JP2598826B2 - チップコイル - Google Patents

チップコイル

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JP2598826B2
JP2598826B2 JP1285681A JP28568189A JP2598826B2 JP 2598826 B2 JP2598826 B2 JP 2598826B2 JP 1285681 A JP1285681 A JP 1285681A JP 28568189 A JP28568189 A JP 28568189A JP 2598826 B2 JP2598826 B2 JP 2598826B2
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thin film
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bobbin
chip coil
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哲也 森長
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、インダクタンス素子として機能するチップ
コイル、特にその電極層の構造に関する。
従来の技術と課題 一般に、チップコイルは、第2図に示す如く、フェラ
イト製のボビン1にコイル線材を巻回してコイル5を形
成する一方、ボビン1の下鍔部2にその側面から底面に
かけて電極3,3を形成し、コイル5の端末を電極3,3へ半
田付けしたものが知られている。
電極部分は、具体的には、第3図に示す様に、Agペー
ストあるいはAg−Pdペーストを塗布して焼付けた厚膜電
極層31へコイル端末5aを半田付けすると共に、半田層35
で厚膜電極層31がコーティングされている。また、他の
構成としては、第4図に示す様に、Agペーストの厚膜焼
付け電極層31上へNi電解メッキ層32さらにSn電解メッキ
層33を施し、その上へコイル端末5aを半田付けすると共
に、半田層35で全体をコーティングしたものも知られて
いる。
しかし、前者の電極構造においては、電極3自体がAg
あるいはAg−Pdとされているため、基板への実装時に半
田による銀くわれが発生し、固着力が劣化する問題点を
有している。この対策としては、AgあるいはAg−Pdをさ
らに厚く付けることが挙げられるが、大幅なコストアッ
プとなり、実際的ではない。しかも、Ag,Ag−Pdの如く
導電性が良好な材料がボビン1に密接するとうず電流損
によるQの劣化が大きくなるという問題点をも有してい
る。
後者の電極構造においては、Agの厚膜焼付け電極層31
上にNiメッキ層32が施されているため、銀くわれは大幅
に防止されるが、第1層がAg層であること、第2層のNi
メッキ層は強磁性体で導電性が良好であること、電解メ
ッキにはバレルメッキ方式を用いることからメッキ厚の
ばらつきが大きく希望のメッキ厚を得るにはかなり厚め
となることより、コイルのQが大幅に劣化するという問
題点は何ら解消されていない。
そこで、本発明の課題は、銀くわれが生じることな
く、ボビンの固着力が高く、半田付け性が良好で、Qの
劣化のない電極層構造を備えたチップコイルを提供する
ことにある。
課題を解決するための手段と作用 以上の課題を解決するため、本発明に係るチップコイ
ルは、電極が、 (a)ボビン素地との密着性が良好で、非磁性かつ高抵
抗の第1層と、 (b)半田耐熱性が良好な、非磁性かつ高抵抗のNi−Cu
の薄膜層からなる第2層と、 (c)導電性及び半田付け性が良好な第3層と、 から構成されていることを特徴とする。
以上の電極層構造によれば、第1層によってボビンへ
の固着力が高められ、Ni−Cuの薄膜層からなる第2層に
よって半田耐熱性が向上し、第3層によって導電性及び
半田付け性が確保される。しかも、導電性の良好な材料
は第3層としてボビン表面から極力離して設置されてお
り、うず電流損によるQの劣化が抑えられる。
具体的には、第1層としては、Ni−Crの薄膜層とする
ことでボビンへの高い固着力が得られ、半田耐熱性が大
きく、非磁性、高抵抗であることによってQの劣化も大
きく減少する。Ni−Cuの薄膜層からなる第2層は、半田
耐熱性が大きく、Qの劣化もなくなる。第3層として
は、Ag,Cu又はSnの薄膜層とすることで導電性、半田付
け性が確保され、ボビン表面から離れることでうず電流
損も少なくなる。
また、前記各薄膜層をスパッタリング法にて形成すれ
ば1工程で安価に形成でき、他には蒸着法、イオンプレ
ーティング法、プラズマCVD法、放電溶着法による乾式
メッキ法で形成可能である。
実施例 以下、本発明に係るチップコイルの一実施例を添付図
面に従って説明する。
第1図は本発明の一実施例であるチップコイルの電極
部分を示し、電極10はフェライト製ボビン1の下鍔部2
に、従来と同様の位置に、即ち側面から底面にかけて形
成されている。電極10は内側(ボビン素地に近い方)か
ら、第1層11、第2層12、第3層13とされ、第1層11は
Ni−Crの薄膜層、第2層12はNi−Cuからなる薄膜層、第
3層13はAg,Cu又はSnからなる薄膜層である。各薄膜層1
1,12,13の膜厚はそれぞれ3μm以下が好ましく、乾式
メッキ法、とりわけスパッタリング法で形成することが
好ましい。
スパッタリング法によれば、多ターゲット・スパッタ
リング装置を用い、電極10以外の不要部分をマスキング
し、まずNi−Cr、次にNi−Cu、さらにAg,Cu又はSnを順
次スパッタリングする。これによって、各薄膜層11,12,
13が所定の形状及び膜厚に精度良く形成される。特に、
膜厚を必要最小限に薄くでき、導電性の良好な第3層13
が外側に位置し、ボビン表面に近い第1層11、第2層12
は非磁性、高抵抗であることから、うず電流損が極めて
小さくQの劣化がない。
また、第1層11を構成するNi−Crはフェライト素地と
の密着力が高く、半田耐熱性、非磁性、高抵抗という観
点から約3〜25wt%のCrを含有するNi−Cr合金が最適で
ある。第2層12を構成するNi−Cuは半田耐熱性及びQの
劣化を少なくするという観点から選択され、Qに関して
は約20〜90%のCuを含有するNi−Cu合金を用いることが
好ましい。第3層13を構成するAg,Cu,Snは専らコイル端
末5aとの電気的接続を図るために高導電性、高半田付け
性の材料として選択された。
以上の構成からなる電極10上には、コイル端末5aが半
田付けられると共に、半田層14にて全体的にコーティン
グされ、この状態で基板(図示せず)上に半田付けにて
実装される。
発明の効果 以上の説明で明らかな様に、本発明によれば、内側の
第1層にボビン素地との密着性が良好で非磁性かつ高抵
抗の材料を設けたため、ボビンへの固着力が高く、うず
電流損によるQの劣化を低く抑えることができる、ま
た、第2層に半田耐熱性が良好な、非磁性かつ高抵抗の
Ni−Cuの薄膜層を、第3層に導電性及び半田付け性が良
好な電極材料を設けたため、コイル端末との電気的接続
が十分に確保される。
特に、各材料をスパッタリング法等の乾式メッキ法で
薄膜に形成すれば、安価に付くと共にQもより向上す
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るチップコイルの一実施例の要部を
示す拡大断面図である。第2図は従来のチップコイルの
部分断面図、第3図はその電極の拡大断面図、第4図は
従来の他の電極の拡大断面図である。 2……下鍔部、5a……コイル端末、10……電極、11……
第1薄膜層、12……第2薄膜層、13……第3薄膜層、14
……半田層。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁性体からなるボビンにコイル線材を巻回
    し、コイルの端末をボビンの鍔部に設けた電極に半田付
    けしたチップコイルにおいて、 前記電極が、ボビン素地との密着性が良好で、非磁性か
    つ高抵抗の第1層と、半田耐熱性が良好な、非磁性かつ
    高抵抗のNi−Cuの薄膜層からなる第2層と、導電性及び
    半田付け性が良好な第3層とから構成され、前記第1
    層、第2層及び第3層が薄膜形成法にて形成されている
    ことを特徴とするチップコイル。
  2. 【請求項2】第1層がNi−Crの薄膜層、第3層が少なく
    ともAgの薄膜層からなることを特徴とする請求項1記載
    のチップコイル。
  3. 【請求項3】第1層、第2層及び第3層がスパッタリン
    グにより形成されていることを特徴とする請求項2記載
    のチップコイル。
JP1285681A 1989-10-31 1989-10-31 チップコイル Expired - Lifetime JP2598826B2 (ja)

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