JP2586178B2 - チップキャリアの製造装置 - Google Patents

チップキャリアの製造装置

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JP2586178B2
JP2586178B2 JP2114842A JP11484290A JP2586178B2 JP 2586178 B2 JP2586178 B2 JP 2586178B2 JP 2114842 A JP2114842 A JP 2114842A JP 11484290 A JP11484290 A JP 11484290A JP 2586178 B2 JP2586178 B2 JP 2586178B2
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dam
chip carrier
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heating coil
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正美 小多田
忠義 合原
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Matsushita Electric Works Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、PGA(ピングリッドアレイ)及びその他の
ピンを有する配線用基板にレジンダムを接合させるチッ
プキャリアの製造装置に関するものである。
[従来の技術] 一般的なチップキャリアは第7図及び第8図に示すよ
うに、銅張り積層板13を主体とする配線用基板1の回路
15に中空き枠形状のレジンダム3が配され、回路15と外
部の端子との接続のためにピン14が設けられている。
配線用基板1へレジンダム3を接着させるチップキャ
リアの製造装置としては、第6図に示すものが知られて
いる。
このものは、配線用基板1に設けられた回路15に接着
剤2を介して配されたレジンダム3を、ダムホルダ4に
て保持しプレスヘッド5にて挟圧すると共に、高周波発
振機6及び加熱コイル7とにより回路15に誘導磁界を生
じせしめることにより回路15を加熱し、このことにより
回路15の近傍の接着剤2を加熱硬化させてレジンダム3
を配線用基板1に接着させるものである。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来技術においては、加熱コイル
7により配線用基板1に配されたピン14にも誘導磁界が
生じて加熱され、ピン14の表面に施された半田などのコ
ーティング膜の焼け、又は、酸化が生じ、次工程でのピ
ン14の表面処理に悪影響を及ぼすという問題があり、ま
た、配線用基板1とレジンダム3との接着面への加熱効
率が悪いという問題があった。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、
その目的とするところは、ピンへの加熱を抑制し、配線
用基板とレジンダムとの接着面への加熱効率が高いチッ
プキャリアの製造装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 請求項(1)に係るチップキャリアの製造装置は、ピ
ンを備える配線用基板の、ピンが配されていない所定位
置に接着剤を介して配されるレンジダムを保持するダム
ホルダと、配線用基板の金属構成要素に誘導磁界を生じ
せしめてレンジダム及び接着剤を加熱する高周波発振機
及び加熱コイルとを具備したチップキャリアの製造装置
において、加熱コイルの中心位置に棒状のフェライトコ
アを配し、該フェライトコアの周囲で加熱コイルの中央
付近にダムホルダを配してなることを特徴とするもので
ある。
請求項(2)に係るチップキャリアの製造装置は、請
求項(1)に記載のチップキャリアの製造装置におい
て、ダムホルダとレジンダムとの間に金属加熱板を介在
させてなることを特徴とするものである。
ここで、フェライトコアは100KHz〜400KHzの高周波領
域において高透磁性率(μ=2000以上)の特性を有し、
且つ、低鉄損のものが望ましい。
また、金属加熱板は、鉄やマルテンサイト系のステン
レスの薄板(0.005ミリ〜0.5ミリ)など、磁性体作用す
るヒステリシス損とうず電流損失の両方の効果を発揮で
きるものが用いられる。
[作用] 請求項(1)に係るチップキャリアの製造装置は、加
熱コイルの中心位置に棒状のフェライトコアを配するこ
とにより、磁束が集中され、磁束密度が中央になるほど
大きくなり、配線用基板に配されたピンの周辺部の磁束
密度が小さくなる。
請求項(2)に係るチップキャリアの製造装置は、ダ
ムホルダとレジンダムとの間に介在させた金属加熱板と
加熱コイルとの間で誘導磁界が生じ、うず電流損失にて
金属加熱板が加熱され、これと接触するレンジダムが選
択的に加熱されることにより、接着剤が加熱される。
[実施例] 本発明の第1実施例について第1図、第2図を基に説
明する。
本実施例のチップキャリアの製造装置は、第1図に示
すように、配線用基板1とその所定位置に接着剤2を介
して配されたレジンダム3とを保持するダムホルダ4
と、それらを挟圧するためのプレスヘッド5と、配線用
基板1の金属構成要素に誘導磁界を生じせしめる高周波
発振機6及び加熱コイル7とが具備され、該加熱コイル
7の中心に棒状のフェライトコア8が配され、該フェラ
イトコア8の周囲で加熱コイル7の中央付近にダムホル
ダ4が配されて構成されている。
なお、一般的なチップキャリアは第7図及び第8図に
示し、前述するように銅張り積層板13を主体とする配線
用基板1の回路15に中空き枠形状のレジンダム3が配さ
れ、回路15と外部の端子接続のためのピン14とが設けら
れている。
接着剤2はエポキシ樹脂系のものが用いられている。
ダムホルダ4は、中央部をくり抜き凹部を設けた加圧
プレス定盤9の該凹部に埋め込むように安置され、金属
加熱板10とダム受け板11とを介してレジンダム3を保持
する構成とされている。
金属加熱板10は、鉄製の薄板(0.1ミリ)のものが用
いられ、ダムホルダ4及びダム受け板11は金属加熱板10
が高温となるのでセラミックが用いられている。
加熱コイル7はダムホルダ4を下方より支える加圧プ
レス定盤9の内部に包含され、その中心の下方にフェラ
イト受け板12が配され、その上に、レジンダム3の外枠
の寸法を横断面の寸法とする棒状のフェライトコア8が
その先端がレジンダム3に接近するようにダムホルダ4
に食い込んだ形にて配されている。
ここで、フェライトコア8は100KHz〜400KHzの高周波
領域において高透磁性率(μ=2000以上)の特性を有
し、且つ、低鉄損のものが用いられている。
本実施例は上記構成を有し、チップキャリアの製造に
おいては、ダムホルダ4に金属加熱板10とダム受け板11
とを介してレジンダム3を設置しその上に予め所定位置
に接着剤2を塗布した配線用基板1をセットする。接着
剤2の塗布方法としては、シルクスクリーン印刷が用い
られている。
次いで高周波発振機6にて加熱コイル7に高周波電流
が流され、配線用基板1の金属構成要素である回路15と
の間に誘導磁界が発生し、そのうず電流損失にて回路15
が加熱されることにより、これと隣接する接着剤2が加
熱される。接着剤2の加熱と略同時に配線用基板1とレ
ジンダム3とがダムホルダ4とプレスヘッド5とにより
挟圧され、短時間で接着剤2が加熱硬化されて配線用基
板1にレジンダム3が接合される。
ここで、加熱コイル7の中心位置に配された棒状のフ
ェライトコア8は、加熱コイル7と配線用基板1の金属
構成要素との間に生じる誘導磁界の磁束の密度を中央に
なるほど大きくし、レンジダム3付近即ち、ピン14の配
されていない位置で大きくし、ピン14が配されている周
辺部の磁束密度を小さくし、ピン14への加熱を抑制する
と共に、接着面への加熱効率を高める。
第2図は、本実施例における加熱コイル7の中心部か
らの磁束密度の平面分布を求めたものであり、また、加
熱コイル7の中心部にフェライトコア8が設置されてい
ない例と比較して示したものである。磁束密度の測定は
プレスヘッド5と配線用基板1との間において行われて
いる。
第2図に示すように、加熱コイル7の中心位置にフェ
ライト8を配置することにより磁束密度が中央になるほ
ど大きくなり、レンジダム3付近即ち、ピン14の配され
ていない位置で大きくなり、一方、ピン14が配されてい
る周辺部の磁束密度を小さくなってピン14への加熱が抑
制されると共に接着面への加熱効率を高めていることが
判る。
また、ダムホルダ4とレジンダム3との間に介在させ
た金属加熱板10と加熱コイル7との間で誘導磁界が生
じ、うず電流損にて金属加熱板10が加熱され、これと接
触するレジンダム3が選択的に加熱されることにより接
着剤2が加熱されるので、上記効果に加えて配線用基板
1のレジンダム3との接着面への加熱効率がさらに向上
される。
次ぎに本発明の第2実施例について第3図を基に説明
する。このものは、第1実施例とは加熱コイル7とフェ
ライト8の配置位置が異なっており、この点を中心に述
べる。
配線用基板1とその所定位置に接着剤2を介して配さ
れたレジンダム3がダム受け板11と金属加熱板10を介し
てダムホルダ4に保持されている。ダムホルダ4は加圧
プレス定盤9に安置されている。
配線用基板1とレジンダム3とを挟圧するプレスヘッ
ド5に配線用基板1の金属構成要素に誘導磁界を生じせ
しめる加熱コイル7が巻回され、また、棒状のフェライ
トコア8が内在した構造とされている。
本実施例は上記構成を有し、接着剤2が塗布された裏
面より加熱される。
次ぎに本発明の第3実施例について第4図を基に説明
する。このものは、加熱コイル7とフェライトコア8と
を加圧プレス定盤9とプレスヘッド5との両方に配した
ものである。なお、ここでは金属加熱板10は使用されて
いない。
本実施例は上記構成を有し、接着剤2が配線用基板1
の裏面側からとレジンダム3を介して表面側からと両面
側から加熱される。
次ぎに本発明の第4実施例について第5図を基に説明
する。このものは、第1実施例とはフェライトコア8の
配置数が異なり、加熱コイル7の中心位置にあって加圧
プレス定盤9内と配線用基板1を隔てたプレスヘッド5
内とに配されている。また、金属加熱板10は使用されて
いない。
その他の構成及び機能は第1実施例と同様である。
〔発明の効果〕
請求項(1)に係るチップキャリアの製造装置によれ
ば、加熱コイルの中心位置にに棒状のフェライトコアを
配することにより、配線用基板の金属構成要素に生じる
誘導磁界の磁束がその中央部であるレンジダム付近即
ち、ピンの配されていない位置に集中され、周辺部に配
されたピンへの磁束が抑制されるので、ピンの加熱が抑
制されると共に、配線用基板とレジンダムとの接着面へ
の加熱効率が向上する効果を奏する。
請求項(2)に係るチップキャリアの製造装置によれ
ば、上記効果に加えて、ダムホルダとレジンダムとの間
に金属加熱板を介在させているので、金属加熱板と加熱
コイルとの間で誘導磁界が生じ、そのうず電流損失にて
金属加熱板が加熱され、これと接触するレジンダムが選
択的に加熱されることにより接着剤が加熱され、配線用
基板とレジンダムとの接着面への熱効率が向上する効果
を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のチップキャリアの製造装置の第1実
施例の概略断面図、第2図は、その機能説明図、第3図
は、本発明のチップキャリアの製造装置の第2実施例の
概略断面図、第4図は、本発明のチップキャリアの製造
装置の第3実施例の概略断面図、第5図は、本発明のチ
ップキャリアの製造装置の第4実施例の概略断面図、第
6図は、従来例の概略断面図、第7図は、一般的なチッ
プキャリアの斜視図、第8図は、その断面図である。 1……配線用基板、2……接着剤、3……レジンダム、
4……ダムホルダ、5……プレスヘッド、6……高周波
発振機、7……加熱コイル、8……フェライトコア、9
……加熱プレス定盤、10……金属加熱板、11……ダム受
け板、12……フェライト受け板、13……銅張積層板、14
……ピン、15……回路。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ピンを備える配線用基板の、ピンが配され
    ていない所定位置に接着剤を介して配されるレンジダム
    を保持するダムホルダと、配線用基板の金属構成要素に
    誘導磁界を生じせしめてレンジダム及び接着剤を加熱す
    る高周波発振機及び加熱コイルとを具備したチップキャ
    リアの製造装置において、加熱コイルの中心位置に棒状
    のフェライトコアを配し、該フェライトコアの周囲で加
    熱コイルの中央付近にダムホルダを配してなることを特
    徴とするチップキャリアの製造装置。
  2. 【請求項2】ダムホルダとレンジダムとの間に金属加熱
    板を介在させてなることを特徴とする請求項(1)に記
    載のチップキャリアの製造装置。
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