JP2638859B2 - 光ディスク基板の作製方法 - Google Patents
光ディスク基板の作製方法Info
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- JP2638859B2 JP2638859B2 JP30082587A JP30082587A JP2638859B2 JP 2638859 B2 JP2638859 B2 JP 2638859B2 JP 30082587 A JP30082587 A JP 30082587A JP 30082587 A JP30082587 A JP 30082587A JP 2638859 B2 JP2638859 B2 JP 2638859B2
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- Japan
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- radiation
- optical disk
- resin
- manufacturing
- curing
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- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、レーザ光等の光を用いて情報の記録再生を
行なう光ディスクに関するものである。
行なう光ディスクに関するものである。
従来の技術 近年、情報処理システムにおける処理情報量の急速な
増加に伴い、特に画像情報処理やオフィスオートメーシ
ョン等の分野において記録容量の大きい記録媒体、とり
わけ光ディスクが注目されている。光ディスクでは、記
録膜上に光ビームを照射し、光吸収による局部的な温度
上昇あるいは化学変化を誘起して記録を行ない、記録時
より低強度の光ビームを照射して記録膜上の変化を検出
することによって再生を行なう。
増加に伴い、特に画像情報処理やオフィスオートメーシ
ョン等の分野において記録容量の大きい記録媒体、とり
わけ光ディスクが注目されている。光ディスクでは、記
録膜上に光ビームを照射し、光吸収による局部的な温度
上昇あるいは化学変化を誘起して記録を行ない、記録時
より低強度の光ビームを照射して記録膜上の変化を検出
することによって再生を行なう。
従来の光ディスクは、例えば第３図に示すように構成
されている。すなわち、トラッキング溝が形成されたプ
ラスチック，ガラス等の透明基板31上に基板の熱損傷防
止あるいは記録膜保護のための下地層32を形成し、この
下地層の上に記録膜33を形成してさらにその上に保護層
34を設けた構成になっている。
されている。すなわち、トラッキング溝が形成されたプ
ラスチック，ガラス等の透明基板31上に基板の熱損傷防
止あるいは記録膜保護のための下地層32を形成し、この
下地層の上に記録膜33を形成してさらにその上に保護層
34を設けた構成になっている。
光ディスク表面のじんあいによる記録再生特性の劣化
を防止するために、記録再生は前記光ディスクのトラッ
キング溝付透明基板側より光ビームを記録膜に照射して
行なう。この時、透明基板の光入射端で光ビーム径を充
分大きくし、じんあいによる影響を小さくするために透
明基板の厚さは1mm前後に設定される。
を防止するために、記録再生は前記光ディスクのトラッ
キング溝付透明基板側より光ビームを記録膜に照射して
行なう。この時、透明基板の光入射端で光ビーム径を充
分大きくし、じんあいによる影響を小さくするために透
明基板の厚さは1mm前後に設定される。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、前記のような構成の従来の光ディスク
では光入射用の透明基板自身にトラッキング溝が形成さ
れているため、透明基板は光学特性，耐湿性，耐熱性，
溝成形性の全てに優れていることが要求され、そのよう
な要求を充分に満たす透明基板が得られていない。
では光入射用の透明基板自身にトラッキング溝が形成さ
れているため、透明基板は光学特性，耐湿性，耐熱性，
溝成形性の全てに優れていることが要求され、そのよう
な要求を充分に満たす透明基板が得られていない。
すなわち、従来の光ディスクの溝付透明基板として用
いられているアクリル樹脂の場合は溝成形性，光学特
性，生産性に優れているが耐湿性，耐熱性に劣ってお
り、ポリカーボネイト樹脂の場合は耐熱性，溝成形性，
生産性に優れているが複屈折等の光学特性に劣ってお
り、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂およびガラスの場
合は光学特性，耐熱性に優れているが、生産性に劣って
いるという問題点を有していた。
いられているアクリル樹脂の場合は溝成形性，光学特
性，生産性に優れているが耐湿性，耐熱性に劣ってお
り、ポリカーボネイト樹脂の場合は耐熱性，溝成形性，
生産性に優れているが複屈折等の光学特性に劣ってお
り、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂およびガラスの場
合は光学特性，耐熱性に優れているが、生産性に劣って
いるという問題点を有していた。
さらに、熱硬化性樹脂の紫外線硬化タイプのものを用
いることによって成形時間の短縮し、生産性向上を図る
試みもされているが、成形基板の厚さが1mm前後と厚い
ため、金属系スタンパを用いたキャスティング成形では
基板厚方向に紫外線吸収量に差が生じて硬化状態に分布
が生じる結果、基板のソリや化学的不安定性の原因とな
るという問題点を有している。
いることによって成形時間の短縮し、生産性向上を図る
試みもされているが、成形基板の厚さが1mm前後と厚い
ため、金属系スタンパを用いたキャスティング成形では
基板厚方向に紫外線吸収量に差が生じて硬化状態に分布
が生じる結果、基板のソリや化学的不安定性の原因とな
るという問題点を有している。
一方、ポリカーボネイト樹脂等の熱可塑性樹脂に用い
るインジェクション成形法は生産性に優れているが、設
備が高価でかつ成形条件を厳密，安定に維持する必要が
あるため、小規模多品種生産に不適当という指摘もあ
り、紫外線等の放射線を用いたキャスティング成形法の
改良が期待されている。
るインジェクション成形法は生産性に優れているが、設
備が高価でかつ成形条件を厳密，安定に維持する必要が
あるため、小規模多品種生産に不適当という指摘もあ
り、紫外線等の放射線を用いたキャスティング成形法の
改良が期待されている。
本発明は上記問題点に鑑み、光学特性，耐湿性，耐熱
性，溝成形性，生産性に優れ、特に小規模多品種生産に
適した光ディスク基板の作製方法を提供するものであ
る。
性，溝成形性，生産性に優れ、特に小規模多品種生産に
適した光ディスク基板の作製方法を提供するものであ
る。
問題点を解決するための手段 この目的を達成するために本発明の光ディスク基板の
作製方法では、基板材料に光学特性，耐熱性等に優れた
放射線硬化樹脂を用い、その放射線吸収端波長領域（硬
化開始機構の放射線吸収端波長領域）のみの放射線を用
いて該放射線硬化樹脂を硬化成形するという手段を行な
う。
作製方法では、基板材料に光学特性，耐熱性等に優れた
放射線硬化樹脂を用い、その放射線吸収端波長領域（硬
化開始機構の放射線吸収端波長領域）のみの放射線を用
いて該放射線硬化樹脂を硬化成形するという手段を行な
う。
作用 放射線硬化樹脂にその放射線吸収端波長領域（放射線
吸収率が90％前後から10％前後に変化していく波長領
域）の放射線を照射すれば、放射線照射面側の樹脂の硬
化が進行する一方、反対面側の樹脂にも数10％の放射線
が放射線照射面側の樹脂内を通過して到達し、硬化を進
行させるため、硬化が照射面側に片寄って進行するある
いは成形基板内部の樹脂の硬化が不充分となるというよ
うなことに起因する問題点を解決することができる。
吸収率が90％前後から10％前後に変化していく波長領
域）の放射線を照射すれば、放射線照射面側の樹脂の硬
化が進行する一方、反対面側の樹脂にも数10％の放射線
が放射線照射面側の樹脂内を通過して到達し、硬化を進
行させるため、硬化が照射面側に片寄って進行するある
いは成形基板内部の樹脂の硬化が不充分となるというよ
うなことに起因する問題点を解決することができる。
実 施 例 以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例における光ディスク基板の
作製方法の構成図である。第１図において、11は紫外線
照射装置、12は波長310〜390nmの領域のバンドパスフィ
ルター板、13はガラス平板、14はエポキシアクリレート
系紫外線硬化樹脂、15は金属系スタンパ、16はスペーサ
である。
作製方法の構成図である。第１図において、11は紫外線
照射装置、12は波長310〜390nmの領域のバンドパスフィ
ルター板、13はガラス平板、14はエポキシアクリレート
系紫外線硬化樹脂、15は金属系スタンパ、16はスペーサ
である。
第２図は上記実施例中の紫外線硬化樹脂の分光吸収特
性とバンドパスフィルター板の分光透過特性を表わした
図である。第２図において、21は紫外線硬化樹脂の分光
吸収曲線、22はバンドパスフィルター板の分光透過曲線
である。
性とバンドパスフィルター板の分光透過特性を表わした
図である。第２図において、21は紫外線硬化樹脂の分光
吸収曲線、22はバンドパスフィルター板の分光透過曲線
である。
スペーサ16によって一定間隔（１〜1.2mm）に保たれ
たスタンパ15とガラス平板13の間に紫外線硬化樹脂14を
充填後、バンドパスフィルター板12を通して紫外線をガ
ラス平板13上から照射して紫外線硬化樹脂14を成形固化
させる。紫外線硬化樹脂14の紫外線吸収端波長領域（31
0〜390nm）の紫外線のみを照射するので、紫外線照射両
側の樹脂の硬化が進行する一方、中央部及び反対面側
（スタンパ側）の樹脂にも数10％の紫外線が到達して硬
化を進行させるため、硬化が照射面側に片寄って進行す
るあるいは成形基板内部の樹脂の硬化が不充分になると
いうようなことが発生せずほぼ均一な硬化が達成でき
る。
たスタンパ15とガラス平板13の間に紫外線硬化樹脂14を
充填後、バンドパスフィルター板12を通して紫外線をガ
ラス平板13上から照射して紫外線硬化樹脂14を成形固化
させる。紫外線硬化樹脂14の紫外線吸収端波長領域（31
0〜390nm）の紫外線のみを照射するので、紫外線照射両
側の樹脂の硬化が進行する一方、中央部及び反対面側
（スタンパ側）の樹脂にも数10％の紫外線が到達して硬
化を進行させるため、硬化が照射面側に片寄って進行す
るあるいは成形基板内部の樹脂の硬化が不充分になると
いうようなことが発生せずほぼ均一な硬化が達成でき
る。
なお、本実施例では放射線及び放射線硬化を紫外線系
のものとしたが、電子線等の他の放射線系のものを用い
ても良い。
のものとしたが、電子線等の他の放射線系のものを用い
ても良い。
発明の効果 本発明は、ディスク基板材料として光学特性，耐熱
性，成形性等に優れた放射線硬化樹脂を用い、その放射
線吸収端波長領域のみの放射線を用いて該放射線硬化樹
脂を硬化成形する方法によって特性が均一でソリ，変形
が小さく、生産性が高くて小規模多品種生産に適した光
ディスク基板を実現できるものである。
性，成形性等に優れた放射線硬化樹脂を用い、その放射
線吸収端波長領域のみの放射線を用いて該放射線硬化樹
脂を硬化成形する方法によって特性が均一でソリ，変形
が小さく、生産性が高くて小規模多品種生産に適した光
ディスク基板を実現できるものである。
第１図は本発明の一実施例における光ディスク基板の作
製方法の構成図、第２図は上記実施例中の紫外線硬化樹
脂の分光吸収特性とバンドパスフィルター板の分光透過
特性を表わした特性図、第３図は従来の光ディスクの構
成図である。 11……紫外線照射装置、12……バンドパスフィルター、
13……ガラス平板、14……紫外線硬化樹脂、15……スタ
ンパ、16……スペーサ、21……紫外線硬化樹脂の分光吸
収曲線、22……バンドパスフィルター板の分光透過曲
線、31……透明基板、32……下地層、33……記録膜、34
……保護層。
製方法の構成図、第２図は上記実施例中の紫外線硬化樹
脂の分光吸収特性とバンドパスフィルター板の分光透過
特性を表わした特性図、第３図は従来の光ディスクの構
成図である。 11……紫外線照射装置、12……バンドパスフィルター、
13……ガラス平板、14……紫外線硬化樹脂、15……スタ
ンパ、16……スペーサ、21……紫外線硬化樹脂の分光吸
収曲線、22……バンドパスフィルター板の分光透過曲
線、31……透明基板、32……下地層、33……記録膜、34
……保護層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−123465（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−122526（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−262240（ＪＰ，Ａ) 実開 昭56−157021（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】放射線硬化樹脂の放射線吸収端波長領域の
みの放射線を用いて硬化成形することを特徴とする放射
線硬化樹脂による光ディスク基板の作製方法。 - 【請求項２】放射線が紫外線であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の光ディスク基板の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30082587A JP2638859B2 (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 光ディスク基板の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30082587A JP2638859B2 (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 光ディスク基板の作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01140442A JPH01140442A (ja) | 1989-06-01 |
| JP2638859B2 true JP2638859B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=17889558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30082587A Expired - Fee Related JP2638859B2 (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 光ディスク基板の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2638859B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100543662B1 (ko) * | 2003-11-18 | 2006-01-20 | 주식회사 엔텍 | 레인지 후드 |
-
1987
- 1987-11-27 JP JP30082587A patent/JP2638859B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01140442A (ja) | 1989-06-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |