JP2626329B2 - 電子部品 - Google Patents

電子部品

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JP2626329B2
JP2626329B2 JP3200209A JP20020991A JP2626329B2 JP 2626329 B2 JP2626329 B2 JP 2626329B2 JP 3200209 A JP3200209 A JP 3200209A JP 20020991 A JP20020991 A JP 20020991A JP 2626329 B2 JP2626329 B2 JP 2626329B2
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JP
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conductive layer
terminal electrode
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heat resistance
electronic component
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一義 内山
圭司郎 山内
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は電子部品に関し、特に
たとえば基板上において半田付けされる端子電極を有す
る積層コンデンサやチップコイル等の電子部品に関す
る。
【0002】
【従来の技術】この種の従来の電子部品としては、たと
えば図2に示すような積層コンデンサ1がある。積層コ
ンデンサ1は、セラミック層2と内部電極3とを交互に
積層して得られる本体4を含み、本体4の外表面には、
AgまたはAg−Pd系の電極ペーストを塗布・焼成し
て端子電極5が形成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の従来技
術では、端子電極5の半田耐熱性が不十分である、
端子電極5のマイグレーションが大きい、貴金属(A
g)を用いているため高価であるという問題点があっ
た。そこで、図3に示すように、Ag電極ペーストを塗
布・焼成して形成した端子電極5の外側に、Niの導電
層6とSnの導電層7を電解めっき(湿式めっき)によ
り形成し、それによって半田耐熱性を向上した積層コン
デンサ8が知られている。
【0004】しかしながら、この従来技術によっても上
述の問題点をいずれも解決することはできず、また、導
電層6および7を電解めっき(湿式めっき)により形成
するため、たとえばセラミックのような本体4に電解液
が入り込んで劣化要因が形成されてしまうという別の問
題点が生じてしまい、コストおよび信頼性の面でなお問
題があった。
【0005】それゆえに、この発明の主たる目的は、よ
り安価でかつ信頼性の高い、電子部品を提供することで
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、端子電極
の少なくとも表面をNi(5〜30wt%)とZn(1
0〜35wt%)とCu(50〜85wt%)とを含む
導電層で形成したことを特徴とする、電子部品である。
第2の発明は、端子電極の少なくとも表面をNi(8〜
10wt%)とCu(87〜90wt%)とSn(2〜
3wt%)とを含む導電層で形成したことを特徴とす
る、電子部品である。
【0007】
【作用】端子電極の少なくとも表面に形成された所定の
組成を有する導電層によって半田耐熱性および半田付性
等が確保され得る。
【0008】
【発明の効果】この発明によれば、卑金属の表面層によ
って半田耐熱性および半田付性等を確保でき、全体とし
てより信頼性の高い電子部品を得ることができる。そし
て、端子電極をスパッタリング,蒸着,イオンプレーテ
ィング,溶射等の気相めっきによって形成するようにす
れば、本体がセラミックであっても、その劣化要因の形
成を防止でき、電子部品の信頼性をさらに向上できる。
【0009】この発明の上述の目的,その他の目的,特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
【0010】
【実施例】図1に示すこの実施例の積層コンデンサ10
は、複数の内部電極12と複数のセラミック層14とを
交互に積み重ねて得られる本体16を含む。本体16の
両端部には、それぞれが卑金属のみを成分とする第1導
電層18および第2導電層20ならびに第3導電層22
を含む端子電極24が形成される。
【0011】すなわち、第1導電層18は、Ti,M
o,CrおよびNiの1つ以上をターゲットとして、A
r量1×10-3Torr中のプレーナマグネトロンスパ
ッタリング(以下、単に「スパッタリング」という)に
より本体16の両端面に付与される。第2導電層20
は、NiおよびCuの少なくとも1つをターゲットとし
て、スパッタリングにより第1導電層18の外側からこ
れを被うようにして付与される。第3導電層22は、N
i,ZnおよびCuの合金をターゲットとして、スパッ
タリングにより第2導電層20のさらに外側からこれを
被うようにして付与される。この第3導電層は、半田耐
熱性あるいは半田付性等に直接影響を与えるため、特に
その組成が重要であり、この実施例では、Ni:5wt
%,Zn:10wt%,Cu:85wt%に設定され
る。
【0012】そして、発明者の実験によれば、肉厚1μ
mの第3導電層22について、270℃・30秒の半田
付条件の下で半田耐熱性および半田付性がともに良好で
あることが確認できた。また、第3導電層22の各成分
の含有量を変更した場合、NiおよびZnの含有量がそ
れぞれ30wt%および35wt%を超えたとき半田付
性が低下する。また、Cuの含有量が100wt%のと
きには耐熱試験後の半田付性が低下する。しかしなが
ら、Ni:5〜30wt%,Zn:10〜35wt%,
Cu:50〜85wt%の範囲内であれば所定の半田耐
熱性および半田付性が得られることが確認できた。
【0013】さらに、図1の第3導電層22として、N
i:8〜10wt%,Cu:87〜90wt%,Sn:
2〜3wt%からなる導電層を用いた場合にも同様に、
良好な半田耐熱性および半田付性が得られることが確認
できた。なお、上述の実施例における端子電極24は、
導電層18〜22を含む3層構造に形成されたが、これ
に限らず第3導電層22の1層のみでもよいし、2層あ
るいは4層以上の積層構造であってもよい。そして、表
面層を除く各層の成分や組成は貴金属または卑金属のい
ずれでもよくかつ形成方法も任意でよい。
【0014】また、各導電層18〜22を付与するため
のスパッタリングの条件は実施例のものに限られず、必
要に応じて適宜変更されてもよい。さらに、各導電層1
8〜22は、スパッタリング以外に、蒸着やイオンプレ
ーティングあるいは溶射等の任意の気相めっきにより付
与されてもよい。そして、この発明は、積層コンデンサ
以外に、フィルムコンデンサ,チップコイル,チップL
Cフィルタやその他本体の外表面に端子電極が形成され
る任意の電子部品に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す断面図解図である。
【図2】従来技術を示す断面図解図である。
【図3】他の従来技術を示す断面図解図である。
【符号の説明】
10 …積層コンデンサ 16 …本体 18 …第1導電層 20 …第2導電層 22 …第3導電層 24 …端子電極

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】本体上に端子電極が形成された電子部品に
    おいて、 前記端子電極の少なくとも表面をNi(5〜30wt
    %)とZn(10〜35wt%)とCu(50〜85w
    t%)とを含む導電層で形成したことを特徴とする、電
    子部品。
  2. 【請求項2】本体上に端子電極が形成された電子部品に
    おいて、 前記端子電極の少なくとも表面をNi(8〜10wt
    %)とCu(87〜90wt%)とSn(2〜3wt
    %)とを含む導電層で形成したことを特徴とする、電子
    部品。
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