JP2608414B2 - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JP2608414B2 JP2608414B2 JP62197159A JP19715987A JP2608414B2 JP 2608414 B2 JP2608414 B2 JP 2608414B2 JP 62197159 A JP62197159 A JP 62197159A JP 19715987 A JP19715987 A JP 19715987A JP 2608414 B2 JP2608414 B2 JP 2608414B2
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- Japan
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- magneto
- layer
- optical recording
- resin
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光磁気ディスク等の光磁気記録媒体に関す
る。
る。
（従来の技術） 近年、光磁気記録媒体の中でも消去，再記録が容易と
いうことから光磁気記録媒体が注目されている。この光
磁気記録媒体は記録媒体材料として磁性体が用いられ、
この磁性体の磁化の方向の変化により情報の記録がなさ
れる。この磁性体としては、一般にGd,Tb,Dy等の希土類
金属とFe,Co,Ni等の遷移金属とを組み合せた非晶質（ア
モルファス）希土類遷移金属が用いられる。
いうことから光磁気記録媒体が注目されている。この光
磁気記録媒体は記録媒体材料として磁性体が用いられ、
この磁性体の磁化の方向の変化により情報の記録がなさ
れる。この磁性体としては、一般にGd,Tb,Dy等の希土類
金属とFe,Co,Ni等の遷移金属とを組み合せた非晶質（ア
モルファス）希土類遷移金属が用いられる。
上記の如き光磁気記録媒体の具体例としては、例えば
第２図に示されている様に光透過可能な透明基板２上に
非晶質希土類遷移金属から成る光磁気記録層４および有
機樹脂保護層６を形成して成る光磁気記録媒体８を２つ
用意し、それらを透明基板２が外側に位置する態様で有
機樹脂接着層10を介して貼り合せて成るものや、第３図
に示す様に、第２図に示すものにおいて保護層６を省略
し、両記録媒体８の光磁気記録層４同志を直接接着層10
により接着して成るもの等がある。
第２図に示されている様に光透過可能な透明基板２上に
非晶質希土類遷移金属から成る光磁気記録層４および有
機樹脂保護層６を形成して成る光磁気記録媒体８を２つ
用意し、それらを透明基板２が外側に位置する態様で有
機樹脂接着層10を介して貼り合せて成るものや、第３図
に示す様に、第２図に示すものにおいて保護層６を省略
し、両記録媒体８の光磁気記録層４同志を直接接着層10
により接着して成るもの等がある。
上記光磁気記録層４に接する保護層６や接着層10等の
樹脂被膜層の形成は、一般に樹脂を塗布することによっ
て形成される。例えばホットメルト有機樹脂をロールコ
ータで塗布することによって形成される。
樹脂被膜層の形成は、一般に樹脂を塗布することによっ
て形成される。例えばホットメルト有機樹脂をロールコ
ータで塗布することによって形成される。
（発明が解決しようとする問題点） ところが、上記希土類遷移金属から成る光磁気記録層
４は非常に酸化しやすく、また上記保護層６や接着層10
等の樹脂を塗布することによって形成される樹脂被膜層
は塗布工程等において混入した空気（酸素）を多量に含
有している場合が多く、その結果その様な樹脂被膜層が
上記記録層４に接していると該樹脂被膜層中の酸素によ
って該記録層４が酸化され、劣化してしまうという問題
があった。また、上記樹脂被膜層としてはできるだけ記
録感度を向上させることができるものであることが望ま
しい。
４は非常に酸化しやすく、また上記保護層６や接着層10
等の樹脂を塗布することによって形成される樹脂被膜層
は塗布工程等において混入した空気（酸素）を多量に含
有している場合が多く、その結果その様な樹脂被膜層が
上記記録層４に接していると該樹脂被膜層中の酸素によ
って該記録層４が酸化され、劣化してしまうという問題
があった。また、上記樹脂被膜層としてはできるだけ記
録感度を向上させることができるものであることが望ま
しい。
本発明の目的は、上記事情に鑑み、光磁気記録層に接
する樹脂被膜層中の空気に起因する該記録層の酸化を極
力減少させると共に記録感度も向上させることのできる
光磁気記録媒体を提供することにある。
する樹脂被膜層中の空気に起因する該記録層の酸化を極
力減少させると共に記録感度も向上させることのできる
光磁気記録媒体を提供することにある。
（問題点を解決するための手段） 本発明に係る光磁気記録媒体は、上記目的を達成する
ため、光磁気記録層と、該光磁気記録層と接する保護層
または接着層等の樹脂被膜層とを備えて成る光磁気記録
媒体において、上記樹脂被膜層が、樹脂を不活性ガス雰
囲気中で塗布することによって形成され、該樹脂被膜層
中に上記不活性ガスが混入せしめられていることを特徴
とする。
ため、光磁気記録層と、該光磁気記録層と接する保護層
または接着層等の樹脂被膜層とを備えて成る光磁気記録
媒体において、上記樹脂被膜層が、樹脂を不活性ガス雰
囲気中で塗布することによって形成され、該樹脂被膜層
中に上記不活性ガスが混入せしめられていることを特徴
とする。
上記「樹脂を不活性ガス雰囲気中で塗布する」とは、
塗布後における樹脂被膜層中の空気（酸素）含有量をよ
り少なくし、その代りに不活性ガスがより多量に含まれ
る様な状態、つまりできるだけ空気との接触を断って不
活性ガスと接触させ、空気ではなく不活性ガスがより多
く混入せしめられる状態で塗布することを意味し、具体
的には例えばロールコータで塗布する場合ロールに供給
される溶融樹脂を収容するホッパ内から空気を吸引し、
そこへ窒素ガス等の不活性ガスを充填した状態で塗布す
ることを意味する。
塗布後における樹脂被膜層中の空気（酸素）含有量をよ
り少なくし、その代りに不活性ガスがより多量に含まれ
る様な状態、つまりできるだけ空気との接触を断って不
活性ガスと接触させ、空気ではなく不活性ガスがより多
く混入せしめられる状態で塗布することを意味し、具体
的には例えばロールコータで塗布する場合ロールに供給
される溶融樹脂を収容するホッパ内から空気を吸引し、
そこへ窒素ガス等の不活性ガスを充填した状態で塗布す
ることを意味する。
上記樹脂としてはホットメルト樹脂が用いられる。ホ
ットメルト樹脂とは該樹脂の温度を上げていくとある所
定の温度で溶融し、流動性を有するようになる有機樹脂
等をいう。例えばEVA系ホットメルト接着剤（098,ACIジ
ャパン製）や合成ゴム系ホットメルト接着剤（PS−15,A
CIジャパン製）が用いられる。
ットメルト樹脂とは該樹脂の温度を上げていくとある所
定の温度で溶融し、流動性を有するようになる有機樹脂
等をいう。例えばEVA系ホットメルト接着剤（098,ACIジ
ャパン製）や合成ゴム系ホットメルト接着剤（PS−15,A
CIジャパン製）が用いられる。
（作用） 上記の如く樹脂を不活性ガス雰囲気中で塗布すること
により、不活性ガスが多量に含有されて空気（酸素）の
含有量は著るしく低減せしめられた樹脂被膜層が得られ
る。
により、不活性ガスが多量に含有されて空気（酸素）の
含有量は著るしく低減せしめられた樹脂被膜層が得られ
る。
（発明の効果） 本発明に係る光磁気記録媒体は、上記の如く光磁気記
録層に接する保護層または接着層等の樹脂被膜層が樹脂
を不活性ガス雰囲気中で塗布することによって形成さ
れ、該樹脂被膜層中に上記不活性ガスが混入せしめられ
ているので、該樹脂被膜層は従来のものに比べて空気
（酸素）の含有量が著るしく低減せしめられており、そ
の結果該樹脂被膜層に起因する光磁気記録層の酸化をよ
り効果的に防止することができる。
録層に接する保護層または接着層等の樹脂被膜層が樹脂
を不活性ガス雰囲気中で塗布することによって形成さ
れ、該樹脂被膜層中に上記不活性ガスが混入せしめられ
ているので、該樹脂被膜層は従来のものに比べて空気
（酸素）の含有量が著るしく低減せしめられており、そ
の結果該樹脂被膜層に起因する光磁気記録層の酸化をよ
り効果的に防止することができる。
上記効果は、不活性ガス中の酸素ガス濃度が10wt％以
下の場合特に著しい。
下の場合特に著しい。
また、本発明に係る光磁気記録媒体は、上記樹脂被膜
層中に不活性ガスが混入せしめられているので、該樹脂
被膜層は熱伝導率が低く、光ビームによる記録時の記録
感度が向上する。
層中に不活性ガスが混入せしめられているので、該樹脂
被膜層は熱伝導率が低く、光ビームによる記録時の記録
感度が向上する。
（実施態様） 以下、図面を用いて本発明による光磁気記録媒体の実
施態様を説明する。
施態様を説明する。
以下に説明する実施態様は第２図に示す層構成を有す
る光磁気ディスクであり、合成樹脂製の透明基板２上に
非晶質希土類遷移金属から成る光磁気記録層４が形成さ
れ、その上部に前述の如き保護層６が形成されて成る２
つの記録媒体８を、その上部に設けられた接着層10を介
して、透明基板２が外側に位置する態様で対称に貼着さ
れて成るものである。このため、上下両面に光磁気記録
可能である。
る光磁気ディスクであり、合成樹脂製の透明基板２上に
非晶質希土類遷移金属から成る光磁気記録層４が形成さ
れ、その上部に前述の如き保護層６が形成されて成る２
つの記録媒体８を、その上部に設けられた接着層10を介
して、透明基板２が外側に位置する態様で対称に貼着さ
れて成るものである。このため、上下両面に光磁気記録
可能である。
このような光磁気ディスクの製造工程においては、前
記樹脂被膜層である保護層は第１図に示す態様でホット
メルトロールコータにより塗布される。
記樹脂被膜層である保護層は第１図に示す態様でホット
メルトロールコータにより塗布される。
例えばガラスまたはPC,PMMA,エポキシ樹脂、アモルフ
ァスポリオレフィン等の透明プラスチック等からなり、
厚さが約1mm程度となるように形成されている透明基板
２上にスパッタリング等の公知の方法に光磁気記録層４
が形成され、この光磁気記録層４が形成された透明基板
２を該記録層４側を上にしてホットメルトロールコータ
の送りロール11と塗布ロール12との間に挿入し、矢印Ａ
方向に回転する送りロール11によって矢印Ｂ方向に送り
出す。
ァスポリオレフィン等の透明プラスチック等からなり、
厚さが約1mm程度となるように形成されている透明基板
２上にスパッタリング等の公知の方法に光磁気記録層４
が形成され、この光磁気記録層４が形成された透明基板
２を該記録層４側を上にしてホットメルトロールコータ
の送りロール11と塗布ロール12との間に挿入し、矢印Ａ
方向に回転する送りロール11によって矢印Ｂ方向に送り
出す。
上記塗布ロール12の上方にはホットメルトロールコー
タ用ホッパ14が設けられ、該ホッパ14内には保護層６を
形成するホットメルト有機樹脂16の溶融液が収容されて
いる。また、このホッパ14は気密性を有し、上方の空間
部14aには当初存在していた空気を吸引口14bから吸引し
た後に充填口14cからN2,Ar,Ne,He等の不活性ガス（100v
ol％）が適当な圧力、例えば１〜２気圧の下に充填され
続けている。
タ用ホッパ14が設けられ、該ホッパ14内には保護層６を
形成するホットメルト有機樹脂16の溶融液が収容されて
いる。また、このホッパ14は気密性を有し、上方の空間
部14aには当初存在していた空気を吸引口14bから吸引し
た後に充填口14cからN2,Ar,Ne,He等の不活性ガス（100v
ol％）が適当な圧力、例えば１〜２気圧の下に充填され
続けている。
この様な状態で第１図に示す様に上側に光磁気記録層
が形成された透明基板２を両ロール11,12間に挿入して
矢印Ｂ方向に送り出すと、塗布ロール12が矢印Ｃ方向に
回転し、該ロール12によってホッパ14内の溶融樹脂16が
光磁気記録層上に塗布されて保護層６が形成される。
が形成された透明基板２を両ロール11,12間に挿入して
矢印Ｂ方向に送り出すと、塗布ロール12が矢印Ｃ方向に
回転し、該ロール12によってホッパ14内の溶融樹脂16が
光磁気記録層上に塗布されて保護層６が形成される。
上記塗布ロール12が回転してホッパ14中の溶融樹脂16
も流動する。そして、もしホッパ14中の上部空間14aに
空気が存在している場合には溶融樹脂はその空気をまき
込み、従って形成された保護層６は多量に空気を含有す
るものとなるが、本実施例ではその上部空間14に空気で
はなく不活性ガスを充填してなるので溶融樹脂中には空
気ではなく不活性ガスが巻き込まれ、その分空気の含有
量の少ない保護層６が形成される。
も流動する。そして、もしホッパ14中の上部空間14aに
空気が存在している場合には溶融樹脂はその空気をまき
込み、従って形成された保護層６は多量に空気を含有す
るものとなるが、本実施例ではその上部空間14に空気で
はなく不活性ガスを充填してなるので溶融樹脂中には空
気ではなく不活性ガスが巻き込まれ、その分空気の含有
量の少ない保護層６が形成される。
なお、上記の如く空気は塗布時に溶融樹脂中に混入さ
れるが、それがなくとも樹脂中には元々空気が混入され
ている場合が多く、従って例えば図示の如く撹拌棒18を
用い、塗布中不活性ガスを上記空間14aに充填し続けな
がら撹拌棒で撹拌するようにすれば、元々樹脂中に混入
していた空気を放出させて代りに不活性ガスを混入させ
ることができ、形成された保護層６により空気混入量の
少ないものにすることができる。
れるが、それがなくとも樹脂中には元々空気が混入され
ている場合が多く、従って例えば図示の如く撹拌棒18を
用い、塗布中不活性ガスを上記空間14aに充填し続けな
がら撹拌棒で撹拌するようにすれば、元々樹脂中に混入
していた空気を放出させて代りに不活性ガスを混入させ
ることができ、形成された保護層６により空気混入量の
少ないものにすることができる。
上記の如くして保護層６を形成したら、この保護層６
と同様のロールコータによってホットメルト有機樹脂か
ら成る接着層10を形成して記録媒体８を作成し、そのよ
うにして作成された２つの記録媒体８を透明基板２を外
側にして接着層10同志を向い合わせ、プレスして貼り合
せて光磁気ディスクを作成する。
と同様のロールコータによってホットメルト有機樹脂か
ら成る接着層10を形成して記録媒体８を作成し、そのよ
うにして作成された２つの記録媒体８を透明基板２を外
側にして接着層10同志を向い合わせ、プレスして貼り合
せて光磁気ディスクを作成する。
なお、この接着層10は上記保護層６と同様に不活性ガ
ス雰囲気中で樹脂塗布を行なうことによって形成しても
良いが、空気の含有排除という要請が最も大きいのは光
磁気記録層４に接する樹脂被膜層であり、従って本実施
態様の如く記録層４に接しない接着層10は必ずしも不活
性ガス雰囲気中で塗布する必要はない。しかしながら、
保護層がなく接着層10が直接記録層４に接する第３図の
如き層構成を有する場合には、その接着層10は不活性ガ
ス雰囲気中で塗布して形成することが必要となる。
ス雰囲気中で樹脂塗布を行なうことによって形成しても
良いが、空気の含有排除という要請が最も大きいのは光
磁気記録層４に接する樹脂被膜層であり、従って本実施
態様の如く記録層４に接しない接着層10は必ずしも不活
性ガス雰囲気中で塗布する必要はない。しかしながら、
保護層がなく接着層10が直接記録層４に接する第３図の
如き層構成を有する場合には、その接着層10は不活性ガ
ス雰囲気中で塗布して形成することが必要となる。
本発明における光磁気記録層４としては、例えば非晶
質希土類−遷移金属等から成る磁性層を含む記録層、或
は非晶質希土類遷移金属から成る層の両側又は片側に無
機誘電体薄層（例えばSi3N4、AlN,SiOなど）を形成した
もの等が含まれる。この無機誘電体薄層の厚みは200〜2
000Åが適当で好ましくは500〜1000Åである。また前記
非晶質希土類−遷移金属等とは、希土類としてGd,Tb,D
y,Nd等の一種あるいは二種以上、遷移金属としてFe,Co,
Ni等の一種あるいは二種以上、また必要に応じて添加物
としてCr,Pt,Cu等の一種あるいは二種以上とが含有せし
められてなるもので例えばTb Fe Co,Gd Tb Fe,Tb Fe Co
Cr等があり、組成例としてはTb22Fe70Co8at％やTb21Fe
69Co6Cr4at％がある。
質希土類−遷移金属等から成る磁性層を含む記録層、或
は非晶質希土類遷移金属から成る層の両側又は片側に無
機誘電体薄層（例えばSi3N4、AlN,SiOなど）を形成した
もの等が含まれる。この無機誘電体薄層の厚みは200〜2
000Åが適当で好ましくは500〜1000Åである。また前記
非晶質希土類−遷移金属等とは、希土類としてGd,Tb,D
y,Nd等の一種あるいは二種以上、遷移金属としてFe,Co,
Ni等の一種あるいは二種以上、また必要に応じて添加物
としてCr,Pt,Cu等の一種あるいは二種以上とが含有せし
められてなるもので例えばTb Fe Co,Gd Tb Fe,Tb Fe Co
Cr等があり、組成例としてはTb22Fe70Co8at％やTb21Fe
69Co6Cr4at％がある。
次に、本発明の具体的な実施例およびその試験結果に
ついて説明する。
ついて説明する。
130mmφ、厚さ1.2mmのPC（ポリカーボネート）からな
る基板上に、厚さ850ÅのSi3N4からなる無機誘電体薄層
を、その上に厚さ900ÅのTb Fe Coからなる記録層を、
さらにその上に厚さ1000ÅのSi3N4からなる無機誘電体
薄層を形成してこれらの３つの層から成る光磁気記録層
４を設けた。これらの無機誘電体薄層および記録層はマ
グネトロンスパッタ法により形成した。さらに上記光磁
気記録層４上に前述したような方法でホットメルトロー
ルコータのホッパ内にN2ガスを充填しながらホットメル
ト有機樹脂（098/ACI）を厚さ20μｍ塗布して保護層６
を形成して第２図に示す層構成の光磁気ディスクを形成
した。なお前記N2ガス中のO2ガスの量は10wt％であっ
た。
る基板上に、厚さ850ÅのSi3N4からなる無機誘電体薄層
を、その上に厚さ900ÅのTb Fe Coからなる記録層を、
さらにその上に厚さ1000ÅのSi3N4からなる無機誘電体
薄層を形成してこれらの３つの層から成る光磁気記録層
４を設けた。これらの無機誘電体薄層および記録層はマ
グネトロンスパッタ法により形成した。さらに上記光磁
気記録層４上に前述したような方法でホットメルトロー
ルコータのホッパ内にN2ガスを充填しながらホットメル
ト有機樹脂（098/ACI）を厚さ20μｍ塗布して保護層６
を形成して第２図に示す層構成の光磁気ディスクを形成
した。なお前記N2ガス中のO2ガスの量は10wt％であっ
た。
この光磁気ディスクを、N2ガスを充填せずホッパ内上
部空間には従来通り空気を存在せしめた状態でホットメ
ルトロールコータによりホットメルト有機樹脂を塗布し
て保護層６を形成した第２図に示す層構成を有する光磁
気ディスク（比較例）と比較すると、この実施例におけ
る光磁気ディスクは60℃,90％RH環境下で3000時間経過
後C/N低下がみられなかったが、比較例の光磁気ディス
クは同条件下で3000時間経過後約2dB C/Nが低下した。
なお上記C/Nは、1800rpmで光磁気ディスクを回転し3.71
MHzのキャリヤー周波数で記録し再生は1mWのパワーのレ
ーザで行なうことにより測定した。又、感度も本実施例
の保護層は熱伝導率が低いため良好で、0.5mW記録パワ
ーが少なくても、比較例と同様の記録をすることができ
た。
部空間には従来通り空気を存在せしめた状態でホットメ
ルトロールコータによりホットメルト有機樹脂を塗布し
て保護層６を形成した第２図に示す層構成を有する光磁
気ディスク（比較例）と比較すると、この実施例におけ
る光磁気ディスクは60℃,90％RH環境下で3000時間経過
後C/N低下がみられなかったが、比較例の光磁気ディス
クは同条件下で3000時間経過後約2dB C/Nが低下した。
なお上記C/Nは、1800rpmで光磁気ディスクを回転し3.71
MHzのキャリヤー周波数で記録し再生は1mWのパワーのレ
ーザで行なうことにより測定した。又、感度も本実施例
の保護層は熱伝導率が低いため良好で、0.5mW記録パワ
ーが少なくても、比較例と同様の記録をすることができ
た。
本発明による光磁気ディスクは、光磁気記録層に接す
る保護層や接着層等の樹脂被膜層が、該層を形成する樹
脂をN2ガス雰囲気中で塗布することによって形成されて
いるため、該樹脂被膜層への空気混練が防止でき、該被
膜層と接して形成されている記録層の経時酸化が防止さ
れ、記録層の精度を向上させることができる。
る保護層や接着層等の樹脂被膜層が、該層を形成する樹
脂をN2ガス雰囲気中で塗布することによって形成されて
いるため、該樹脂被膜層への空気混練が防止でき、該被
膜層と接して形成されている記録層の経時酸化が防止さ
れ、記録層の精度を向上させることができる。
また、不活性ガス雰囲気中で樹脂を塗布する際、該不
活性ガスに所定の圧力（１気圧以上）を加えておけば従
来の空気混入量よりも多くの不活性ガスが混入され、そ
の結果形成される被膜層は密度が低くなってガサガサの
状態となり、そのため熱伝導率が低下し、光ビームによ
る記録時の記録感度が向上する。
活性ガスに所定の圧力（１気圧以上）を加えておけば従
来の空気混入量よりも多くの不活性ガスが混入され、そ
の結果形成される被膜層は密度が低くなってガサガサの
状態となり、そのため熱伝導率が低下し、光ビームによ
る記録時の記録感度が向上する。
第１図は本発明に係る光磁気記録媒体の樹脂被膜層を塗
布する方法の一例を示す説明図、第２図および第３図は
それぞれ本発明に係る光磁気記録媒体の実施例の層構成
を示す断面図である。 ２……基板、４……光磁気記録層 ６……保護層、10……接着層
布する方法の一例を示す説明図、第２図および第３図は
それぞれ本発明に係る光磁気記録媒体の実施例の層構成
を示す断面図である。 ２……基板、４……光磁気記録層 ６……保護層、10……接着層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 名原 明 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−26660（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−3448（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−87253（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−68750（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】光磁気記録層と、該光磁気記録層と接する
保護層または接着層等の樹脂被膜層とを備えて成る光磁
気記録媒体において、 上記樹脂被膜層が、樹脂を不活性ガス雰囲気中で塗布す
ることによって形成され、該樹脂被膜層中に上記不活性
ガスが混入せしめられていることを特徴とする光磁気記
録媒体。 - 【請求項２】上記不活性ガス中の酸素ガスが10wt％以下
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62197159A JP2608414B2 (ja) | 1987-08-06 | 1987-08-06 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62197159A JP2608414B2 (ja) | 1987-08-06 | 1987-08-06 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6439650A JPS6439650A (en) | 1989-02-09 |
| JP2608414B2 true JP2608414B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=16369752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62197159A Expired - Fee Related JP2608414B2 (ja) | 1987-08-06 | 1987-08-06 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2608414B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2838141B1 (fr) * | 2002-04-03 | 2004-09-10 | Chavanoz Ind | Grille thermo-adhesive |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2577344B2 (ja) * | 1985-06-28 | 1997-01-29 | 株式会社東芝 | 光磁気デイスク及びその製造方法 |
| JPS6226660A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-04 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気光学記憶素子の製造方法 |
-
1987
- 1987-08-06 JP JP62197159A patent/JP2608414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6439650A (en) | 1989-02-09 |
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