が少なくと
も0.3となるように調製される。通常は、オキソノール
染料-ヨードニウム塩光開始剤はフリーラジカル硬化性
樹脂の0.1〜10重量％の量で用いられる。
持体上で反応的に関連する必要がある。反応的な関連と
は、光照射下において化合物間において硬化を促進する
ための化学反応が生じうるような物理的近接を意味す
る。通常は、染料とヨードニウム塩とは支持体上の同一
層中に存在する。オキソノール染料とヨードニウム塩と
の重量比は、一般に、20:１〜１:50、好ましくは２:１
〜１:10である。典型的には、オキソノール染料-ヨード
ニウム塩の割合は、露出波長においてUV吸収が少なくと
も0.3となるように調製される。通常は、オキソノール
染料-ヨードニウム塩光開始剤はフリーラジカル硬化性
樹脂の0.1〜10重量％の量で用いられる。
【００８３】フリーラジカル硬化性樹脂は当業者に知ら
れているすべての好ましい樹脂を包含するけれども、エ
チレン性またはポリエチレン性不飽和化合物のようなフ
リーラジカル付加重合性または架橋性化合物が好まし
い。これらの化合物はビニルまたはアルケニル基のよう
なエチレン性不飽和基を１個以上有するモノマー、およ
び末端またはペンダントエチレン性基を有するポリマー
が挙げられる。このような化合物の種々多くのものが当
業者に知られている。これらには、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトールのような多官能アルコール
のアクリルおよびメタクリルエステル、およびアクリレ
ートまたはメタクリレート末端エポキシ、ポリエステル
またはポリウレタン樹脂が挙げられる。好ましい樹脂に
は、テトラエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、ヒダントインヘキサアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレートおよびペンタエリスリトール
テトラメタクリレートが挙げられ、これらは単独または
ポリエチレンオキシドビスアクリレートと組み合わせて
用いられる。
れているすべての好ましい樹脂を包含するけれども、エ
チレン性またはポリエチレン性不飽和化合物のようなフ
リーラジカル付加重合性または架橋性化合物が好まし
い。これらの化合物はビニルまたはアルケニル基のよう
なエチレン性不飽和基を１個以上有するモノマー、およ
び末端またはペンダントエチレン性基を有するポリマー
が挙げられる。このような化合物の種々多くのものが当
業者に知られている。これらには、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトールのような多官能アルコール
のアクリルおよびメタクリルエステル、およびアクリレ
ートまたはメタクリレート末端エポキシ、ポリエステル
またはポリウレタン樹脂が挙げられる。好ましい樹脂に
は、テトラエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、ヒダントインヘキサアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレートおよびペンタエリスリトール
テトラメタクリレートが挙げられ、これらは単独または
ポリエチレンオキシドビスアクリレートと組み合わせて
用いられる。
【００８４】典型的には、このエレメントの光熱写真ケ
ミストリーはバインダー中において支持体に塗布され
る。光熱写真エレメントの種々の層に広範囲のバインダ
ーを用いうる。好ましいバインダーは透明または半透明
である。これらは一般に無色であり、天然ポリマー、合
成樹脂、ポリマーおよびコポリマーおよび他のフィルム
形成媒体を包含する。例えば、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、スター
チ、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポ
リ(ビニルクロリド)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(ス
チレン-無水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニ
トリル)、コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリビニルア
セタール(例えば、ポリ(ビニルホルマルおよびポリ(ビ
ニルブチラール))、ポリエステル、ポリウレタン、フェ
ノキシ樹脂、ポリ(ビニリデンクロリド)、ポリエポキシ
ド、ポリカーボネート、ポリ(ビニルアセテート)、セル
ロースエステルおよびポリアミドが挙げられる。バイン
ダーは水性または有機溶媒溶液またはエマルジョンとし
て被覆される。
ミストリーはバインダー中において支持体に塗布され
る。光熱写真エレメントの種々の層に広範囲のバインダ
ーを用いうる。好ましいバインダーは透明または半透明
である。これらは一般に無色であり、天然ポリマー、合
成樹脂、ポリマーおよびコポリマーおよび他のフィルム
形成媒体を包含する。例えば、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、スター
チ、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポ
リ(ビニルクロリド)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(ス
チレン-無水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニ
トリル)、コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリビニルア
セタール(例えば、ポリ(ビニルホルマルおよびポリ(ビ
ニルブチラール))、ポリエステル、ポリウレタン、フェ
ノキシ樹脂、ポリ(ビニリデンクロリド)、ポリエポキシ
ド、ポリカーボネート、ポリ(ビニルアセテート)、セル
ロースエステルおよびポリアミドが挙げられる。バイン
ダーは水性または有機溶媒溶液またはエマルジョンとし
て被覆される。
【００８５】還元性銀源には、銀イオンの還元可能な源
を含有するすべての材料を包含する。有機およびヘテロ
有機酸の銀塩、特に長鎖脂肪族カルボン酸(10〜30個、
好ましくは15〜25個の炭素原子を有するもの)が好まし
い。配位子が4.0〜10.0の範囲のグロス安定定数(gross
stability constant)を有する有機または無機銀塩の錯
体も好ましい。有用な銀塩の例はリサーチ・ディスクロ
ージャ第17029号および同第29963号に記載されている。
好ましい銀源は銀ベヘネートである。一般に、還元性銀
源はバインダー層の５〜70重量％、好ましくは７〜45重
量％を占める。
を含有するすべての材料を包含する。有機およびヘテロ
有機酸の銀塩、特に長鎖脂肪族カルボン酸(10〜30個、
好ましくは15〜25個の炭素原子を有するもの)が好まし
い。配位子が4.0〜10.0の範囲のグロス安定定数(gross
stability constant)を有する有機または無機銀塩の錯
体も好ましい。有用な銀塩の例はリサーチ・ディスクロ
ージャ第17029号および同第29963号に記載されている。
好ましい銀源は銀ベヘネートである。一般に、還元性銀
源はバインダー層の５〜70重量％、好ましくは７〜45重
量％を占める。
【００８６】銀源用還元剤には当業者に知られている従
来の写真現像剤のすべてが包含される。これらには、フ
ェニドン、ヒドロキノンおよびカテコールが含まれるけ
れども、立体障害フェノールが好ましい。還元剤はバイ
ンダー層の１〜10重量％の量で存在するべきである。還
元剤が還元性銀源から分離した層中に存在する場合は、
少し高濃度、すなわち、２〜15重量％増量して用いるこ
とが好ましい。
来の写真現像剤のすべてが包含される。これらには、フ
ェニドン、ヒドロキノンおよびカテコールが含まれるけ
れども、立体障害フェノールが好ましい。還元剤はバイ
ンダー層の１〜10重量％の量で存在するべきである。還
元剤が還元性銀源から分離した層中に存在する場合は、
少し高濃度、すなわち、２〜15重量％増量して用いるこ
とが好ましい。
【００８７】フタラジノン、フタラジン、フタル酸およ
び他の当業者に知られているトナーは構成において必須
ではない。しかしながら、その存在は望ましい。例え
ば、このような材料は0.2〜12重量％の量で存在しう
る。
び他の当業者に知られているトナーは構成において必須
ではない。しかしながら、その存在は望ましい。例え
ば、このような材料は0.2〜12重量％の量で存在しう
る。
【００８８】現像剤は、単独またはトナーとともに、熱
処理中にエレメントの未露出領域において還元性銀源と
相互作用しうるものでなければならない。好ましいトナ
ーおよび現像剤の例は、米国特許第3,770,448号、同第
3,773,512号および同第3,893,863号およびリサーチ・デ
ィスクロージャ第17029号および同第29963号に記載され
ている。好ましい現像剤を以下の式に示す。
処理中にエレメントの未露出領域において還元性銀源と
相互作用しうるものでなければならない。好ましいトナ
ーおよび現像剤の例は、米国特許第3,770,448号、同第
3,773,512号および同第3,893,863号およびリサーチ・デ
ィスクロージャ第17029号および同第29963号に記載され
ている。好ましい現像剤を以下の式に示す。
【００８９】
【化２８】
【００９０】式中、Rは水素または一般に５個までの炭
素原子を有するアルキル基、例えば、C4H9である。
素原子を有するアルキル基、例えば、C4H9である。
【００９１】好ましいトナーを以下に示す。
【００９２】
【化２９】
【００９３】通常は、現像剤およびトナーの一方または
両方は還元性銀源を有する層から分離して用いられる。
原理的には光硬化性組成物は現像剤および/またはトナ
ーと同一層中、または還元性銀源と同一層に存在し得、
またはこれらの層の間に介在する層中に存在しうる。こ
れらの構成のいずれにおいても、光硬化性組成物の像に
応じた硬化は、可視像の生成のために必要な成分の還元
性銀源との反応の像に応じた遮断を提供する。しかしな
がら、実際には好ましいことに、特に上述の好ましい現
像剤を用いる場合は、現像剤と光硬化性組成物とを分離
層に現像剤として含有させることにより、フリーラジカ
ルを捕捉により重合工程において禁止的効果を有するこ
とが見い出された。
両方は還元性銀源を有する層から分離して用いられる。
原理的には光硬化性組成物は現像剤および/またはトナ
ーと同一層中、または還元性銀源と同一層に存在し得、
またはこれらの層の間に介在する層中に存在しうる。こ
れらの構成のいずれにおいても、光硬化性組成物の像に
応じた硬化は、可視像の生成のために必要な成分の還元
性銀源との反応の像に応じた遮断を提供する。しかしな
がら、実際には好ましいことに、特に上述の好ましい現
像剤を用いる場合は、現像剤と光硬化性組成物とを分離
層に現像剤として含有させることにより、フリーラジカ
ルを捕捉により重合工程において禁止的効果を有するこ
とが見い出された。
【００９４】非常に好ましい一実施態様では、光熱写真
エレメントは片面上に有機またはヘテロ有機酸の銀塩
(例えば、銀ベヘネート)および光硬化性組成物、好まし
くはヨードニウム-オキソノール光開始剤を含有するも
の、を含有する第１バインダー層と、現像剤を含有する
第２バインダー層とを有する。好ましくは、トナーは少
なくとも第２バインダー層中に存在する。
エレメントは片面上に有機またはヘテロ有機酸の銀塩
(例えば、銀ベヘネート)および光硬化性組成物、好まし
くはヨードニウム-オキソノール光開始剤を含有するも
の、を含有する第１バインダー層と、現像剤を含有する
第２バインダー層とを有する。好ましくは、トナーは少
なくとも第２バインダー層中に存在する。
【００９５】他の非常に好ましい実施態様では、光熱写
真エレメントは片面上に、有機またはヘテロ有機酸の銀
塩を含有する第１バインダー層、光硬化性組成物(好ま
しくは、バインダー中において光硬化性組成物のミクロ
分散体の形態で存在する。)を含有する第２バインダー
層、および現像剤と好ましくはトナーとを含有する第３
バインダー層を有する支持体を有する。
真エレメントは片面上に、有機またはヘテロ有機酸の銀
塩を含有する第１バインダー層、光硬化性組成物(好ま
しくは、バインダー中において光硬化性組成物のミクロ
分散体の形態で存在する。)を含有する第２バインダー
層、および現像剤と好ましくはトナーとを含有する第３
バインダー層を有する支持体を有する。
【００９６】本発明による光熱写真エレメントは光熱写
真ケミストリーを含有する２層以上のバインダー層を適
当な支持体に被覆することにより調製される。一般に、
それぞれの層は当業者に周知の方法を用いて適当な溶媒
から被覆される。支持体の例には、紙、ポリエチレン被
覆紙、ポリプロピレン被覆紙、パーチメント紙、布な
ど; アルミニウム、銅、マグネシウムおよび亜鉛のよう
な金属のシートおよびホイル; ガラスおよびクロム、ク
ロム合金、スチール、銀、金およびプラチナのような金
属で被覆したガラス; ポリ(アルキルメタクリレート)の
ような合成ポリマー材料(例えば、ポリ(メチルメタクリ
レート))、ポリエステル(例えば、ポリ(エチレンテレフ
タレート)、ポリ(ビニルアセタール))、ポリアミド、例
えば、ナイロン、セルロースエステル(例えば、セルロ
ースニトレート、セルロースアセテート、セルロースア
セテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレ
ート)などが挙げられる。
真ケミストリーを含有する２層以上のバインダー層を適
当な支持体に被覆することにより調製される。一般に、
それぞれの層は当業者に周知の方法を用いて適当な溶媒
から被覆される。支持体の例には、紙、ポリエチレン被
覆紙、ポリプロピレン被覆紙、パーチメント紙、布な
ど; アルミニウム、銅、マグネシウムおよび亜鉛のよう
な金属のシートおよびホイル; ガラスおよびクロム、ク
ロム合金、スチール、銀、金およびプラチナのような金
属で被覆したガラス; ポリ(アルキルメタクリレート)の
ような合成ポリマー材料(例えば、ポリ(メチルメタクリ
レート))、ポリエステル(例えば、ポリ(エチレンテレフ
タレート)、ポリ(ビニルアセタール))、ポリアミド、例
えば、ナイロン、セルロースエステル(例えば、セルロ
ースニトレート、セルロースアセテート、セルロースア
セテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレ
ート)などが挙げられる。
【００９７】界面活性剤、酸化防止剤、安定剤、可塑
剤、紫外線吸収剤、被覆補助剤などのような種々の従来
の添加剤も本発明の写真材料の調製に用いうる。
剤、紫外線吸収剤、被覆補助剤などのような種々の従来
の添加剤も本発明の写真材料の調製に用いうる。
【００９８】本発明の光熱写真エレメントにおいて分離
支持体を有することは必須ではない。それぞれのバイン
ダー層、例えば、光熱写真ケミストリーを伴う合成ポリ
マーは注型されることにより自己支持フィルムを形成し
うるからである。
支持体を有することは必須ではない。それぞれのバイン
ダー層、例えば、光熱写真ケミストリーを伴う合成ポリ
マーは注型されることにより自己支持フィルムを形成し
うるからである。
【００９９】支持体は公知の下塗り材料で下塗り被覆さ
れうる。これらには、ビニリデンクロリド、アクリルモ
ノマー(例えば、アクリロニトリルおよびメチルアクリ
レート)および不飽和ジカルボン酸(例えば、イタコン酸
またはアクリル酸)のコポリマーおよびターポリマー、
カルボキシメチルセルロース、ポリアクリルアミドおよ
び同様のポリマー材料が挙げられる。
れうる。これらには、ビニリデンクロリド、アクリルモ
ノマー(例えば、アクリロニトリルおよびメチルアクリ
レート)および不飽和ジカルボン酸(例えば、イタコン酸
またはアクリル酸)のコポリマーおよびターポリマー、
カルボキシメチルセルロース、ポリアクリルアミドおよ
び同様のポリマー材料が挙げられる。
【０１００】また、支持体はフィルターまたはハレーシ
ョン防止層を有しうる。それらは、例えば、着色された
ポリマー層を有しており、これらが照射感応性層を通過
した後の露出照射を吸収し、支持体からの望ましくない
反射を除去する。
ョン防止層を有しうる。それらは、例えば、着色された
ポリマー層を有しており、これらが照射感応性層を通過
した後の露出照射を吸収し、支持体からの望ましくない
反射を除去する。
【０１０１】光開始剤の適当な選択により、本発明のエ
レメントは一般的な300〜1000nmの範囲内における適当
な幅の波長の照射に対して感度を有するように調製され
うる。波長の値およびバンドの幅は増感剤の吸収特性に
依存する。
レメントは一般的な300〜1000nmの範囲内における適当
な幅の波長の照射に対して感度を有するように調製され
うる。波長の値およびバンドの幅は増感剤の吸収特性に
依存する。
【０１０２】使用において、本発明の光熱写真エレメン
トが適当な波長の照射に像に応じて露出されることによ
り光開始剤が開裂する。そのことにより樹脂が硬化し、
潜像が形成される。露出の後に、エレメントは90〜150
℃の温度に５〜60秒間、好ましくは125〜130℃で５〜15
秒間加熱されうることにより乾燥処理される。その後、
ネガ型乾銀材料の処理用に当業者に知られた技術を用い
てポジティブ像を現像する。露出と加熱により白黒像を
得た後に、複製目的に像を固定するためにさらに露出し
うる。
トが適当な波長の照射に像に応じて露出されることによ
り光開始剤が開裂する。そのことにより樹脂が硬化し、
潜像が形成される。露出の後に、エレメントは90〜150
℃の温度に５〜60秒間、好ましくは125〜130℃で５〜15
秒間加熱されうることにより乾燥処理される。その後、
ネガ型乾銀材料の処理用に当業者に知られた技術を用い
てポジティブ像を現像する。露出と加熱により白黒像を
得た後に、複製目的に像を固定するためにさらに露出し
うる。
【０１０３】
【実施例】以下の実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。説明を容易にするために用いた略語の意義を以
下に示す。
明する。説明を容易にするために用いた略語の意義を以
下に示す。
【０１０４】 樹脂 意義 ATM４ テトラエチレングリコールジメタクリレート、アン コマー化学社(Ancomer Chemicals)よりATM４の商標 で市販されている。 ATM５ ポリエチレングリコールジメタクリレート、アンコ マー化学社よりATM５の商標で市販されている。 ATM11 トリメチロールプロパントリメタクリレート、アン コマー化学社よりATM11の商標で市販されている。 ATM12 トリメチロールプロパントリアクリレート、アンコ マー化学社よりATM12の商標で市販されている。 CAB381-20 セルロースアセテートブチレート、コダック社 (Kodak Ltd.)より市販されている。 HHA 米国特許第4,429,001号に開示されている以下の式 に示すヒダントインヘキサアクリレート。
【０１０５】
【化３０】
【０１０６】増感剤 オキソノール染料Ａ
【０１０７】
【化３１】
【０１０８】オキソノール染料Ｂ
【０１０９】
【化３２】
【０１１０】ITX イソプロピルチオキサントン(２および４異性体の混合
物）
物）
【０１１１】
【化３３】
【０１１２】２−ＥＡ ２−エチルアントラセン
【０１１３】
【化３４】
【０１１４】DBPO ジフェノキシベンゾフェノン(以下に詳細に示す合成プ
ロトコルにより調製）
ロトコルにより調製）
【０１１５】
【化３５】
【０１１６】ＴＰＰ １，３，５−トリフェニルピラゾリン
【０１１７】
【化３６】
【０１１８】DH 3,5-ビス(メトキシカルボニル)-2,6-ジメチル-4-フェニ
ル-1,4-ジヒドロピリジン
ル-1,4-ジヒドロピリジン
【０１１９】
【化３７】
【０１２０】開始剤 ヨードニウム塩A
【０１２１】
【化３８】
【０１２２】スルホニウム塩A ミネソタ・マイニング・アンド・マニファクチュアリン
グ社(Minnesota Mining and ManufacturingCompany)よ
りFX512の商標で市販されている。
グ社(Minnesota Mining and ManufacturingCompany)よ
りFX512の商標で市販されている。
【０１２３】
【化３９】
【０１２４】ホ゜リ(ヒ゛ニルシンナメ-ト) ビニルアルコールとビニルシンナメートとのコポリマ
ー、ポリサイエンス社(Polyscience Ltd.)より市販され
ている。
ー、ポリサイエンス社(Polyscience Ltd.)より市販され
ている。
【０１２５】その他 銀ベヘネート(全石鹸) 銀ベヘネート12.3重量％、メチルエチルケトン65.3重量
％、トルエン21.8重量％およびブトバー(Butvar)B-76の
0.5重量％。 K-バー R.K.プリント-コートインスツルメンツ社により製造さ
れたワイヤー巻付け被覆ロッド
％、トルエン21.8重量％およびブトバー(Butvar)B-76の
0.5重量％。 K-バー R.K.プリント-コートインスツルメンツ社により製造さ
れたワイヤー巻付け被覆ロッド
【０１２６】トナー トナーＡ
【０１２７】
【化４０】
【０１２８】現像剤
【０１２９】
【化４１】
【０１３０】［式中、現像剤AではR=Hであり、現像剤B
ではR=n-C4H9である。]
ではR=n-C4H9である。]
【０１３１】4,4'-ビス(フェノキシ)ベンゾフェノン(DP
BO)の合成 以下のプロトコルに従ってDPBOを調製した。4-フェノキ
シ安息香酸(2.5g、11.7mモル)をチオニルクロリド(50m
l)中で３時間還流させた。得られる混合物を冷却し、減
圧下で溶媒を除去することにより4-フェノキシベンゾイ
ルクロリドを淡黄色オイルとして回収した(2.72g、収率
100％、λmax=1760cm-1)。ジクロロメタン(20ml)中4-フ
ェノキシベンゾイルクロリド(2.72g、11.7mモル)をジク
ロロメタン(30ml)中ジフェニルエーテル(1.99g、11.7m
モル)に加え、次いで、アルミニウムトリクロリド(1.56
g、11.7mモル)を加え、そして、得られる混合物を３時
間還流させた。還流させた混合物を氷水(約100ml)中に
注ぎ、得られる層を分離した。水層をエーテルで抽出し
た(100mlで２回抽出)。そして、収集した有機層を乾燥
し、濾過し、蒸発させることにより4,4'-ビス(フェノキ
シベンゾフェノン(2.76g、収率64％)を無色固体として
回収した(融点130〜132℃、λmax(EtOH)291nm(ε=2.3×
104)、δH6.9〜7.9(18H、M、ArH))。
BO)の合成 以下のプロトコルに従ってDPBOを調製した。4-フェノキ
シ安息香酸(2.5g、11.7mモル)をチオニルクロリド(50m
l)中で３時間還流させた。得られる混合物を冷却し、減
圧下で溶媒を除去することにより4-フェノキシベンゾイ
ルクロリドを淡黄色オイルとして回収した(2.72g、収率
100％、λmax=1760cm-1)。ジクロロメタン(20ml)中4-フ
ェノキシベンゾイルクロリド(2.72g、11.7mモル)をジク
ロロメタン(30ml)中ジフェニルエーテル(1.99g、11.7m
モル)に加え、次いで、アルミニウムトリクロリド(1.56
g、11.7mモル)を加え、そして、得られる混合物を３時
間還流させた。還流させた混合物を氷水(約100ml)中に
注ぎ、得られる層を分離した。水層をエーテルで抽出し
た(100mlで２回抽出)。そして、収集した有機層を乾燥
し、濾過し、蒸発させることにより4,4'-ビス(フェノキ
シベンゾフェノン(2.76g、収率64％)を無色固体として
回収した(融点130〜132℃、λmax(EtOH)291nm(ε=2.3×
104)、δH6.9〜7.9(18H、M、ArH))。
【０１３２】3,5-ビス(メトキシカルボニル)-2,6-ジメ
チル-4-フェニル-1,4-ジヒドロピリジン(DH)の合成 DHを以下のプロトコルに従って調製した。アンモニウム
ヒドロキシド(0.88M溶液の3.55ml)を氷冷したエタノー
ル(60ml)中ベンズアルデヒド(6.4g、60mモル)およびメ
チルアセトアセテート(14.0g、120mモル)溶液に加え、
添加が完了した後に、混合物を３時間加熱還流し、その
後、冷却した。
チル-4-フェニル-1,4-ジヒドロピリジン(DH)の合成 DHを以下のプロトコルに従って調製した。アンモニウム
ヒドロキシド(0.88M溶液の3.55ml)を氷冷したエタノー
ル(60ml)中ベンズアルデヒド(6.4g、60mモル)およびメ
チルアセトアセテート(14.0g、120mモル)溶液に加え、
添加が完了した後に、混合物を３時間加熱還流し、その
後、冷却した。
【０１３３】この混合物を「スクラッチ」することにより
結晶化を促進させ、そして得られた固体を吸引濾過する
ことにより収集し、減圧下で乾燥させることにより、ジ
ヒドロピリジン(5.6g、収率33％)を無色針状結晶として
得た(融点196〜197℃、νmax=3340、1690および1640cm
-1； λmax(EtOH)=353nm(ε=6.45×103)およびδH2.20
(6H,S,２×CH3)、3.63(6H,s,2zCO2CH3)、5.00(1H,s,PhC
H),5.95(1H,br.s,nH)、そして、7.10〜7.35(5H,M,５×P
hH)。
結晶化を促進させ、そして得られた固体を吸引濾過する
ことにより収集し、減圧下で乾燥させることにより、ジ
ヒドロピリジン(5.6g、収率33％)を無色針状結晶として
得た(融点196〜197℃、νmax=3340、1690および1640cm
-1； λmax(EtOH)=353nm(ε=6.45×103)およびδH2.20
(6H,S,２×CH3)、3.63(6H,s,2zCO2CH3)、5.00(1H,s,PhC
H),5.95(1H,br.s,nH)、そして、7.10〜7.35(5H,M,５×P
hH)。
【０１３４】
【実施例１】下塗りしていない４ミル(100μm)ポリエス
テル支持体を以下の被覆処方で被覆することにより一連
の光熱写真エレメントを調製した。
テル支持体を以下の被覆処方で被覆することにより一連
の光熱写真エレメントを調製した。
【０１３５】第1および第２光熱写真エレメント 本発明に従い、ボトム被覆、トップ被覆およびバリア層
をこの順で有する光熱写真エレメントを調製した。バリ
アオーバー層およびトップ被覆は両エレメントで同じも
のを用い、ボトム被覆はHHA、またはATM５とATM11との
組み合わせのいずれかを光硬化性樹脂として用いた。
をこの順で有する光熱写真エレメントを調製した。バリ
アオーバー層およびトップ被覆は両エレメントで同じも
のを用い、ボトム被覆はHHA、またはATM５とATM11との
組み合わせのいずれかを光硬化性樹脂として用いた。
【０１３６】バリアオーバー層 湿潤厚２ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 ポリ(ビニルアルコール) 124K(８％溶液) 10g タージトール(TERGITOL) TMN-10(10％溶液) １g
【０１３７】トップ被覆 湿潤厚２ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 セルロースアセテート ブチレート500-5 (メチルエチルケトン (MEK)中10％溶液) 10g 現像剤A 0.2g トナーA 0.1g
【０１３８】ボトム被覆(第１エレメント) 湿潤厚４ミル(100μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 10.0g ブトバー(BUTVAR) B-76(ポリ(ビニル ブチラール) 0.5g ATM11 1.0g ATM５ ０．５
ｇ ヨードニウム塩Ａ ０．１ｇ オキソノール染料A 0.02g
ｇ ヨードニウム塩Ａ ０．１ｇ オキソノール染料A 0.02g
【０１３９】ボトム被覆(第２エレメント) 厚４ミル(100μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 10.0g ブトバーB-76 0.5g HHA 1.5g ヨードニウム塩A 0.1g オキソノール染料A 0.02g
【０１４０】第３光熱写真エレメント 以下に示す処方のボトム被覆、光像形成性バリア層(ま
たは中間層)およびトップ被覆をこの順で有する本発明
のエレメントを調製した。光像形成性バリア層はゼラチ
ンバインダー中に光硬化性組成物のミクロ分散体を含有
する。
たは中間層)およびトップ被覆をこの順で有する本発明
のエレメントを調製した。光像形成性バリア層はゼラチ
ンバインダー中に光硬化性組成物のミクロ分散体を含有
する。
【０１４１】ボトム被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 10g 現像剤A 0.2g セルロースアセテート ブチレート500-5 0.5g
【０１４２】光像形成性バリア層 オキソノール染料B 0.1g ヨードニウム塩A 0.2g HHA ２g ATM4 ２gスハ゜ン (Span)20 0.4g エタノール溶液 ５g タージトールTMN-10 (10％溶液) １g
【０１４３】上記混合物を水性ゼラチン分散体(10g/100
ml)中に５分間かけてミクロ分散させた。この分散体を
ナイフエッジコーターを用いて湿潤厚３ミル(75μm)に
被覆した。
ml)中に５分間かけてミクロ分散させた。この分散体を
ナイフエッジコーターを用いて湿潤厚３ミル(75μm)に
被覆した。
【０１４４】トップ被覆 トナーA 0.3g セルロースアセテート ブチレート500-5 １g エチル尿素 0.1g (フタラジノンの移動を促進するために添加) メチルエチルケトン 10g
【０１４５】第４光熱写真エレメント 以下に示すボトム被覆およびトップ被覆をこの順に有
し、イソプロピルチオキサントンとヨードニウム塩Aと
の組み合わせを光開始剤として有する構成を比較例とし
て調製した。
し、イソプロピルチオキサントンとヨードニウム塩Aと
の組み合わせを光開始剤として有する構成を比較例とし
て調製した。
【０１４６】トップ被覆 湿潤厚２ミル(50μm)にナイフエッジ被覆 セルロースアセテート (MEK中10％溶液) 10.0g 現像剤A 0.2g トナーＡ ０．１ｇ
【０１４７】ボトム被覆 湿潤厚２ミル（５０μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 10.0g ブトバーB-76 0.5g HHA 1.0g ITX 0.1g ヨードニウム塩A 0.2g
【０１４８】第５光熱写真エレメント 以下に示すボトム被覆、トップ被覆およびバリアオーバ
ー層をこの順で有し、2-エチルアントラセンとヨードニ
ウム塩Aとを光開始剤として有するエレメントを比較例
として調製した。
ー層をこの順で有し、2-エチルアントラセンとヨードニ
ウム塩Aとを光開始剤として有するエレメントを比較例
として調製した。
【０１４９】バリアオーバー層 第１および第２エレメントのものを使用
【０１５０】トップ被覆 第１および第２エレメントのものを使用
【０１５１】ボトム被覆 K-5で被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 10.0g ブトバーＢ−７６ ０．５ｇ ＡＴＭ１１
１．０ｇ ＡＴＭ５
０．５ｇ ２−ＥＡ
０．０５ｇ ヨードニウム塩Ａ ０．１ｇ
１．０ｇ ＡＴＭ５
０．５ｇ ２−ＥＡ
０．０５ｇ ヨードニウム塩Ａ ０．１ｇ
【０１５２】第６光熱写真エレメント 以下に示すボトム被覆、トップ被覆およびバリアオーバ
ー層をこの順で有し、ジフェノキシベンゾフェノンとヨ
ードニウム塩Aとの組み合わせを光開始剤として含有す
るエレメントを比較例として調製した。
ー層をこの順で有し、ジフェノキシベンゾフェノンとヨ
ードニウム塩Aとの組み合わせを光開始剤として含有す
るエレメントを比較例として調製した。
【０１５３】ボトム被覆 湿潤厚４ミル(100μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 10g HHA 0.5g ATM11 0.5g ブトバーB-76 0.5g DPBO 0.1g ヨードニウム塩A 0.2g
【０１５４】トップ被覆 湿潤厚２ミル(50μm)にナイフエッジ被覆 セルロースアセテート ブチレート500-5 (MEK中10％溶液) 10g 現像剤A 0.2g トナーA 0.1g
【０１５５】バリアオーバー層 湿潤厚２ミル(50μm)にナイフエッジ被覆 ポリ(ビニルアルコール) 124K(８％溶液) 10gターシ゛トール TMN-10 (10％溶液) １g
【０１５６】第７光熱写真エレメント 以下に示すボトム被覆およびトップ被覆をこの順に有
し、イソプロピルチオキサントンとポリ(ビニルシンナ
メート)との組み合わせを光開始剤として有するエレメ
ントを比較例として調製した。
し、イソプロピルチオキサントンとポリ(ビニルシンナ
メート)との組み合わせを光開始剤として有するエレメ
ントを比較例として調製した。
【０１５７】ボトム被覆 湿潤厚４ミル(100μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 11.2g ポリ(ビニル シンナメート) 1.0g ブトバーB-76 0.6g ITX 0.08g
【０１５８】トップ被覆 湿潤厚２ミル(50μm)にナイフエッジ被覆 メチルエチルケトン 7.0g アセトン 3.0g セルロースアセテート 0.6g 現像剤A 0.2g トナーA 0.1g
【０１５９】第８光熱写真エレメント 以下に示すボトム被覆およびトップ被覆をこの順に有
し、ジフェノキシベンゾフェノンとメチルジエタノール
アミンとの組み合わせを光開始剤として有するエレメン
トを比較例として調製した。
し、ジフェノキシベンゾフェノンとメチルジエタノール
アミンとの組み合わせを光開始剤として有するエレメン
トを比較例として調製した。
【０１６０】トップ被覆 湿潤厚３ミル(75μm)にナイフエッジ被覆 セルロースアセテート (10％溶液) 10.0g 現像剤A 0.3g トナーA 0.15g
【０１６１】ボトム被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 10.0g セルロースアセテート ブチレート500-5 0.5g HHA 1.5g DPBO 0.05g メチルジエタノール アミン 0.15g
【０１６２】対照エレメント 以下に示す組成のボトム被覆およびトップ被覆をこの順
で有し、光開始剤を有さない構成を調製した。
で有し、光開始剤を有さない構成を調製した。
【０１６３】ボトム被覆 湿潤厚４ミル(100μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 20.0g メチルエチルケトン 3.0g セルロースアセテート ブチレート５００−５ １．２５ｇ
【０１６４】トップ被覆 湿潤厚２ミル（５０μm)にナイフエッジ被覆 アセトン 3.0g セルロースアセテート 0.6g 現像剤A 0.2g トナーA 0.1g メチルエチルケトン 7.0g
【０１６５】６kWのNU-ARC・UVランプを用いてそれぞれ
の構成の試料を像に応じてUV照射(50ユニット)に露出
し、熱処理することにより像を現像した。得られた像の
タイプ(ポジティブ/ネガティブ)および色を記録し、DT1
405トランスミッションデンシトメーター(transmission
densitometer)を用いて露出(Dmin)および未露出(Dmax)
領域の400nmを上回る波長における光学密度を測定し記
録した。
の構成の試料を像に応じてUV照射(50ユニット)に露出
し、熱処理することにより像を現像した。得られた像の
タイプ(ポジティブ/ネガティブ)および色を記録し、DT1
405トランスミッションデンシトメーター(transmission
densitometer)を用いて露出(Dmin)および未露出(Dmax)
領域の400nmを上回る波長における光学密度を測定し記
録した。
【０１６６】像形成および熱処理の後に像形成試料のUV
吸収スペクトルを測定することにより、340〜440nmの領
域の吸収の程度を測定した。この点を説明するために、
像に応じたUV照射と熱処理との後に第１、４および５エ
レメントの試料のUV-VIS吸収スペクトルを測定した。第
１エレメントでは、340〜440nmの重要な領域においては
UV光の残留吸収が非常に少ない(図１参照)。これに対
し、第４エレメント(図２参照)および第５エレメント
(図３参照)のUVスペクトルは、イソプロピルチオキサン
トンと2-エチルアントラセンとの増感剤が照射および熱
処理の後にも残留していることを示す。得られた結果を
以下の表２および３に示す。
吸収スペクトルを測定することにより、340〜440nmの領
域の吸収の程度を測定した。この点を説明するために、
像に応じたUV照射と熱処理との後に第１、４および５エ
レメントの試料のUV-VIS吸収スペクトルを測定した。第
１エレメントでは、340〜440nmの重要な領域においては
UV光の残留吸収が非常に少ない(図１参照)。これに対
し、第４エレメント(図２参照)および第５エレメント
(図３参照)のUVスペクトルは、イソプロピルチオキサン
トンと2-エチルアントラセンとの増感剤が照射および熱
処理の後にも残留していることを示す。得られた結果を
以下の表２および３に示す。
【０１６７】本発明の光熱写真エレメント(第１〜第３)
は良好で明瞭な白黒ポジティブ像を形成し、像領域の34
0〜440nmの波長におけるUV光吸収は非常に少ない。この
ことは、像形成および/または後の熱処理中において光
開始剤が破壊されたことを示す。対象的に比較例光熱写
真エレメント(第４〜第８)では、ほとんどの場合に、UV
スペクトルにおいてトーンに乏しい像を提供し、このこ
とは処理中に増感剤が破壊されていないことを示す。
は良好で明瞭な白黒ポジティブ像を形成し、像領域の34
0〜440nmの波長におけるUV光吸収は非常に少ない。この
ことは、像形成および/または後の熱処理中において光
開始剤が破壊されたことを示す。対象的に比較例光熱写
真エレメント(第４〜第８)では、ほとんどの場合に、UV
スペクトルにおいてトーンに乏しい像を提供し、このこ
とは処理中に増感剤が破壊されていないことを示す。
【０１６８】
【表２】
【０１６９】
【表３】
【０１７０】a６kWヌアーク(Nuarc)UVランプを用いて25
ユニットのUV照射に供した(他は全て50ユニットとし
た)。b 10秒間処理した。c 銀像のDmin/Dmax(400nmを上回る波長のもの)
ユニットのUV照射に供した(他は全て50ユニットとし
た)。b 10秒間処理した。c 銀像のDmin/Dmax(400nmを上回る波長のもの)
【０１７１】
【実施例２】本実施例では、本発明の光熱写真エレメン
ト用光開始剤としてのスルホニウム塩の使用を説明す
る。
ト用光開始剤としてのスルホニウム塩の使用を説明す
る。
【０１７２】第９光熱写真エレメント 以下に示すボトム被覆およびトップ被覆をこの順に有す
る本発明のエレメントを調製した。
る本発明のエレメントを調製した。
【０１７３】ボトム被覆 湿潤厚６ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート (全石鹸) 10.0g セルロースアセテート ブチレート381-20 0.5g ATM12 0.5g HHA 1.0g スルホニウム塩A 0.05g メチルエチルケトン ５g
【０１７４】トップ被覆 湿潤厚６ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 セルロースアセテート (10％溶液） １０ｇ 現像剤Ａ ０．３ｇ トナーA 0.1g
【０１７５】個々の試料を50ユニットのUV照射に露出
し、種々の温度で熱処理した。露出(Dmax)および未露出
(Dmin)領域の光学密度を以下の表４に示す。
し、種々の温度で熱処理した。露出(Dmax)および未露出
(Dmin)領域の光学密度を以下の表４に示す。
【０１７６】
【表４】
【０１７７】形成された像はポジティブおよびニュート
ラルの色であった。UV照射および熱処理の後にUV-VISス
ペクトルを測定した(図４参照)。340〜440nmの領域にお
ける吸収の消失が明確に示されている。
ラルの色であった。UV照射および熱処理の後にUV-VISス
ペクトルを測定した(図４参照)。340〜440nmの領域にお
ける吸収の消失が明確に示されている。
【０１７８】
【実施例３】本実施例では、本発明の光熱エレメント用
増感剤としてのジアルコキシアントラセンの使用を説明
する。
増感剤としてのジアルコキシアントラセンの使用を説明
する。
【０１７９】第10光熱写真エレメント 以下のボトム被覆とトップ被覆とをこの順で有する本発
明のエレメントを調製した。
明のエレメントを調製した。
【０１８０】ボトム被覆 湿潤厚６ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 ストック(Stock)溶液 10g 9,10-ジエトキシ アントラセン 0.007g ヨードニウム塩A 0.065g
【０１８１】ストック溶液 銀ベヘネート(全石鹸; ノン-プレフォームド) 36.1g セルロースアセテート ブチレート381-20 1.8g ATM12 6.3g メチルエチルケトン 18g
【０１８２】トップ被覆 湿潤厚６ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 セルロースアセテート (10％溶液) 10g 現像剤B 0.4g トナーA 0.15g
【０１８３】それぞれの試料をUV照射の25および50ユニ
ットに像に応じて露出し、種々の温度で熱処理した。露
出(Dmin)および未露出(Dmax)領域の光学密度を以下の表
５に示す。
ットに像に応じて露出し、種々の温度で熱処理した。露
出(Dmin)および未露出(Dmax)領域の光学密度を以下の表
５に示す。
【０１８４】
【表５】 UV露出 25ユニット 50ユニット 熱処理温度(℃) Dmin Dmax Dmin Dmax 100 − − 0.04 0.11 105 0.04 0.15 0.04 0.16 110 0.07 0.71 0.05 0.56 115 0.14 1.34 0.12 1.49 120 − − 0.56 2.89
【０１８５】形成された像はポジティブおよびニュート
ラルの色であった。UV照射および熱処理の後にUV-VISス
ペクトルを測定し(図５参照)、そのことにより340〜440
nmの重要な領域において吸収が消失したことが明確に示
された。
ラルの色であった。UV照射および熱処理の後にUV-VISス
ペクトルを測定し(図５参照)、そのことにより340〜440
nmの重要な領域において吸収が消失したことが明確に示
された。
【０１８６】
【実施例４】第11および第12光熱写真エレメント 1,3,5-トリビニルピラゾリンとヨードニウム塩との組み
合わせを光開始剤として用い、さらに追加の増感剤とし
てオキソノール染料も用いて、または用いないで調製し
た。それぞれのエレメントは以下のボトム被覆およびト
ップ被覆をこの順に有する。トップ被覆は両エレメント
に共通である。
合わせを光開始剤として用い、さらに追加の増感剤とし
てオキソノール染料も用いて、または用いないで調製し
た。それぞれのエレメントは以下のボトム被覆およびト
ップ被覆をこの順に有する。トップ被覆は両エレメント
に共通である。
【０１８７】第11光熱写真エレメント ボトム被覆 湿潤厚４ミル(100μm)にナイフエッジ被覆 実施例３で調製した ストック溶液 10g TPP 0.01g ヨードニウム塩A 0.05g
【０１８８】トップ被覆 湿潤厚４ミル(100μm)にナイフエッジ被覆 セルロースアセテート (10％溶液） １０ｇ 現像剤Ａ ０．２５
ｇ トナーA 0.1g
ｇ トナーA 0.1g
【０１８９】第12光熱写真エレメント ボトム被覆 湿潤厚６ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート(全石鹸); ノン-プレフォームド) 10g セルロースアセテート ブチレート381-20 0.5g ATM12 1.5g ヨードニウム塩A 0.05g オキソノール染料B 0.0018g TPP 0.0031g メチルエチルケトン ５g
【０１９０】トップ被覆 第11エレメントと同一
【０１９１】それぞれの第11および第12光熱写真エレメ
ントの個々の試料をUV照射の50ユニットに像に応じて露
出し、種々の温度で熱処理した。露出(Dmin)および未露
出(Dmax)領域の光学密度を以下の表６に示す。
ントの個々の試料をUV照射の50ユニットに像に応じて露
出し、種々の温度で熱処理した。露出(Dmin)および未露
出(Dmax)領域の光学密度を以下の表６に示す。
【０１９２】
【表６】 エレメントNo. 11 12 熱処理温度(℃) Dmin Dmax Dmin Dmax 95 0.04 0.05 0.03 0.05 100 0.03 0.06 0.04 0.08 105 0.03 0.13 0.03 0.14 110 0.03 0.28 0.03 0.36 115 0.04 1.42 0.04 1.03 120 0.12 2.49 0.22 2.57
【０１９３】形成された像はポジティブおよびニュート
ラルの色であった。UV照射および熱処理の後にそれぞれ
のエレメントの試料のUV-VISスペクトルを測定した(図
６および７をそれぞれ参照のこと)。その結果、340〜44
0nmの重要な領域において吸収の消失が明確に示され
た。
ラルの色であった。UV照射および熱処理の後にそれぞれ
のエレメントの試料のUV-VISスペクトルを測定した(図
６および７をそれぞれ参照のこと)。その結果、340〜44
0nmの重要な領域において吸収の消失が明確に示され
た。
【０１９４】トリアリールピラゾリン化合物を増感剤と
して用いることによる他の予測できない効果は、露出試
料のO.D.(Dmin)が保存においてわずかしか増大しないこ
とである。このことは以下の表７に示されており、ここ
では、第11および第12の光熱写真エレメントの露出試料
を５〜６週間保存した前後のDminを記録している。
して用いることによる他の予測できない効果は、露出試
料のO.D.(Dmin)が保存においてわずかしか増大しないこ
とである。このことは以下の表７に示されており、ここ
では、第11および第12の光熱写真エレメントの露出試料
を５〜６週間保存した前後のDminを記録している。
【０１９５】
【表７】 エレメントNo. 11 12 Dmin Dmin 熱処理温度(℃) 保存前 保存後a 保存前 保存後b 95 0.04 0.04 0.03 0.05 100 0.03 0.06 0.04 0.04 105 0.03 0.06 0.03 0.04 110 0.03 0.06 0.03 0.04 115 0.04 0.07 0.04 0.05 120 0.12 0.18 0.22 0.25a 42日b 38日
【０１９６】
【実施例５】本実施例では、本発明の光熱写真エレメン
ト用光開始剤として1,4-ジヒドロピリジンを用いること
を説明する。
ト用光開始剤として1,4-ジヒドロピリジンを用いること
を説明する。
【０１９７】第13および第14光熱写真エレメント 3,5-ビス(メトキシカルボニル)-2,6-ジメチル-4-フェニ
ル-1,4-ジヒドロピリジンおよびヨードニウム塩の組み
合わせを光開始剤として有する本発明のエレメントを調
製した。それぞれのエレメントは以下に示すボトム被覆
とトップ被覆とをこの順で有する。トップ被覆は両エレ
メント同一であり、ボトム被覆が光硬化性樹脂としてAT
M12またはHHAを含有する。
ル-1,4-ジヒドロピリジンおよびヨードニウム塩の組み
合わせを光開始剤として有する本発明のエレメントを調
製した。それぞれのエレメントは以下に示すボトム被覆
とトップ被覆とをこの順で有する。トップ被覆は両エレ
メント同一であり、ボトム被覆が光硬化性樹脂としてAT
M12またはHHAを含有する。
【０１９８】第13光熱硬化性エレメント ボトム被覆 湿潤厚６ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート(全石鹸; ノン-プレフォームド) 10g セルロースアセテート ブチレート381-20 0.5g ATM12 1.5g ヨードニウム塩A 0.175g DH 0.025g メチルエチルケトン ５g
【０１９９】トップ被覆 湿潤厚６ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 セルロースアセテート (10％溶液) 10g 現像剤A 0.3gトナー A 0.1g
【０２００】第14光熱写真エレメント ボトム被覆 湿潤厚６ミル(150μm)にナイフエッジ被覆 銀ベヘネート(全石鹸; ノン-プレフォームド) 10g セルロースアセテート ブチレート381-20 0.5g HHA 1.5g ヨードニウム塩A 0.12g DH 0.02g メチルエチルケトン ５g
【０２０１】トップ被覆 第13光熱写真エレメントと同じものを使用
【０２０２】それぞれの第14および第15光熱写真エレメ
ントを25ユニットのUV照射に像に応じて露出し、種々な
温度で熱処理した。それぞれのエレメントの露出(Dmin)
および未露出(Dmax)領域の光学密度を以下の表８に示
す。
ントを25ユニットのUV照射に像に応じて露出し、種々な
温度で熱処理した。それぞれのエレメントの露出(Dmin)
および未露出(Dmax)領域の光学密度を以下の表８に示
す。
【０２０３】
【表８】 エレメントNo. 13 14 熱処理温度(℃) Dmin Dmax Dmin Dmax 100 0.03 0.04 − − 105 0.03 0.08 0.03 0.03 110 0.04 0.28 0.03 0.03 115 0.06 0.66 0.04 0.06 120 0.17 0.93 0.04 0.08 125 1.08 1.87 0.13 0.36 130 − − 1.08 1.69 形成された像はポジティブおよびニュートラル(B＆W)の
色であった。UV照射および熱処理の後に第13エレメント
のUV-VISスペクトルを測定した(図８を参照のこと)。34
0〜440nmの重要な領域において吸収消失が明確に示され
ている。
色であった。UV照射および熱処理の後に第13エレメント
のUV-VISスペクトルを測定した(図８を参照のこと)。34
0〜440nmの重要な領域において吸収消失が明確に示され
ている。
【０２０４】「ATM４」、「ATM５」、「ATM11」、「ATM12」(ア
ンコマー化学社)、「スパン(Span)20」、「DT1405」、「NU-A
RC」、「タージトール(TERGITOL)」、「ブトバー(BUTVAR)B-
76」および「FX512」(ミネソタ・マイニング・アンド・マ
ニファクチュアリング社)はすべて商標である。
ンコマー化学社)、「スパン(Span)20」、「DT1405」、「NU-A
RC」、「タージトール(TERGITOL)」、「ブトバー(BUTVAR)B-
76」および「FX512」(ミネソタ・マイニング・アンド・マ
ニファクチュアリング社)はすべて商標である。
【図１】 第１光熱写真エレメントの露出および未露出
試料のUV-VISスペクトルである。
試料のUV-VISスペクトルである。
【図２】 第４光熱写真エレメントの露出および未露出
試料のUV-VISスペクトルである。
試料のUV-VISスペクトルである。
【図３】 第５光熱写真エレメントの露出および未露出
試料のUV-VISスペクトルである。
試料のUV-VISスペクトルである。
【図４】 第９光熱写真エレメントの露出および未露出
試料のUV-VISスペクトルである。
試料のUV-VISスペクトルである。
【図５】 第10光熱写真エレメントの露出および未露出
試料のUV-VISスペクトルである。
試料のUV-VISスペクトルである。
【図６】 第11光熱写真エレメントの露出および未露出
試料のUV-VISスペクトルである。
試料のUV-VISスペクトルである。
【図７】 第12光熱写真エレメントの露出および未露出
試料のUV-VISスペクトルである。
試料のUV-VISスペクトルである。
【図８】 第12光熱写真エレメントの露出および未露出
試料のUV-VISスペクトルである。
試料のUV-VISスペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード・ジェイ・エリス イギリス、イングランド、エムシー19・ ５エイイー、エセックス、ハーロウ、 ザ・ピナクルズ（番地の表示なし） ミ ネソタ・スリーエム・リサーチ・リミテ ッド内 (72)発明者 ロバート・ジェイ・ディ・ナイルン イギリス、イングランド、エムシー19・ ５エイイー、エセックス、ハーロウ、 ザ・ピナクルズ（番地の表示なし） ミ ネソタ・スリーエム・リサーチ・リミテ ッド内
Claims (29)
- 【請求項１】 表面上に少なくとも２層を有するベース
層を有するポジ型光熱写真エレメントであって、該２層
が相互に隣接して感光性媒体を形成し、該２層の一方が
光硬化性組成物と還元性銀源および銀イオンのための還
元剤から選択される一成分とを含有し、そして他方の層
がバインダーと還元性銀源および銀イオンのための還元
剤であって第１層中に存在しないもののいずれかとを含
有しており、そして、該エレメントの化学線照射により
露出領域における光硬化性組成物の硬化が生じ、該硬化
が熱処理中における還元剤と還元性銀源との相互作用を
防止し、ここで、光硬化性組成物はフリーラジカル硬化
性樹脂と340〜440nmの範囲の波長範囲の照射に対する吸
収を有するそれらの樹脂のための光開始剤とを含有して
おり、該光開始剤は、該化学線照射において、または後
の熱処理中に該340〜440nmの範囲の波長における吸収を
消失する、ポジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項２】 還元性銀源と光硬化性組成物とを含有す
る第１バインダー層と銀イオンのための還元剤を含有す
る第２バインダー層とを片面上に有する支持体を有す
る、請求項１記載のポジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項３】 還元性銀源を含有する第１バインダー
層、光硬化性組成物を含有する第２バインダー層および
銀イオンのための還元剤を含有する第３バインダー層を
片面上に有する支持体を有する、請求項１記載のポジ型
光熱写真エレメント。 - 【請求項４】 前記第２バインダー層が光硬化性組成物
のミクロ分散体を含有する、請求項３記載のポジ型光熱
写真エレメント。 - 【請求項５】 トップ被覆として酸素非透過性バリア層
をさらに有する、請求項１〜４のいずれか記載のポジ型
光熱写真エレメント。 - 【請求項６】 前記光開始剤が、キサンテン染料-オニ
ウム錯体; スルホニウム塩; 3-置換クマリン; ジアルコ
キシアントラセンとオニウム塩との組み合わせ; 1,4-ジ
ヒドロピリジンとオニウム塩との組み合わせ; 1,3,5-ト
リアリールピラゾリンとオニウム塩との組み合わせ; ま
たはオキソノール染料とオニウム塩との組み合わせを包
含する、請求項１〜５のいずれか記載のポジ型光熱写真
エレメント。 - 【請求項７】 前記光開始剤がオキソノール染料とヨー
ドニウム塩との組み合わせを包含する、請求項６記載の
ポジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項８】 前記オキソノール染料が以下の式(I)ま
たは(III)で示す核を有する化合物から選択される、請
求項７記載のポジ型光熱写真エレメント: 【化１】 式中、M+はカチオンであり、Xは、式 【化２】 そしてYは、式 【化３】 [両式中、R5は、水素、ハロゲン原子、CN、または５個
までの炭素原子を有するアルキル基であって、必要に応
じて、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシおよび５個までの
炭素原子を有するアルコキシ基から選択される１個以上
の置換基を有するものであり、R6は、10個までの炭素原
子を有するアルキル基または14個までの炭素原子を有す
るアリール基であって、いずれも、必要に応じて、５個
までの炭素原子を有するアルキル基、５個までの炭素原
子を有するアルコキシ基、10個までの炭素原子を有する
アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基およびシアノ基か
ら選択される１個以上の置換基を有するものであり、そ
してR7は、HまたはR6である。]で示す基である。 - 【請求項９】 前記オキソノール染料が以下の式に示す
構造のいずれかの核を有する、請求項８記載のポジ型光
熱写真エレメント: 【化４】 式中、M+は、式 【化５】 で示す群から選択される。 - 【請求項１０】 前記オキソノール染料が以下の式(IV)
で示す核を有する、請求項８記載のポジ型光熱写真エレ
メント： 【化６】 式中、各R8は、独立して、プロピル、イソプロピル、ブ
チルまたはイソブチルである。 - 【請求項１１】 前記ヨードニウム塩が以下に示す核を
有する化合物から選択される、請求項７〜10のいずれか
記載のポジ型光熱写真エレメント: 【化７】 式中、Ar1およびAr2は、独立して、４〜20個の炭素原子
を有する芳香族炭素環、複素環およびジ複素環であっ
て、必要に応じて、環構造中にヨウ素原子を含むように
相互に連結するものであり、これらの基のそれぞれは、
５個までの炭素原子を有するアルキル基、５個までの炭
素原子を有するアルコキシ基、ハロゲン原子、５個まで
の炭素原子を有するカルボキシ基、シアノ基およびニト
ロ基から選択される１個以上の置換基を有しうる。 - 【請求項１２】 前記ヨードニウム塩が、式 【化８】 から選択されるカチオンを包含し、式 【化９】 から選択されるアニオンを包含する、請求項11記載のポ
ジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項１３】 前記オキソノール染料：ヨードニウム
塩の重量比が20：１〜１：50である、請求項７〜10のい
ずれか記載のポジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項１４】 前記オキソノール染料：ヨードニウム
塩の重量比が２:１〜１:10である、請求項13記載のポジ
型光熱写真エレメント。 - 【請求項１５】 前記フリーラジカル硬化性樹脂がエチ
レン性またはポリエチレン性不飽和化合物を包含する、
請求項１〜14のいずれか記載のポジ型光熱写真エレメン
ト。 - 【請求項１６】 前記樹脂が多官能アルコールのアクリ
ルまたはメタクリルエステル、アクリレートまたはメタ
クリレート末端エポキシ、ポリエステルまたはポリウレ
タン樹脂またはこれらの組み合わせを包含する、請求項
15記載のポジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項１７】 前記樹脂がテトラエチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ヒダントインヘキサアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレートまたはこれ
らの組み合わせを包含する、請求項16記載のポジ型光熱
写真エレメント。 - 【請求項１８】 前記還元性銀源が銀塩または有機また
はヘテロ有機酸の錯体を包含する、請求項１〜17のいず
れか記載のポジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項１９】 前記還元性銀源が銀ベヘネートであ
る、請求項18記載のポジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項２０】 前記銀イオンのための還元剤がフェニ
ドン、ヒドロキノン、カテコールまたはヒンダードフェ
ノール現像剤である、請求項１〜19のいずれか記載のポ
ジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項２１】 前記現像剤が、式 【化１０】 [式中、Rは水素または一般に５個までの炭素原子を有す
るアルキル基である。]で示される、請求項20記載のポ
ジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項２２】 トナーをさらに含有する、請求項１〜
21のいずれか記載のポジ型光熱写真エレメント。 - 【請求項２３】 前記トナーがフタラジノン、フタラジ
ンまたはフタル酸である、請求項22記載のポジ型光熱写
真エレメント。 - 【請求項２４】 前記感光性媒体がマイクロカプセルを
含有する層を有しており、還元性銀源および銀イオンの
ための還元剤の一方がマイクロカプセル化されており、
他方が非カプセル化相中に存在する、変形された請求項
１記載の光熱写真エレメント。 - 【請求項２５】 前記マイクロカプセルが光硬化性組成
物から形成される、請求項24記載の変形された光熱写真
エレメント。 - 【請求項２６】 (a)請求項１〜25のいずれか記載の光
熱写真エレメントを化学線照射に像に応じて露出するこ
とにより潜像を形成する工程; および(b)該露出エレメ
ントを加熱することにより潜像を現像する工程; を包含
するポジティブ像を生成する方法。 - 【請求項２７】 前記像形成されたエレメントが90〜15
0℃で５〜60秒間加熱される、請求項26記載の方法。 - 【請求項２８】 前記像形成されたエレメントが125〜1
30℃の温度で５〜15秒間加熱される、請求項27記載の方
法。 - 【請求項２９】 前記エレメントが波長300〜1000nmの
照射に露出される、請求項26〜28のいずれか記載の方
法。
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