JPH03145706A - チップコイル - Google Patents

チップコイル

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JPH03145706A
JPH03145706A JP28568189A JP28568189A JPH03145706A JP H03145706 A JPH03145706 A JP H03145706A JP 28568189 A JP28568189 A JP 28568189A JP 28568189 A JP28568189 A JP 28568189A JP H03145706 A JPH03145706 A JP H03145706A
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JP
Japan
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layer
thin film
electrode
bobbin
coil
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Tetsuya Morinaga
哲也 森長
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、インダクタンス素子として機能するチップコ
イル、特にその電極層の構造に関する。
従迷!棲l屹ζ皿届 一般に、チップコイルは、第2図に示す如く、ソエシイ
1〜製のボビン1にコイル線材を巻回してコイル5を形
成する一方、ボビン1の下鍔部2にその側面から底面に
かけて電極3,3を形成し、コイル5の端末を電極3.
3へ半田付けしたものが知られている。
電極部分は、具体的には、第3図に示す様に、Agペー
ストあるいはAg −Pdペーストを塗布して焼付げた
厚膜電極Pi!l31−\コイル端末5aを半田付けす
ると共に、半田層35で厚膜電極層31がコーティング
されている。また、他の構成としては、第4図に示す様
に、Agペーストの厚膜焼付げ電極層31上へNi電解
メツキ層32さらにSn電解メツキ層33を施し、その
上へコイル端末5aを半田付けすると共に、半田層35
で全体をコーティングしたものも知られている。
しかし、前者の電極構造においては1.電極3自体がA
gあるいはAg −Pdとされているため、基板への実
装時に半田による銀くわれが発生し、固着力が劣化する
問題点を有している。この対策としては、Agあるいは
Ag−Pdをさらに厚く付けることが挙げられる力釈大
幅なコストアップとなり、実際的ではない。しかも、A
g、Ag−Pdの如く導電性が良好な材料がボビン1に
密接1゛るとう1゛電流t(iによるQの劣化が大きく
なるという問題点をも有している。
後者の電極構造においては、Agの厚膜焼付(り電極層
31上にNiメツキ層32が施されているため、銀くわ
れは大幅に防止されるが、第1JvIがAg層℃あるこ
と、第2層のNiメツキ層は強磁性体で導電性が良好で
あること、電解メツキにはバレルメッキ方式を用いるこ
とからメッキ厚のばらつきが大きく希望のメッキ厚を得
るにはかなり厚めとなることより、コイルのQが大幅に
劣化するという問題点は何ら解消されていない。
そこで、本発明の課題は、銀くわれが生じることなく、
ボビンの固着力が高く、半田付は性が良好で、Qの劣化
のない電極層構造を備えたチップコイルを提供すること
にある。
課題を解決するだめの手段と作用 以上の課題を解決するため、本発明に係るチップコイル
は、電極が、 (8)ボビン素地との密着性が良好で、非磁性かつ高抵
抗の第1層と、 (b)半田耐熱性が良好な第2層と、 (C)導電性及び半]1コ付げ性が良好な第3層と、か
ら構成されていることを特徴とする。
以上の電極層構造によれは、第1層によってボビンへの
固着力が高められ、第2層によって半111耐熱性が向
上し、第3層によって導電性及び半田付は性が確保され
る。しかも、導電性の良好な材料は第3層としてボビン
表面から極力離して設置されており、うず電流積による
Qの劣化が抑えられる。
具体的には、第1層としては、Ni −Crの薄膜層と
することでボビンへの高い固着力が得られ、半田耐熱性
が大きく、非磁性、高抵抗であることによってQの劣化
も大きく減少する。第2層としては、NiあるいはNi
−Cuの薄膜層とすることで半田耐熱性が大きく、Qの
劣化もなくなる。第3層としては、Ag 、 Cu又は
Snの薄膜層とすることで導電性、半田付は性が確保さ
れ、ボビン表面から離れることでうず電流積も少なくな
る。
また、前記各薄膜層をスパッタリング法にて形成ずれ番
」1工程で安価に形成でき、他には蒸着法、イオンブレ
ーティング法、ブラスマCVD法、放電溶着法による乾
式メツキ法で形成可能である。
夫施倒 以下、本発明に係るチップコイルの一実施例を添付図面
に従って説明する。
第1図は本発明の一実施例であるチップコイルの電極部
分を示し、電極10はソエライト製ボビン1の下鍔部2
に、従来と同様の位置に、即し側面から底面にかげて形
成されている。電極10は内側(ボビン素地に近い方)
から、第1R11、第2層12、第3層13とされ、第
1層11はNi−Crの薄膜層、第2層12はN1又は
Ni−Cuあるいはその両者からなる薄膜J1″・7、
第3層13はAg r Cu又はSnからなる薄膜層で
ある。各薄膜層11,12.13の膜厚はそれぞれ3μ
m以下が好ましく、乾式メツキ法、とりわけスパッタリ
ング法で形成することが好ましい。
スパックリング法によれば、多ターゲッ)・・スパッタ
リング装置を用い、電極10以外の不要部分をマスキン
グし、まずNi−Cr、次にNiあるいはNlCu、さ
らにAg 、 Cu又はSnを順次スパックリングする
。これによって、各薄膜層11.12.13が所定の形
状及び膜厚に精度良く形成される。特に、膜厚を必要最
小限に薄くでき、導電性の良好な第3層13が外側に位
置し、ボビン表面に近い第1層11、第2)¥!212
は非磁性、高抵抗であることから、うず′電流積が極め
てノ卦さくQの劣化がない。
また、第1層11を構成するNi −Crはフェライト
素地との密着力が高く、半田耐熱性、非磁性、高抵抗と
いう観点から約3〜25wt%のCrを含有するNi−
Cr合金が最適である。第2層12を構成するNi又は
Ni−Cuは半田耐熱性及びQの劣化を少なくするとい
う観点から選択され、Qに関しては約20〜90%のC
uを含有するNi−Cu合金を用いることが好ましい。
第3層13を構成するAg 、 Cu 、 Snは専ら
コイル端末58との電気的接続を図るために高導電性、
高半田付は性の材料として選択された。
以上の構成からなる電極10上には、コイル端末5aが
半田(=Jげられると共に、半田層14にて全体的にコ
ーティングきれ、この状態で基板(図示せず)上に半1
1」付I−)にて実装きれる。
発明の効果 以上の説明で明らかな様に、本発明によれば、内側の第
1層にボビン素地との密着性が良好で非磁性かつ高抵抗
の材料を設けたため、ボビンへの固着力が高く、うず電
流積によるQの劣化を低く抑えることができる。また、
第2層に半田耐熱性が良好な材料を、第3層に導電性及
び半田付は性が良好な電極材料を設けたため、コイル端
末との電気的接続が十分に確保きれる。
特に、各材料をスパッタリング法等の乾式メツキ法で薄
膜に形成すれば、安価に付くと共にQもより向」ニする
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るチップコイルの一実施例の要部を
示す拡大断面図である。第2図は従来のチップコイルの
部分断面図、第3図はその電極の拡大断面図、第4図は
従来の他の電極の拡大断面図である。 2・・・下鍔部、5a・・・コイル端末、10・・・電
極、11・・・第1薄膜層、12・・・第2薄膜層、1
3・・・第3薄膜層、14・・・半田層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.磁性体からなるボビンにコイル線材を巻回し、コイ
    ルの端末をボビンの鍔部に設けた電極に半田付けしたチ
    ップコイルにおいて、 前記電極が、ボビン素地との密着性が良好で、非磁性か
    つ高抵抗の第1層と、半田耐熱性が良好な第2層と、導
    電性及び半田付け性が良好な第3層とから構成されてい
    ること、 を特徴とするチップコイル。
  2. 2.前記第1層がNi−Crの薄膜層、前記第2層が少
    なくともNi又はNi−Cuの薄膜層、前記第3層が少
    なくともAg、Cu又はSnの薄膜層からなることを特
    徴とする請求項1記載のチップコイル。
JP1285681A 1989-10-31 1989-10-31 チップコイル Expired - Lifetime JP2598826B2 (ja)

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Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6552642B1 (en) 1997-05-14 2003-04-22 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic device having electric wires and method of producing same
US20180158591A1 (en) * 2016-12-01 2018-06-07 Murata Manufacturing Co., Ltd. Wire-wound coil component and method for producing wire-wound coil component

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JP2598826B2 (ja) 1997-04-09

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