JP2595143Y2 - 平板の乾燥装置 - Google Patents
平板の乾燥装置Info
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- JP2595143Y2 JP2595143Y2 JP1992061906U JP6190692U JP2595143Y2 JP 2595143 Y2 JP2595143 Y2 JP 2595143Y2 JP 1992061906 U JP1992061906 U JP 1992061906U JP 6190692 U JP6190692 U JP 6190692U JP 2595143 Y2 JP2595143 Y2 JP 2595143Y2
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- Japan
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- substrate
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Links
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、基板または鏡板のよう
な平板を水で洗浄した後乾燥するための装置に関するも
のである。
な平板を水で洗浄した後乾燥するための装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線板の製造過程において、洗
浄された基板や鏡板に付着している水を除去する装置と
して、スポンジロールと水切りロールとを用いて付着水
の大半を除去し、その後に常温〜１００°Ｃの温風をあ
てて残水を気化させながら吹き飛ばす乾燥装置が知られ
ている。
浄された基板や鏡板に付着している水を除去する装置と
して、スポンジロールと水切りロールとを用いて付着水
の大半を除去し、その後に常温〜１００°Ｃの温風をあ
てて残水を気化させながら吹き飛ばす乾燥装置が知られ
ている。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】ところで、このような
従来の乾燥装置において、生産効率の面から基板や鏡板
の搬送速度を高めるには、乾燥ゾーンを長くしなければ
ならない。そうすると、乾燥装置の設置面積が広くな
り、清掃やメンテナンス時間の増加とともに、異物混入
要因が増加することになる。また、空気を加温するため
エネルギー使用量が増加する。本考案は、このような事
情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、基板または鏡板のような平板を水で洗浄した後、付
着している水を効率よく除去することが可能な乾燥装置
を提供することにある。
従来の乾燥装置において、生産効率の面から基板や鏡板
の搬送速度を高めるには、乾燥ゾーンを長くしなければ
ならない。そうすると、乾燥装置の設置面積が広くな
り、清掃やメンテナンス時間の増加とともに、異物混入
要因が増加することになる。また、空気を加温するため
エネルギー使用量が増加する。本考案は、このような事
情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、基板または鏡板のような平板を水で洗浄した後、付
着している水を効率よく除去することが可能な乾燥装置
を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本考案は、洗浄された平
板を搬送しつつ水切り乾燥する乾燥装置であって、前記
乾燥装置本体の搬入側に設けられた水を含浸しない材質
により形成される上下１対で２対の水切りロール、前記
乾燥装置本体の搬出側に設けられ前記平板に向けて空気
を噴射するノズル、ノズルに高圧空気を送給する高圧ブ
ロワ及び前記ノズルと高圧ブロワとを連結する配管とか
らなることを特徴とする平板の乾燥装置である。
板を搬送しつつ水切り乾燥する乾燥装置であって、前記
乾燥装置本体の搬入側に設けられた水を含浸しない材質
により形成される上下１対で２対の水切りロール、前記
乾燥装置本体の搬出側に設けられ前記平板に向けて空気
を噴射するノズル、ノズルに高圧空気を送給する高圧ブ
ロワ及び前記ノズルと高圧ブロワとを連結する配管とか
らなることを特徴とする平板の乾燥装置である。
【０００５】以下、図面に基づき説明する。なお、以
下、基板の乾燥について説明するが、鏡板の乾燥も同様
である。図１は本考案に係る乾燥装置の概略構成図であ
り、同図に示すように乾燥装置本体１の内部には、基板
２０の搬入側に上下一対の水切りロール４，４が設けら
れている。この水切りロール４，４は、例えばゴムのよ
うに水を含むことができない材質によって形成されてい
る。
下、基板の乾燥について説明するが、鏡板の乾燥も同様
である。図１は本考案に係る乾燥装置の概略構成図であ
り、同図に示すように乾燥装置本体１の内部には、基板
２０の搬入側に上下一対の水切りロール４，４が設けら
れている。この水切りロール４，４は、例えばゴムのよ
うに水を含むことができない材質によって形成されてい
る。
【０００６】この水切りロール４，４に後続して、基板
２０の搬出側上下にスリットノズル７，７が設けられて
いる。スリットノズル７，７には高圧ブロワ５から高圧
空気が配管６を通して供給される。高圧ブロワ５に取り
入れられた空気は、高圧ブロワ５での加圧及び配管６内
での摩擦により加熱されて、スリットノズル７，７から
基板２０に向けて吹き付けられる。スリットノズル７，
７の空気吹き出し方向は、基板に対して垂直方向から水
切りロール側４５度の間に設定される。吹き出す空気の
流速は２５ｍ／ｓ以上が望ましい。
２０の搬出側上下にスリットノズル７，７が設けられて
いる。スリットノズル７，７には高圧ブロワ５から高圧
空気が配管６を通して供給される。高圧ブロワ５に取り
入れられた空気は、高圧ブロワ５での加圧及び配管６内
での摩擦により加熱されて、スリットノズル７，７から
基板２０に向けて吹き付けられる。スリットノズル７，
７の空気吹き出し方向は、基板に対して垂直方向から水
切りロール側４５度の間に設定される。吹き出す空気の
流速は２５ｍ／ｓ以上が望ましい。
【０００７】基板２０は、その下面側に配設されている
搬送ロール２…とその上面側に配置されているピンチロ
ール３…によって図中矢印方向に搬送される。水切りロ
ール４，４によって基板２０から除去された付着水は排
水口８から排出され、スリットノズル７，７から吹き出
された空気は排気口９から排出される。
搬送ロール２…とその上面側に配置されているピンチロ
ール３…によって図中矢印方向に搬送される。水切りロ
ール４，４によって基板２０から除去された付着水は排
水口８から排出され、スリットノズル７，７から吹き出
された空気は排気口９から排出される。
【０００８】
【作用】乾燥装置本体１の中に搬送された基板２０に付
着している水の大半は、水切りロール４，４で絞り落と
され、次に基板２０の表面の残水及びエッジ部分に付着
している水がスリットノズル７，７から吹き付けられる
空気によって吹き飛ばされる。そしてこの空気の温度が
室温より高くなっているので、基板上に結露することも
ない。
着している水の大半は、水切りロール４，４で絞り落と
され、次に基板２０の表面の残水及びエッジ部分に付着
している水がスリットノズル７，７から吹き付けられる
空気によって吹き飛ばされる。そしてこの空気の温度が
室温より高くなっているので、基板上に結露することも
ない。
【０００９】
【考案の効果】以上説明したように、本考案によれば、
洗浄された基板または鏡板に大量の水が付着している場
合でも、水切りロールにより大半の付着水を除去し、次
のスリットノズルから吹き付けられる空気によって完全
な乾燥を行い、結露の発生を完全に防止することができ
る。また、乾燥ゾーンを長く設定することなく完全な乾
燥を行うため、コンパクトで乾燥能力の向上を図り、効
率よく付着水の除去を行うことができ、ライン速度を高
めることができる。
洗浄された基板または鏡板に大量の水が付着している場
合でも、水切りロールにより大半の付着水を除去し、次
のスリットノズルから吹き付けられる空気によって完全
な乾燥を行い、結露の発生を完全に防止することができ
る。また、乾燥ゾーンを長く設定することなく完全な乾
燥を行うため、コンパクトで乾燥能力の向上を図り、効
率よく付着水の除去を行うことができ、ライン速度を高
めることができる。
【図１】本考案に係る乾燥装置の概略構成図である。
１ 乾燥装置本体 ２ 搬送ロール ３ ピンチロール ４ 水切りロール ５ 高圧ブロワ ６ 配管 ７ スリットノズル ８ 排水口 ９ 排気口 ２０ 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 吉田 肇 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化 成工業株式会社下館工場内 (72)考案者 近藤 輝武 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立 化成工業株式会社山崎工場内 (56)参考文献 実開 平４−117438（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/304 F26B 21/00
Claims (1)
- 【請求項１】 洗浄された平板を搬送しつつ水切り乾燥
する乾燥装置であって、前記乾燥装置本体の搬入側に設
けられた水を含浸しない材質により形成される上下１対
で２対の水切りロール、前記乾燥装置本体の搬出側に設
けられ前記平板に向けて空気を噴射するノズル、ノズル
に高圧空気を送給する高圧ブロワ及び前記ノズルと高圧
ブロワとを連結する配管とからなることを特徴とする平
板の乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992061906U JP2595143Y2 (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | 平板の乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992061906U JP2595143Y2 (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | 平板の乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0626249U JPH0626249U (ja) | 1994-04-08 |
| JP2595143Y2 true JP2595143Y2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=13184671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992061906U Expired - Lifetime JP2595143Y2 (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | 平板の乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2595143Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102519552B1 (ko) * | 2022-04-29 | 2023-04-10 | 주식회사 이피코리아 | 반도체용 건조장치 |
-
1992
- 1992-09-03 JP JP1992061906U patent/JP2595143Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0626249U (ja) | 1994-04-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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