JP2617613B2 - 縮小投影露光装置用レチクル - Google Patents

縮小投影露光装置用レチクル

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は縮小投影露光装置用レチクルに関し、特にレ
チクル内の目ずれチェックパターンに関する。
〔従来の技術〕
従来の縮小投影露光装置用のレチクルは、例えば第２
図のように、透明基板１上に金属膜または金属酸化膜か
らなる回路パターン２と目ずれチェックパターンとから
構成されている。
目ずれチェックパターンのうち３がＹ方向の目ずれチ
ェックパターン、４がＸ方向の目ずれチェックパターン
であり、第２図ではX,Yの目ずれチェックパターンを伴
なう回路パターン２が４面付になっている。このレチク
ルを使って縮小投影露光装置でパイロットウェハーを露
光，現象し、パイロットウェハーの目ずれチェックで目
ずれが規格内であれば残りのウェハーを露光してゆくの
が手順である。第２図のレチクルを使った場合ウェハー
にパターンを転写した際X,Yの目ずれチェックパターン
は、それぞれ同じものが規則正しく並んでいる為に目ず
れチェックのときに、どのパターンをチェックして良い
のかわからなかった。
〔発明が解決しようとする課題〕 縮小投影露光装置では、レンズの中央部で露光された
箇所での目ずれ量がより正しい値である。これに関して
第３図を用いて説明する。
第３図において１が縮小投影露光装置用レチクルであ
り、このレチクル１がレチクルローテーションを起こし
た場合点線で示されるレチクル11のように移動する。こ
の際Ａ点はＡ′点までずれ、Ｂ点はＢ′点までずれるこ
とになる。
ベクトル▲▼′をｘ方向、ｙ方向に分解すると▲
▼，▲▼となり、ベクトル▲▼′をｘ方
向,y方向に分解すると▲▼，▲▼となる。▲
▼と▲▼及び▲▼，▲▼はそれぞれ方向
が逆で同じ大きさの為、Ａ′点においてX,Y方向にずれ
を修正した場合、Ｂ点では逆に反対側に２倍ずれること
になる。したがって以上のことによりチップ内の最大目
ずれ量を小さくする為には、目ずれチェックはレチクル
の中央部で行なう必要がある。
ところが従来のレチクルを使用した場合レチクル中央
部と端の目ずれチェックパターンの区別がつかない為、
半分の確率でレチクル端の目ずれチェックパターンを使
うことになる為、正しい目ずれチェックが出来ないとい
う欠点があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の縮小投影露光装置用レチクルは、透明基板上
に形成された複数の回路パターンとＸ方向及びＹ方向の
複数の目ずれチェックパターンとを有する縮小投影露光
装置用レチクルにおいて、前記目ずれチェックパターン
のうち前記透明基板のより中央部に近い位置に形成され
たＸ方向及びＹ方向の複数の前記目ずれチェックパター
ンに印を設けたものである。
〔実施例〕
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の上面図である。
透明基板１上には金属膜または金属酸化膜よりなる回
路パターン２と目ずれチェックパターンとが形成されレ
チクルを構成している。そして目ずれチェックパターン
の内レチクル中央部のＹ方向目ずれチェックパターン３
とＸ方向目ずれチェックパターン４には印５が設けられ
ている。
このように構成された本実施例によれば、パターンを
ウェハーに転写後、目ずれチェックすべき中央部の目ず
れチェックパターンを容易に検出できるため、目ずれチ
ェックを正確に行うことができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、縮小投影露光装置用レ
チクルにおいて、パターン転写後目ずれチェックすべき
レチクル中央部の目ずれチェックパターンに印をつける
ことによって、より正しい目ずれ量を把握できるという
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の縮小投影露光装置用レチクルの上面
図、第２図は従来例の上面図、第３図はレチクルローテ
ーションを説明するための図である。 １……透明基板、２……回路パターン、３……Ｙ方向目
ずれチェックパターン、４……Ｘ方向目ずれチェックパ
ターン、５……印。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】透明基板上に形成された複数の回路パター
    ンとＸ方向及びＹ方向の複数の目ずれチェックパターン
    とを有する縮小投影露光装置用レチクルにおいて、前記
    目ずれチェックパターンのうち前記透明基板のより中央
    部に近い位置に形成されたＸ方向及びＹ方向の複数の前
    記目ずれチェックパターンに印を設けたことを特徴とす
    る縮小投影露光装置用レチクル。
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