JP2004288946A - 電子部品の実装方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体チップを回路基板上に熱硬化型の絶縁性接着剤を介して実装する際に、半導体チップの周囲に食み出た絶縁性接着剤も十分に硬化させることができるようにする。
【解決手段】熱硬化型のエポキシ系樹脂などからなる絶縁性接着剤6中の磁性粒子5は、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金からなっている。そして、吸着ピンセット12でそれに吸着された半導体チップ2をある程度の圧力で押え付けながら、コイル11に高周波電流発生器から高周波電流を供給し、高周波磁界を発生させる。すると、吸着ピンセット12で押え付けられた半導体チップ2が絶縁性接着剤6中に減り込み、且つ、磁性粒子5が電磁誘導で加熱し、その発熱により絶縁性接着剤6を硬化させる。この場合、磁性粒子5は絶縁性接着剤6中にほぼ一様に分散されているため、半導体チップ2の周囲に食み出た絶縁性接着剤6も十分に硬化させることができる。
【選択図】 図2
【解決手段】熱硬化型のエポキシ系樹脂などからなる絶縁性接着剤6中の磁性粒子5は、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金からなっている。そして、吸着ピンセット12でそれに吸着された半導体チップ2をある程度の圧力で押え付けながら、コイル11に高周波電流発生器から高周波電流を供給し、高周波磁界を発生させる。すると、吸着ピンセット12で押え付けられた半導体チップ2が絶縁性接着剤6中に減り込み、且つ、磁性粒子5が電磁誘導で加熱し、その発熱により絶縁性接着剤6を硬化させる。この場合、磁性粒子5は絶縁性接着剤6中にほぼ一様に分散されているため、半導体チップ2の周囲に食み出た絶縁性接着剤6も十分に硬化させることができる。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体チップなどの電子部品を基板上に実装する電子部品の実装方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体チップなどの電子部品を基板上に実装する方法としては、基板上の電子部品搭載領域に熱硬化型の絶縁性接着剤を配置し、その上にボンディングヘッドの下面に吸着された電子部品を配置し、ボンディングヘッドによる加圧加熱により、電子部品を基板上に硬化した絶縁性接着剤を介して実装する方法がある(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平6−168981号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ボンディングヘッドで電子部品を基板上に絶縁性接着剤を介して加圧加熱した状態では、絶縁性接着剤の一部が電子部品の周囲に食み出るため、この食み出た絶縁性接着剤にボンディングヘッドからの半導体チップを介しての熱が伝わりにくく、この食み出た絶縁性接着剤を十分に硬化させにくいという問題があった。
そこで、この発明は、電子部品を基板上に熱硬化型の絶縁性接着剤を介して実装する際に、電子部品の周囲に食み出た絶縁性接着剤も十分に硬化させることができる電子部品の実装方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、電子部品を基板上に熱硬化型の絶縁性接着剤を介して実装する際、前記絶縁性接着剤としてその中に電磁誘導で加熱する磁性粒子が含有されたものを用い、電磁誘導で前記磁性粒子を加熱させて前記絶縁性接着剤を硬化させることを特徴とするものである。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記磁性粒子は導電性粒子からなり、該導電性粒子によって前記電子部品と前記基板とを導電接続することを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記磁性粒子は絶縁性粒子からなることを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記電子部品の上面を吸着ピンセットで吸着し、該吸着ピンセットで前記電子部品を加圧することを特徴とする電子部品の実装方法。
請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記電子部品の上面の長さ方向両端部を2本の吸着ピンセットで吸着し、該吸着ピンセットで前記電子部品を加圧することを特徴とする電子部品の実装方法。
そして、この発明によれば、熱硬化型の絶縁性接着剤としてその中に電磁誘導で加熱する磁性粒子が含有されたものを用い、電磁誘導で磁性粒子を加熱させて絶縁性接着剤を硬化させているので、電子部品の周囲に食み出た絶縁性接着剤も十分に硬化させることができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
図1はこの発明の一実施形態としての半導体チップ(電子部品)の実装方法を説明するために示す一部を省略した斜視図である。この場合、液晶表示パネル1上に液晶駆動用の半導体チップ2を実装するが、液晶表示パネル1は、下ガラス基板3と上ガラス基板4とが方形枠状のシール材(図示せず)を介して貼り合わされ、下ガラス基板3の所定の2辺部が上ガラス基板4から突出された構造となっている。
【0007】
そして、この実施形態の半導体チップの実装方法では、下ガラス基板3の上ガラス基板4から突出された一方の突出部上に半導体チップ2を実装する場合について説明する。この場合、図2の概略図に示すように、半導体チップ2を下ガラス基板3上に、電磁誘導で加熱する磁性粒子5を含む熱硬化型の絶縁性接着剤6を介して実装するので、まず、半導体チップ2、下ガラス基板3および磁性粒子5を含む絶縁性接着剤6について説明する。
【0008】
半導体チップ2は、チップ本体7の下面周辺部に複数のバンプ電極8が設けられた構造となっている。下ガラス基板3は、基板本体9の上面の所定の複数箇所に接続端子10が設けられた構造となっている。絶縁性接着剤6は、熱硬化型のエポキシ系樹脂などからなっている。
【0009】
磁性粒子5は、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金からなっている。この場合、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金は、導電性を有する。また、合金の場合には、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料の含有率によって電磁誘導で加熱する際の発熱温度が変化するため、半導体チップ2および下ガラス基板3に熱ダメージを与えずに、熱硬化型の絶縁性接着剤6を十分に硬化させる発熱温度を容易に選定することができる。
【0010】
そして、絶縁性接着剤6中の磁性粒子5を電磁誘導で加熱するために、長円形状または楕円形状のコイル11が備えられている。コイル11は、図示しない高周波電流発生器から高周波電流が供給されると、高周波磁界を発生させるようになっている。また、コイル1内に、下ガラス基板3などが配置されるようになっている。なお、図1および図2において、符号12で示すものは吸着ピンセットである。
【0011】
次に、この実施形態において、半導体チップ2を下ガラス基板3上に実装する場合について説明する。まず、接続端子10を含む下ガラス基板3の上面の半導体チップ搭載領域に、液状あるいはシート状の、磁性粒子5を含む熱硬化型の絶縁性接着剤6を配置する。次に、絶縁性接着剤6などを含む下ガラス基板3をコイル11内に位置決めして配置する。次に、吸着ピンセット12で待機位置に位置する半導体チップ2の上面中央部を吸着し、この吸着された半導体チップ2を絶縁性接着剤6の上面に位置合わせして配置する。この状態では、絶縁性接着剤6の周辺部は半導体チップ2の周囲にやや食み出しているが、これは、半導体チップ2の下ガラス基板3上への実装を確実とするためである。
【0012】
ここで、後述の如く、吸着ピンセット12はそれに吸着された半導体チップ2をある程度の圧力で押え付けることができる程度の強度を有すればよいので、比較的細くて小さいものを用いることができる。また、吸着ピンセット12で半導体チップ2の上面中央部つまり上面の一部を吸着すればよいので、半導体チップ2の下ガラス基板3に対する位置決めに必要な視野を極力遮らないようにすることができる。
【0013】
次に、吸着ピンセット12でそれに吸着された半導体チップ2をある程度の圧力で押え付けながら、コイル11に高周波電流発生器から高周波電流を供給し、高周波磁界を発生させる。すると、図3に示すように、吸着ピンセット12で押え付けられた半導体チップ2が絶縁性接着剤6中に減り込み、且つ、磁性粒子5が電磁誘導で加熱し、その発熱により絶縁性接着剤6を硬化させる。
【0014】
これにより、半導体チップ2のバンプ電極8が下ガラス基板3の接続端子10に導電性を有する磁性粒子5を介して導電接続され、且つ、半導体チップ2の下面が下ガラス基板3の上面に絶縁性接着剤6を介して接着され、半導体チップ2は下ガラス基板3上の半導体チップ搭載領域に実装される。
【0015】
ところで、磁性粒子5は絶縁性接着剤6中にほぼ一様に分散されているため、電磁誘導で磁性粒子5を加熱させて絶縁性接着剤6を硬化させるとき、半導体チップ2の周囲に食み出た絶縁性接着剤6も十分に硬化させることができる。
【0016】
なお、上記実施形態では、半導体チップ2の上面中央部を吸着ピンセット12で吸着する場合について説明したが、実装時における半導体チップ2の安定性を考慮する場合には、半導体チップ2の上面の長さ方向両端部を2本の吸着ピンセット12で吸着するようにしてもよい。また、吸着ピンセット12の代わりに、通常のピンセットを用いるようにしてもよい。
【0017】
また、上記実施形態では、磁性粒子5を電磁誘導で加熱するためにコイル11を用いた場合について説明したが、これに限らず、例えば電磁石を用いるようにしてもよい。この場合、例えば、図4に示すこの発明の他の実施形態のように、下ガラス基板3上に複数の半導体チップ2をそれぞれ磁性粒子(図示せず)を含む絶縁性接着剤6を介して搭載する場合、下ガラス基板3の下面側において各半導体チップ2にそれぞれ対応する位置に電磁石13を配置し、これらの電磁石13に同時にあるいは順次通電するようにしてもよい。
【0018】
また、磁性粒子として、樹脂からなる粒子本体の表面に鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金からなる被膜が設けられたものを用いるようにしてもよい。また、半導体チップをフェースアップ状態で回路基板上に実装する場合には、磁性粒子として、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金からなる粒子本体の表面に絶縁性樹脂からなる被膜が設けられたものを用いるようにしてもよい。
【0019】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、熱硬化型の絶縁性接着剤としてその中に電磁誘導で加熱する粒子が含有されたものを用い、電磁誘導で粒子を加熱させて絶縁性接着剤を硬化させているので、電子部品の周囲に食み出た絶縁性接着剤も十分に硬化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態としての半導体チップの実装方法を説明するために示す一部を省略した斜視図。
【図2】図1の一部の概略図。
【図3】図2に続く工程を示す概略図。
【図4】この発明の他の実施形態としての半導体チップの実装方法を説明するために示す概略図。
【符号の説明】
1 液晶表示パネル
2 半導体チップ
3 下ガラス基板
4 上ガラス基板
5 磁性粒子
6 絶縁性接着剤
11 コイル
12 吸着ピンセット
13 電磁石
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体チップなどの電子部品を基板上に実装する電子部品の実装方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体チップなどの電子部品を基板上に実装する方法としては、基板上の電子部品搭載領域に熱硬化型の絶縁性接着剤を配置し、その上にボンディングヘッドの下面に吸着された電子部品を配置し、ボンディングヘッドによる加圧加熱により、電子部品を基板上に硬化した絶縁性接着剤を介して実装する方法がある(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平6−168981号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ボンディングヘッドで電子部品を基板上に絶縁性接着剤を介して加圧加熱した状態では、絶縁性接着剤の一部が電子部品の周囲に食み出るため、この食み出た絶縁性接着剤にボンディングヘッドからの半導体チップを介しての熱が伝わりにくく、この食み出た絶縁性接着剤を十分に硬化させにくいという問題があった。
そこで、この発明は、電子部品を基板上に熱硬化型の絶縁性接着剤を介して実装する際に、電子部品の周囲に食み出た絶縁性接着剤も十分に硬化させることができる電子部品の実装方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、電子部品を基板上に熱硬化型の絶縁性接着剤を介して実装する際、前記絶縁性接着剤としてその中に電磁誘導で加熱する磁性粒子が含有されたものを用い、電磁誘導で前記磁性粒子を加熱させて前記絶縁性接着剤を硬化させることを特徴とするものである。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記磁性粒子は導電性粒子からなり、該導電性粒子によって前記電子部品と前記基板とを導電接続することを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記磁性粒子は絶縁性粒子からなることを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記電子部品の上面を吸着ピンセットで吸着し、該吸着ピンセットで前記電子部品を加圧することを特徴とする電子部品の実装方法。
請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記電子部品の上面の長さ方向両端部を2本の吸着ピンセットで吸着し、該吸着ピンセットで前記電子部品を加圧することを特徴とする電子部品の実装方法。
そして、この発明によれば、熱硬化型の絶縁性接着剤としてその中に電磁誘導で加熱する磁性粒子が含有されたものを用い、電磁誘導で磁性粒子を加熱させて絶縁性接着剤を硬化させているので、電子部品の周囲に食み出た絶縁性接着剤も十分に硬化させることができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
図1はこの発明の一実施形態としての半導体チップ(電子部品)の実装方法を説明するために示す一部を省略した斜視図である。この場合、液晶表示パネル1上に液晶駆動用の半導体チップ2を実装するが、液晶表示パネル1は、下ガラス基板3と上ガラス基板4とが方形枠状のシール材(図示せず)を介して貼り合わされ、下ガラス基板3の所定の2辺部が上ガラス基板4から突出された構造となっている。
【0007】
そして、この実施形態の半導体チップの実装方法では、下ガラス基板3の上ガラス基板4から突出された一方の突出部上に半導体チップ2を実装する場合について説明する。この場合、図2の概略図に示すように、半導体チップ2を下ガラス基板3上に、電磁誘導で加熱する磁性粒子5を含む熱硬化型の絶縁性接着剤6を介して実装するので、まず、半導体チップ2、下ガラス基板3および磁性粒子5を含む絶縁性接着剤6について説明する。
【0008】
半導体チップ2は、チップ本体7の下面周辺部に複数のバンプ電極8が設けられた構造となっている。下ガラス基板3は、基板本体9の上面の所定の複数箇所に接続端子10が設けられた構造となっている。絶縁性接着剤6は、熱硬化型のエポキシ系樹脂などからなっている。
【0009】
磁性粒子5は、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金からなっている。この場合、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金は、導電性を有する。また、合金の場合には、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料の含有率によって電磁誘導で加熱する際の発熱温度が変化するため、半導体チップ2および下ガラス基板3に熱ダメージを与えずに、熱硬化型の絶縁性接着剤6を十分に硬化させる発熱温度を容易に選定することができる。
【0010】
そして、絶縁性接着剤6中の磁性粒子5を電磁誘導で加熱するために、長円形状または楕円形状のコイル11が備えられている。コイル11は、図示しない高周波電流発生器から高周波電流が供給されると、高周波磁界を発生させるようになっている。また、コイル1内に、下ガラス基板3などが配置されるようになっている。なお、図1および図2において、符号12で示すものは吸着ピンセットである。
【0011】
次に、この実施形態において、半導体チップ2を下ガラス基板3上に実装する場合について説明する。まず、接続端子10を含む下ガラス基板3の上面の半導体チップ搭載領域に、液状あるいはシート状の、磁性粒子5を含む熱硬化型の絶縁性接着剤6を配置する。次に、絶縁性接着剤6などを含む下ガラス基板3をコイル11内に位置決めして配置する。次に、吸着ピンセット12で待機位置に位置する半導体チップ2の上面中央部を吸着し、この吸着された半導体チップ2を絶縁性接着剤6の上面に位置合わせして配置する。この状態では、絶縁性接着剤6の周辺部は半導体チップ2の周囲にやや食み出しているが、これは、半導体チップ2の下ガラス基板3上への実装を確実とするためである。
【0012】
ここで、後述の如く、吸着ピンセット12はそれに吸着された半導体チップ2をある程度の圧力で押え付けることができる程度の強度を有すればよいので、比較的細くて小さいものを用いることができる。また、吸着ピンセット12で半導体チップ2の上面中央部つまり上面の一部を吸着すればよいので、半導体チップ2の下ガラス基板3に対する位置決めに必要な視野を極力遮らないようにすることができる。
【0013】
次に、吸着ピンセット12でそれに吸着された半導体チップ2をある程度の圧力で押え付けながら、コイル11に高周波電流発生器から高周波電流を供給し、高周波磁界を発生させる。すると、図3に示すように、吸着ピンセット12で押え付けられた半導体チップ2が絶縁性接着剤6中に減り込み、且つ、磁性粒子5が電磁誘導で加熱し、その発熱により絶縁性接着剤6を硬化させる。
【0014】
これにより、半導体チップ2のバンプ電極8が下ガラス基板3の接続端子10に導電性を有する磁性粒子5を介して導電接続され、且つ、半導体チップ2の下面が下ガラス基板3の上面に絶縁性接着剤6を介して接着され、半導体チップ2は下ガラス基板3上の半導体チップ搭載領域に実装される。
【0015】
ところで、磁性粒子5は絶縁性接着剤6中にほぼ一様に分散されているため、電磁誘導で磁性粒子5を加熱させて絶縁性接着剤6を硬化させるとき、半導体チップ2の周囲に食み出た絶縁性接着剤6も十分に硬化させることができる。
【0016】
なお、上記実施形態では、半導体チップ2の上面中央部を吸着ピンセット12で吸着する場合について説明したが、実装時における半導体チップ2の安定性を考慮する場合には、半導体チップ2の上面の長さ方向両端部を2本の吸着ピンセット12で吸着するようにしてもよい。また、吸着ピンセット12の代わりに、通常のピンセットを用いるようにしてもよい。
【0017】
また、上記実施形態では、磁性粒子5を電磁誘導で加熱するためにコイル11を用いた場合について説明したが、これに限らず、例えば電磁石を用いるようにしてもよい。この場合、例えば、図4に示すこの発明の他の実施形態のように、下ガラス基板3上に複数の半導体チップ2をそれぞれ磁性粒子(図示せず)を含む絶縁性接着剤6を介して搭載する場合、下ガラス基板3の下面側において各半導体チップ2にそれぞれ対応する位置に電磁石13を配置し、これらの電磁石13に同時にあるいは順次通電するようにしてもよい。
【0018】
また、磁性粒子として、樹脂からなる粒子本体の表面に鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金からなる被膜が設けられたものを用いるようにしてもよい。また、半導体チップをフェースアップ状態で回路基板上に実装する場合には、磁性粒子として、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性材料あるいはそれらの合金からなる粒子本体の表面に絶縁性樹脂からなる被膜が設けられたものを用いるようにしてもよい。
【0019】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、熱硬化型の絶縁性接着剤としてその中に電磁誘導で加熱する粒子が含有されたものを用い、電磁誘導で粒子を加熱させて絶縁性接着剤を硬化させているので、電子部品の周囲に食み出た絶縁性接着剤も十分に硬化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態としての半導体チップの実装方法を説明するために示す一部を省略した斜視図。
【図2】図1の一部の概略図。
【図3】図2に続く工程を示す概略図。
【図4】この発明の他の実施形態としての半導体チップの実装方法を説明するために示す概略図。
【符号の説明】
1 液晶表示パネル
2 半導体チップ
3 下ガラス基板
4 上ガラス基板
5 磁性粒子
6 絶縁性接着剤
11 コイル
12 吸着ピンセット
13 電磁石
Claims (5)
- 電子部品を基板上に熱硬化型の絶縁性接着剤を介して実装する際、前記絶縁性接着剤としてその中に電磁誘導で加熱する磁性粒子が含有されたものを用い、電磁誘導で前記磁性粒子を加熱させて前記絶縁性接着剤を硬化させることを特徴とする電子部品の実装方法。
- 請求項1に記載の発明において、前記磁性粒子は導電性粒子からなり、該導電性粒子によって前記電子部品と前記基板とを導電接続することを特徴とする電子部品の実装方法。
- 請求項1に記載の発明において、前記磁性粒子は絶縁性粒子からなることを特徴とする電子部品の実装方法。
- 請求項1に記載の発明において、前記電子部品の上面を吸着ピンセットで吸着し、該吸着ピンセットで前記電子部品を加圧することを特徴とする電子部品の実装方法。
- 請求項1に記載の発明において、前記電子部品の上面の長さ方向両端部を2本の吸着ピンセットで吸着し、該吸着ピンセットで前記電子部品を加圧することを特徴とする電子部品の実装方法。
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