JP2586389B2 - Lsiケースのシールド構造 - Google Patents
Lsiケースのシールド構造Info
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- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子から放射され
る電磁波を遮断するLSIケースのシールド構造に関す
る。
る電磁波を遮断するLSIケースのシールド構造に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来の技術として特開昭59−2255
91号公報に図4に示すような電気・電子部品の取付、
収納用箱形ケースが提案されている。この提案では、放
熱板を兼ねた金属性箱形ケース31に電子部品32が収
納されることにより、電磁波ノイズが遮断されていた。
また、特開平2−17659号公報には、図5に示すよ
うな回路チップを電磁障害(EMI),静電気放電(E
SD),熱および機械的衝撃から保護するためのパッケ
ージが提案されており、プリント配線基板41とボック
ス型ヒートシンク42とで集積回路43が覆われること
により、集積回路の冷却と電磁障害(EMI)の遮蔽と
が行なわれていた。また、実開平3−1498号公報に
は、図6に示すように放熱板と電磁遮蔽用導体とを兼ね
備えた放熱併用形遮蔽板63が提案されていた。
91号公報に図4に示すような電気・電子部品の取付、
収納用箱形ケースが提案されている。この提案では、放
熱板を兼ねた金属性箱形ケース31に電子部品32が収
納されることにより、電磁波ノイズが遮断されていた。
また、特開平2−17659号公報には、図5に示すよ
うな回路チップを電磁障害(EMI),静電気放電(E
SD),熱および機械的衝撃から保護するためのパッケ
ージが提案されており、プリント配線基板41とボック
ス型ヒートシンク42とで集積回路43が覆われること
により、集積回路の冷却と電磁障害(EMI)の遮蔽と
が行なわれていた。また、実開平3−1498号公報に
は、図6に示すように放熱板と電磁遮蔽用導体とを兼ね
備えた放熱併用形遮蔽板63が提案されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】特開昭59−2255
91号公報や特開平3−1498号公報で提案された構
造では、放熱用部材が電磁遮蔽用部材を兼ねており、ヒ
ートシンクの形状が複雑かつ大型になるという欠点があ
る。
91号公報や特開平3−1498号公報で提案された構
造では、放熱用部材が電磁遮蔽用部材を兼ねており、ヒ
ートシンクの形状が複雑かつ大型になるという欠点があ
る。
【0004】また、特開昭59−225591号公報や
特開平2−17659号公報で提案された構造では、配
線基板上のある特定のLSIのみを遮蔽することが困難
であり、複雑かつ大型化する欠点がある。
特開平2−17659号公報で提案された構造では、配
線基板上のある特定のLSIのみを遮蔽することが困難
であり、複雑かつ大型化する欠点がある。
【0005】さらに、半導体素子の発熱量やLSIケー
スの実装状態に応じて、それぞれに製作する必要がある
という欠点もある。
スの実装状態に応じて、それぞれに製作する必要がある
という欠点もある。
【0006】なお、実開平3−1498号公報で提案さ
れた構造では、特定の半導体素子のみが遮蔽されてい
る。しかし、半導体素子全面が遮蔽されていないため遮
蔽の効果が低いという欠点があった。
れた構造では、特定の半導体素子のみが遮蔽されてい
る。しかし、半導体素子全面が遮蔽されていないため遮
蔽の効果が低いという欠点があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のLSIケースの
シールド構造は、基準電位の電源層に接続されたグラン
ドパッドを有する配線基板と、この配線基板に搭載され
るLSIケースと、このLSIケースに取り付けられた
取付部材と、この取付部材に取り付けられるヒートシン
クと、前記LSIケースと前記取付部材とを覆う箱型を
呈するシールドフェンスと、前記ヒートシンクと前記シ
ールドフェンスとを前記取付部材と前記ヒートシンクと
の間に前記シールドフェンスを狭持固定させるように同
時に取り付けるとともに前記シールドフェンスの一部が
前記配線基板の前記グランドパッドと接触する位置に固
定させるように取り付けるネジとを含む。
シールド構造は、基準電位の電源層に接続されたグラン
ドパッドを有する配線基板と、この配線基板に搭載され
るLSIケースと、このLSIケースに取り付けられた
取付部材と、この取付部材に取り付けられるヒートシン
クと、前記LSIケースと前記取付部材とを覆う箱型を
呈するシールドフェンスと、前記ヒートシンクと前記シ
ールドフェンスとを前記取付部材と前記ヒートシンクと
の間に前記シールドフェンスを狭持固定させるように同
時に取り付けるとともに前記シールドフェンスの一部が
前記配線基板の前記グランドパッドと接触する位置に固
定させるように取り付けるネジとを含む。
【0008】
【実施例】次に本発明の一実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【0009】図1および図2を参照すると、本発明の一
実施例は、基準電位の電源層を有する配線基板3,この
配線基板3上に搭載されたLSIケース2,このLSI
ケース2に収納された半導体素子1,この配線基板3上
にLSIケース2を取り囲むように設けられ基準電位の
電源層に接続されたグランドパッド5,および端部が弾
性を有するバネ状のコンタクト11を有しグランドパッ
ド5と電気的に接触するシールドフェンス4を含む。
実施例は、基準電位の電源層を有する配線基板3,この
配線基板3上に搭載されたLSIケース2,このLSI
ケース2に収納された半導体素子1,この配線基板3上
にLSIケース2を取り囲むように設けられ基準電位の
電源層に接続されたグランドパッド5,および端部が弾
性を有するバネ状のコンタクト11を有しグランドパッ
ド5と電気的に接触するシールドフェンス4を含む。
【0010】シールドフェンス4は金属板でつくられて
おり、箱型でLSIケース2を覆う形状となっている。
おり、箱型でLSIケース2を覆う形状となっている。
【0011】LSIケース2上には、ネジ穴を有する取
付板6が接着剤7にて固定されている。この取付板6の
上にヒートシンク8をネジ9で固定されうる。シールド
フェンス4には取付板6のネジ穴と対応した位置に穴が
設けられている。取付板6とヒートシンク8との間にシ
ールドフェンスが狭持される。さらに、シールドフェン
ス4と取付板6との間、およびシールドフェンス4とヒ
ートシンク8との間に放熱シート10がはさまれて固定
されている。放熱シート10は、例えばシリコーンラバ
ーでつくられている。このため、シールドフェンス4と
LSIケース2との間は電気的に絶縁されている。
付板6が接着剤7にて固定されている。この取付板6の
上にヒートシンク8をネジ9で固定されうる。シールド
フェンス4には取付板6のネジ穴と対応した位置に穴が
設けられている。取付板6とヒートシンク8との間にシ
ールドフェンスが狭持される。さらに、シールドフェン
ス4と取付板6との間、およびシールドフェンス4とヒ
ートシンク8との間に放熱シート10がはさまれて固定
されている。放熱シート10は、例えばシリコーンラバ
ーでつくられている。このため、シールドフェンス4と
LSIケース2との間は電気的に絶縁されている。
【0012】次に本発明の一実施例の組立て動作につい
て図面を参照して詳細に説明する。
て図面を参照して詳細に説明する。
【0013】図1および図2を参照すると、グランドパ
ッド5を備えた配線基板3上に半導体素子1の収納され
たLSIケース2が実装される。
ッド5を備えた配線基板3上に半導体素子1の収納され
たLSIケース2が実装される。
【0014】次に半導体素子1に接着剤7が取付けられ
る。この接着剤7の付着後、取付板6が実装される。こ
の実装の際グランドパッド5にコンタクト11が電気的
に接触する位置にシールドフェンス4が実装されなけれ
ばならない。このシールドフェンス4のネジ穴に合う位
置に、取付板6,放熱シート10およびヒートシンク8
が取付けられる。これらの部品が取付けられたあとネジ
穴にネジ9がさしこまれ、回転により固定される。
る。この接着剤7の付着後、取付板6が実装される。こ
の実装の際グランドパッド5にコンタクト11が電気的
に接触する位置にシールドフェンス4が実装されなけれ
ばならない。このシールドフェンス4のネジ穴に合う位
置に、取付板6,放熱シート10およびヒートシンク8
が取付けられる。これらの部品が取付けられたあとネジ
穴にネジ9がさしこまれ、回転により固定される。
【0015】このネジ9によりシールドフェンス4がL
SIケース2に固定され、配線基板3上のグランドパッ
ド5とシールドフェンス4のコンタクト11とが接触さ
れ電気的に接触される。従って、グランドパッド5を介
して配線基板3の基準電位が導電体であるシールドフェ
ンス4全体に伝わる。この結果、シールドフェンス4の
全体および配線基板3の電源層でLSIケース2を囲む
基準電位の囲みが形成される。
SIケース2に固定され、配線基板3上のグランドパッ
ド5とシールドフェンス4のコンタクト11とが接触さ
れ電気的に接触される。従って、グランドパッド5を介
して配線基板3の基準電位が導電体であるシールドフェ
ンス4全体に伝わる。この結果、シールドフェンス4の
全体および配線基板3の電源層でLSIケース2を囲む
基準電位の囲みが形成される。
【0016】LSIケース2内に収納された半導体素子
1の動作により生じ放射される電磁波は、シールドフェ
ンス4と配線基板3内の基準電位電源層からなる囲みで
吸収,遮蔽され、外部への放射をおさえられる。また、
半導体素子1の動作により発する熱は、LSIケース2
または、接着剤7,取付板6および放熱シート10から
シールドフェンス4,放熱シート10およびヒートシン
ク8を介して空気中へ放熱される。
1の動作により生じ放射される電磁波は、シールドフェ
ンス4と配線基板3内の基準電位電源層からなる囲みで
吸収,遮蔽され、外部への放射をおさえられる。また、
半導体素子1の動作により発する熱は、LSIケース2
または、接着剤7,取付板6および放熱シート10から
シールドフェンス4,放熱シート10およびヒートシン
ク8を介して空気中へ放熱される。
【0017】このように本発明のLSIケースのシール
ド構造は配線基板3上の特定のLSIのみを遮蔽し、か
つ十分な放熱を行なうことが可能である。また、ヒート
シンク8とシールドフェンス4とが独立した部品として
構成されるため、LSIの発熱量にあわせてヒートシン
ク8の選定を容易にできる。
ド構造は配線基板3上の特定のLSIのみを遮蔽し、か
つ十分な放熱を行なうことが可能である。また、ヒート
シンク8とシールドフェンス4とが独立した部品として
構成されるため、LSIの発熱量にあわせてヒートシン
ク8の選定を容易にできる。
【0018】この実施例では、シールドフェンス4を金
属板で構成したが、電磁遮蔽に問題のないサイズの開口
部を有する金属メッシュやパンチングメタルでも形成で
きる。
属板で構成したが、電磁遮蔽に問題のないサイズの開口
部を有する金属メッシュやパンチングメタルでも形成で
きる。
【0019】次に本発明の一実施例の変形例について図
面を参照して詳細に説明する。
面を参照して詳細に説明する。
【0020】図3(A)を参照すると、本発明の一実施
例の第1の変形例では、配線基板3上のグランドパッド
5に接触されたシールドフェンス4は導電性プラスチッ
クで形成される。
例の第1の変形例では、配線基板3上のグランドパッド
5に接触されたシールドフェンス4は導電性プラスチッ
クで形成される。
【0021】図3(B)を参照すると、本発明の一実施
例の第2の変形例では、シールドフェンス4は配線基板
3上のグランドパッド5に接触される面に金属箔12を
付着したプラスチック製の本体を有する。
例の第2の変形例では、シールドフェンス4は配線基板
3上のグランドパッド5に接触される面に金属箔12を
付着したプラスチック製の本体を有する。
【0022】図3(C)を参照すると、本発明の一実施
例の第3の変形例では、シールドフェンス4は、プラス
チック製のボディに金属メッキ13して形成される。こ
の結果、配線基板3の基準電位はグランドパッド5を介
してシールドフェンス4の金属メッキ13に流される。
例の第3の変形例では、シールドフェンス4は、プラス
チック製のボディに金属メッキ13して形成される。こ
の結果、配線基板3の基準電位はグランドパッド5を介
してシールドフェンス4の金属メッキ13に流される。
【0023】図3(D)を参照すると、本発明の一実施
例の第4の変形例では、シールドフェンス4は、配線基
板3上のグランドパッド5に接触される面に導電性塗装
膜14を塗装したプラスチック製本体を有する。
例の第4の変形例では、シールドフェンス4は、配線基
板3上のグランドパッド5に接触される面に導電性塗装
膜14を塗装したプラスチック製本体を有する。
【0024】
【発明の効果】本発明はLSIケース2を覆う箱型で、
LSIケース2とヒートシンク8との間にはさんで固定
することにより配線基板3上のグランドパッド5と接触
し、LSIケース8を囲む基準電位の囲みを形成するシ
ールドフェンス4を有することにより、半導体素子1の
放射する電磁波を吸収,遮蔽し、外へ放射させないよう
におさえ、かつ、ヒートシンク8から放熱を行なうこと
ができる。また、シールドフェンス4は配線基板3上の
特定のLSIのみを覆うことが可能なため、構造を小型
化できるという効果がある。さらに、本発明はシールド
フェンス4とヒートシンク8とが独立した部品として構
成されるため、LSIの電力などに応じてシールドフェ
ンスやヒートシンク8の形状を自由に選択できるという
効果もある。
LSIケース2とヒートシンク8との間にはさんで固定
することにより配線基板3上のグランドパッド5と接触
し、LSIケース8を囲む基準電位の囲みを形成するシ
ールドフェンス4を有することにより、半導体素子1の
放射する電磁波を吸収,遮蔽し、外へ放射させないよう
におさえ、かつ、ヒートシンク8から放熱を行なうこと
ができる。また、シールドフェンス4は配線基板3上の
特定のLSIのみを覆うことが可能なため、構造を小型
化できるという効果がある。さらに、本発明はシールド
フェンス4とヒートシンク8とが独立した部品として構
成されるため、LSIの電力などに応じてシールドフェ
ンスやヒートシンク8の形状を自由に選択できるという
効果もある。
【図1】本発明の一実施例を示す図。
【図2】本発明の一実施例を示す図。
【図3】本発明の一実施例の変形例を示す図。
【図4】従来技術の一例を示す図。
【図5】従来技術の一例を示す図。
【図6】従来技術の一例を示す図。
1 半導体素子 2 LSIケース 3 配線基板 4 シールドフェンス 5 グランドパッド 6 取付板 7 接着剤 8 ヒートシンク 9 ネジ 10 放熱シート 11 コンタクト 12 金属箔 13 金属メッキ 14 導電性塗装膜
Claims (6)
- 【請求項1】 基準電位の電源層に接続されたグランド
パッドを有する配線基板と、この配線基板に搭載されるLSIケースと、 このLSIケースに取り付けられた取付部材と、 この取付部材に取り付けられるヒートシンクと、 前記LSIケースと前記取付部材とを覆う箱型を呈する
シールドフェンスと、 前記ヒートシンクと前記シールドフェンスとを前記取付
部材と前記ヒートシンクとの間に前記シールドフェンス
を狭持固定させるように同時に取り付けるとともに前記
シールドフェンスの一部が前記配線基板の前記グランド
パッドと接触する位置に固定させるように取り付けるネ
ジ とを含むことを特徴とするLSIケースのシールド構
造。 - 【請求項2】 前記シールドフェンスが金属製メッシュ
で形成されたことを特徴とする請求項1記載のLSIケ
ースのシールド構造。 - 【請求項3】 前記シールドフェンスが導電性プラスチ
ックで形成されたことを特徴とする請求項1記載のLS
Iケースのシールド構造。 - 【請求項4】 前記シールドフェンスが少なくとも前記
配線基板の前記グランドパッドに電気的に接続するよう
に表面に金属箔を付着させたプラスチックで形成された
ことを特徴とする請求項1記載のLSIケースのシール
ド構造。 - 【請求項5】 前記シールドフェンスが表面に金属メッ
キを施したプラスチックで形成されたことを特徴とする
請求項1記載のLSIケースのシールド構造。 - 【請求項6】 前記シールドフェンスが少なくとも前記
配線基板の前記グランドパッドに電気的に接続するよう
に表面に導電性の塗装を行ったプラスチックで形成され
たことを特徴とする請求項1記載のLSIケースのシー
ルド構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5231499A JP2586389B2 (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | Lsiケースのシールド構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5231499A JP2586389B2 (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | Lsiケースのシールド構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0786786A JPH0786786A (ja) | 1995-03-31 |
JP2586389B2 true JP2586389B2 (ja) | 1997-02-26 |
Family
ID=16924454
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5231499A Expired - Lifetime JP2586389B2 (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | Lsiケースのシールド構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2586389B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0927576A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Nec Corp | 半導体集積回路パッケージ |
US6195267B1 (en) * | 1999-06-23 | 2001-02-27 | Ericsson Inc. | Gel structure for combined EMI shielding and thermal control of microelectronic assemblies |
KR100452999B1 (ko) * | 2002-07-22 | 2004-10-15 | 엘지전자 주식회사 | 파워소자용 방사노이즈 저감구조 |
US20040150097A1 (en) * | 2003-01-30 | 2004-08-05 | International Business Machines Corporation | Optimized conductive lid mounting for integrated circuit chip carriers |
JP4500726B2 (ja) * | 2005-04-21 | 2010-07-14 | アルプス電気株式会社 | 高周波機器の取付構造 |
KR20090009911A (ko) * | 2006-04-27 | 2009-01-23 | 교세라 가부시키가이샤 | 전자 기기 |
JP4657972B2 (ja) * | 2006-04-27 | 2011-03-23 | 京セラ株式会社 | 電子機器 |
US20100126764A1 (en) * | 2008-11-24 | 2010-05-27 | Seagate Technology, Llc | die ground lead |
CN102651962A (zh) * | 2011-02-28 | 2012-08-29 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 电子设备 |
US10772245B2 (en) | 2016-04-04 | 2020-09-08 | Commscope Technologies Llc | Systems and methods for thermal management for high power density EMI shielded electronic devices |
JP2023066067A (ja) * | 2021-10-28 | 2023-05-15 | 株式会社小糸製作所 | 電子ユニット |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4896541A (ja) * | 1972-03-04 | 1973-12-10 | ||
JPS58153721A (ja) * | 1982-03-08 | 1983-09-12 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 含Cr溶鋼のVOD法における終点〔C〕の制御方法 |
JPH0582994A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-04-02 | Fujitsu Ltd | 箱形ユニツト構造 |
-
1993
- 1993-09-17 JP JP5231499A patent/JP2586389B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0786786A (ja) | 1995-03-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19961008 |